JPH06249799A - Quick and precision measuring apparatus for electron-beam diffraction intensity - Google Patents
Quick and precision measuring apparatus for electron-beam diffraction intensityInfo
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- JPH06249799A JPH06249799A JP5059388A JP5938893A JPH06249799A JP H06249799 A JPH06249799 A JP H06249799A JP 5059388 A JP5059388 A JP 5059388A JP 5938893 A JP5938893 A JP 5938893A JP H06249799 A JPH06249799 A JP H06249799A
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Abstract
Description
【産業上の利用分野】この発明は、電子線回折強度迅速
精密計測装置に関するものである。さらに詳しくは、こ
の発明は、電子線回折強度分布をオンラインで迅速に精
密計測することのできる、電子線回折の強度迅速精密計
測装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam diffraction intensity rapid precision measuring device. More specifically, the present invention relates to an electron beam intensity rapid and precise measuring device capable of rapidly and precisely measuring the electron beam diffraction intensity distribution online.
【従来の技術とその課題】従来より、材料科学の分野な
どにおいては、物質の結晶構造等を解析するために、Ｘ
線回折法、中性子回折法、電子線回折法などの各種の手
法が用いられてきている。これらの手法において、回折
強度分布の計測は重要な解析手段となってきている。こ
の内の電子線回折法による電子線回折強度分布の計測方
法として、従来では、透過型電子顕微鏡でとらえた電子
線回折像を写真フィルムに撮影し、ミクロフォトメータ
を用いてフィルムの黒化度を測定する方法が採用されて
いる。しかしながら、この方法では、写真フィルムを電
子顕微鏡のカメラ室から取り出して現像する必要があ
り、オンラインで電子線回折強度の２次元分布を計測す
ることはできないという欠点がある。また、ミクロフォ
トメータによりフィルムの黒化度を測定する場合、電子
線回折強度の２次元分布の測定には数百時間というきわ
めて長い作業時間を要していた。さらに、電子線強度と
写真フィルムの黒化度が比例関係にある領域（ダイナミ
ックレンジ）が約１桁程度と低いため、電子線強度の差
が１桁以上ある場合には、電子線回折強度を精密に測定
することはできないという問題があった。ごく最近にな
って、約3.5 桁と比較的広いダイナミックレンジを有す
るイメージングプレートが開発され、これを上記の写真
フィルムの代わりに用いることによって、電子線回折強
度の精密測定が可能となってきている。しかしながら、
この場合には、イメージングプレートが電子顕微鏡の写
真室に納められているため、撮影終了後に写真室の真空
を破って大気圧にしてから取り出し、イメージングプレ
ートにレーザー光線を走査して画像情報を読み出す必要
があった。この画像情報の読み出しには数分間以上の時
間を要しており、イメージングプレートを用いた電子線
回折強度の測定においてもオンラインでの計測は不可能
であった。このように、従来においては、電子線回折強
度をオンラインで精密計測することは不可能であった。
たとえば合金の規則度は電子線回折強度分布を測定する
ことにより求まるが、試料温度を変えながら電子線回折
強度の変化を迅速に測定することができないため、合金
の規則化過程をとらえることはできなかった。この発明
は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、従
来の電子線回折強度分布の精密計測についての欠点を解
消し、電子線回折強度分布をオンラインで迅速に精密計
測することのできる、電子線回折強の度迅速精密計測装
置を提供することを目的としている。2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of materials science, in order to analyze the crystal structure of a substance, X
Various methods such as a line diffraction method, a neutron diffraction method, and an electron beam diffraction method have been used. In these methods, measurement of the diffraction intensity distribution has become an important analysis means. As a method of measuring the electron beam diffraction intensity distribution by the electron beam diffraction method, the electron beam diffraction image captured by a transmission electron microscope was photographed on a photographic film, and the degree of blackening of the film was measured using a microphotometer. The method of measuring is adopted. However, this method has a disadvantage that it is necessary to take out the photographic film from the camera room of the electron microscope and develop it, and it is not possible to measure the two-dimensional distribution of the electron beam diffraction intensity online. Further, when measuring the degree of blackening of a film with a microphotometer, it takes a very long working time of several hundred hours to measure the two-dimensional distribution of electron beam diffraction intensity. Furthermore, since the area (dynamic range) in which the electron beam intensity and the blackening degree of the photographic film are in a proportional relationship is as low as about one digit, the electron beam diffraction intensity is calculated when the difference in electron beam intensity is one digit or more. There was a problem that it could not be measured accurately. Only recently, an imaging plate having a relatively wide dynamic range of about 3.5 digits has been developed, and by using it in place of the above photographic film, it is possible to precisely measure the electron beam diffraction intensity. . However,
In this case, since the imaging plate is stored in the photo room of the electron microscope, it is necessary to read the image information by breaking the vacuum in the photo room to atmospheric pressure after taking the picture and taking out the laser beam on the imaging plate. was there. It takes several minutes or more to read out the image information, and it is impossible to measure the electron beam diffraction intensity using the imaging plate online. As described above, conventionally, it has been impossible to accurately measure the electron beam diffraction intensity online.
