JPH0625194B2 - Novel epoxy resin manufacturing method - Google Patents

Novel epoxy resin manufacturing method

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JPH0625194B2
JPH0625194B2 JP1486084A JP1486084A JPH0625194B2 JP H0625194 B2 JPH0625194 B2 JP H0625194B2 JP 1486084 A JP1486084 A JP 1486084A JP 1486084 A JP1486084 A JP 1486084A JP H0625194 B2 JPH0625194 B2 JP H0625194B2
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compound
general formula
epoxy resin
represented
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豊和 楊井
正治 渡辺
公夫 井上
孝明 村井
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Description

【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明は、耐熱性、耐候性、耐水性に優れた新規な脂環
式エポキシ樹脂の製造法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a novel alicyclic epoxy resin having excellent heat resistance, weather resistance and water resistance.

《従来技術》 産業界において現在最も広く使用されているエポキシ樹
脂はビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応に
よって製造される、いわゆる、エピービス型エポキシ樹
脂である。
<< Prior Art >> The most widely used epoxy resin in the industry today is a so-called EPB type epoxy resin produced by a reaction of bisphenol A and epichlorohydrin.

この樹脂は液体から固定まで幅広い製品が得られ、しか
もエポキシ基の反応性は高く、ポリアミンで常温硬化で
きるという利点を有している。
This resin has a wide range of products from liquid to immobilization, and has the advantage that epoxy group is highly reactive and can be cured at room temperature with polyamine.

しかしながら、その硬化物は耐水性に優れ、強靱である
という特徴があるにもかかわらず耐候性が悪いこと、耐
トラッキング特性など電氣的質が悪いこと、熱変形温度
が低いことなどの欠点がある。
However, although the cured product has excellent water resistance and toughness, it has disadvantages such as poor weather resistance, poor electrical properties such as tracking resistance, and low heat distortion temperature. .

とくに最近、超LSIなどの封止用樹脂にフェノールや
ノボラック樹脂とエピクロルヒドリンと反応させたエポ
キシ樹脂が使用されているが、樹脂中に塩素が数100
ppm含まれ、それが電気部品の電気特性を悪くするな
どの問題が起きている。塩素を含まず電気特性、耐熱性
に優れたエポキシ樹脂としては脂環式エポキシ樹脂があ
る。
In particular, recently, epoxy resins obtained by reacting phenol or novolac resins with epichlorohydrin have been used as encapsulating resins for VLSI and the like.
Since it is contained in ppm, it causes problems such as deterioration of electric characteristics of electric parts. An alicyclic epoxy resin is an epoxy resin that does not contain chlorine and has excellent electric characteristics and heat resistance.

これらは5員環、6員環のシクロアルケニル骨格を有す
る化合物のエポキシ化反応によって製造されている。
These are produced by an epoxidation reaction of a compound having a 5- or 6-membered cycloalkenyl skeleton.

これらの樹脂のエポキシ基は、いわゆる、内部エポキシ
基であり、通常、酸無水物による加熱硬化が行なわれて
いるが、反応性が低いためポリアミンによる常温硬化は
できない。
The epoxy group of these resins is a so-called internal epoxy group, which is usually heat-cured with an acid anhydride, but cannot be room-temperature cured with polyamine because of its low reactivity.

そのため脂環式エポキシ樹脂の使用範囲を著しく狭いも
のにしている。脂環式エポキシ樹脂としては(III)、(I
V)の構造を有するものが工業的に製造され、使用されて
いる。
Therefore, the use range of the alicyclic epoxy resin is made extremely narrow. Aliphatic epoxy resin (III), (I
Those having the structure of V) are industrially manufactured and used.

《発明が解決しようとする課題》 (III)はその粘度が非常に低いことゆえに耐熱性エポキ
シ希釈剤に使用されているが、毒性が強く作業者の皮膚
が著しくかぶれるという問題がある。(IV)は不純物が少
なく、色相が低く、その硬化物の熱変形温度は高いが、
エステル結合にもとずく耐水性の悪さが問題となってい
る。
<< Problems to be Solved by the Invention >> (III) is used as a heat-resistant epoxy diluent because of its very low viscosity, but it has a problem that it is highly toxic and the operator's skin is significantly rashed. (IV) has few impurities, has a low hue, and has a high heat distortion temperature of its cured product,
Poor water resistance is a problem due to the ester bond.

さらに(III)、(IV)はいずれも低粘度のエポキシ樹脂で
あるためトランスファー成形などの固形エポキシ樹脂の
成形システムを適用することができない。
Furthermore, since (III) and (IV) are both low-viscosity epoxy resins, solid epoxy resin molding systems such as transfer molding cannot be applied.

