JPH06256934A - Holder for material for vapor deposition - Google Patents

Holder for material for vapor deposition

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JPH06256934A
JPH06256934A JP4539193A JP4539193A JPH06256934A JP H06256934 A JPH06256934 A JP H06256934A JP 4539193 A JP4539193 A JP 4539193A JP 4539193 A JP4539193 A JP 4539193A JP H06256934 A JPH06256934 A JP H06256934A
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JP
Japan
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vapor deposition
hearth
deposition material
heat
hearth liner
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4539193A
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Japanese (ja)
Inventor
和之 ▲猪▼口
Kazuyuki Inoguchi
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent the abnormal evaporation of a material for vapor deposition by uniformizing the temp. distribution of the material for vapor deposition at the time of vapor deposition. CONSTITUTION:The high-temp. region of a recessed part 18b of a hearth liner which generates a large quantity of heat at the time of vapor deposition is provided with heat radiating fins 20. A spacing is provided between the hearth liner 18 and a hearth 22 and further, the contact area of a supporting member 26 supporting the hearth liner 18 and the hearth liner 18 is decreased. Consequently, the temp. distribution of the material 24 for vapor deposition heated for the purpose of the vapor deposition is uniformized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は蒸着材料の保持装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for holding a vapor deposition material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体素子や光学部品などに
用いる金属薄膜の形成において、真空蒸着法が用いられ
ている。真空蒸着法は真空中で蒸着材料を加熱蒸発させ
ることにより金属薄膜を形成する方法であって、装置構
成を簡単化できる、膜厚の均一化が比較的に容易である
といった利点を有する。蒸着材料の加熱方法としては、
ヒータを蒸着材料に直接接触させて加熱する抵抗加熱法
や電子ビームを蒸着材料に照射して加熱する電子ビーム
加熱法がある(参考文献:薄膜ハンドブック オーム社
昭和58年12月10日発行 p102〜105)。
電子ビーム加熱は、純度の高い金属薄膜を形成できる、
膜厚の厚い金属薄膜を形成できる、再現性が良いといっ
た多くの利点を有するため、利用されることが多い。
2. Description of the Related Art Conventionally, a vacuum deposition method has been used for forming a metal thin film used for semiconductor elements, optical parts and the like. The vacuum vapor deposition method is a method of forming a metal thin film by heating and evaporating a vapor deposition material in a vacuum, and has the advantages that the device configuration can be simplified and the film thickness can be made relatively easy. As a heating method of the vapor deposition material,
There are a resistance heating method in which a heater is brought into direct contact with an evaporation material for heating, and an electron beam heating method in which an evaporation material is irradiated with an electron beam to heat the evaporation material (reference: thin film handbook, Ohmsha, December 10, 1983, p102- 105).
Electron beam heating can form highly pure metal thin film,
It is often used because it has many advantages such as the ability to form a thick metal thin film and good reproducibility.

【0003】図14は電子ビーム加熱を行なう場合に用
いられる、蒸着材料の保持方法の説明に供する断面図で
ある。電子ビーム加熱を行なう場合、最も単純には、電
子ビーム蒸着装置の真空容器(図示せず)内にハース1
0を設け、蒸着材料12をハース10の凹部10aに保
持する。凹部10aの上面を蒸着材料12の蒸発口10
bとし、蒸着材料12の側面及び底面を凹部10aで囲
む。そして蒸発口10bを介し電子ビームを蒸着材料1
2の上面に照射して、蒸着材料12を蒸発させる。この
際、蒸着材料12が発する熱により真空容器内の蒸着装
置構成部品が劣化するのを防止するため、ハース10を
冷却して蒸着材料12の熱をハース10により吸収して
遮る。この方法では、ハース10と蒸着材料12とを直
接に接触させているため、ハース10を冷却すると蒸着
材料12の側面及び底面の温度が蒸着材料12の上面中
央部の温度よりも低くなり、従って蒸着材料12の主と
して上面中央部12aが融解して蒸発することとなる。
図中、上面中央部12aを点を付して示す。
FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining a method of holding a vapor deposition material used when performing electron beam heating. When performing electron beam heating, the simplest method is to place the hearth 1 in a vacuum container (not shown) of the electron beam vapor deposition apparatus.
0 is provided to hold the vapor deposition material 12 in the concave portion 10 a of the hearth 10. The evaporation port 10 for the vapor deposition material 12 is formed on the upper surface of the recess 10a
b, the side surface and the bottom surface of the vapor deposition material 12 are surrounded by the recess 10a. Then, the electron beam is applied to the vapor deposition material 1 through the evaporation port 10b.
The upper surface of 2 is irradiated to evaporate the vapor deposition material 12. At this time, in order to prevent the components of the vapor deposition apparatus in the vacuum container from being deteriorated by the heat generated by the vapor deposition material 12, the hearth 10 is cooled and the heat of the vapor deposition material 12 is absorbed and blocked by the hearth 10. In this method, since the hearth 10 and the vapor deposition material 12 are in direct contact with each other, when the hearth 10 is cooled, the temperature of the side surface and the bottom surface of the vapor deposition material 12 becomes lower than the temperature of the central portion of the top surface of the vapor deposition material 12, thus The upper surface central portion 12a of the vapor deposition material 12 is mainly melted and evaporated.
In the figure, the upper surface central portion 12a is shown with dots.

【0004】しかし膜質や膜厚を均一化し或は蒸着レー
トを一定にするためには、蒸着材料12をその上面全面
にわたり融解して蒸発させることが好ましい。
However, in order to make the film quality and the film thickness uniform or to keep the vapor deposition rate constant, it is preferable to melt and vaporize the vapor deposition material 12 over the entire upper surface thereof.

【0005】また蒸着材料12としてアルミニウム(A
l)或は金(Au)といった熱伝導率の大きな物質を用
いる場合、蒸着材料12をその上面全面にわたり融解す
るためには電子ビームのパワーを大きくする必要があ
る。その結果、電子ビームが蒸着材料12に衝突した際
に発生する反射電子、二次電子、X線或は光の発生量が
多くなる。これら反射電子等は、被蒸着物例えば半導体
基板や被蒸着物に形成した膜例えばフォトレジストの変
成(或は変質)の要因となるものである。また電子ビー
ムのパワーを大きくすると、蒸着材料12の上面中央部
12aにおいて異常な蒸発例えば突沸が起き易くなる。
その結果、融解した蒸着材料12が粒状に飛び散って被
蒸着物に被着し、従って被蒸着物に形成される蒸着膜に
粒状の突起ができることがある。
Aluminum (A) is used as the vapor deposition material 12.
When a substance having a large thermal conductivity such as l) or gold (Au) is used, it is necessary to increase the power of the electron beam in order to melt the vapor deposition material 12 over the entire upper surface thereof. As a result, the amount of backscattered electrons, secondary electrons, X-rays or light generated when the electron beam collides with the vapor deposition material 12 increases. These backscattered electrons and the like cause alteration (or alteration) of the film to be deposited such as a semiconductor substrate or a film such as photoresist. Further, when the power of the electron beam is increased, abnormal evaporation, such as bumping, easily occurs in the upper surface central portion 12a of the vapor deposition material 12.
As a result, the melted vapor deposition material 12 scatters into particles and adheres to the object to be vapor-deposited, so that granular protrusions may be formed on the vapor deposition film formed on the object to be vapor deposited.

【0006】図15は電子ビーム加熱を行なう場合に用
いられる、蒸着材料の他の保持方法の説明に供する断面
図である。この方法では、底面に凹部14aを有し上面
に蒸着材料12の蒸発口14bを有するハースライナ1
4を用いる。このハースライナ14を支持材16を介し
てハース10の凹部10a内に位置決めし、蒸着材料1
2をハースライナ14の凹部14aに保持して加熱す
る。そして蒸着材料12をその上面全面にわたり融解し
て蒸発させるため、ハースライナ14とハース10との
間に間隙を設けかつ支持材16とハースライナ14との
接触面積を小さくし、これによりハースライナ14から
ハース10へ伝導する熱量を減少させる。これと共に電
子ビームを蒸着材料12の上面全面にわたり掃引する。
FIG. 15 is a cross-sectional view for explaining another method for holding the vapor deposition material, which is used when performing electron beam heating. According to this method, the hearth liner 1 having the concave portion 14a on the bottom surface and the evaporation port 14b for the vapor deposition material 12 on the upper surface is used.
4 is used. The hearth liner 14 is positioned in the concave portion 10a of the hearth 10 via the support material 16, and the vapor deposition material 1
2 is held in the concave portion 14a of the hearth liner 14 and heated. Since the vapor deposition material 12 is melted and vaporized over the entire upper surface thereof, a gap is provided between the hearth liner 14 and the hearth liner 10 and the contact area between the support material 16 and the hearth liner 14 is made small, whereby the hearth liner 14 and the hearth liner 10 are contacted. It reduces the amount of heat transferred to. At the same time, the electron beam is swept over the entire upper surface of the vapor deposition material 12.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
図15の方法でも、蒸着材料12の上面中央部の温度が
蒸着材料12の側面及び底面の温度よりも高くなるのを
防止することが難しく、従って蒸着材料12をその上面
全面にわたり融解し蒸発させるようにしながら異常な蒸
発を防止することが難しい。
However, even with the method of FIG. 15 described above, it is difficult to prevent the temperature of the central portion of the upper surface of the vapor deposition material 12 from becoming higher than the temperatures of the side surfaces and the bottom surface of the vapor deposition material 12, and therefore, It is difficult to prevent abnormal evaporation while melting and evaporating the vapor deposition material 12 over the entire upper surface thereof.

