JPH06271516A - Fluorine-containing aromatic diamine and its production - Google Patents
Fluorine-containing aromatic diamine and its productionInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、トリフルオロメチル基
を有する芳香族ジアミンおよびその製造方法に関する。
これらの化合物は、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ビスマレイミドおよびエポキシ樹脂の出発原
料として使用できる。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an aromatic diamine having a trifluoromethyl group and a method for producing the same.
These compounds can be used as starting materials for polyimides, polyamides, polyamideimides, bismaleimides and epoxy resins.
【0002】[0002]
【従来の技術】ポリイミド樹脂が、その耐熱性、機械物
性、接着性等の諸特性において、有機高分子の中で最高
の部類に属し、それらの特性を活かして、各種の耐熱性
機械部品や接着剤、電子材料部品等に幅広く用いられて
いることは周知である。しかしながら、その一方で、ポ
リイミド樹脂には、着色や、テフロン等低誘電樹脂に比
較して誘電率が高いという問題点が存在している。樹脂
の着色は、高耐熱性、高信頼性の光通信用ケーブルや、
フィルター、液晶表示盤等の光学材料の開発においてき
わめて重要な課題である。具体的には、黄色味の指標で
あるイエローネスインデックス(以下、YIと略記す
る)をパラメーターとした場合、4,4’−ジアミノジ
フェニルエーテルとピロメリット酸二無水物からなるポ
リイミド(商品名、カプトン)が129、4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルとビフェニルテトラカルボン
酸二無水物からなるポリイミド(商品名、ユーピレック
ス)は125、3,3’−ジアミノベンゾフェノンとベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物からなるポリイ
ミド(LRAC−TPI)は50と、いずれも非常に高
いものである。2. Description of the Related Art Polyimide resins belong to the best class among organic polymers in various properties such as heat resistance, mechanical properties and adhesiveness, and by utilizing these properties, various heat resistant mechanical parts and It is well known that it is widely used in adhesives, electronic material parts and the like. On the other hand, however, the polyimide resin has problems that it has a higher coloring and a higher dielectric constant than a low dielectric resin such as Teflon. The resin is colored with high heat resistance and high reliability cables for optical communication,
This is an extremely important issue in the development of optical materials such as filters and liquid crystal display panels. Specifically, when the yellowness index (hereinafter abbreviated as YI), which is an index of yellowness, is used as a parameter, 4,4′-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride polyimide (trade name, Kapton ) Is a polyimide (trade name, Upilex) consisting of 129,4,4′-diaminodiphenyl ether and biphenyltetracarboxylic dianhydride is a polyimide consisting of 125,3,3′-diaminobenzophenone and benzophenonetetracarboxylic dianhydride ( LRAC-TPI) is 50, which is extremely high.
【0003】先に述べた各種光学材料用途に用いるため
には、YIが10以下、望ましくは現在光学材料用途に
広く用いられているポリカーボネートに匹敵する、YI
が4〜8程度のポリイミド樹脂が望まれている。また、
誘電率は、電子材料分野において非常に重要なパラメー
ターで、現在商品化されているポリイミド樹脂の誘電率
は、カプトンで3.5/1MHz、ユーピレックスで
3.5/1MHz、LRAC−TPIで3.7/1MH
zである。現在、ポリイミド樹脂は、すでにフレキシブ
ルプリント基盤の絶縁材料として用いられているが、近
年の電子回路の高集積化に伴い、さらに誘電率の低い絶
縁材料、具体的には、誘電率が2.9/1MHz以下の
ポリイミド樹脂が望まれている。For use in the above-mentioned various optical material applications, YI is 10 or less, preferably YI which is comparable to polycarbonate which is widely used in optical material applications at present.
It is desired to have a polyimide resin of about 4-8. Also,
The permittivity is a very important parameter in the field of electronic materials, and the permittivity of polyimide resins currently commercialized is 3.5 / 1 MHz for Kapton, 3.5 / 1 MHz for Upilex, and 3. for LRAC-TPI. 7/1 MH
z. At present, polyimide resin has already been used as an insulating material for a flexible printed circuit board, but with the recent high integration of electronic circuits, an insulating material having a lower dielectric constant, specifically, a dielectric constant of 2.9. A polyimide resin having a frequency of / 1 MHz or less is desired.