本発明者はかかる問題に鑑み、新しいエポキシ樹脂を開
発すべく鋭意研究を重ねた結果、ビニルシクロヘキサン
骨格を有するポリエーテル化合物をエポキシ化剤と反応
させることにより脂環式であり、速硬性の末端エポキシ
基を有し、液体から固体までの任意な状態が得られ、耐
水性、耐熱性、電気特性に優れ、かつ、優れた反応性を
有するエポキシ樹脂を製造する方法を見出だし、本発明
を完成させた。
In view of such problems, the present inventor has conducted earnest studies to develop a new epoxy resin, and as a result, a polyether compound having a vinylcyclohexane skeleton is reacted with an epoxidizing agent to form an alicyclic compound, which has a fast curing terminal. Having an epoxy group, any state from liquid to solid can be obtained, water resistance, heat resistance, excellent electrical characteristics, and found a method for producing an epoxy resin having excellent reactivity, the present invention Completed

《発明の構成》 すなわち、本発明は、 「一般式(I) で表される不飽和化合物を、有機過酸と反応させること
を特徴とする一般式(II) [ただし、一般式(I)および一般式(II)において、R
はl個の水酸基を有する有機化合物から水 素原子を除
いた残基、 n1、n2、・・・nlはそれぞれ0又は1〜100の整数で
その和が1〜100、lは1〜100の整数、Aはビニ
ル基を有するオキシシクロヘキサン骨格であり、次式 で表される。Bは置換基を有するオキシシクロヘキサン
骨格であり、次式 で表わされる。
<< Structure of Invention >> That is, the present invention relates to "the general formula (I) An unsaturated compound represented by the general formula (II) characterized by reacting with an organic peracid [However, in the general formula (I) and the general formula (II), R 1
Is a residue obtained by removing a hydrogen atom from an organic compound having 1 hydroxyl group, n1, n2, ..., Nl are 0 or an integer of 1 to 100, and the sum thereof is 1 to 100, and l is 1 to 100. An integer, A is an oxycyclohexane skeleton having a vinyl group, It is represented by. B is an oxycyclohexane skeleton having a substituent and has the following formula It is represented by.

Xは −CH=CH (RはH、アルキル基、アルキルカルボニル基、アリ
ールカルボニル基のいずれか一つ)であるが、 を少なくとも1個以上一般式(II)の樹脂中に含む] で表される新規なエポキシ樹脂の製造方法」 である。
X is -CH = CH 2 (R 2 is any one of H, an alkyl group, an alkylcarbonyl group, and an arylcarbonyl group), At least one is contained in the resin of general formula (II)].

次に本発明について詳述する。Next, the present invention will be described in detail.

本発明の(II)式で表わされる新規なエポキシ樹脂におい
て、Rはl個の水酸基を有する有機化合物から水素原
子を除いた残基であるが、その前駆体であるl個の水酸
基を有する有機化合物としてはアルコール類、フェノー
ル類等があげられる。
In the novel epoxy resin represented by the formula (II) of the present invention, R 1 is a residue obtained by removing a hydrogen atom from an organic compound having 1 hydroxyl group, and has 1 hydroxyl group as a precursor thereof. Examples of organic compounds include alcohols and phenols.

アルコール類としては、1価のアルコールでも多価アル
コールでもよい。
The alcohol may be a monohydric alcohol or a polyhydric alcohol.

例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール等の
脂肪族アルコール、ベンジルアルコールのような芳香族
アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
1.3ブタンジオール、1.4ブタンジオール、ペンタンジオ
ール、1.6ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、オキシピバリン酸、ネオペンチルグリコールエステ
ル、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、ジグリ
セリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ト
リメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタ
エリスリトール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェ
ノールF、水添ビスフェノールSなどの多価アルコール
等がある。フェノール類としては、フェノール、クレゾ
ール、カテコール、ピロガロール、ハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、ビスフェノールA、
ビスフェノールF、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、ビスフェノールS、フェノールノボラック樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂などがある。
For example, methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, octanol and other aliphatic alcohols, aromatic alcohols such as benzyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol,
1.3 butanediol, 1.4 butanediol, pentanediol, 1.6 hexanediol, neopentyl glycol, oxypivalic acid, neopentyl glycol ester, cyclohexanedimethanol, glycerin, diglycerin, polyglycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol , Dipentaerythritol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, hydrogenated bisphenol S, and other polyhydric alcohols. Examples of phenols include phenol, cresol, catechol, pyrogallol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, bisphenol A,
Examples include bisphenol F, 4,4'-dihydroxybenzophenone, bisphenol S, phenol novolac resin, and cresol novolac resin.

さらにその他、水酸基を有する化合物としてはポリビニ
ルアルコール、ポリ酢酸ビニル部分加水分解物、デンプ
ン、セルロース、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、ア
クリルポリオール樹脂、スチレンアリルアルコール共重
合樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ポリカプロラク
トンポリオール樹脂、ポリプロピレンポリオール、ポリ
テトラメチレングリコール、ポリカーボネートポリオー
ル類および水酸基を有するポリブタジエン、ヒドロキシ
エチルセルロース、酢酸セルロースなどのセルロース系
ポリマー等がある。
Further, as the compound having a hydroxyl group, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate partial hydrolyzate, starch, cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, hydroxyethyl cellulose, acrylic polyol resin, styrene allyl alcohol copolymer resin, polyester polyol resin, Examples thereof include polycaprolactone polyol resin, polypropylene polyol, polytetramethylene glycol, polycarbonate polyols and hydroxyl group-containing polybutadiene, and cellulose-based polymers such as hydroxyethyl cellulose and cellulose acetate.

また、水酸基を有する化合物は、その骨格中に不飽和2
重結合を有していても良く、具体例としては、アリルア
ルコール、3−シクロヘキセンメタノール等がある。
In addition, a compound having a hydroxyl group is unsaturated 2 in its skeleton.
It may have a heavy bond, and specific examples thereof include allyl alcohol and 3-cyclohexenemethanol.

これら有機化合物であればどのようなものでも用いるこ
とが出来、それらは2種以上を混合してもよい。
Any of these organic compounds can be used, and two or more of them may be mixed.