For example, the ordering of an alloy can be obtained by measuring the electron diffraction intensity distribution, but it is not possible to quickly measure the change in the electron diffraction intensity while changing the sample temperature, so it is possible to grasp the ordering process of the alloy. There wasn't. The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to eliminate the drawbacks of the conventional precision measurement of the electron beam diffraction intensity distribution, and to quickly and accurately measure the electron beam diffraction intensity distribution online. It is an object of the present invention to provide a rapid and accurate measuring device for electron beam diffraction intensity.
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、透過型電子顕微鏡と、電子線回
折像を光の像に変換する蛍光板と、蛍光板の光の像をＣ
ＣＤカメラに導入する手段と、その光の像を撮像する冷
却型ＣＣＤカメラと、このＣＣＤカメラにより得られる
電気信号をＡ／Ｄ変換し、コンピュータに入力する手段
と、電子線回折強度分布を解析するコンピュータと、そ
の解析結果を出力する表示手段とからなることを特徴と
する電子線回折強度迅速精密計測装置を提供する。また
この発明においては、ＣＣＤカメラの素子よりも充分小
さな断面積を有する光ファイバーを多数束ねた光ファイ
バープレートを設け、この光ファイバープレートにより
蛍光板で発生する光をＣＣＤカメラに導入することを好
ましい態様の一つとしてもいる。この発明の電子線回折
強度迅速精密計測装置では、透過型電子顕微鏡により回
折像が結像される位置に蛍光板を配置させ、この蛍光板
に電子が衝突して発生する光子の個数を冷却型ＣＣＤカ
メラで計測する。これによって、試料により回折する電
子の個数を間接的に計測することができる。ここで冷却
型ＣＣＤカメラを用いるのは、熱電子によって発生する
暗電流と呼ばれる電気的ノイズを軽減させ、ダイナミッ
クレンジを高めるためである。この冷却型ＣＣＤカメラ
で光子の個数を測定することにより、数１０μｍ角の各
素子に衝突する光子を信号電荷に変換して感光蓄積と転
送を行うことができ、５−６桁の極めて広いダイナミッ
クレンジ（光子の個数と信号電荷量が比例関係にある領
域）が得られる。しかも得られた電気信号はＡ／Ｄ変換
を行った後、直接コンピュータに入力することができる
ため、電子線回折強度のオンライン精密計測が可能とな
る。In order to solve the above problems, the present invention provides a transmission electron microscope, a fluorescent plate for converting an electron diffraction image into a light image, and a light image of the fluorescent plate by C
Means for introducing into a CD camera, cooling type CCD camera for picking up an image of the light, means for A / D converting an electric signal obtained by this CCD camera, and inputting to a computer, and electron beam diffraction intensity distribution analysis There is provided an electron beam diffraction intensity rapid precision measuring device comprising a computer and a display means for outputting the analysis result. Further, in the present invention, it is one of preferred embodiments to provide an optical fiber plate in which a large number of optical fibers having a cross-sectional area sufficiently smaller than that of the CCD camera element are provided, and the light generated by the fluorescent plate is introduced into the CCD camera by the optical fiber plate. As well. In the electron beam diffraction intensity rapid precision measuring device of the present invention, a fluorescent plate is arranged at a position where a diffraction image is formed by a transmission electron microscope, and the number of photons generated by electrons colliding with this fluorescent plate is measured by a cooling CCD camera. Measure with. Thereby, the number of electrons diffracted by the sample can be indirectly measured. The cooling type CCD camera is used here to reduce the electrical noise called dark current generated by thermoelectrons and to increase the dynamic range. By measuring the number of photons with this cooled CCD camera, the photons that collide with each element of a few tens μm square can be converted into signal charges for photosensitive storage and transfer, and an extremely wide dynamic range of 5-6 digits. A range (a region where the number of photons and the signal charge amount are in a proportional relationship) can be obtained. In addition, the obtained electric signal can be directly input to the computer after A / D conversion, and therefore online precise measurement of electron beam diffraction intensity becomes possible.
