JPH06241751A - エッジ検出方法 - Google Patents
エッジ検出方法Info
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- JPH06241751A JPH06241751A JP5032999A JP3299993A JPH06241751A JP H06241751 A JPH06241751 A JP H06241751A JP 5032999 A JP5032999 A JP 5032999A JP 3299993 A JP3299993 A JP 3299993A JP H06241751 A JPH06241751 A JP H06241751A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】安定してエッジを検出することを可能とする。
【構成】認識対象物体を撮像して得られた濃淡画像を、
局所空間微分して濃度勾配ベクトル画像を求める。この
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、濃
度勾配ベクトルの大きさ及び第１及び第２の係数からエ
ッジ評価値を演算する。ここで、濃度勾配ベクトルの大
きさは、着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある
画素の濃度勾配ベクトルの大きさである。また、第２の
係数は、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲
内にある画素の着目画素からの位置により決まる方向と
の関係により決定される係数である。第２の係数は、着
目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にあ
る画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す
係数である。上記エッジ評価値を用いてエッジ検出を行
う。
局所空間微分して濃度勾配ベクトル画像を求める。この
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、濃
度勾配ベクトルの大きさ及び第１及び第２の係数からエ
ッジ評価値を演算する。ここで、濃度勾配ベクトルの大
きさは、着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある
画素の濃度勾配ベクトルの大きさである。また、第２の
係数は、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲
内にある画素の着目画素からの位置により決まる方向と
の関係により決定される係数である。第２の係数は、着
目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にあ
る画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す
係数である。上記エッジ評価値を用いてエッジ検出を行
う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、計算機等を用いてディ
ジタル画像処理によりエッジを検出するエッジ検出方法
に関するものである。
ジタル画像処理によりエッジを検出するエッジ検出方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ロボットの視覚装置や製品の自動外観検
査装置においては、物体の形状を抽出したり、傷などの
不良部分の検出を行うために濃淡画像からエッジ検出を
行う必要がある。この種のエッジ検出方法としては、多
くのアルゴリズムが知られている。しかし、画像の濃度
値に対する空間微分値を求め、この値が適当なしきい値
よりもお大きい画素をエッジ画素とする方法や、特開平
２−９６８８４号などにより提案されたゼロ交差点と局
所空間微分値とを組み合わせた方法が代表的である。
査装置においては、物体の形状を抽出したり、傷などの
不良部分の検出を行うために濃淡画像からエッジ検出を
行う必要がある。この種のエッジ検出方法としては、多
くのアルゴリズムが知られている。しかし、画像の濃度
値に対する空間微分値を求め、この値が適当なしきい値
よりもお大きい画素をエッジ画素とする方法や、特開平
２−９６８８４号などにより提案されたゼロ交差点と局
所空間微分値とを組み合わせた方法が代表的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
方法は、画像中に含まれるノイズの影響を受けやすく、
エッジがぼけている（濃度値の局所空間微分によって求
まる濃度勾配ベクトルの大きさが小さい）場合や、認識
対象領域と背景領域との濃度レベルの差が小さい場合な
どには、エッジを安定して検出することができなかっ
た。
方法は、画像中に含まれるノイズの影響を受けやすく、
エッジがぼけている（濃度値の局所空間微分によって求
まる濃度勾配ベクトルの大きさが小さい）場合や、認識
対象領域と背景領域との濃度レベルの差が小さい場合な
どには、エッジを安定して検出することができなかっ
た。
【０００４】本発明は上述の点に鑑みて為されたもので
あり、その目的とするところは、エッジを安定して検出
することができるエッジ検出方法を提供することにあ
る。
あり、その目的とするところは、エッジを安定して検出
することができるエッジ検出方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明では、上
記目的を達成するために、認識対象物体を撮像手段によ
って撮像し、得られた濃淡画像を局所空間微分して濃度
勾配ベクトルを得て、この濃度勾配ベクトルの大きさと
方向よりなる濃度勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置によ
り決まる方向との関係により決定される第１の係数と、
着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内に
ある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示