一般式(I)および(II)において、n1、n2、・・・nlはそれ
ぞれ0又は1〜100の整数で、その和が1〜100で
ある、lは1〜100の整数をあらわす。n1、n2、・・
・nlの和は1〜100であるが、100以上では融点の
高い樹脂となり取り扱いにくく、実際上は使用できるよ
うなものとはならない。
In the general formulas (I) and (II), n1, n2, ... Nl are 0 or integers of 1 to 100, respectively, and the sum thereof is 1 to 100. l represents an integer of 1 to 100. n1, n2, ...
-The sum of nl is 1 to 100, but if it is 100 or more, it becomes a resin having a high melting point, is difficult to handle, and cannot be practically used.

一般式(I)において、Aはビニル基を有するオキシシク
ロヘキサン骨格であり、次式 で表される。一般式(II)において、Bは置換基を有する
オキシシクロ ヘキサン骨格であり、次式 で表わされる。
In the general formula (I), A is a oxycyclohexane skeleton having a vinyl group, It is represented by. In the general formula (II), B is an oxycyclohexane skeleton having a substituent, It is represented by.

Xは −CH=CH であるが、 を少なくとも1個一般式(II)の樹脂中に含む。X is -CH = CH 2 In Although, At least one in the resin of general formula (II).

はH、アルキル基、アルキルカルボニル基、アリー
ルカルボニル基のいずれか一つである。
R 2 is any one of H, an alkyl group, an alkylcarbonyl group, and an arylcarbonyl group.

一般式式(II)におけるBの置換基Xのうち、 を少なくとも1個含むことが、必須であるが、 が多ければ多い程好ましい。Among the substituents X of B in the general formula (II), It is essential that at least one is included, The larger the amount, the more preferable.

特に は少なければ少ない程好ましい。In particular The less, the more preferable.

すなわち、本発明においては、置換基Xは が主なものである。That is, in the present invention, the substituent X is Is the main one.

一般式(II)式であらわされる新規なエポキシ樹脂の製造
は、水酸基を有する有機化合物を開始剤にし4−ビニル
シクロキセン−1−オキシドを開環重合させることによ
って得られるポリエーテル樹脂、すなわち、ビニル基側
鎖を有するポリエーテル化合物を有機過酸を用いてエポ
キシ化することによって製造することができる。
The production of the novel epoxy resin represented by the general formula (II) is a polyether resin obtained by ring-opening polymerization of 4-vinylcycloxene-1-oxide with an organic compound having a hydroxyl group as an initiator, that is, It can be produced by epoxidizing a polyether compound having a vinyl group side chain with an organic peracid.

4−ビニルシクロヘキセン−1−オキシドはブタジエン
の2量化反応によって得られる4−ビニルシクロヘキセ
ンを過酢酸などによって部分エポキシ化することによっ
て得られる。
4-Vinylcyclohexene-1-oxide is obtained by partially epoxidizing 4-vinylcyclohexene obtained by the dimerization reaction of butadiene with peracetic acid or the like.

4−ビニルシクロキセン−1−オキシドを活性水素存在
下に重合させるときには触媒を使用することが好まし
い。
It is preferable to use a catalyst when polymerizing 4-vinylcycloxene-1-oxide in the presence of active hydrogen.

触媒としてはメチルアミン、エチルアミン、プロピルア
ミン、ピペラジン等のアミン類、ピリジン類、イミダゾ
ール類等の有機塩基酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の
有機酸類、硫酸、塩酸等の無機酸、ナトリウムメチラー
ト等のアルカリ金属類のアルコラート類、KOH、Na
OH等のアルカリ類、BF、ZnCl、AlC
、SnCl等のルイス酸又はそのコンプレックス
類、トリエチルアルミニウム、ジエチル亜鉛等の有機金
属化合物をあげることができる。
As the catalyst, amines such as methylamine, ethylamine, propylamine and piperazine, organic basic acids such as pyridine and imidazole, organic acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid, inorganic acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid, sodium methylate Alkalates of alkali metals such as KOH, Na
Alkali such as OH, BF 3 , ZnCl 2 , AlC
l 3, SnCl Lewis acid or its complexes such as 4, triethylaluminum can be mentioned an organic metal compound such as diethyl zinc.

これらの触媒は出発原料に対して0.01〜10%、好
ましくは0.1〜5%の範囲で使用することができる。
These catalysts can be used in the range of 0.01 to 10%, preferably 0.1 to 5%, based on the starting material.

反応温度は−70〜200℃、好ましくは−30℃〜1
00℃である。
The reaction temperature is -70 to 200 ° C, preferably -30 ° C to 1
It is 00 ° C.

反応は溶媒を用いて行なうこともできる。The reaction can also be carried out using a solvent.

溶媒としては活性水素を有しているものは使用すること
ができない。
A solvent having active hydrogen cannot be used as the solvent.

すなわち、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族溶媒その他エーテル、脂肪族炭
化水素、エステル類等を使用することができる。
That is, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, benzene, toluene,
Aromatic solvents such as xylene, ethers, aliphatic hydrocarbons, esters and the like can be used.

このようにして合成したビニル基側鎖を有する4−ビニ
ルシクロキセン−1−オキシドをエポキシ化剤によって
エポキシ化し、一般式(II)で表される新規なエポキシ樹
脂を製造することができる。エポキシ化剤としては、有
機過酸類を用いることが必須である。
The 4-vinylcycloxene-1-oxide having a vinyl group side chain thus synthesized can be epoxidized with an epoxidizing agent to produce a novel epoxy resin represented by the general formula (II). It is essential to use organic peracids as the epoxidizing agent.