【実施例】以下、図面に沿って実施例を示し、この発明
の精密計測装置についてさらに詳しく説明する。図１
は、この発明の精密計測装置の一実施例を示したシステ
ム構成図である。透過型電子顕微鏡（１）において、電
子銃（２）から電子を発生させると、電子は薄膜試料
（３）を透過した後に、各種の磁気レンズの作用により
電子線回折像（４）を蛍光板（６）の位置に形成する。
蛍光板（６）としては、たとえばＹ3 Ａｌ5 Ｏ12の単結
晶にＣｅ3+を微量添加して得られるＹＡＧシンチレータ
を用いることができる。このＹＡＧシンチレータは、空
間分解能が高く、また応答時間も速く、電子・光変換の
一様性とその効率に優れている。また、飽和閾値（変換
率の直線性の上限）が高く、耐電子線照射および機械的
損傷に強いなどの利点を有してもいる。実際に使用する
場合には、蛍光板（６）は、蛍光の発生位置を精度よく
導入手段（７）に伝達するために、厚さ約５０μｍにま
で薄くした直径２０−３０mmの円板状のＹＡＧシンチレ
ータを好適に使用することができる。なお、電子線が蛍
光板（６）に衝突する際などに発生するＸ線は、Ｘ線遮
蔽用鉛カバー（８）で遮蔽される。この蛍光板（６）で
変換された光は、導入手段（７）を介して冷却型ＣＣＤ
カメラ（９）の受光面に導かれる。この導入手段（７）
としては、ＣＣＤカメラ（９）の素子よりも充分小さな
断面積を有する光ファイバーを多数束ねた光ファイバー
プレートを好適に使用することができる。その光ファイ
バーの直径については、たとえば１０μｍ以下とするこ
とができる。このような光ファイバーカップリング方式
による光ファイバープレートは、レンズ方式に比べて以
下の３つの利点を有している。すなわち、 ＣＣＤカメラ（９）に到達するまでに失われる光子
の個数を少なくすることができる。 レンズの収差等に起因する画像の歪みがない。 蛍光板（６）および電子顕微鏡（１）の加速管から
発生するＸ線を遮蔽し、ＣＣＤカメラ（９）へのＸ線ノ
イズの遮蔽効果を有する。 ＣＣＤカメラ（９）には、冷却水循環器（１０）を用い
た水冷による除熱方式と電子冷却方式を採用することが
でき、およそ−４０℃にまで受光面を冷却することがで
きる。この冷却により暗電流と呼ばれるノイズが抑制さ
れる。ＣＣＤカメラ（９）の冷却方式については、この
他にもより暗電流の抑制効果の大きい液体冷窒素却方式
とすることができる。一方、このＣＣＤカメラ（９）に
は、電子回路からのノイズを抑制することのできる低速
走査読み出し方式を採用することができる。たとえばそ
の画素数は512 ×512 〜2048×2048で、ダイナミックレ
ンジは64000 以上とすることができる。蛍光板（６）の
直前に設けたカメラシャッター（５）を開くと、蛍光板
（６）から発生する光子の個数の計測がＣＣＤカメラ
（９）により開始される。そして、シャッター（５）を
閉じた時に計測を終了させる。シャッター（５）が開い
ている間に、ＣＣＤカメラ（９）の各画素ごとで計測さ
れた光子の個数に関する情報を担うアナログ電気信号
は、たとえばＣＣＤカメラコントローラ（１１）に内蔵
されたＡ／Ｄコンバータによってデジタル信号に変換さ
れ、コンピュータ（１２）に入力される。コンピュータ
（１２）には、拡張メモリを含めて６４Mbの主メモリ、
３３MHz のＣＰＵおよび400 Mbのハードディスクを内蔵
したパーソナルコンピュータを用いることができる。ま
た、コンピュータ（１２）の制御は、キーボード（１
５）およびマウス（１６）を用いて行うことができ、演
算処理の結果得られる電子線回折強度分布をＣＲＴ（１
４）およびプリンター（１７）に出力することができ
る。このコンピュータ（１２）にはたとえば１Gbの光磁
気ディスクユニット（１３）を接続することができ、コ
ンピュータ（１２）による演算処理結果を保存し、必要
に応じて呼び出して解析を行うようにしてもよい。たと
えば以上に例示されるこの発明の精密計測装置で、実際
に電子線回折強度分布を計測した例について説明する。
図２は、透過型電子顕微鏡によるＣｕ3 Ａｕ規則合金の
（００１）方向の電子線回折像である。たとえばこの図
２の電子線回折像においては、黒丸で示された基本格子
反射斑点とともに、合金中のＡｕとＣｕの規則的な配列
状態を反映する白丸で示された規則格子反射斑点が存在
している。この電子線回折像に図１に例示したこの発明
の精密計測装置を適用すると、図３に示したような電子
線回折強度分布図がオンラインで出力される。この強度
分布図をさらに解析することにより、結晶構造に関する
情報がきわめて短時間で得られる。このように、この発
明の電子線回折強度迅速精密計測装置では、電子線回折
強度分布をオンラインで精密に計測することができ、従