【0008】この発明の目的は上述した従来の問題点を
解決するため、蒸着材料の上面中央部の温度と蒸着材料
の側面及び底面の温度との差を小さくすることのできる
蒸着材料の保持装置を提供することにある。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to hold a vapor deposition material capable of reducing the difference between the temperature of the central portion of the vapor deposition material and the temperatures of the side and bottom surfaces of the vapor deposition material. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】第一発明の蒸着材料の保
持装置は、上面に蒸着材料の蒸発口を有し底面に蒸着材
料を保持する凹部を有するハースライナと、ハースライ
ナの凹部の多量の熱が発生する高温領域に設けた放熱器
と、ハースライナの蒸発口から蒸発した蒸着材料を遮ら
ない位置でハースライナ及び放熱器の周囲を囲みこれら
ハースライナ及び放熱器からの熱を吸収する受熱面を有
するハースとを備え、ハースの受熱面とハースライナ及
び放熱器とを離間配置して成ることを特徴とする。
The apparatus for holding a vapor deposition material according to the first aspect of the present invention comprises a hearth liner having a concave portion for holding the vapor deposition material on the bottom surface and an evaporation port for the vapor deposition material on the top surface, and a large amount of heat in the concave portion of the hearth liner. A heatsink provided in a high temperature region where heat is generated and a hearth having a heat receiving surface that surrounds the hearth liner and the heatsink around the vaporization material that has evaporated from the evaporation port of the hearth liner and that absorbs heat from the hearth liner and the heatsink. And a heat-receiving surface of the hearth, and a hearth liner and a radiator are arranged apart from each other.

【0010】第二発明の蒸着材料の保持装置は、上面に
蒸着材料の蒸発口を有し底面に蒸着材料を保持する凹部
を有するハースライナと、ハースライナの凹部の多量の
熱が発生する高温領域に設けた吸熱量可変の温度調整器
と、ハースライナの蒸発口から蒸発した蒸着材料を遮ら
ない位置でハースライナの周囲を囲みこのハースライナ
からの熱を吸収する受熱面を有するハースとを備え、ハ
ースの受熱面とハースライナとを離間配置して成ること
を特徴とする。
The apparatus for holding a vapor deposition material according to the second aspect of the invention has a hearth liner having a concave portion for holding the vapor deposition material on the bottom surface and an evaporation hole for the vapor deposition material on the top surface, and a high temperature region where a large amount of heat is generated in the concave portion of the hearth liner. It has a temperature controller with a variable heat absorption amount and a hearth that has a heat receiving surface that surrounds the hearth liner at a position that does not block the evaporation material evaporated from the evaporation port of the hearth liner and that absorbs the heat from this hearth liner. It is characterized in that the surface and the hearth liner are arranged separately.

【0011】[0011]

【作用】第一発明によれば、一又は複数個の放熱器を、
ハースライナ凹部の多量の熱が発生する高温領域に設け
る。蒸着材料をハースライナ凹部に保持して加熱した場
合のハースライナの温度分布を、実験的に予め調べ或は
理論的に予め予想し、その温度分布において高温となる
領域のハースライナ凹部を高温領域とする。好ましく
は、高温領域はこの温度分布において高い温度でのピー
クが現れる領域を含むのが良い。
According to the first invention, one or a plurality of radiators are provided.
It is provided in the high temperature region of the hearth liner recess where a large amount of heat is generated. The temperature distribution of the hearth liner when the vapor deposition material is held in the hearth liner recess and heated is preliminarily experimentally or theoretically predicted, and the hearth liner recess in the region where the temperature becomes high in the temperature distribution is set as the high temperature region. Preferably, the high temperature region includes a region where a peak at a high temperature appears in this temperature distribution.

【0012】高温領域の熱を一又は複数個の放熱器を介
してハースの受熱面へ逃がすことにより、ハースライナ
凹部の温度分布を均一化でき、その結果、蒸着材料をそ
の上面全面にわたり融解させるようにしつつ蒸着材料の
異常な蒸発を防止できる。
By letting the heat in the high temperature region escape to the heat-receiving surface of the hearth through one or more radiators, the temperature distribution in the hearth liner recess can be made uniform, so that the vapor deposition material is melted over the entire upper surface thereof. It is possible to prevent abnormal evaporation of the vapor deposition material.

【0013】さらに第二発明によれば、一又は複数個の
吸熱量可変の温度調整器を、ハースライナ凹部の多量の
熱が発生する高温領域に設ける。蒸着材料をハースライ
ナ凹部に保持して加熱した場合のハースライナの温度分
布を、実験的に予め調べ或は理論的に予め予想し、その
温度分布において高温となる領域のハースライナ凹部を
高温領域とする。好ましくは、高温領域はこの温度分布
において高い温度でのピークが現れる領域を含むのが良
い。
Further, according to the second aspect of the invention, one or a plurality of heat absorption variable temperature controllers are provided in the high temperature region of the hearth liner recess where a large amount of heat is generated. The temperature distribution of the hearth liner when the vapor deposition material is held in the hearth liner recess and heated is preliminarily experimentally or theoretically predicted, and the hearth liner recess in the region where the temperature becomes high in the temperature distribution is set as the high temperature region. Preferably, the high temperature region includes a region where a peak at a high temperature appears in this temperature distribution.

【0014】高温領域の熱を一又は複数個の温度調整器
で吸収することによりハースライナ凹部の温度分布を均
一化でき、従って蒸着材料をその上面全面にわたり融解
させるようにしつつ蒸着材料の異常な蒸発を防止でき
る。この発明では、温度調整器による吸熱量を可変制御
することにより蒸着材料の蒸着レートを変化させること
ができる。
By absorbing the heat in the high temperature region with one or a plurality of temperature regulators, the temperature distribution in the hearth liner recess can be made uniform, so that the evaporation material is abnormally vaporized while melting the evaporation material over the entire upper surface thereof. Can be prevented. In the present invention, the vapor deposition rate of the vapor deposition material can be changed by variably controlling the amount of heat absorbed by the temperature controller.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面を参照し、発明の実施例につき説
明する。尚、図面は発明が理解できる程度に概略的に示
してあるにすぎず、従って発明を図示例に限定するもの
ではない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that the drawings are merely schematic representations so that the invention can be understood, and therefore the invention is not limited to the illustrated examples.

【0016】図1及び図2は第一発明の第一実施例の構
成を概略的に示す断面図、図3は第一発明の第一実施例
の構成を概略的に示す平面図である。図1は図3のI−
I線に沿って取った断面図、図2は図1のII−II線に沿
って取った断面図である。
1 and 2 are sectional views schematically showing the structure of the first embodiment of the first invention, and FIG. 3 is a plan view schematically showing the structure of the first embodiment of the first invention. FIG. 1 shows I- of FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line I, and FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.

【0017】この実施例の蒸着材料の保持装置16は、
ハースライナ18、放熱器20及びハース22を備え
る。ハースライナ18はその上面に蒸着材料24の蒸発
口18aを有すると共にその底面に蒸着材料24を保持
する凹部18bを有し、放熱器20を、ハースライナ1
8の凹部18bの多量の熱が発生する高温領域に設け
る。またハース22はハースライナ18及び放熱器20
の周囲を囲みハースライナ18及び放熱器20からの熱
を吸収する受熱面22aを有し、この受熱面22aをハ
ースライナ18の蒸発口18aから蒸発した蒸着材料2
4を遮らない位置に配置する。そしてハース22の受熱
面22aとハースライナ18及び放熱器20とを離間配
置する。
The holding device 16 for the vapor deposition material of this embodiment is
A hearth liner 18, a radiator 20 and a hearth 22 are provided. The hearth liner 18 has an evaporation port 18a for the vapor deposition material 24 on the top surface thereof and a recess 18b for holding the vapor deposition material 24 on the bottom surface thereof.
It is provided in a high temperature region where a large amount of heat is generated in the concave portion 18b of No. 8. The hearth 22 is the hearth liner 18 and the radiator 20.
Has a heat receiving surface 22a that surrounds the hearth liner 18 and absorbs heat from the radiator 20 and the heat receiving surface 22a is evaporated from the evaporation port 18a of the hearth liner 18.
Place it so that it does not block 4. Then, the heat receiving surface 22a of the hearth 22 and the hearth liner 18 and the radiator 20 are separated from each other.