有機過酸類としては過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、トリ
フルオロ過酢酸等を用いることができる。このうち特に
過酢酸は工業的に安価に入手可能で、かつ安定度も高
く、好ましいエポキシ化剤である。エポキシ化の際には
必要に応じて触媒を用いることができる。
As organic peracids, formic acid, peracetic acid, perbenzoic acid, trifluoroperacetic acid and the like can be used. Of these, peracetic acid is a preferable epoxidizing agent because it is industrially available at low cost and has high stability. A catalyst may be used in the epoxidation, if necessary.

たとえば炭酸ソーダなどのアルカリや硫酸などの酸を触
媒として用い得る。
For example, an alkali such as sodium carbonate or an acid such as sulfuric acid can be used as a catalyst.

エポキシ化反応は、装置や原料物性に応じて溶媒使用の
有無や反応温度を調節して行なう。
The epoxidation reaction is carried out by adjusting the presence or absence of a solvent and the reaction temperature according to the physical properties of the equipment and raw materials.

用いるエポキシ化剤の反応性によって使用できる反応温
度域は定まる。
The reaction temperature range that can be used depends on the reactivity of the epoxidizing agent used.

好ましいエポキシ化剤である過酢酸についていえば0〜
70℃が好ましい。0℃以下では反応が遅く、70℃で
は過酢酸の分解がおきる。
Peracetic acid, which is a preferred epoxidizing agent, is 0-
70 ° C is preferred. At 0 ° C or lower, the reaction is slow, and at 70 ° C, decomposition of peracetic acid occurs.

溶媒は原料粘度の低下、エポキシ化剤の希釈による安定
化などの目的で使用することができる。
The solvent can be used for the purpose of reducing the viscosity of the raw material and stabilizing it by diluting the epoxidizing agent.

過酢酸の場合であれば芳香族化合物、エーテル化合物、
エステル化合物、ケトン化合物などを溶媒として用いる
ことができる。
In the case of peracetic acid, aromatic compounds, ether compounds,
An ester compound, a ketone compound, etc. can be used as a solvent.

不飽和結合に対するエポキシ化剤の仕込みモル比は不飽
和結合をどれくらい残存させたいかなどの目的に応じて
変化させるとができる。
The charged molar ratio of the epoxidizing agent to the unsaturated bond can be changed according to the purpose such as how much unsaturated bond is desired to remain.

エポキシ基が多い化合物が目的の場合、エポキシ化剤は
不飽和基に対して等モルかそれ以上加えるのが好まし
い。
When a compound having a large number of epoxy groups is intended, the epoxidizing agent is preferably added in an equimolar amount or more with respect to the unsaturated group.

ただし、経済性、及び次に述べる副反応の問題から2倍
モルを越えることは通常不利であり、過酢酸の場合1〜
1.5倍モルが好ましい。
However, it is usually disadvantageous to exceed 2 times the molar amount in view of economical efficiency and side reaction problems described below.
A 1.5-fold molar amount is preferred.

エポキシ化反応の条件によってオレフィン結合のエポキ
シ価と同時に原料中の置換基 や生成してくる がエポキシ化剤と反応を起こした結果、変性された置換
基が生じ、目的化合物中に含まれてくる。
Depending on the conditions of the epoxidation reaction, the epoxy value of the olefin bond and the substituents in the raw material And comes to As a result of reacting with the epoxidizing agent, a modified substituent is generated and contained in the target compound.

目的化合物中の置換基および変性された置換基の3者の
比はエポキシ化剤の種類、エポキシ化剤オレフィン結合
のモル比、反応条件によって定まる。変性された置換基
はエポキシ化剤が過酢酸の場合、下のような構造のもの
が主であり、生成したエポキシ基と副生した酢酸から生
じる。
The ratio of the three groups of the substituent and the modified substituent in the target compound is determined by the kind of the epoxidizing agent, the molar ratio of the epoxidizing agent-olefin bond and the reaction conditions. When the epoxidizing agent is peracetic acid, the modified substituent mainly has a structure as shown below and is generated from the generated epoxy group and by-product acetic acid.

目的化合物は濃縮等の通常の化学工学的手段によって反
応粗液から取り出すことができる。
The target compound can be taken out from the reaction crude liquid by ordinary chemical engineering means such as concentration.

[発明の効果] 以下に実施例を挙げて本発明を説明する。[Effects of the Invention] The present invention will be described below with reference to examples.

実施例−1 アリルアルコール116g(2モル)、4−ビニルシク
ロヘキセン−1−オキサイド496g(4モル)及びB
エーテラート3.1gを60℃で混合し、ガスクロマ
トグラフィー分析で4−ビニルシクロヘキセン−1−オ
キサイドの転化率が98%以上になるまで反応させた。
Example-1 116 g (2 mol) of allyl alcohol, 496 g (4 mol) of 4-vinylcyclohexene-1-oxide and B
3.1 g of F 3 etherate was mixed at 60 ° C. and reacted until the conversion of 4-vinylcyclohexene-1-oxide was 98% or more by gas chromatography analysis.

得られた反応粗液に酢酸エチルを加えて水洗いし次に酢
酸エチル層を濃縮して粘稠液体を得た。
Ethyl acetate was added to the obtained reaction crude liquid and washed with water, and then the ethyl acetate layer was concentrated to obtain a viscous liquid.