す第２の係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価
値を用いてエッジ検出を行っている。
記目的を達成するために、認識対象物体を撮像手段によ
って撮像し、得られた濃淡画像を局所空間微分して濃度
勾配ベクトルを得て、この濃度勾配ベクトルの大きさと
方向よりなる濃度勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置によ
り決まる方向との関係により決定される第１の係数と、
着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内に
ある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示
す第２の係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価
値を用いてエッジ検出を行っている。
【０００６】なお、請求項２に示すように、着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向に上記処理範囲を設定し、上記
濃度勾配ベクトルの大きさと各係数とからエッジ評価値
を演算してもよい。ここで、上記処理範囲は、請求項３
に示すように、例えば着目画素を中心としこの着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向に沿う矩形領域に設定すれば
よい。
濃度勾配ベクトルの方向に上記処理範囲を設定し、上記
濃度勾配ベクトルの大きさと各係数とからエッジ評価値
を演算してもよい。ここで、上記処理範囲は、請求項３
に示すように、例えば着目画素を中心としこの着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向に沿う矩形領域に設定すれば
よい。
【０００７】また、請求項４に示すように、上記第１の
係数としては、例えば着目画素の濃度勾配ベクトルの方
向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置により
決まる方向との差の余弦関数の偶数乗より求まる係数を
用いることができる。請求項５の発明では、上記処理範
囲を、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定して成ることを特徴とする請求項１記載のエッ
ジ検出方法。
係数としては、例えば着目画素の濃度勾配ベクトルの方
向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置により
決まる方向との差の余弦関数の偶数乗より求まる係数を
用いることができる。請求項５の発明では、上記処理範
囲を、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定して成ることを特徴とする請求項１記載のエッ
ジ検出方法。
【０００８】また、請求項５のエッジ検出方法におい
て、請求項６に示すように、上記処理範囲は、着目画素
を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直
交する方向に矩形領域に設定すればよい。さらに、請求
項７に示すように、第１の係数として、例えば、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との差の余弦関数
の偶数乗より求まる係数を用いることができる。
て、請求項６に示すように、上記処理範囲は、着目画素
を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直
交する方向に矩形領域に設定すればよい。さらに、請求
項７に示すように、第１の係数として、例えば、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との差の余弦関数
の偶数乗より求まる係数を用いることができる。
【０００９】請求項８の発明では、上記目的を達成する
ために、認識対象物体を撮像手段によって撮像し、得ら
れた濃淡画像を局所空間微分して濃度勾配ベクトルを得
て、この濃度勾配ベクトルの大きさと方向よりなる濃度
勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾配ベクトル画像の
各画素を順次着目画素とし、この着目画素を中心とする
特定の処理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大き
さと、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向と
し、着目画素を基準点として着目画素より正方向側にあ
る画素に正の係数を付与すると共に負方向側にある画素
に負の係数を付与して求めた第１の係数と、着目画素に
おける濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素に
おける濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係
数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が
変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出を行って
いる。
ために、認識対象物体を撮像手段によって撮像し、得ら
れた濃淡画像を局所空間微分して濃度勾配ベクトルを得
て、この濃度勾配ベクトルの大きさと方向よりなる濃度
勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾配ベクトル画像の
各画素を順次着目画素とし、この着目画素を中心とする
特定の処理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大き
さと、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向と
し、着目画素を基準点として着目画素より正方向側にあ
る画素に正の係数を付与すると共に負方向側にある画素
に負の係数を付与して求めた第１の係数と、着目画素に
おける濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素に