【0018】この実施例では、銅(Cu)製のハース2
2に、上面を開口22bとした中空円筒状の凹部を設
け、この凹部内壁面を受熱面22aとする。このハース
22を電子ビーム真空蒸着装置の真空容器(図示せず)
内に設け、そして受熱面22aが形成する凹部内に支持
部材26を介してハースライナ18を配置する。
In this embodiment, the hearth 2 made of copper (Cu) is used.
2, a hollow cylindrical recess having an opening 22b on the upper surface is provided, and the inner wall surface of the recess serves as the heat receiving surface 22a. This hearth 22 is a vacuum container (not shown) of an electron beam vacuum deposition apparatus.
The hearth liner 18 is disposed inside the recess formed by the heat receiving surface 22a with the support member 26 interposed therebetween.

【0019】ハースライナ18はタングステン(W)か
ら成る平面形状が円形状の皿であって、ハースライナ1
8の凹部18bを受熱面22aが形成する凹部内に嵌め
込むと共にハースライナ18の蒸発口18aを受熱面2
2aで覆わずに開口22bから露出させる。
The hearth liner 18 is a plate made of tungsten (W) and having a circular planar shape.
The concave portion 18b of No. 8 is fitted into the concave portion formed by the heat receiving surface 22a, and the evaporation port 18a of the hearth liner 18 is attached to the heat receiving surface 2
It is exposed from the opening 22b without being covered with 2a.

【0020】尚、ハースライナ18の形成材料をタング
ステンとするほか、例えばモリブデン(Mo)、タンタ
ル(Ta)或はそのほかの高融点金属としたりカーボ
ン、ボロンナイトライド或はそのほかの耐熱材料とした
りすることができる。またハース22の形成材料を銅、
熱伝導率の高い材料或はそのほかの任意好適な材料とす
ることができる。
In addition to tungsten as the material for forming the hearth liner 18, for example, molybdenum (Mo), tantalum (Ta) or other refractory metal, or carbon, boron nitride or other heat resistant material may be used. You can In addition, the forming material of the hearth 22 is copper,
It may be a material having a high thermal conductivity or any other suitable material.

【0021】支持部材26はタンタル(Ta)から成
る。ハースライナ18の位置決め方法をこれに限定する
ものではないが、ここでは支持部材26を受熱面22a
及びハースライナ18の間に設け、支持部材26により
ハースライナ18を支持する。蒸着材料24を蒸着する
際に蒸着材料24の温度分布を均一化するため、ハース
ライナ18とハース22との間に間隙を設けかつ支持部
材26とハースライナ18との接触面積を小さくする。
好ましくは、支持部材26を熱伝導率の小さな材料或は
断熱材で形成する。
The support member 26 is made of tantalum (Ta). Although the method for positioning the heart liner 18 is not limited to this, here, the support member 26 is attached to the heat receiving surface 22a.
And the hearth liner 18, and the support member 26 supports the hearth liner 18. In order to make the temperature distribution of the vapor deposition material 24 uniform when vapor depositing the vapor deposition material 24, a gap is provided between the hearth liner 18 and the hearth 22 and the contact area between the support member 26 and the hearth liner 18 is reduced.
Preferably, the support member 26 is formed of a material having a low thermal conductivity or a heat insulating material.

【0022】そしてハース22に任意好適な構成の冷却
装置を設ける。ここではハース22に冷媒流路28を設
け、流路28に冷媒例えば水を流すことによりハース2
2を冷却する。
Then, the hearth 22 is provided with a cooling device of any suitable configuration. Here, the hearth 22 is provided with a coolant channel 28, and a coolant, for example, water is caused to flow through the channel 28 to remove the hearth 2.
Cool 2.

【0023】また放熱器20はハースライナ18の凹部
18b外周面に突設した放熱フィンである。この実施例
では受熱面22aが形成する中空円筒状の凹部内にハー
スライナ18を設けるので、平面的に見たときの凹部1
8bのほぼ中央部が多量の熱を発生する高温領域とな
る。従って蒸着材料24を蒸着する際に蒸着材料24の
温度分布を均一化するため、平面的に見たときの凹部1
8bのほぼ中央部に放熱器20を設け、放熱器20によ
り凹部18bの高温領域の放熱効率を高める。
The radiator 20 is a radiating fin protruding from the outer peripheral surface of the recess 18b of the hearth liner 18. In this embodiment, since the hearth liner 18 is provided in the hollow cylindrical recess formed by the heat receiving surface 22a, the recess 1 when seen in a plan view is provided.
The high temperature region where a large amount of heat is generated is in the substantially central portion of 8b. Therefore, when the vapor deposition material 24 is vapor-deposited, the temperature distribution of the vapor deposition material 24 is made uniform, so
A radiator 20 is provided substantially in the center of 8b, and the radiator 20 enhances the heat radiation efficiency in the high temperature region of the recess 18b.

【0024】この実施例によれば、蒸着材料24を蒸着
する際には、受熱面22aとハースライナ18及び放熱
器20との間の間隙に真空が形成されるので、ハースラ
イナ18及び放熱器20から受熱面22aへの熱の移動
は輻射により行なわれる。これらハースライナ18及び
放熱器20からの輻射熱を冷却したハース22の受熱面
22aにより遮ることにより、蒸着装置の真空容器内の
装置構成部品が熱で劣化するのを防止する。また放熱器
20からの輻射熱を冷却された受熱面22aで吸収する
ことにより凹部18bの高温領域の放熱効率を高める。
According to this embodiment, when depositing the vapor deposition material 24, a vacuum is formed in the gap between the heat receiving surface 22a and the hearth liner 18 and the radiator 20, so that the hearth liner 18 and the radiator 20 are separated from each other. The heat is transferred to the heat receiving surface 22a by radiation. By shielding the radiant heat from the hearth liner 18 and the radiator 20 by the heat receiving surface 22a of the cooled hearth 22, it is possible to prevent the device components in the vacuum container of the vapor deposition device from being deteriorated by heat. Further, the radiation heat from the radiator 20 is absorbed by the cooled heat receiving surface 22a, so that the heat radiation efficiency in the high temperature region of the recess 18b is enhanced.

【0025】またこの実施例によれば、放熱器20によ
り凹部18bの中央部の放熱効率を高めると共に、ハー
スライナ18とハース22との間に間隙を設けかつ支持
部材26とハースライナ18との接触面積を小さくす
る。その結果、蒸着材料24の上面中央部の温度が蒸着
材料24の側面の温度よりも高くなるのを防止しながら
蒸着材料24をその上面全面にわたり加熱融解すること
ができる。
Further, according to this embodiment, the heat dissipation efficiency of the central portion of the recess 18b is improved by the radiator 20, a gap is provided between the hearth liner 18 and the hearth 22, and the contact area between the support member 26 and the hearth liner 18 is increased. To reduce. As a result, the vapor deposition material 24 can be heated and melted over the entire top surface thereof while preventing the temperature of the central portion of the vapor deposition material 24 from becoming higher than the temperature of the side surface of the vapor deposition material 24.

【0026】この実施例の保持装置16及び図15の従
来方法を用いて蒸着材料を加熱融解した場合のそれぞれ
について、温度分布を調べた実験結果を図4に示す。図
4中の点線の曲線A及び実線の曲線Bがそれぞれ、この
実施例の保持装置16及び図15の従来方法に関する実
験結果を示す。
FIG. 4 shows the experimental results of examining the temperature distribution in each case where the vapor deposition material was heated and melted using the holding device 16 of this embodiment and the conventional method of FIG. A dotted curve A and a solid curve B in FIG. 4 show the experimental results for the holding device 16 of this embodiment and the conventional method of FIG. 15, respectively.

【0027】実施例の保持装置16を用いた実験では、
蒸着材料24として金(Au)をハースライナ18の凹
部18bに保持し、ハース22を水冷しながら蒸着材料
24に電子ビームを照射して蒸着材料24を基板に蒸着
した。この際、電子ビームのパワーを漸増させるように
電子ビームの加速電圧及び電子電流を段階的に増加さ
せ、各段階毎に、位置Xにおけるハースライナ18及び
蒸着材料24の温度を測定した。位置Xはハースライナ
18の蒸発口18aを含む面に平行に定めたX軸上の位
置であって、ハースライナ18の左端、中心及び右端に
対応する位置Xをそれぞれ符号XL 、XO 及びXR と表
す(図1及び図4参照)。温度測定には非接触型熱温度
計であるパイロメーターを用いた。
In the experiment using the holding device 16 of the embodiment,
Gold (Au) was held in the recess 18b of the hearth liner 18 as the vapor deposition material 24, and the vapor deposition material 24 was irradiated with an electron beam while cooling the hearth 22 with water to vapor deposit the vapor deposition material 24 on the substrate. At this time, the accelerating voltage and electron current of the electron beam were increased stepwise so as to gradually increase the power of the electron beam, and the temperatures of the hearth liner 18 and the vapor deposition material 24 at the position X were measured at each step. Position X is a position on the X axis which defines parallel to the plane containing the evaporation port 18a of the hearth liner 18, a hearth liner 18 leftmost, center and corresponds to the right end position X of each code X L, X O and X R (See FIGS. 1 and 4). A pyrometer, which is a non-contact thermometer, was used for temperature measurement.