得られたポリエーテル化合物の構造を赤外線吸収スペク
トル分析した結果、原料に見られた810、850cm-1
のエポキシ基による吸収が無くなっていること、108
0、1150cm-1にエーテル結合による吸収が存在する
こと、さらにはガスクロマトグラフィー分析で生成物中
のアリルアルコールは痕跡量であるが、赤外線吸収スペ
クトルで3450cm-1にOH基の吸収が残存しているこ
とから、本化合物は下式で示される構造であることが確
認された。
As a result of infrared absorption spectrum analysis of the structure of the obtained polyether compound, 810 and 850 cm −1 found in the raw material were obtained.
Absorption by the epoxy group of
Absorption due to ether bond exists at 0 , 1150 cm -1, and allyl alcohol in the product is trace amount by gas chromatography analysis, but absorption of OH group remains at 3450 cm -1 in infrared absorption spectrum. From this, it was confirmed that this compound has a structure represented by the following formula.

CH=CHCH−O[A]−H (n=平均2) Aは を表わす。 CH 2 = CHCH 2 -O [A ] n -H (n = average 2) A is Represents

この化合物434gを酢酸エチルに溶解して反応器に仕
込み、これに過酢酸388gを酢酸エチル溶液として2
時間にわたって滴下した。この間反応温度は40℃に保
った。過酢酸の仕込み終了後、40℃でさらに6時間熟
成した。
434 g of this compound was dissolved in ethyl acetate and charged into a reactor, to which 388 g of peracetic acid was added as an ethyl acetate solution.
Dropped over time. During this period, the reaction temperature was kept at 40 ° C. After the addition of peracetic acid was completed, the mixture was aged at 40 ° C. for 6 hours.

反応粗液に酢酸エチルを追加し、炭酸ソーダ416gを
含むアルカリ水で洗い、続いて蒸溜水でよく洗浄した。
Ethyl acetate was added to the reaction crude liquid, and the mixture was washed with alkaline water containing 416 g of sodium carbonate and then well with distilled water.

酢酸エチル層を濃縮し、粘稠な透明液体を得た。この化
合物はオキシラン酸素含有率が9.97%で、赤外線吸
収スペクトルで1260cm-1にエポキシ基による吸収が
みられた。
The ethyl acetate layer was concentrated to give a viscous transparent liquid. This compound had an oxirane oxygen content of 9.97%, and absorption by an epoxy group was observed at 1260 cm -1 in an infrared absorption spectrum.

さらに、1640cm-1にビニル基による吸収がみられる
こと、3450cm-1にOH基による吸収、1730cm-1
による吸収がみられることから本化合物は一般式(I)の
構造(R、:グリシジルエーテル基またはアリル基、
n=平均2、エポキシ基に酢酸が付加した基を一部含
む)であることを確認した。
Furthermore, the absorption by the vinyl group is seen in 1640 cm -1, absorption by the OH group in 3450 cm -1, 1730 cm -1
To Since the absorption by the compound is observed, the compound is represented by the structure (R 1 ,: glycidyl ether group or allyl group of the general formula (I),
It was confirmed that n = average 2, including a part of a group obtained by adding acetic acid to an epoxy group).

実施例−2 実施例−1と同様の操作でアリルアルコール158g、
4−ビニルシクロヘキセン−1−オキサイド868g及
びBFエーテラート4.7gを反応させ粘稠な液状の
生成物を得た。
Example-2 In the same manner as in Example-1, 158 g of allyl alcohol,
868 g of 4-vinylcyclohexene-1-oxide and 4.7 g of BF 3 etherate were reacted to obtain a viscous liquid product.

生成物の赤外線吸収スペクトルにおいて、原料に見られ
た810、850cm-1のエポキシ基による吸収が無くな
っていること、1080、1150cm-1にエーテル結合
による吸収が存在すること、ガスクロマトグラフィー分
析で生成物中のアリルアルコールは痕跡量であるが、赤
外線吸収スペクトルで3450cm-1にOH基の吸収があ
ることから、本化合物は下式で示される構造であること
を確認した。
In the infrared absorption spectrum of the product, the absorption due to the epoxy groups at 810 and 850 cm -1 found in the raw material has disappeared, the absorption due to the ether bond at 1080 and 1150 cm -1 exists, and it was generated by gas chromatography analysis. Although the amount of allyl alcohol in the product was a trace amount, it was confirmed from the infrared absorption spectrum that an OH group was absorbed at 3450 cm -1 , and thus this compound was confirmed to have a structure represented by the following formula.

CH=CHCH−O[A]−H (n=平均7) Aは を表わす。 CH 2 = CHCH 2 -O [A ] n -H (n = average 7) A is Represents

さらに実施例−1と同様にこの化合物492gと過酢酸
395gの反応を行い、粘稠な透明液体を得た。この化
合物はオキシラン酸素含有率が9.27%で、赤外線吸
収スペクトルで1260cm-1にエポキシ基による吸収、
1640cm-1に残存ビニル基による吸収がみられるこ
と、3450cm-1にOH基による吸収、1730cm-1による吸収がみられることから本化合物は一般式(I)の
構造(R、:グリシジルエーテル基またはアリル基、
n=平均7、エポキシ基に酢酸が付加した基を一部含
む)であることを確認した。
Further, 492 g of this compound and 395 g of peracetic acid were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a viscous transparent liquid. This compound has an oxirane oxygen content of 9.27%, and the absorption by an epoxy group at 1260 cm -1 in the infrared absorption spectrum,
The absorption by the residual vinyl group was observed in 1640 cm -1, absorption by the OH group in 3450 cm -1, the 1730 cm -1 Since the absorption by the compound is observed, the compound is represented by the structure (R 1 ,: glycidyl ether group or allyl group of the general formula (I),
It was confirmed that n = 7 on average, including a part of a group obtained by adding acetic acid to an epoxy group).