【0004】前記二つの問題点は、いずれも樹脂中の電
子移動に起因するものである。誘電率についてはポリマ
ー主鎖中の電子の移動を制約すること、着色については
主鎖中の共約系を切断することにより改善することが可
能である。具体的手法としては、ポリイミドの分子ユニ
ットに、電子吸引性のフッ素原子の導入が有効であるこ
とが知られている。例えば、低誘電率材料用ポリイミド
モノマーとして、ヘキサフルオロイソプロピリデン基を
含む芳香族ジアミンが開示されている(特開平1−19
0652)。しかしながら、これらの芳香族ジアミン
は、合成法が多段階であったり、又、それらから得られ
るポリイミド樹脂を成形加工する際の熱流動性が不足し
ている等工業的な問題点がある。また、芳香環にトリフ
ルオロメチル基を有するジアミンとして、例えば、式
(5)(化4)で表される4,4’−ビス(4−アミノ
−5−トリフルオロメチルフェニルオキシ)ビフェニル
が開示されている(WO−840412号)。Both of the above two problems are caused by electron transfer in the resin. The permittivity can be improved by restricting the movement of electrons in the polymer main chain, and the coloring can be improved by cutting the co-system in the main chain. As a specific method, it is known that introduction of an electron-withdrawing fluorine atom into a polyimide molecular unit is effective. For example, an aromatic diamine containing a hexafluoroisopropylidene group is disclosed as a polyimide monomer for a low dielectric constant material (Japanese Patent Laid-Open No. 1-19).
0652). However, these aromatic diamines have industrial problems such as a multi-step synthetic method and insufficient heat fluidity when molding and processing a polyimide resin obtained from them. Further, as the diamine having a trifluoromethyl group in the aromatic ring, for example, 4,4′-bis (4-amino-5-trifluoromethylphenyloxy) biphenyl represented by the formula (5) (formula 4) is disclosed. (WO-840412).
【0005】[0005]
【化4】 しかしながら、この化合物はアミノ基がエーテル結合の
パラ位に存在するため、共役系が延長され、誘電率の上
昇や透明性の低下等の原因となる上、得られるポリイミ
ドは剛直な構造となり、成形加工が困難となる欠点があ
った。[Chemical 4] However, in this compound, the amino group is present at the para position of the ether bond, so that the conjugated system is extended, which causes an increase in the dielectric constant and a decrease in transparency, and the resulting polyimide has a rigid structure. There was a drawback that processing became difficult.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、低誘
電、無色透明で、かつ、成形加工性に優れたポリイミド
の原料である含フッ素芳香族ジアミンを提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a fluorine-containing aromatic diamine which is a raw material of polyimide having low dielectric constant, colorless and transparent, and excellent in moldability.
【0007】[0007]
【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するため鋭意検討した結果、本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明は、式(1)(化5)または
式(2)(化5)で表される含フッ素芳香族ジアミン
(以下、APB−9Fと略記する)、および、式(3)
(化6)で表されるトリフルオロメチルベンゼン誘導体
と、式(4)(化7)で表される3−アミノ−5−トリ
フルオロメチルフェノール(以下、TFMAPと略記)
を塩基の存在下、非プロトン性溶剤中で縮合して得られ
る式(1)または式(2)で表される含フッ素芳香族ジ
アミンの製造方法に関するものである。[Means for Solving the Problems] The present inventors have completed the present invention as a result of intensive studies for solving the above problems. That is, the present invention provides a fluorine-containing aromatic diamine represented by formula (1) (formula 5) or formula (2) (formula 5) (hereinafter abbreviated as APB-9F), and formula (3).
A trifluoromethylbenzene derivative represented by (Chemical Formula 6) and 3-amino-5-trifluoromethylphenol represented by the formula (4) (Chemical Formula 7) (hereinafter abbreviated as TFMAP)
The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing aromatic diamine represented by the formula (1) or the formula (2), which is obtained by condensing a compound in an aprotic solvent in the presence of a base.
【0008】[0008]
【化5】 [Chemical 5]
【0009】[0009]
【化6】 (式中、Xはハロゲン原子またはニトロ基を表し、Xの
置換位置はトリフルオロメチル基に対して3,5または
2,4位である)[Chemical 6] (In the formula, X represents a halogen atom or a nitro group, and the substitution position of X is 3,5 or 2,4 position with respect to the trifluoromethyl group)
【0010】[0010]
【化7】 本発明の含フッ素芳香族ジアミンは、新規な化合物であ
る。[Chemical 7] The fluorinated aromatic diamine of the present invention is a novel compound.