来の電子線回折法では不可能であった、たとえば合金の
規則度に関する定量的な測定等が可能となる。各種物性
値に影響を及ぼす合金の規則度には、長範囲規則度と短
範囲規則度があることが知られており、いずれも回折像
における規則格子反射の強度あるいは散漫散乱強度分布
を測定することによって計測することができる。従来で
は、この合金の規則度の定量的な計測は、主に、Ｘ線回
折法や中性子回折法によって行われていたが、この発明
により、電子線回折法を有利に適用することができ、Ｘ
線回折法や中性子回折法に比べはるかに短い時間で計測
することができる。また、100μｍ以下の微小領域から
の回折像を得ることができないＸ線回折法や中性子回折
法に比べ、１μｍ以下の極小領域から回折像を得ること
ができ、合金規則度の局所的変化に関する情報も得られ
る。さらには、写真フィルムやイメージングプレートを
用いた電子線回折法よりもはるかに迅速かつ高精度での
計測が可能となる。合金の温度を変化させながらの規則
度の測定も可能であり、規則化過程の研究に寄与するこ
とができる。もちろんこの発明は、以上の例によって限
定されるものではない。細部については様々な態様が可
能であることはいうまでもない。Embodiments of the present invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. Figure 1
FIG. 1 is a system configuration diagram showing an embodiment of a precision measuring device of the present invention. In the transmission electron microscope (1), when electrons are generated from the electron gun (2), the electrons pass through the thin film sample (3) and then the electron beam diffraction image (4) is displayed on the fluorescent plate (4) by the action of various magnetic lenses. Form at position 6).
As the fluorescent plate (6), for example, a YAG scintillator obtained by adding a small amount of Ce 3+ to a single crystal of Y 3 Al 5 O 12 can be used. This YAG scintillator has a high spatial resolution, a fast response time, and excellent electron-optical conversion uniformity and its efficiency. Further, it has a high saturation threshold (upper limit of conversion rate linearity), and has advantages such as resistance to electron beam irradiation and mechanical damage. In actual use, the fluorescent plate (6) is a disc-shaped YAG with a diameter of 20-30 mm, which is thinned to a thickness of about 50 μm, in order to accurately transmit the position of fluorescence generation to the introducing means (7). A scintillator can be preferably used. X-rays generated when the electron beam collides with the fluorescent screen (6) are shielded by the X-ray shielding lead cover (8). The light converted by the fluorescent plate (6) is cooled through the introducing means (7).