実施例−3 実施例−1と同様の操作でメタノール64g、4−ビニ
ルシクロヘキセン−1−オキサイド744g及びBF
エーテラート4.1gを反応させ粘稠な液状の生成物を
得た。
Methanol 64g in the same manner as in Example -3 Example -1, 4-vinylcyclohexene-1-oxide 744g and BF 3
4.1 g of etherate was reacted to obtain a viscous liquid product.

生成物の赤外線吸収スペクトルにおいて、原料に見られ
た810、850cm-1のエポキシ基による吸収が無くな
っていること、1080、1150cm-1にエーテル結合
による吸収が存在すること、ガスクロマトグラフィー分
析で生成物中のアリルアルコールは痕跡量であるが、赤
外線吸収0スペクトルで3450cm-1にOH基の吸収が
あることから、本化合物は下式で示される構造であるこ
とを確認した。
In the infrared absorption spectrum of the product, the absorption due to the epoxy groups at 810 and 850 cm -1 found in the raw material has disappeared, the absorption due to the ether bond at 1080 and 1150 cm -1 exists, and it was generated by gas chromatography analysis. Although the amount of allyl alcohol in the product was a trace amount, it was confirmed that the present compound has a structure represented by the following formula, since it has an OH group absorption at 3450 cm −1 in the infrared absorption 0 spectrum.

CH−O[A]−H (n=平均3) Aは を表わす。CH 3 —O [A] n —H (n = average 3) A is Represents

さらに実施例−1と同様にこの化合物573gと過酢酸
387gの反応を行い、粘稠な透明液体を得た。この化
合物はオキシラン酸素含有率が9.03%で、赤外線吸
収スペクトルで1260cm-1にエポキシ基による吸収、
1640cm-1に残存ビニル基による吸収がみられるこ
と、3450cm-1にOH基による吸収、1730cm-1による吸収がみられることから本化合物は一般式(I)の
構造(R、:メチルル基、n=平均3、エポキシ基に
酢酸が付加した基を一部含む)であることを確認した。
Further, as in Example-1, 573 g of this compound was reacted with 387 g of peracetic acid to obtain a viscous transparent liquid. This compound has an oxirane oxygen content of 9.03% and has an infrared absorption spectrum at 1260 cm -1, which is absorbed by an epoxy group.
The absorption by the residual vinyl group was observed in 1640 cm -1, absorption by the OH group in 3450 cm -1, the 1730 cm -1 It was confirmed that the present compound has the structure of the general formula (I) (R 1 ,: methyl group, n = average 3, partly including a group in which acetic acid is added to an epoxy group).

実施例−4 トリメチロールプロパン134g(1モル)、4−ビニ
ルシクロヘキセン−1−オキサイド1863g(15モ
ル)を実施例−1と同様の操作で反応させ粘稠な液状の
生成物を得た。
Example-4 134 g (1 mol) of trimethylolpropane and 1863 g (15 mol) of 4-vinylcyclohexene-1-oxide were reacted in the same manner as in Example-1 to obtain a viscous liquid product.

得られた生成物を元素分析、IR、NMRにより分析し
たところ本化合物は下式で示される構造であることを確
認した。
The obtained product was analyzed by elemental analysis, IR and NMR, and it was confirmed that this compound had a structure represented by the following formula.

Aは を表わす。 A is Represents

IR吸収スペクトルにおいて、実施例−1と同様原料に
見られた810、850、1850cm-1のエポキシ基に
よる吸収は消失し、 1080cm-1にエーテル結合による吸収が新しく生成し
た。さらには、910、1640cm-1にビニル基による
吸収が残存している。
In the IR absorption spectrum, the absorption due to the epoxy groups at 810, 850 and 1850 cm −1 found in the raw material as in Example 1 disappeared, and the absorption due to the ether bond was newly generated at 1080 cm −1 . Furthermore, absorption by vinyl groups remains at 910 and 1640 cm -1 .

NMRでは実施例−1と同様のピークが確認された。元
素分析値を次に示す。
The same peak as in Example-1 was confirmed by NMR. The elemental analysis values are shown below.

以上の結果より本化合物は(I)式で示される構造である
ことを確認した。
From the above results, it was confirmed that this compound has a structure represented by the formula (I).

さらに実施例−1と同様にこの化合物573gと過酢酸
387gの反応を行い、粘稠な透明液体を得た。
Further, as in Example-1, 573 g of this compound was reacted with 387 g of peracetic acid to obtain a viscous transparent liquid.

この化合物はオキシラン酸素含有率が9.03%で、赤
外線吸収スペクトルで1260cm-1にエポキシ基による
特性吸収がみられた。
This compound had an oxirane oxygen content of 9.03% and showed characteristic absorption due to an epoxy group at 1260 cm -1 in an infrared absorption spectrum.