【0028】電子ビームの加速電圧及び電子電流を段階
的に増加させて行ったところ、加速電圧を8KV及び電
子電流を0.2Aとしたときに、図4の曲線Aに示すよ
うに蒸着材料24の上面の温度分布をほぼ均一にするこ
とができ、しかも蒸着材料24をその上面のほぼ全面に
わたり融解させることができた。このときの蒸着レート
は約10オングストローム/秒であった。また基板に形
成された金蒸着膜の品質を評価するため、レーザー光の
散乱を用いた方式のパーティクルカウンターで金蒸着膜
上の金粒子を調べたところ粒径0.3μm以上の金粒子
が約1000個存在した。後述する図15の従来方法を
用いた実験においては粒径0.3μm以上の金粒子が約
30000個であったのと比較すると、実施例の場合の
金粒子の個数は従来の場合の1/30程度であり、金蒸
着膜の膜質を改善できることがわかった。金粒子の発生
は蒸着材料24の異常な蒸発例えば突沸に起因するもの
であると考えれば、実施例の保持装置16を用いること
により異常な蒸発を減少させることができると言える。
When the accelerating voltage and electron current of the electron beam were increased stepwise, when the accelerating voltage was 8 KV and the electron current was 0.2 A, the vapor deposition material 24 as shown by the curve A in FIG. It was possible to make the temperature distribution on the upper surface of the substrate substantially uniform and to melt the vapor deposition material 24 over almost the entire upper surface. The vapor deposition rate at this time was about 10 Å / sec. Further, in order to evaluate the quality of the gold vapor deposition film formed on the substrate, when the gold particles on the gold vapor deposition film were examined with a particle counter using a method of scattering laser light, it was confirmed that gold particles with a particle size of 0.3 μm or more were found to be There were 1000 pieces. Compared with about 30,000 gold particles having a particle size of 0.3 μm or more in the experiment using the conventional method shown in FIG. 15 described later, the number of gold particles in the example is 1/100 of that in the conventional case. It was about 30, and it was found that the film quality of the gold vapor deposition film could be improved. Considering that the generation of the gold particles is caused by abnormal evaporation of the vapor deposition material 24, for example, bumping, it can be said that the abnormal evaporation can be reduced by using the holding device 16 of the embodiment.

【0029】図15の従来方法を用いた実験では、放熱
器20を設けないほかは、上述した実施例の実験の場合
と同様にして、実験を行なった(位置XL 、XO 及びX
R については図15参照)。この場合には、図4の曲線
Bに示すように蒸着材料上面の温度分布は位置XO で高
温のピークが生じるような山なりの分布となり、蒸着材
料上面の温度分布を均一化することはできなかった。ま
た電子ビームの加速電圧を8KV及び電子電流を0.2
Aとしたときに形成された金蒸着膜の品質を評価するた
め、パーティクルカウンターで金蒸着膜上の金粒子を調
べたところ粒径0.3μm以上の金粒子が約30000
個存在した。これは、従来方法では蒸着材料の異常な蒸
発が生じ易いためである。
In the experiment using the conventional method of FIG. 15, the experiment was conducted in the same manner as the experiment of the above-described embodiment except that the radiator 20 was not provided (positions XL , XO and X).
See Figure 15 for R ). In this case, as shown by the curve B in FIG. 4, the temperature distribution on the upper surface of the vapor deposition material becomes a mountainous distribution where a high temperature peak occurs at the position X O , and it is impossible to make the temperature distribution on the upper surface of the vapor deposition material uniform. could not. The electron beam acceleration voltage is 8 KV and the electron current is 0.2
In order to evaluate the quality of the gold vapor deposition film formed when A was set, the gold particles on the gold vapor deposition film were examined with a particle counter.
There existed one. This is because the conventional method tends to cause abnormal evaporation of the vapor deposition material.

【0030】図5及び図6は第一発明の第二実施例の構
成を概略的に示す断面図である。図5は図1に対応する
断面を示し、図6は図5のVI−VI線に沿って取った断面
を示す。尚、第一発明の第一実施例の構成成分に対応す
る構成成分については同一の符号を付して示し、第一発
明の第一実施例と同様の点についてはその詳細な説明を
省略する。
5 and 6 are sectional views schematically showing the construction of the second embodiment of the first invention. 5 shows a cross section corresponding to FIG. 1, and FIG. 6 shows a cross section taken along line VI-VI of FIG. The components corresponding to those of the first embodiment of the first invention are designated by the same reference numerals, and detailed description of the same points as those of the first embodiment of the first invention will be omitted. .

【0031】この実施例の蒸着材料の保持装置30は放
熱器32の構成が異なるほかは第一実施例と同様の構成
を有する。
The vapor deposition material holding device 30 of this embodiment has the same structure as that of the first embodiment except that the structure of the radiator 32 is different.

【0032】この実施例では、ハースライナ18の凹部
18bを波板状に形成しこの波板状の凹部18bを放熱
器32とする。平面的に見たときの凹部18b中央部が
高温領域となるので、この高温領域の凹部18bを波板
状に形成し凹部18bに部分的に放熱器32を形成す
る。放熱器32を構成する波板状の凹部18bの構成は
放熱を行なえる任意好適な構成とすることができるが、
ここでは平面的に見て同心円状に交互に形成した山32
a及び谷32bを有する波板状の凹部18bを放熱器3
2とする。
In this embodiment, the concave portion 18b of the hearth liner 18 is formed in a corrugated plate shape, and the corrugated plate concave portion 18b is used as the radiator 32. Since the central portion of the recess 18b in a plan view is a high temperature region, the recess 18b in this high temperature region is formed in a corrugated plate shape and the radiator 32 is partially formed in the recess 18b. The configuration of the corrugated plate-shaped concave portion 18b forming the radiator 32 can be any suitable configuration capable of performing heat dissipation.
Here, the mountains 32 formed concentrically alternately in plan view.
The radiator 3 is provided with a corrugated plate-shaped recess 18b having a and valleys 32b.
Set to 2.

【0033】図7及び図8は第二発明の第一実施例の構
成を概略的に示す断面図、また図9は第二発明の第一実
施例の構成を概略的に示す平面図である。図7は図9の
VII−VII 線に沿って取った断面図、図8は図7のVIII
−VIII線に沿って取った断面図である。
7 and 8 are sectional views schematically showing the structure of the first embodiment of the second invention, and FIG. 9 is a plan view schematically showing the structure of the first embodiment of the second invention. . FIG. 7 corresponds to FIG.
VII-VII is a cross-sectional view taken along the line VII-VII in FIG.
FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line VIII.

【0034】この実施例の蒸着材料の保持装置34は、
ハースライナ36、温度調整器38及びハース40を備
えて成る。ハースライナ36はその上面に蒸着材料42
の蒸発口36aを有すると共にその底面に蒸着材料42
を保持する凹部36bを有し、吸熱量可変の温度調整器
38を、ハースライナ36の凹部36bの多量の熱が発
生する高温領域に設ける。またハース40はハースライ
ナ36の周囲を囲みハースライナ36からの熱を吸収す
る受熱面40aを有し、この受熱面40aをハースライ
ナ36の蒸発口36aから蒸発した蒸着材料を遮らない
位置に配置する。そしてハース40の受熱面40aとハ
ースライナ36とを離間配置する。
The vapor deposition material holding device 34 of this embodiment is
It comprises a hearth liner 36, a temperature controller 38 and a hearth 40. The hearth liner 36 has a vapor deposition material 42 on its upper surface.
Of the vapor deposition material 42 on the bottom surface thereof.
A temperature adjuster 38 having a concave portion 36b for holding the variable heat absorption amount is provided in a high temperature region of the concave portion 36b of the hearth liner 36 where a large amount of heat is generated. The hearth 40 has a heat receiving surface 40a that surrounds the hearth liner 36 and absorbs heat from the hearth liner 36. The heat receiving surface 40a is arranged at a position where the vapor deposition material evaporated from the evaporation port 36a of the hearth liner 36 is not blocked. Then, the heat receiving surface 40a of the hearth 40 and the hearth liner 36 are arranged separately.

【0035】この実施例では、銅(Cu)製のハース4
0に、上面を開口40bとした中空円筒状の凹部を設
け、この凹部内壁面を受熱面40aとする。このハース
40を電子ビーム真空蒸着装置の真空容器(図示せず)
内に設け、そして受熱面40aが形成する凹部内に支持
部材44を介してハースライナ36を配置する。
In this embodiment, the hearth 4 made of copper (Cu) is used.
0 is provided with a hollow cylindrical recess having an opening 40b on the upper surface, and the inner wall surface of the recess serves as the heat receiving surface 40a. This hearth 40 is a vacuum container (not shown) of an electron beam vacuum deposition apparatus.
The hearth liner 36 is disposed inside the recess formed by the heat receiving surface 40a with the support member 44 interposed therebetween.