It is guided to the light receiving surface of the camera (9). This introduction means (7)
As the above, an optical fiber plate in which a large number of optical fibers having a sectional area sufficiently smaller than that of the CCD camera (9) is bundled can be preferably used. The diameter of the optical fiber can be, for example, 10 μm or less. The optical fiber plate based on such an optical fiber coupling system has the following three advantages as compared with the lens system. That is, the number of photons lost before reaching the CCD camera (9) can be reduced. There is no image distortion due to lens aberration and the like. It shields X-rays generated from the fluorescent plate (6) and the acceleration tube of the electron microscope (1), and has an effect of shielding X-ray noise from the CCD camera (9). For the CCD camera (9), a heat removal method by water cooling using a cooling water circulator (10) and an electronic cooling method can be adopted, and the light receiving surface can be cooled down to about -40 ° C. This cooling suppresses noise called dark current. As the cooling method of the CCD camera (9), other than this, it is possible to use a liquid cold nitrogen cooling method having a greater effect of suppressing dark current. On the other hand, the CCD camera (9) can adopt a low-speed scanning reading method capable of suppressing noise from an electronic circuit. For example, the number of pixels is 512 × 512 to 2048 × 2048, and the dynamic range can be 64000 or more. When the camera shutter (5) provided immediately in front of the fluorescent screen (6) is opened, the CCD camera (9) starts counting the number of photons generated from the fluorescent screen (6). Then, the measurement is ended when the shutter (5) is closed. While the shutter (5) is open, an analog electrical signal carrying information about the number of photons measured for each pixel of the CCD camera (9) is, for example, an A / D built in the CCD camera controller (11). It is converted into a digital signal by the converter and input to the computer (12). The computer (12) has a main memory of 64 Mb including expansion memory,
A personal computer with a built-in 33 MHz CPU and 400 Mb hard disk can be used. The computer (12) is controlled by the keyboard (1
5) and the mouse (16), and the electron beam diffraction intensity distribution obtained as a result of the arithmetic processing is displayed by CRT (1
4) and the printer (17). For example, a 1 Gb magneto-optical disk unit (13) can be connected to the computer (12), and the calculation processing result by the computer (12) may be stored and may be called and analyzed as needed. . For example, an example in which the electron beam diffraction intensity distribution is actually measured by the precision measuring device of the present invention illustrated above will be described.
FIG. 2 is an electron beam diffraction image in the (001) direction of a Cu 3 Au ordered alloy by a transmission electron microscope. For example, in the electron diffraction image of FIG. 2, there are regular lattice reflection spots indicated by black circles and regular lattice reflection spots indicated by white circles that reflect the regular arrangement state of Au and Cu in the alloy. ing. When the precision measuring apparatus of the present invention illustrated in FIG. 1 is applied to this electron beam diffraction image, the electron beam diffraction intensity distribution chart as shown in FIG. 3 is output online. By further analyzing this intensity distribution map, information on the crystal structure can be obtained in a very short time. As described above, the electron beam diffraction intensity rapid precision measuring device of the present invention can accurately measure the electron beam diffraction intensity distribution on-line, which is impossible with the conventional electron beam diffraction method. Quantitative measurement of degree is possible. It is known that the ordering degree of alloys that affect various physical property values includes long-range ordering degree and short-range ordering degree. In both cases, the intensity of the regular grating reflection or the diffuse scattering intensity distribution in the diffraction image is measured It can be measured by Conventionally, the quantitative measurement of the order of this alloy was mainly performed by the X-ray diffraction method or the neutron diffraction method, but according to the present invention, the electron beam diffraction method can be advantageously applied, X
It can be measured in a much shorter time than the line diffraction method or the neutron diffraction method. In addition, compared to X-ray diffraction and neutron diffraction methods, which cannot obtain a diffraction image from a microscopic area of 100 μm or less, a diffraction image can be obtained from a minimum area of 1 μm or less, and information on local changes in alloy order Can also be obtained. Furthermore, it is possible to measure much faster and with higher accuracy than the electron diffraction method using a photographic film or an imaging plate. It is also possible to measure the degree of order while changing the temperature of the alloy, which can contribute to the study of the ordering process. Of course, the present invention is not limited to the above examples. It goes without saying that various details are possible.