【0011】本発明のジアミンをモノマーユニットにし
て得られるポリイミドは、高耐熱性を始めとする種々の
物理特性、アミノ基が結合基に対してメタ位に存在する
ことに由来する高い溶融流動性、トリフルオロメチル基
に由来する低誘電性、無色透明性等を示す。さらに電子
吸引性基であるトリフルオロメチル基がアミノ基のメタ
位にあるため、電子的要因による重合度の低下を招くこ
ともない。The polyimide obtained by using the diamine of the present invention as a monomer unit has various physical properties such as high heat resistance and high melt fluidity resulting from the presence of the amino group in the meta position relative to the bonding group. , Shows low dielectric property derived from trifluoromethyl group, colorless transparency and the like. Furthermore, since the trifluoromethyl group, which is an electron-withdrawing group, is located at the meta position of the amino group, the degree of polymerization will not be reduced due to electronic factors.
【0012】以下、本発明のAPB−9Fの製造法を具
体的に説明する。上記化合物は、トリフルオロメチルベ
ンゼン誘導体とTFMAPとを、塩基の存在下、非プロ
トン性極性溶剤中で反応させることにより高収率で製造
できる。The method for producing APB-9F of the present invention will be specifically described below. The above compound can be produced in high yield by reacting a trifluoromethylbenzene derivative with TFMAP in the presence of a base in an aprotic polar solvent.
【0013】原料のひとつであるトリフルオロメチルベ
ンゼン誘導体の製法は公知であり、例えば、3,5−ジ
ニトロベンゾトリフルオライドは、ジャーナル・オブ・
アメリカン・ケミカル・ソサェティー(J.Am.Ch
em.Soc.)74,3011〜14に示されるよう
に、ベンゾトリフルオライドに混酸を作用させて得られ
る。また、TFMAPに関しても、製造法はジャーナル
・オブ・ケミカル・ソサェティー(J.Chem.So
c.)1949,3016〜20に示されており公知で
ある。本発明の方法では、トリフルオロメチルベンゼン
誘導体に対し、TFMAPは2倍当量以上あればよく、
後処理の煩雑さ、コスト等を考慮して、2〜2.5倍当
量用いることが好ましい。A method for producing a trifluoromethylbenzene derivative, which is one of the raw materials, is known, and, for example, 3,5-dinitrobenzotrifluoride is produced by Journal of
American Chemical Society (J. Am. Ch
em. Soc. ) 74 , 3011-14, it is obtained by reacting a mixed acid with benzotrifluoride. Also, regarding TFMAP, the manufacturing method is the Journal of Chemical Society (J. Chem. So.
c. ) 1949, 3016-20, and is known. In the method of the present invention, TFMAP should be at least twice equivalent to the trifluoromethylbenzene derivative,
Considering the complexity of post-treatment, cost, etc., it is preferable to use 2 to 2.5 times equivalent amount.
【0014】また、本発明の方法で使用する塩基として
は、アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物また
はアルコキシドであり、炭酸カリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウ
ム、ナトリウムメトキシド、カリウムイソプロポキシド
等が挙げられる。これらの塩基の使用量は、原料のフェ
ノールの水酸基に対して当量以上あればよく、具体的に
は1〜2当量あれば良い。本発明の方法で使用する非プ
ロトン性溶剤としては、ホルムアミド、N−メチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
エチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等が挙
げられる。これらの溶剤の使用量は、特に限定されない
が、通常、原料に対して1〜10重量倍で十分である。The base used in the method of the present invention is an alkali metal carbonate, hydrogencarbonate, hydroxide or alkoxide, which is potassium carbonate, potassium hydrogencarbonate, potassium hydroxide, sodium carbonate or hydroxide. Examples thereof include sodium, sodium hydrogen carbonate, lithium carbonate, lithium hydroxide, sodium methoxide, potassium isopropoxide and the like. The amount of these bases used may be equivalent to or more than the hydroxyl group of phenol as a raw material, and specifically 1 to 2 equivalents. As the aprotic solvent used in the method of the present invention, formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide,
Examples include N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. The amount of these solvents to be used is not particularly limited, but usually 1 to 10 times by weight of the raw material is sufficient.