【0036】ハースライナ36はタングステン(W)か
ら成る平面形状が円形状の皿であって、ハースライナ3
6の凹部36bを受熱面40aが形成する凹部内に嵌め
込むと共にハースライナ36の蒸発口36aを受熱面4
0aで覆わずに開口40bから露出させる。
The hearth liner 36 is a plate made of tungsten (W) and having a circular planar shape.
The concave portion 36b of No. 6 is fitted into the concave portion formed by the heat receiving surface 40a, and the evaporation port 36a of the hearth liner 36 is attached to the heat receiving surface 4
It is exposed from the opening 40b without being covered with 0a.

【0037】尚、ハースライナ36の形成材料をタング
ステンとするほか、例えばモリブデン(Mo)、タンタ
ル(Ta)或はそのほかの高融点金属としたりカーボ
ン、ボロンナイトライド或はそのほかの耐熱材料とした
りすることができる。またハース40の形成材料を銅、
熱伝導率の高い材料或はそのほかの任意好適な材料とす
ることができる。
In addition to tungsten as the material for forming the hearth liner 36, for example, molybdenum (Mo), tantalum (Ta) or another refractory metal, or carbon, boron nitride or another heat-resistant material may be used. You can In addition, the forming material of the hearth 40 is copper,
It may be a material having a high thermal conductivity or any other suitable material.

【0038】支持部材44はタンタル(Ta)から成
る。ハースライナ36の位置決め方法をこれに限定する
ものではないが、ここでは支持部材44を受熱面40a
及びハースライナ36の間に設け、支持部材44により
ハースライナ36を支持する。蒸着材料42を蒸着する
際に蒸着材料42の温度分布を均一化するため、ハース
ライナ36とハース40との間に間隙を設けかつ支持部
材44とハースライナ36との接触面積を小さくする。
好ましくは、支持部材44を熱伝導率の小さな材料或は
断熱材で形成する。
The support member 44 is made of tantalum (Ta). Although the method of positioning the heart liner 36 is not limited to this, here, the support member 44 is attached to the heat receiving surface 40a.
And the hearth liner 36, and the support member 44 supports the hearth liner 36. In order to make the temperature distribution of the vapor deposition material 42 uniform during vapor deposition of the vapor deposition material 42, a gap is provided between the hearth liner 36 and the hearth 40 and the contact area between the support member 44 and the hearth liner 36 is reduced.
Preferably, the support member 44 is formed of a material having a low thermal conductivity or a heat insulating material.

【0039】そしてハース40に任意好適な構成の冷却
装置を設ける。ここではハース40に冷媒流路45を設
け、流路45に冷媒例えば水を流すことによりハース4
0を冷却する。
Then, the hearth 40 is provided with a cooling device of any suitable configuration. Here, the hearth 40 is provided with a refrigerant channel 45, and a refrigerant, for example, water is caused to flow through the channel 45 to cause the hearth 4 to flow.
Cool 0.

【0040】また温度調整器38は、ハースライナ36
の凹部36bの高温領域に設けた放熱器46と放熱器4
6に対向させて配置した吸熱器48とを有し、吸熱器4
8を放熱器46に沿う方向Pの移動自在に設けて成る。
Further, the temperature controller 38 is a hearth liner 36.
Radiator 46 and radiator 4 provided in the high temperature region of recess 36b of
6 and a heat absorber 48 disposed so as to face each other.
8 is movably provided in the direction P along the radiator 46.

【0041】放熱器46はハースライナ36の凹部36
b外周面に突設した放熱フィンである。この実施例では
ハースライナ40の受熱面40aが形成する中空円筒状
の凹部内にハースライナ36を設けるので、平面的に見
たときの凹部36bのほぼ中央部が多量の熱を発生する
高温領域となる。従って蒸着材料42を蒸着する際に蒸
着材料42の温度分布を均一化するため、平面的に見た
ときの凹部36bのほぼ中央部に放熱器46を設け、放
熱器46により凹部36bの高温領域の放熱効率を高め
る。
The radiator 46 is the recess 36 of the hearth liner 36.
b It is a radiation fin protruding on the outer peripheral surface. In this embodiment, since the hearth liner 36 is provided in the hollow cylindrical recess formed by the heat receiving surface 40a of the hearth liner 40, the substantially central portion of the recess 36b in a plan view is a high temperature region where a large amount of heat is generated. . Therefore, in order to make the temperature distribution of the vapor deposition material 42 uniform when the vapor deposition material 42 is vapor-deposited, a radiator 46 is provided substantially in the center of the recess 36b when viewed in plan, and the radiator 46 causes a high temperature region of the recess 36b. Improve the heat dissipation efficiency.

【0042】吸熱器48は銅製のヒートシンクであっ
て、中空円筒状の受熱部材48aと受熱部材48aを方
向Pに移動操作するための操作部材48bとを有して成
る。受熱部材48aを受熱面40aが形成する凹部内に
配置し、そして受熱部材48aの中空部分の内部に放熱
器46を設ける。受熱部材48aと放熱器46とを離間
させこれらの間に間隙を設ける。蒸着材料42を蒸着す
る際には、受熱部材48aと放熱器46との間の間隙に
真空が形成されるので、放熱器46から受熱部材48a
への熱の移動は輻射により行なわれる。さらに操作部材
48bをハース40の貫通穴40cに摺動自在に挿通さ
せ、操作部材48bの一端を受熱部材48aに接続し操
作部材48bの他端をハース40外部に設けた移動機構
(図示せず)に接続する。
The heat absorber 48 is a heat sink made of copper and has a hollow cylindrical heat receiving member 48a and an operating member 48b for moving the heat receiving member 48a in the direction P. The heat receiving member 48a is arranged in the recess formed by the heat receiving surface 40a, and the radiator 46 is provided inside the hollow portion of the heat receiving member 48a. The heat receiving member 48a and the radiator 46 are separated from each other, and a gap is provided therebetween. When the vapor deposition material 42 is vapor-deposited, a vacuum is formed in the gap between the heat receiving member 48a and the radiator 46, so that the heat receiving member 48a moves from the radiator 46.
The transfer of heat to is done by radiation. Further, the operating member 48b is slidably inserted into the through hole 40c of the hearth 40, one end of the operating member 48b is connected to the heat receiving member 48a, and the other end of the operating member 48b is provided outside the hearth 40 (not shown). ).

【0043】操作部材48bをハース40の貫通穴40
cと接触させ、操作部材48bからハース40へ熱伝導
により熱を逃がすことにより、受熱部材48a及び操作
部材48bを冷却する。また電子ビーム蒸着装置の真空
容器外部から移動機構を操作することにより、操作部材
48bを介して受熱部材48aを方向Pに移動させる。
受熱部材48aを移動させると受熱部材48aと放熱器
46との対向部分の長さL(図7参照)が変化し従って
受熱部材48a及び放熱器46の対向面積が変化する。
その結果、放熱器46から吸熱器48へ吸収される熱量
が変化し従ってハースライナ36の凹部36bの高温領
域から温度調整器38へ吸収される熱量(吸熱量)が変
化するので、凹部36bの高温領域の温度を可変制御で
きる。
The operating member 48b is connected to the through hole 40 of the hearth 40.
The heat receiving member 48a and the operating member 48b are cooled by bringing them into contact with c and releasing heat from the operating member 48b to the hearth 40 by heat conduction. Further, the heat receiving member 48a is moved in the direction P through the operating member 48b by operating the moving mechanism from the outside of the vacuum container of the electron beam vapor deposition apparatus.
When the heat receiving member 48a is moved, the length L (see FIG. 7) of the facing portion between the heat receiving member 48a and the radiator 46 changes, and thus the facing area of the heat receiving member 48a and the radiator 46 changes.
As a result, the amount of heat absorbed from the radiator 46 to the heat absorber 48 changes, and thus the amount of heat (heat absorption amount) absorbed from the high temperature region of the recess 36b of the hearth liner 36 to the temperature adjuster 38 changes. The temperature of the area can be variably controlled.

【0044】この実施例によれば、蒸着材料42を蒸着
する際には、受熱面40a及び受熱部材48aとハース
ライナ36及び放熱器46との間の間隙に真空が形成さ
れるので、ハースライナ36及び放熱器46から受熱面
40a及び受熱部材48aへの熱の移動は輻射により行
なわれる。これらハースライナ36及び放熱器46から
の輻射熱を冷却したハース40の受熱面40aで遮るこ
とにより、蒸着装置の真空容器内の装置構成部品が熱で
劣化するのを防止する。また放熱器46からの輻射熱を
冷却された受熱部材48a或はこれに加え冷却された受
熱面40aで吸収することにより凹部36bの高温領域
の放熱効率を高める。
According to this embodiment, when the vapor deposition material 42 is vapor-deposited, a vacuum is formed in the gap between the heat-receiving surface 40a and the heat-receiving member 48a and the hearth liner 36 and the radiator 46. The heat is transferred from the radiator 46 to the heat receiving surface 40a and the heat receiving member 48a by radiation. By blocking the radiant heat from the hearth liner 36 and the radiator 46 with the heat receiving surface 40a of the cooled hearth 40, it is possible to prevent the device components in the vacuum container of the vapor deposition device from being deteriorated by heat. Further, the radiant heat from the radiator 46 is absorbed by the cooled heat receiving member 48a or the cooled heat receiving surface 40a, thereby enhancing the heat radiation efficiency in the high temperature region of the recess 36b.