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、電子線回折強度分布をオンラインで精密に計測す
ることのできる電子線回折強度迅速精密計測装置が提供
される。電子線回折強度分布の計測がきわめて迅速かつ
高精度となる。As described in detail above, according to the present invention, there is provided an electron beam diffraction intensity rapid precision measuring device capable of accurately measuring the electron beam diffraction intensity distribution online. Measurement of electron beam diffraction intensity distribution becomes extremely quick and highly accurate.
【図１】この発明の電子線回折強度迅速精密計測装置の
一実施例を示したシステム構成図である。FIG. 1 is a system configuration diagram showing an embodiment of an electron beam diffraction intensity rapid precision measuring device of the present invention.
【図２】透過型電子顕微鏡によるＣｕ3 Ａｕ規則合金の
（００１）方向の電子線回折像である。FIG. 2 is an electron diffraction image in the (001) direction of a Cu 3 Au ordered alloy by a transmission electron microscope.
【図３】図２に対応する電子線回折強度分布図である。FIG. 3 is an electron beam diffraction intensity distribution diagram corresponding to FIG.
１ 透過型電子顕微鏡 ２ 電子銃 ３ 薄膜試料 ４ 電子線回折像 ５ カメラシャッター ６ 蛍光板 ７ 導入手段 ８ Ｘ線者遮蔽用鉛カバー ９ 冷却型ＣＣＤカメラ １０ 冷却水循環器 １１ ＣＣＤカメラコントローラ １２ コンピュータ １３ 光磁気ディスクユニット １４ ＣＲＴ １５ キーボード １６ マウス １７ プリンター 1 Transmission Electron Microscope 2 Electron Gun 3 Thin Film Sample 4 Electron Diffraction Image 5 Camera Shutter 6 Fluorescent Plate 7 Introducing Means 8 X-ray Shield Lead Cover 9 Cooling CCD Camera 10 Cooling Water Circulator 11 CCD Camera Controller 12 Computer 13 Magneto-optical Disk unit 14 CRT 15 Keyboard 16 Mouse 17 Printer
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成６年２月３日[Submission date] February 3, 1994
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】全図[Correction target item name] All drawings
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図１】 [Figure 1]
【図２】 [Fig. 2]
【図３】 [Figure 3]
Claims (2)
の像に変換する蛍光板と、蛍光板の光の像をＣＣＤカメ
ラに導入する手段と、その光の像を撮像する冷却型ＣＣ
Ｄカメラと、このＣＣＤカメラにより得られる電気信号
をＡ／Ｄ変換し、コンピュータに入力する手段と、電子
線回折強度分布を解析するコンピュータと、その解析結
果を出力する表示手段とからなることを特徴とする電子
線回折強度の迅速精密計測装置。1. A transmission electron microscope, a fluorescent plate for converting an electron diffraction image into a light image, means for introducing the light image of the fluorescent plate into a CCD camera, and a cooling type CC for picking up the light image.
A D camera, means for A / D converting the electric signal obtained by this CCD camera and inputting to a computer, a computer for analyzing the electron beam diffraction intensity distribution, and a display means for outputting the analysis result. A rapid and accurate measuring device for electron beam diffraction intensity.
面積を有する光ファイバーを多数束ねた光ファイバープ
レートを設け、この光ファイバープレートにより蛍光板
で発生する光をＣＣＤカメラに導入する請求項１の迅速
精密計測装置。2. The rapid precision measuring device according to claim 1, further comprising an optical fiber plate in which a large number of optical fibers having a cross-sectional area sufficiently smaller than that of a CCD camera element are provided, and the light generated by the fluorescent plate is introduced into the CCD camera by the optical fiber plate. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5059388A JPH06249799A (en) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | Quick and precision measuring apparatus for electron-beam diffraction intensity |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5059388A JPH06249799A (en) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | Quick and precision measuring apparatus for electron-beam diffraction intensity |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06249799A true JPH06249799A (en) | 1994-09-09 |
Family
ID=13111856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5059388A Pending JPH06249799A (en) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | Quick and precision measuring apparatus for electron-beam diffraction intensity |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH06249799A (en) |
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