【0015】また、本発明の方法では、反応を促進する
ための触媒として、銅粉および銅系化合物またはクラウ
ンエーテル、ポリエチレングリコール、四級アンモニウ
ム塩、四級ホスホニウム塩等の相間移動触媒を使用して
もなんら差しつかえない。反応温度は通常、80〜25
0℃の範囲であるが、好ましくは100〜220℃の範
囲である。本発明の一般的な反応方法としては、所定量
のTFMAP、塩基、および非プロトン性溶剤を装入
し、TFMAPをアルカリ金属塩とした後、トリフルオ
ロメチルベンゼン誘導体を添加して反応させるか、ある
いは、あらかじめトリフルオロメチルベンゼン誘導体を
含む全原料を同時に加え、そのまま昇温して反応させる
方法のいずれであってもよい。また、これらに限定され
るものではなく、その他の方法によっても適宜実施でき
る。In the method of the present invention, a copper powder and a copper compound or a phase transfer catalyst such as crown ether, polyethylene glycol, quaternary ammonium salt or quaternary phosphonium salt is used as a catalyst for promoting the reaction. But it doesn't matter. The reaction temperature is usually 80 to 25
The temperature is in the range of 0 ° C, preferably 100 to 220 ° C. As a general reaction method of the present invention, a predetermined amount of TFMAP, a base, and an aprotic solvent are charged, and after TFMAP is converted to an alkali metal salt, a trifluoromethylbenzene derivative is added and reacted, or Alternatively, any method may be used in which all the raw materials containing the trifluoromethylbenzene derivative are simultaneously added in advance, and the temperature is raised as it is to react. Moreover, the present invention is not limited to these and can be appropriately implemented by other methods.
【0016】反応系内に水が存在する場合の除去方法と
して、窒素ガス等を通気させることによって、反応中、
系外に排気させる方法があるが、一般的には、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等を少量使用
して、共沸により系外へと取り除く方法が用いられる。
反応の終点は、薄層クロマトグラフィーまたは高速液体
クロマトグラフィー等により、原料の減少をみながら決
定することができる。反応終了後、濃縮した後、あるい
はそのまま、水等に排出して目的物のジアミンを得る。
このものは、溶剤で再結晶、スラッジング、またはカラ
ムクロマトグラフィーによる精製等により精製すること
がが可能である。As a method for removing water in the reaction system, nitrogen gas or the like is aerated to remove water during the reaction.
There is a method of exhausting the gas to the outside of the system, but generally, a method of using a small amount of benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, etc. to remove it outside the system by azeotropic distillation is used.
The end point of the reaction can be determined by thin layer chromatography, high performance liquid chromatography or the like while observing the decrease of the raw materials. After completion of the reaction, after concentration, or as it is, the product is discharged into water or the like to obtain the target diamine.
This product can be purified by recrystallization with a solvent, sludging, or purification by column chromatography.
【0017】[0017]
【実施例】以下、本発明の方法を実施例により、更に詳
細に説明するが、本発明はこれにより何等制限されるも
のではない。 実施例1 温度計、還流冷却器、撹拌器を取り付けた四つ口フラス
コに、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)290
g、3,5−ジニトロベンゾトリフルオライド36.9
g(0.156mol)、TFMAP60g(0.32
9mol)、炭酸カリウム33.1g(0.239mo
l)を、それぞれ装入し、撹拌下に145℃まで昇温し
た後、145℃で14時間反応を行った。反応終了時の
目的物純度はHPLCで63%であった。反応終了後、
冷却し、濾過によって無機塩を取り除いた後、水400
gを加え、有機層を分離した。有機層にトルエン400
gを加え、水および2%NaOH水溶液で洗浄を行った
後、トルエンを留去した。得られた残渣をカラムクロマ
トグラフィーで精製し、目的物である3,5−ビス(3
−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)トリフ
ルオロメチルベンゼンを淡黄色固体として得た。 収量32g、収率41.3%、融点82〜84℃1 H−NMR δ(CDCl3 、ppm): 3.93 ((1) 、4H、s) 6.42〜6.47((2) 、2H、t) 6.62〜6.68((3) 、4H、m) 6.77〜7.82((4) 、2H、t) 6.99〜7.01((5) 、2H、d) なお、( )内の数値は、下記式(化8)の位置を表す。EXAMPLES The method of the present invention will now be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. Example 1 A four-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with N, N-dimethylformamide (DMF) 290.