【0045】またこの実施例によれば、温度調整器38
により凹部36bの中央部の放熱効率を高めると共に、
ハースライナ36とハース40との間に間隙を設けかつ
支持部材44とハースライナ36との接触面積を小さく
する。その結果、蒸着材料42の上面中央部の温度が蒸
着材料42の側面の温度よりも高くなるのを防止しなが
ら蒸着材料42をその上面全面にわたり加熱融解するこ
とができる。
Further, according to this embodiment, the temperature controller 38
This improves the heat dissipation efficiency of the central portion of the recess 36b, and
A gap is provided between the hearth liner 36 and the hearth 40, and the contact area between the support member 44 and the hearth liner 36 is reduced. As a result, the vapor deposition material 42 can be heated and melted over the entire top surface while preventing the temperature of the central portion of the vapor deposition material 42 from becoming higher than the temperature of the side surface of the vapor deposition material 42.

【0046】さらにこの実施例によれば、温度調整器3
8により凹部36bの高温領域の温度を可変制御できる
ので、蒸着レートを変化させるため蒸着材料42に照射
する電子ビームのパワーを変化させても、蒸着材料42
の上面中央部の温度が蒸着材料42の側面の温度よりも
高くなるのを防止しながら蒸着材料42をその上面全面
にわたり加熱融解することができる。
Further, according to this embodiment, the temperature controller 3
Since the temperature of the high temperature region of the concave portion 36b can be variably controlled by 8, the vapor deposition material 42 can be changed even if the power of the electron beam with which the vapor deposition material 42 is irradiated to change the vapor deposition rate.
It is possible to heat and melt the vapor deposition material 42 over the entire upper surface thereof while preventing the temperature of the central portion of the top surface of the above from becoming higher than the temperature of the side surface of the vapor deposition material 42.

【0047】この実施例の保持装置34を用いて蒸着材
料を加熱融解した場合の、温度分布を調べた実験結果を
図10に示す。
FIG. 10 shows the experimental result of examining the temperature distribution when the vapor deposition material was heated and melted by using the holding device 34 of this embodiment.

【0048】この実験では、蒸着材料42として金(A
u)をハースライナ36の凹部36bに保持し、ハース
40を水冷しながら蒸着材料42に電子ビームを照射し
て蒸着材料42を基板に蒸着した。この際、電子ビーム
の加速電圧を8KV及び電子電流を0.2Aとして、受
熱部材48a及び放熱器46の対向部分の長さL(図7
参照)を段階的に変化させ、各段階毎に、位置Xにおけ
るハースライナ36及び蒸着材料42の温度を測定し
た。位置Xはハースライナ36の蒸発口36aを含む面
に平行に定めたX軸上の位置であって、ハースライナ3
6の左端、中心及び右端に対応する位置Xをそれぞれ符
号XL 、XO 及びXR と表す(図7参照)。温度測定に
は非接触型熱温度計であるパイロメーターを用いた。L
=0、5及び10mmとしたときの測定により得られた
温度分布をそれぞれ、図10中に、実線の曲線L0 、点
線の曲線L5 及び一点鎖線の曲線L10で示す。
In this experiment, gold (A
u) was held in the concave portion 36b of the hearth liner 36, and while the hearth 40 was cooled with water, the vapor deposition material 42 was irradiated with an electron beam to vapor deposit the vapor deposition material 42 on the substrate. At this time, the acceleration voltage of the electron beam is set to 8 KV and the electron current is set to 0.2 A, and the length L of the facing portion of the heat receiving member 48a and the radiator 46 (FIG. 7).
The temperature of the hearth liner 36 and the vapor deposition material 42 at the position X was measured for each step. The position X is a position on the X axis defined parallel to the surface of the hearth liner 36 including the evaporation port 36a.
The positions X corresponding to the left end, the center, and the right end of 6 are represented by symbols X L , X O, and X R , respectively (see FIG. 7). A pyrometer, which is a non-contact thermometer, was used for temperature measurement. L
The temperature distributions obtained by the measurement when = 0, 5 and 10 mm are shown in FIG. 10 by a solid curve L 0 , a dotted curve L 5 and a dashed line L 10 .

【0049】図10からも理解できるように、L=0m
mとした場合には蒸着材料42の上面中央部の温度が蒸
着材料42の側面の温度よりも高くかつこれらの温度差
が大きくなった。L=5mmとした場合には蒸着材料4
2の上面の温度分布をほぼ均一にすることができ、しか
も蒸着材料42をその上面のほぼ全面にわたり融解させ
ることができた。またL=10mmとした場合には蒸着
材料42の上面中央部の温度が蒸着材料42の側面の温
度よりも低くかつこれらの温度差が大きくなった。この
ように長さLを調整することにより蒸着材料42の温度
分布を均一化することができる。この実験では電子ビー
ムの加速電圧8KV及び電子電流を0.2Aとして実験
を行なったが、電子ビームの加速電圧及び電子電流をこ
れら特定の値以外の値に変化させて蒸着レートを変化さ
せた場合にも、長さL及び又は吸熱器48の冷却温度を
調整することにより蒸着材料42の温度分布を均一化で
きる。
As can be understood from FIG. 10, L = 0 m
When m was set, the temperature of the central portion of the upper surface of the vapor deposition material 42 was higher than the temperature of the side surface of the vapor deposition material 42, and the temperature difference between them was large. When L = 5 mm, vapor deposition material 4
It was possible to make the temperature distribution on the upper surface of No. 2 substantially uniform and to melt the vapor deposition material 42 over almost the entire upper surface. When L = 10 mm, the temperature of the central portion of the upper surface of the vapor deposition material 42 was lower than the temperature of the side surface of the vapor deposition material 42, and the temperature difference between them was large. By adjusting the length L in this way, the temperature distribution of the vapor deposition material 42 can be made uniform. In this experiment, the electron beam acceleration voltage was set to 8 KV and the electron current was set to 0.2 A, but when the electron beam acceleration voltage and the electron current were changed to values other than these specific values to change the deposition rate. Moreover, the temperature distribution of the vapor deposition material 42 can be made uniform by adjusting the length L and / or the cooling temperature of the heat absorber 48.

【0050】図11及び図12は第二発明の第二実施例
の構成を概略的に示す断面図である。図11は図7に対
応する断面を示し、図12は図11のXII −XII 線に沿
って取った断面を示す。尚、第二発明の第一実施例の構
成成分に対応する構成成分については同一の符号を付し
て示し、第二発明の第一実施例と同様の点についてはそ
の詳細な説明を省略する。
11 and 12 are sectional views schematically showing the construction of the second embodiment of the second invention. 11 shows a cross section corresponding to FIG. 7, and FIG. 12 shows a cross section taken along line XII-XII of FIG. The components corresponding to those of the first embodiment of the second invention are designated by the same reference numerals, and detailed description of the same points as those of the first embodiment of the second invention will be omitted. .

【0051】この実施例の蒸着材料の保持装置50は温
度調整器52の構成が異なるほかは第一実施例と同様の
構成を有する。
The vapor deposition material holding device 50 of this embodiment has the same construction as that of the first embodiment except that the construction of the temperature controller 52 is different.

【0052】この実施例では、温度調整器52は放熱器
54及び吸熱器56を有して成る。放熱器54はハース
ライナ36の凹部36b外周面に突設した放熱板であ
る。吸熱器56は銅製のヒートシンクであって、板状の
受熱部材56aと受熱部材56aを方向Pに移動操作す
るための操作部材56bとを有して成る。
In this embodiment, the temperature controller 52 has a radiator 54 and a heat absorber 56. The radiator 54 is a radiator plate protruding from the outer peripheral surface of the concave portion 36b of the hearth liner 36. The heat absorber 56 is a copper heat sink and includes a plate-shaped heat receiving member 56a and an operating member 56b for moving the heat receiving member 56a in the direction P.

【0053】そして放熱器54を受熱部材56aと摺動
自在に接触させて対向配置する。蒸着材料42を蒸着す
る際には、受熱部材56aと放熱器46とを接触させ、
放熱器46から受熱部材56aへ熱伝導により熱を移動
させる。さらに操作部材56bをハース40の貫通穴4
0cに挿通させ、操作部材56bの一端を受熱部材56
aに接続し操作部材56bの他端をハース40外部に設
けた移動機構(図示せず)に接続する。操作部材56b
と貫通穴40cとの間に、操作部材56bの摺動自在に
断熱材58を設ける。断熱材58に代えて熱伝導率の低
い材料或は間隙を設けるようにしても良い。
Then, the radiator 54 is slidably contacted with the heat receiving member 56a so as to be opposed thereto. When depositing the vapor deposition material 42, the heat receiving member 56 a and the radiator 46 are brought into contact with each other,
Heat is transferred from the radiator 46 to the heat receiving member 56a by heat conduction. Further, the operation member 56b is attached to the through hole 4 of the hearth 40.
0c, and one end of the operating member 56b is attached to the heat receiving member 56b.
The other end of the operating member 56b is connected to a moving mechanism (not shown) provided outside the hearth 40. Operating member 56b
An insulating material 58 is provided between the through hole 40c and the through hole 40c so that the operating member 56b can slide. Instead of the heat insulating material 58, a material having a low thermal conductivity or a gap may be provided.