さらに、1640cm-1に残存ビニル基による吸収がみら
れること、3450cm-1にOH基による吸収、1730
cm-1による吸収がみられることから本化合物は一般式(II)の
構造(R、:トリメチロールプロパン残基、l=3、
n1、n2、n3=平均5、エポキシ基に酢酸が付加した基を一
部含む)であることを確認した。
Furthermore, the observed absorption by residual vinyl group 1640 cm -1, absorption by the OH group in 3450 cm -1, 1730
cm -1 Since the absorption by the compound is observed, the compound is represented by the structure (R 1 ,: trimethylolpropane residue, l = 3,
It was confirmed that n1, n2, and n3 = 5 on average, including some groups in which acetic acid was added to the epoxy group).

参考例 実施例−1、2、3で合成したエポキシ樹脂中の全塩素
量の測定を行った。
Reference Example The total chlorine content in the epoxy resins synthesized in Examples-1, 2 and 3 was measured.

測定は資料約2gを秤量し、酸素で分解燃焼して測定
し、表1の結果を得た。エピクロルヒドリンを出発原料
とした通常のエポキシ樹脂においては全塩素は数百pp
m含まれていることを考えれば本発明の樹脂の全塩素は
非常に少ないことがわかる。
For the measurement, about 2 g of the sample material was weighed, decomposed and burned with oxygen, and the results shown in Table 1 were obtained. In a general epoxy resin starting from epichlorohydrin, total chlorine is several hundred pp
It can be seen that the total chlorine of the resin of the present invention is very small considering that it contains m.

応用例1 実施例1、2、3において得られた生成物に硬化剤を配
合してゲルタイムを測定し、エポキシ樹脂の硬化性の検
討を行った。硬化剤としてノボラック型フェノール樹脂
[PSF−4300、群栄化学工業(株)]を用い、硬
化触媒として2−ウンデシルイミダゾール[キュアゾー
ルC11Z、四国化成工業(株)]を用いた。
Application Example 1 A curing agent was added to the products obtained in Examples 1, 2, and 3 to measure gel time, and the curability of the epoxy resin was examined. A novolac type phenol resin [PSF-4300, Gunei Chemical Industry Co., Ltd.] was used as a curing agent, and 2-undecylimidazole [Curezol C 11 Z, Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.] was used as a curing catalyst.

また、比較用樹脂として、代表的な脂環式エポキシ樹脂
である3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4
−エポキシシクロヘキサンカルボキシラート[セロキサ
イド2021、ダイセル化学工業(株)]を用い、下記
の配合処方で配合を行い、120℃で約1分間溶融混合し
た後冷却して配合物を得た。得られた配合物をJIS−
C2104−7(熱板法)によって120℃でゲルタイム
を測定し、表2の結果を得た。本発明の樹脂は従来の脂
環式エポキシ樹脂よりも硬化性が高いことがわかる。
As a comparative resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4, which is a typical alicyclic epoxy resin, is used.
-Epoxycyclohexanecarboxylate [Celoxide 2021, Daicel Chemical Industries, Ltd.] was blended according to the following formulation, melt-mixed at 120 ° C for about 1 minute, and then cooled to obtain a formulation. JIS-
The gel time was measured at 120 ° C. by C2104-7 (hot plate method), and the results in Table 2 were obtained. It can be seen that the resin of the present invention has higher curability than conventional alicyclic epoxy resins.

配合処方 エポキシ樹脂 1.0当量 PSF-4300 1.1当量 キュアゾールC11Z 0.7重量% (配合物に対して) 応用例2 実施例1、2、3において得られた化合物を用いて硬化
物の物性測定を行った。
Compounding formulation Epoxy resin 1.0 equivalent PSF-4300 1.1 equivalents Curezol C11Z 0.7% by weight (relative to the composition) Application Example 2 Using the compounds obtained in Examples 1, 2, and 3, the physical properties of cured products were measured.

硬化物および硬化触媒は応用例1と同じものを用い、下
記の配合処方を応用例1と同様の方法で混合を行い、配
合物を得た。得られた配合物を粉砕してプレス成型によ
って試験片を得た。成型は90〜100kgf/cm2の加圧下で、
60℃より170℃まで約30分で昇温し、180℃に
設定したオーブン中で2時間後硬化を行った。得られた
硬化物を切削加工によって試験片都市、JIS−K−6
911によって物性の測定を行い、表3の結果を得た。
The same cured product and curing catalyst as in Application Example 1 were used, and the following formulation was mixed in the same manner as in Application Example 1 to obtain a formulation. The obtained compound was crushed and press-molded to obtain a test piece. Molding is under pressure of 90-100 kgf / cm 2 ,
The temperature was raised from 60 ° C to 170 ° C in about 30 minutes, and post-curing was performed for 2 hours in an oven set to 180 ° C. The obtained cured product was cut into a test piece city, JIS-K-6.
The physical properties were measured according to 911, and the results shown in Table 3 were obtained.