g, 3,5-dinitrobenzotrifluoride 36.9
g (0.156 mol), TFMAP 60 g (0.32
9 mol), potassium carbonate 33.1 g (0.239 mo)
1) was charged into each, and the temperature was raised to 145 ° C. with stirring, and then the reaction was performed at 145 ° C. for 14 hours. The purity of the target product at the end of the reaction was 63% by HPLC. After the reaction,
After cooling and removing inorganic salts by filtration, water 400
g was added and the organic layer was separated. Toluene 400 for the organic layer
g was added, and the mixture was washed with water and a 2% NaOH aqueous solution, and then toluene was distilled off. The obtained residue was purified by column chromatography to obtain 3,5-bis (3
-Amino-5-trifluoromethylphenoxy) trifluoromethylbenzene was obtained as a pale yellow solid. Yield 32 g, yield 41.3%, melting point 82-84 ° C 1 H-NMR δ (CDCl 3 , ppm): 3.93 ((1), 4H, s) 6.42-6.47 ((2)) 2H, t) 6.62 to 6.68 ((3), 4H, m) 6.77 to 7.82 ((4), 2H, t) 6.99 to 7.01 ((5), 2H , D) The numerical value in the parentheses represents the position of the following formula (Formula 8).
【0018】[0018]
【化8】 [Chemical 8]
【0019】使用例 実施例1で得られたジアミンと、2,2−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−
ヘキサフルオロプロパン二無水物(6F−BA)とを、
縮合させてポリイミドを得た。得られたフィルムの物性
は、下記の通りであった。 ・ガラス転移温度 Tg: 190℃ ・融 点 Tm: なし ・粘度 η: 0.54dl/g(35℃) (ポリイミド 0.5g/ 100 cc ( N,N −ジメチルアセト
アミド) ) ・誘電率 : 2.83/60Hz 2.81/3kHz 2.79/1MHZ ・YI : 7Example of use The diamine obtained in Example 1 and 2,2-bis (3,4)
-Dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-
Hexafluoropropane dianhydride (6F-BA),
It was condensed to obtain a polyimide. The physical properties of the obtained film were as follows. -Glass transition temperature Tg: 190 ° C-Melting point Tm: None-Viscosity η: 0.54 dl / g (35 ° C) (polyimide 0.5g / 100 cc (N, N-dimethylacetamide))-Dielectric constant: 2.83 / 60Hz 2.81 / 3kHz 2.79 / 1MHZ.YI: 7
【0020】[0020]
【発明の効果】本発明により、低誘電率、無色透明で、
且つ、成形加工性に優れたポリイミド用の原料として、
極めて有用な含フッ素芳香族ジアミンを提供することが
可能になった。According to the present invention, a low dielectric constant, colorless and transparent,
And, as a raw material for polyimide having excellent moldability,
It has become possible to provide a very useful fluorine-containing aromatic diamine.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 彰宏 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akihiro Yamaguchi 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.
Claims (2)
1)で表される含フッ素芳香族ジアミン。 【化1】 1. A fluorine-containing aromatic diamine represented by formula (1) (formula 1) or formula (2) (formula 1). [Chemical 1]
ロメチルベンゼン誘導体と、 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子またはニトロ基を表し、Xの
置換位置はトリフルオロメチル基に対して3,5または
2,4位である)式(4)(化3) 【化3】 で表される3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノ
ールを塩基の存在下、非プロトン性溶剤中で縮合して得
られる請求項1記載の含フッ素芳香族ジアミンの製造方
法。2. A trifluoromethylbenzene derivative represented by formula (3) (formula 2), and (In the formula, X represents a halogen atom or a nitro group, and the substitution position of X is 3,5 or 2,4 position with respect to the trifluoromethyl group) Formula (4) (Chemical Formula 3) The method for producing a fluorinated aromatic diamine according to claim 1, which is obtained by condensing 3-amino-5-trifluoromethylphenol represented by the formula (3) in the presence of a base in an aprotic solvent.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5697893A JPH06271516A (en) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | Fluorine-containing aromatic diamine and its production |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5697893A JPH06271516A (en) | 1993-03-17 | 1993-03-17 | Fluorine-containing aromatic diamine and its production |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06271516A true JPH06271516A (en) | 1994-09-27 |
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ID=13042606
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06271516A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5578697A (en) * | 1994-03-29 | 1996-11-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polyimide precursor, bismaleimide-based cured resin precursor and electronic parts having insulating members made from these precursors |
-
1993
- 1993-03-17 JP JP5697893A patent/JPH06271516A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5578697A (en) * | 1994-03-29 | 1996-11-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polyimide precursor, bismaleimide-based cured resin precursor and electronic parts having insulating members made from these precursors |
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