【0054】そして操作部材56bに任意好適な構成の
冷却装置を設ける。ここでは操作部材56bに冷媒流路
60を設け、流路60に冷媒例えば水を流すことにより
操作部材56b及び受熱部材56aを冷却する。ハース
40に設けた冷却装置とは別の冷却装置を操作部材56
bに設け、ハース40及び吸熱器56の冷却温度をそれ
ぞれ個別に制御する。
Then, the operating member 56b is provided with a cooling device of any suitable configuration. Here, the operation member 56b is provided with the refrigerant flow path 60, and the operation member 56b and the heat receiving member 56a are cooled by flowing a refrigerant, for example, water through the flow path 60. A cooling device different from the cooling device provided on the hearth 40 is provided on the operating member 56.
The cooling temperature of the hearth 40 and the heat absorber 56 is controlled individually.

【0055】蒸着装置の真空容器外部から移動機構を操
作して受熱部材56aを移動させると、受熱部材56a
と放熱器54との対向部分の長さL(図11参照)が変
化するので、ハースライナ36の凹部36bの高温領域
の温度を可変制御できる。
When the heat receiving member 56a is moved by operating the moving mechanism from the outside of the vacuum container of the vapor deposition apparatus, the heat receiving member 56a is moved.
Since the length L (see FIG. 11) of the facing portion of the heat radiator 54 changes, the temperature of the high temperature region of the recess 36b of the hearth liner 36 can be variably controlled.

【0056】この実施例では、放熱器54からの伝導熱
を冷却された受熱部材48aで吸収することにより或は
これに加え放熱器54からの輻射熱を冷却された受熱面
40aで吸収することにより凹部36bの高温領域の放
熱効率を高める。
In this embodiment, the conduction heat from the radiator 54 is absorbed by the cooled heat receiving member 48a, or in addition, the radiant heat from the radiator 54 is absorbed by the cooled heat receiving surface 40a. The heat dissipation efficiency of the high temperature region of the recess 36b is improved.

【0057】図13は第二発明の第三実施例の構成を概
略的に示す断面図である。図13は図7に対応する断面
を示す。尚、第二発明の第二実施例の構成成分に対応す
る構成成分については同一の符号を付して示し、第二発
明の第二実施例と同様の点についてはその詳細な説明を
省略する。
FIG. 13 is a sectional view schematically showing the construction of the third embodiment of the second invention. FIG. 13 shows a cross section corresponding to FIG. The constituent components corresponding to those of the second embodiment of the second invention are designated by the same reference numerals, and detailed description of the same points as those of the second embodiment of the second invention will be omitted. .

【0058】この実施例の蒸着材料の保持装置62は温
度調整器64の構成が異なるほかは第二実施例と同様の
構成を有する。
The vapor deposition material holding device 62 of this embodiment has the same structure as that of the second embodiment except that the structure of the temperature controller 64 is different.

【0059】この実施例では、温度調整器64を、棒状
の部材から成る銅製のヒートシンク64aとヒートシン
ク64aの一端に突設したタングステン製の接触部64
bとから構成する。そして接触部64bをハースライナ
凹部36bの高温領域に接続する。ヒートシンク64a
をハースライナ凹部36aの高温領域と直接に接続する
と、ヒートシンク64aの熱伝導率が高いので凹部36
aの高温領域からの吸熱量が大きくなり、その結果、高
温領域の温度が下がりすぎたりするなど高温領域の温度
調整がしずらくなる。そこでヒートシンク64aを接触
部64bを介して凹部36aの高温領域と接続する。接
触部64bの熱伝導率を任意好適な大きさとすることに
より、凹部36aの高温領域からの吸熱量を温度調整が
し易い量に制限する。
In this embodiment, the temperature adjuster 64 comprises a heat sink 64a made of a rod-shaped member made of copper and a contact portion 64 made of tungsten protruding from one end of the heat sink 64a.
and b. Then, the contact portion 64b is connected to the high temperature region of the hearth liner recess 36b. Heat sink 64a
Is directly connected to the high temperature region of the hearth liner recess 36a, the heat sink 64a has a high thermal conductivity, so that the recess 36
The amount of heat absorbed from the high temperature region of a becomes large, and as a result, the temperature of the high temperature region becomes too low, making it difficult to adjust the temperature of the high temperature region. Therefore, the heat sink 64a is connected to the high temperature region of the recess 36a via the contact portion 64b. By setting the thermal conductivity of the contact portion 64b to any suitable value, the amount of heat absorbed from the high temperature region of the recess 36a is limited to an amount that facilitates temperature adjustment.

【0060】またヒートシンク64aをハース40の貫
通穴40cに挿通させ、ヒートシンク64aの他端の側
をハース40外部へ延出させる。ヒートシンク64aと
貫通穴40cとの間には、断熱材58を設ける。またヒ
ートシンク64aの他端の側に任意好適な構成の冷却装
置を設ける。ここでは温度調整器64に冷媒流路60を
設け、流路60に冷媒を流すことにより温度調整器64
を冷却する。ハース40に設けた冷却装置とは別の冷却
装置を温度調整器64に設け、ハース40及び温度調整
器64の冷却温度をそれぞれ個別に制御する。
The heat sink 64a is inserted through the through hole 40c of the hearth 40, and the other end of the heat sink 64a is extended to the outside of the hearth 40. A heat insulating material 58 is provided between the heat sink 64a and the through hole 40c. Further, a cooling device having any suitable configuration is provided on the other end side of the heat sink 64a. Here, the temperature regulator 64 is provided with the refrigerant channel 60, and the temperature regulator 64 is provided by flowing the refrigerant through the channel 60.
To cool. A cooling device different from the cooling device provided in the hearth 40 is provided in the temperature controller 64, and the cooling temperatures of the hearth 40 and the temperature controller 64 are individually controlled.

【0061】この実施例では、ハースライナ36の凹部
36bの高温領域からの伝導熱を温度調整器64により
吸収することにより、凹部36bの高温領域の放熱効率
を高める。
In this embodiment, the conduction heat from the high temperature region of the recess 36b of the hearth liner 36 is absorbed by the temperature adjuster 64, so that the heat radiation efficiency of the high temperature region of the recess 36b is improved.

【0062】発明は上述した実施例にのみ限定されるも
のではなく、従って各構成成分の形成材料、配設位置、
配設個数、形状、冷却方法、位置決め方法及びそのほか
を任意好適に変更できる。
The invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and therefore, the forming material of each constituent, the arrangement position,
The number, shape, cooling method, positioning method and others of the arrangement can be changed arbitrarily.

【0063】例えば上述した第一発明の実施例ではハー
スライナ凹部の高温領域を一つとしこの高温領域に一つ
の放熱器を設けるようにしたが、ハースライナ凹部の高
温領域は場合によっては複数個存在することもあり従っ
て複数個の高温領域の全部又は一部に放熱器を設けるよ
うにしても良いし、また一つの高温領域に設ける放熱器
の個数を複数個としても良い。
For example, in the above-described embodiment of the first invention, the high temperature region of the hearth liner recess is set to one, and one radiator is provided in this high temperature region. However, a plurality of high temperature regions of the hearth liner recess may exist. Therefore, a radiator may be provided in all or a part of the plurality of high temperature regions, or a plurality of radiators may be provided in one high temperature region.

【0064】また上述した第二発明の実施例ではハース
ライナ凹部の高温領域を一つとしこの高温領域に一つの
温度調整器を設けるようにしたが、ハースライナ凹部の
高温領域は場合によっては複数個存在することもあり従
って複数個の高温領域の全部又は一部に温度調整器を設
けるようにしても良い。この場合、好ましくは温度調整
器を設けた各高温領域毎に個別に温度調整器の吸熱量を
可変調整できるようにするのが良い。また一つの高温領
域に設ける温度調整器の個数を複数個としても良い。
Further, in the above-described embodiment of the second invention, the high temperature region of the hearth liner recess is set to one, and one temperature controller is provided in this high temperature region. However, a plurality of high temperature regions of the hearth liner recess may exist. Therefore, the temperature controller may be provided in all or a part of the plurality of high temperature regions. In this case, preferably, the heat absorption amount of the temperature regulator can be variably adjusted individually for each high temperature region in which the temperature regulator is provided. Further, the number of temperature regulators provided in one high temperature region may be plural.