配合処方 エポキシ樹脂 1.0当量 PSF-4300 1.1当量 キュアゾールC11Z 0.7重量% (配合物に対して) Compounding formulation Epoxy resin 1.0 equivalent PSF-4300 1.1 equivalents Curezol C 11 Z 0.7% by weight (based on the formulation)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式(I) で表される不飽和化合物を、有機過酸と反応させること
を特徴とする一般式(II) [ただし、一般式(I)および一般式(II)において、R
はl個の水酸基を有する有機化合物から水 素原子を除
いた残基、 n1、n2、・・・nlはそれぞれ0又は1〜100の整数で
その和が1〜100、lは1〜100の整数、Aはビニ
ル基を有するオキシシクロヘキサン骨格であり、次式 で表される。Bは置換基を有するオキシシクロヘキサン
骨格であり、次式 で表わされる。 Xは −CH=CH (RはH、アルキル基、アルキルカルボニル基、アリ
ールカルボニル基のいずれか一つ)であるが、 を少なくとも1個以上一般式(II)の樹脂中に含む。] で表される新規なエポキシ樹脂の製造方法。
1. A general formula (I) An unsaturated compound represented by the general formula (II) characterized by reacting with an organic peracid [However, in the general formula (I) and the general formula (II), R 1
Is a residue obtained by removing a hydrogen atom from an organic compound having 1 hydroxyl group, n1, n2, ..., Nl are 0 or an integer of 1 to 100, and the sum thereof is 1 to 100, and l is 1 to 100. An integer, A is an oxycyclohexane skeleton having a vinyl group, It is represented by. B is an oxycyclohexane skeleton having a substituent and has the following formula It is represented by. X is -CH = CH 2 (R 2 is any one of H, an alkyl group, an alkylcarbonyl group, and an arylcarbonyl group), At least one is included in the resin of the general formula (II). ] The manufacturing method of the novel epoxy resin represented by these.
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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0776217B2 (en) * 1985-12-10 1995-08-16 ダイセル化学工業株式会社 Method for producing epoxy compound
CA2107337A1 (en) * 1992-01-31 1993-08-01 Toshio Fujibayashi Resin composition for aqueous coating
CA2108075A1 (en) * 1992-10-09 1994-04-10 Toshio Fujibayashi Resin composition for aqueous paint
JP3143307B2 (en) * 1993-02-03 2001-03-07 キヤノン株式会社 Method of manufacturing ink jet recording head
JP3143308B2 (en) 1994-01-31 2001-03-07 キヤノン株式会社 Method of manufacturing ink jet recording head
JP3368094B2 (en) 1995-04-21 2003-01-20 キヤノン株式会社 Method of manufacturing ink jet recording head
JP3957851B2 (en) 1997-12-26 2007-08-15 キヤノン株式会社 Liquid ejection method
DE69924047T2 (en) 1998-04-28 2006-02-02 Canon K.K. Liquid ejection method
JP4497633B2 (en) 1999-03-15 2010-07-07 キヤノン株式会社 Method for forming liquid repellent layer and method for manufacturing liquid discharge head
US6547381B2 (en) 2000-06-23 2003-04-15 Canon Kabushiki Kaisha Ink, image recording process, ink cartridge, recording unit, ink set, crust-preventing method and image forming apparatus
US6481819B2 (en) 2000-07-10 2002-11-19 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording head and recording apparatus having recording element substrates with different liquid ejection systems
US6830309B2 (en) 2000-09-06 2004-12-14 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing ink jet recording head, ink jet recording head and ink jet recording method
JP2002103637A (en) 2000-09-29 2002-04-09 Canon Inc Ink jet recorder
JP2004042389A (en) 2002-07-10 2004-02-12 Canon Inc Process for fabricating microstructure, process for manufacturing liquid ejection head, and liquid ejection head
US6993840B2 (en) 2002-07-18 2006-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid jet head
JP3963456B2 (en) 2003-06-16 2007-08-22 キヤノン株式会社 Photosensitive resin composition, ink jet recording head using the same, and method for producing the same
CN100496984C (en) 2004-06-28 2009-06-10 佳能株式会社 Manufacturing method for liquid ejecting head and liquid ejecting head obtained by this method
EP1763706B1 (en) 2004-06-28 2013-12-11 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing liquid discharge head
EP1768848B1 (en) 2004-06-28 2010-07-21 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head manufacturing method, and liquid discharge head obtained using this method
JP4761498B2 (en) 2004-06-28 2011-08-31 キヤノン株式会社 Photosensitive resin composition, method for producing step pattern using the same, and method for producing inkjet head
CN101103311B (en) 2004-06-28 2011-05-04 佳能株式会社 Cationic photopolymerizable epoxy resin composition, minute structural member using the same and method for manufacturing minute structural member
JP5027991B2 (en) 2004-12-03 2012-09-19 キヤノン株式会社 Ink jet head and manufacturing method thereof
JP4473755B2 (en) 2005-03-17 2010-06-02 関西ペイント株式会社 Electrodeposition paint, painting method and article
US7735961B2 (en) 2005-10-20 2010-06-15 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head and method of producing the same
JP5700547B2 (en) 2011-05-30 2015-04-15 国立大学法人京都大学 Photosensitive resin composition for biochip formation and biochip
JP6184258B2 (en) 2013-09-02 2017-08-23 キヤノン株式会社 Method for manufacturing liquid discharge head
JP6487233B2 (en) * 2015-02-12 2019-03-20 株式会社ダイセル Polyfunctional epoxy compound and method for producing the same
US10363746B2 (en) 2016-12-20 2019-07-30 Canon Kabushiki Kaisha Method for producing liquid ejection head
US10618287B2 (en) 2017-08-03 2020-04-14 Canon Kabushiki Kaisha Liquid ejection head, method for manufacturing the same, and recording method
CN114466874B (en) * 2019-10-03 2023-10-20 株式会社大赛璐 Copolymer, curable resin composition, and cured product
JP2021178942A (en) * 2020-05-15 2021-11-18 株式会社ダイセル Novel epoxy resin and epoxy resin composition
JP2021178941A (en) * 2020-05-15 2021-11-18 株式会社ダイセル Novel epoxy resin and epoxy resin composition

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