【0065】さらに上述した実施例では第一及び第二発
明の蒸着材料の保持装置を電子ビーム蒸着装置に用いる
例につき説明したが、これら発明を用いることのできる
蒸着装置をこれに限定するものではなく、このほか例え
ばレーザビームにより蒸着材料を蒸発させて蒸着を行な
う構成の装置に用いるようにしても良い。
Further, in the above-mentioned embodiments, the example in which the holding apparatus for the vapor deposition material of the first and second inventions is used in the electron beam vapor deposition apparatus has been described, but the vapor deposition apparatus which can use these inventions is not limited to this. Instead of this, for example, it may be used in an apparatus configured to vaporize a vapor deposition material by a laser beam to perform vapor deposition.

【0066】[0066]

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように第一
発明の蒸着材料の保持装置によれば、ハースライナ凹部
の高温領域の熱を放熱器を介してハースの受熱面へ逃が
すことにより、ハースライナ凹部の温度分布を均一化で
きるので、蒸着材料をその上面全面にわたり融解させる
ようにしつつ蒸着材料の異常な蒸発を防止できる。従っ
て蒸着レートを高めても良好な膜質の蒸着膜を形成で
き、また蒸着レートを安定に一定に保てる。
As is clear from the above description, according to the apparatus for holding a vapor deposition material of the first invention, the heat in the high temperature region of the concave portion of the hearth liner is radiated to the heat receiving surface of the hearth via the radiator, so that the hearth liner is exposed. Since the temperature distribution of the recess can be made uniform, it is possible to prevent the evaporation material from being abnormally evaporated while melting the evaporation material over the entire upper surface thereof. Therefore, even if the vapor deposition rate is increased, a vapor-deposited film having good film quality can be formed, and the vapor deposition rate can be stably kept constant.

【0067】さらに第二発明の蒸着材料の保持装置によ
れば、ハースライナ凹部の高温領域の熱を温度調整器で
吸収することによりハースライナ凹部の温度分布を均一
化できるので、蒸着材料をその上面全面にわたり融解さ
せるようにしつつ蒸着材料の異常な蒸発を防止できる。
従って蒸着レートを高めても良好な膜質の蒸着膜を形成
でき、また蒸着レートを安定に一定に保てる。
Further, according to the apparatus for holding a vapor deposition material of the second invention, the temperature distribution of the hearth liner recess can be made uniform by absorbing the heat in the high temperature region of the hearth liner recess by the temperature controller, so that the vapor deposition material can be applied to the entire upper surface of the recess. It is possible to prevent the abnormal evaporation of the vapor deposition material while allowing it to melt over.
Therefore, even if the vapor deposition rate is increased, a vapor-deposited film having good film quality can be formed, and the vapor deposition rate can be stably kept constant.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第一発明の第一実施例の構成を概略的に示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing the configuration of a first embodiment of the first invention.

【図2】第一発明の第一実施例の構成を概略的に示す断
面図である。
FIG. 2 is a sectional view schematically showing a configuration of a first embodiment of the first invention.

【図3】第一発明の第一実施例の構成を概略的に示す平
面図である。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a configuration of a first embodiment of the first invention.

【図4】第一発明の第一実施例及び従来方法に関して得
た実験結果を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing experimental results obtained for the first embodiment of the first invention and the conventional method.

【図5】第一発明の第二実施例の構成を概略的に示す断
面図である。
FIG. 5 is a sectional view schematically showing a configuration of a second embodiment of the first invention.

【図6】第一発明の第二実施例の構成を概略的に示す断
面図である。
FIG. 6 is a sectional view schematically showing the configuration of a second embodiment of the first invention.

【図7】第二発明の第一実施例の構成を概略的に示す断
面図である。
FIG. 7 is a sectional view schematically showing a configuration of a first embodiment of the second invention.

【図8】第二発明の第一実施例の構成を概略的に示す断
面図である。
FIG. 8 is a sectional view schematically showing a configuration of a first embodiment of the second invention.

【図9】第二発明の第一実施例の構成を概略的に示す平
面図である。
FIG. 9 is a plan view schematically showing a configuration of a first embodiment of the second invention.

【図10】第二発明の第一実施例に関して得た実験結果
を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing experimental results obtained for the first embodiment of the second invention.

【図11】第二発明の第二実施例の構成を概略的に示す
断面図である。
FIG. 11 is a sectional view schematically showing the configuration of a second embodiment of the second invention.

【図12】第二発明の第二実施例の構成を概略的に示す
断面図である。
FIG. 12 is a sectional view schematically showing the configuration of a second embodiment of the second invention.

【図13】第二発明の第三実施例の構成を概略的に示す
断面図である。
FIG. 13 is a sectional view schematically showing the configuration of a third embodiment of the second invention.

【図14】従来の蒸着材料保持方法の説明に供する断面
図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining a conventional vapor deposition material holding method.

【図15】従来の他の蒸着材料保持方法の説明に供する
断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view provided for explaining another conventional vapor deposition material holding method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

16、30、34:蒸着材料の保持装置 18、36:ハースライナ 18a、36a:蒸着材料の蒸発口 18b、36b:凹部 20、32:放熱器 22、40:ハース 22a、40a:受熱面 24、42:蒸着材料 38:温度調整器 16, 30, 34: Holding device for vapor deposition material 18, 36: Hearth liner 18a, 36a: Evaporation port for vapor deposition material 18b, 36b: Recess 20, 32: Radiator 22, 40: Hearth 22a, 40a: Heat receiving surface 24, 42 : Vapor deposition material 38: Temperature controller

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 上面に蒸着材料の蒸発口を有し底面に蒸
着材料を保持する凹部を有するハースライナと、該ハー
スライナの凹部の多量の熱が発生する高温領域に設けた
放熱器と、前記ハースライナの蒸発口から蒸発した蒸着
材料を遮らない位置で前記ハースライナ及び放熱器の周
囲を囲みこれらハースライナ及び放熱器からの熱を吸収
する受熱面を有するハースとを備え、 該ハースの受熱面と前記ハースライナ及び放熱器とを離
間配置して成ることを特徴とする蒸着材料の保持装置。
1. A hearth liner having an evaporation port for vapor deposition material on an upper surface and a concave portion for holding the vapor deposition material on a bottom surface, a radiator provided in a high temperature region of the concave portion of the hearth liner where a large amount of heat is generated, and the hearth liner. A hearth surrounding the hearth liner and the radiator at a position that does not block the vapor deposition material evaporated from the evaporation port of the hearth and having a heat receiving surface that absorbs heat from the hearth liner and the radiator, and the heat receiving surface of the hearth and the hearth liner. An apparatus for holding a vapor deposition material, characterized in that the apparatus and the radiator are separately arranged.
【請求項2】 請求項1記載の蒸着材料の保持装置にお
いて、放熱器をハースライナの凹部外周面に突設した放
熱フィンとしたことを特徴とする蒸着材料の保持装置。
2. The apparatus for holding a vapor deposition material according to claim 1, wherein the radiator is a radiation fin projecting from the outer peripheral surface of the concave portion of the hearth liner.
【請求項3】 請求項1記載の蒸着材料の保持装置にお
いて、ハースライナの凹部を波板状に形成し該波板状の
凹部を放熱器としたことを特徴とする蒸着材料の保持装
置。
3. The vapor deposition material holding apparatus according to claim 1, wherein the hearth liner has a corrugated plate-shaped recess, and the corrugated plate-shaped recess serves as a radiator.
【請求項4】 上面に蒸着材料の蒸発口を有し底面に蒸
着材料を保持する凹部を有するハースライナと、該ハー
スライナの凹部の多量の熱が発生する高温領域に設けた
吸熱量可変の温度調整器と、前記ハースライナの蒸発口
から蒸発した蒸着材料を遮らない位置でハースライナの
周囲を囲み該ハースライナからの熱を吸収する受熱面を
有するハースとを備え、 前記ハースの受熱面と前記ハースライナとを離間配置し
て成ることを特徴とする蒸着材料の保持装置。
4. A hearth liner having an evaporation port for vapor deposition material on an upper surface and a concave portion for holding the vapor deposition material on a bottom surface, and a temperature adjustment with a variable heat absorption amount provided in a high temperature region where a large amount of heat is generated in the concave portion of the hearth liner. And a hearth having a heat receiving surface that surrounds the hearth liner at a position that does not block the vapor deposition material evaporated from the evaporation port of the hearth liner and that absorbs heat from the hearth liner, and the heat receiving surface of the hearth and the hearth liner. An apparatus for holding a vapor deposition material, characterized by being spaced apart.
【請求項5】 請求項4記載の蒸着材料の保持装置にお
いて、温度調整器はハースライナの凹部の高温領域に設
けた放熱器と該放熱器に対向させて配置した吸熱器とを
有し、該吸熱器を前記放熱器に沿う方向の移動自在に設
けて成ることを特徴とする蒸着材料の保持装置。
5. The apparatus for holding a vapor deposition material according to claim 4, wherein the temperature adjuster has a radiator provided in a high temperature region of the concave portion of the hearth liner and a heat absorber arranged so as to face the radiator. An apparatus for holding a vapor deposition material, wherein a heat absorber is provided so as to be movable in a direction along the radiator.
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