おける濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係
数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が
変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出を行って
いる。
【００１０】上記請求項８のエッジ検出方法において
も、請求項９に示すように、上記処理範囲を、例えば、
着目画素を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向に沿う矩形領域に設定すればよい。また、請求項１
０に示すように、上記第１の係数として、着目画素の濃
度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画
素からの位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数
乗より求まる係数を用いることができる。
も、請求項９に示すように、上記処理範囲を、例えば、
着目画素を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向に沿う矩形領域に設定すればよい。また、請求項１
０に示すように、上記第１の係数として、着目画素の濃
度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画
素からの位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数
乗より求まる係数を用いることができる。
【００１１】請求項１１の発明では、請求項２で得られ
るエッジ評価値と、請求項５で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。具体的には、請求項１
２に示すように、請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項５で得られるエッジ評価値とに、エッジの特性に
より決まる係数を乗算した後に加算し、この加算値を大
きさを用いてエッジを検出することができる。
るエッジ評価値と、請求項５で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。具体的には、請求項１
２に示すように、請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項５で得られるエッジ評価値とに、エッジの特性に
より決まる係数を乗算した後に加算し、この加算値を大
きさを用いてエッジを検出することができる。
【００１２】請求項１３の発明では、請求項２で得られ
るエッジ評価値と、請求項８で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。請求項１４の発明で
は、請求項５で得られるエッジ評価値と、請求項８で得
られるエッジ評価値とを用いてエッジを検出している。
請求項１５の発明では、請求項８で得られるエッジ評価
値と、請求項１１で得られるエッジ評価値とを用いてエ
ッジを検出している。
るエッジ評価値と、請求項８で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。請求項１４の発明で
は、請求項５で得られるエッジ評価値と、請求項８で得
られるエッジ評価値とを用いてエッジを検出している。
請求項１５の発明では、請求項８で得られるエッジ評価
値と、請求項１１で得られるエッジ評価値とを用いてエ
ッジを検出している。
【００１３】請求項１６の発明では、請求項５で得られ
るエッジ評価値と、請求項１２で得られるエッジ評価値
とを用いてエッジを検出している。
るエッジ評価値と、請求項１２で得られるエッジ評価値
とを用いてエッジを検出している。
【００１４】
【作用】認識対象物体を撮像して得られた濃淡画像を、
局所空間微分して求められた濃度勾配ベクトル画像にお
いては、認識対象領域と背景領域の境界部分、つまりエ
ッジ付近では、各画素の濃度勾配ベクトルの方向は、エ
ッジの連なる方向（以下、エッジの方向と呼ぶ）に対し
て直交する方向（以下、エッジと直交する方向と呼ぶ）
に揃っている。また、エッジの方向には、濃度勾配ベク
トルの大きさが相対的に大きな画素が並んでいる。
局所空間微分して求められた濃度勾配ベクトル画像にお
いては、認識対象領域と背景領域の境界部分、つまりエ
ッジ付近では、各画素の濃度勾配ベクトルの方向は、エ
ッジの連なる方向（以下、エッジの方向と呼ぶ）に対し
て直交する方向（以下、エッジと直交する方向と呼ぶ）
に揃っている。また、エッジの方向には、濃度勾配ベク
トルの大きさが相対的に大きな画素が並んでいる。
【００１５】そこで、請求項１の発明は、上述のように
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の
濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とからエッジ評価
値を演算して、エッジ検出を行うことにより、各画素の
濃度勾配ベクトルのエッジと直交する方向への揃い方、
及びエッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが相対的
に大きな画素が並ぶことから、エッジ検出を行う。この
エッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベクトルを
用いエッジ検出を行うことにより、つまりはある程度大
きな範囲内でエッジ検出を行うことにより、局所的なノ
イズの影響を受けにくくする。また、着目画素の濃度勾
配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素か
らの位置により決まる方向との関係により決定される第
１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出すること
で、上記第１の係数により認識対象領域に重み付けを行
い、認識対象領域と背景領域との濃度レベルに明確な差
を設ける。これにより、エッジを安定して検出する。
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の
濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とからエッジ評価
値を演算して、エッジ検出を行うことにより、各画素の
濃度勾配ベクトルのエッジと直交する方向への揃い方、
及びエッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが相対的
に大きな画素が並ぶことから、エッジ検出を行う。この
エッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベクトルを
用いエッジ検出を行うことにより、つまりはある程度大
きな範囲内でエッジ検出を行うことにより、局所的なノ
イズの影響を受けにくくする。また、着目画素の濃度勾
配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素か
らの位置により決まる方向との関係により決定される第
１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出すること
で、上記第１の係数により認識対象領域に重み付けを行
い、認識対象領域と背景領域との濃度レベルに明確な差
を設ける。これにより、エッジを安定して検出する。
【００１６】請求項２に示すように、着目画素の濃度勾
配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内に設定す
ることにより、エッジと直交する方向に処理範囲を設定
する。これにより、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃
度勾配が小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわ
たる濃度勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾
配の緩やかなエッジを検出することを可能とする。例え
ば、エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの
大きさを積分すると、その積分値はエッジ付近では大き
な値を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッ
ジを安定して検出することができる。
配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内に設定す
ることにより、エッジと直交する方向に処理範囲を設定
する。これにより、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃
度勾配が小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわ
たる濃度勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾
配の緩やかなエッジを検出することを可能とする。例え
ば、エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの
大きさを積分すると、その積分値はエッジ付近では大き
な値を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッ
ジを安定して検出することができる。
【００１７】請求項５の発明は、上述のように上記処理
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定することにより、主にエッジの方向に濃度勾配
ベクトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことから
エッジを検出する。この場合には、エッジの濃度勾配が
急な場合において、特に有効な方法である。請求項８の
発明は、上述のように濃度勾配ベクトル画像の各画素を
順次着目画素とし、この着目画素を中心とする特定の処
理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着
目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画
素を基準点として着目画素より正方向側にある画素に正
の係数を付与すると共に負方向側にある画素に負の係数
を付与して求めた第１の係数と、着目画素における濃度
勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度
勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係数とからエ
ッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が変化する画
素をエッジ候補点としてエッジ検出を行うことにより、
エッジ付近では濃度勾配ベクトルの方向が反転すること
に着目し、これに加味した形で、エッジを検出する。
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定することにより、主にエッジの方向に濃度勾配
ベクトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことから
エッジを検出する。この場合には、エッジの濃度勾配が
急な場合において、特に有効な方法である。請求項８の
発明は、上述のように濃度勾配ベクトル画像の各画素を
順次着目画素とし、この着目画素を中心とする特定の処
理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着
目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画
素を基準点として着目画素より正方向側にある画素に正
の係数を付与すると共に負方向側にある画素に負の係数
を付与して求めた第１の係数と、着目画素における濃度
勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度
勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係数とからエ
ッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が変化する画
素をエッジ候補点としてエッジ検出を行うことにより、
エッジ付近では濃度勾配ベクトルの方向が反転すること
に着目し、これに加味した形で、エッジを検出する。
【００１８】請求項１１乃至請求項１６の発明では、上
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を可能とし、安定してエッジを検出することを可能と
する。
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を可能とし、安定してエッジを検出することを可能と
する。
【００１９】
（実施例１）図２に本発明の発明が適用される装置の構
成を示す。エッジ検出装置は、認識対象物体１を撮像す
る撮像手段２と、撮像手段２で撮像して得られるアナロ
グ信号をディジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段３
と、得られたディジタル濃淡画像（以下、単に濃淡画像
と呼ぶ）から各画素における濃度勾配の大きさと方向を
表す濃度勾配ベクトル画像を求める局所空間微分手段４
と、濃度勾配ベクトル画像からエッジの特性を評価する
エッジ評価値を演算するエッジ評価値演算手段５と、エ
ッジ評価値に基づいてエッジの検出を行うエッジ検出手
段６とで構成してある。
成を示す。エッジ検出装置は、認識対象物体１を撮像す
る撮像手段２と、撮像手段２で撮像して得られるアナロ
グ信号をディジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段３
と、得られたディジタル濃淡画像（以下、単に濃淡画像
と呼ぶ）から各画素における濃度勾配の大きさと方向を
表す濃度勾配ベクトル画像を求める局所空間微分手段４
と、濃度勾配ベクトル画像からエッジの特性を評価する
エッジ評価値を演算するエッジ評価値演算手段５と、エ
ッジ評価値に基づいてエッジの検出を行うエッジ検出手
段６とで構成してある。
【００２０】図４は、濃淡画像において、局所空間微分
によって求めた各画素１０における濃度勾配ベクトルの
様子を表現してある。この図４における矢印イの長さが
濃度勾配ベクトルの大きさ、矢印イの向きが濃度勾配ベ
クトルの方向を示している。ここで、エッジ付近におけ
る濃度勾配ベクトルは、大きさが背景領域と比較して相
対的に大きく、エッジと直交する方向に向かっており、
またエッジの方向に連続的に連なっている。従って、こ
れら濃度勾配ベクトルの特性を兼ね備えているかを評価
することにより、エッジを検出することができる。
によって求めた各画素１０における濃度勾配ベクトルの
様子を表現してある。この図４における矢印イの長さが
濃度勾配ベクトルの大きさ、矢印イの向きが濃度勾配ベ
クトルの方向を示している。ここで、エッジ付近におけ
る濃度勾配ベクトルは、大きさが背景領域と比較して相
対的に大きく、エッジと直交する方向に向かっており、
またエッジの方向に連続的に連なっている。従って、こ
れら濃度勾配ベクトルの特性を兼ね備えているかを評価
することにより、エッジを検出することができる。
【００２１】以上のことから、エッジ評価の方法として
は、エッジ付近における濃度勾配ベクトルの大きさ、濃
度勾配ベクトル方向の揃い方、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素から
の位置によって決まる重み付けとの３点の評価をすれば
よいことが分かる。以下、本実施例のエッジ検出方法を
説明する。まず、認識対象勿体を撮像手段により撮像し
て得られるディジタル濃淡画像（濃度値は０〜２５５の
２５６階調）を得る。この濃淡画像に対する局所空間微
分を行うに先だって、必要に応じてガウシアン関数ｇ
（ｘ，ｙ）を用いた平滑化処理を行ってもよい。
は、エッジ付近における濃度勾配ベクトルの大きさ、濃
度勾配ベクトル方向の揃い方、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素から
の位置によって決まる重み付けとの３点の評価をすれば
よいことが分かる。以下、本実施例のエッジ検出方法を
説明する。まず、認識対象勿体を撮像手段により撮像し
て得られるディジタル濃淡画像（濃度値は０〜２５５の
２５６階調）を得る。この濃淡画像に対する局所空間微
分を行うに先だって、必要に応じてガウシアン関数ｇ
（ｘ，ｙ）を用いた平滑化処理を行ってもよい。
【００２２】
【数１】
【００２３】σ：標準偏差次に、マスクサイズ３×３の
ソーベル（sobel)オペレータ（主に局所的な濃度変化を
検出する目的で設計された差分フィルタの一種）を用い
た局所空間微分を行い、Ｘ方向微分値ｆｘと、Ｙ方向微
分値ｆｙを次式より求める。 ｆｘ＝（ｃ＋２ｆ＋ｉ）−（ａ＋２ｄ＋ｇ） ｆｙ＝（ｇ＋２ｈ＋ｉ）−（ａ＋２ｂ＋ｃ） ａ〜ｉ：図３のマスク内の濃淡画像の画素値 また、次式により濃度勾配ベクトルの大きさＦと方向θ
とを求める。
ソーベル（sobel)オペレータ（主に局所的な濃度変化を
検出する目的で設計された差分フィルタの一種）を用い
た局所空間微分を行い、Ｘ方向微分値ｆｘと、Ｙ方向微
分値ｆｙを次式より求める。 ｆｘ＝（ｃ＋２ｆ＋ｉ）−（ａ＋２ｄ＋ｇ） ｆｙ＝（ｇ＋２ｈ＋ｉ）−（ａ＋２ｂ＋ｃ） ａ〜ｉ：図３のマスク内の濃淡画像の画素値 また、次式により濃度勾配ベクトルの大きさＦと方向θ
とを求める。
【００２４】
【数２】
【００２５】これにより、濃度勾配ベクトルの大きさと
方向からなる濃度勾配ベクトル画像を求める。そして、
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内において、エ
ッジ評価値を演算する。ここで、図５に示すように、着
目画素を中心画素とするマスクサイズが３の特定の処理
範囲内でエッジ評価値を演算する場合について説明す
る。
方向からなる濃度勾配ベクトル画像を求める。そして、
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内において、エ
ッジ評価値を演算する。ここで、図５に示すように、着
目画素を中心画素とするマスクサイズが３の特定の処理
範囲内でエッジ評価値を演算する場合について説明す
る。
【００２６】図５（ａ）では着目画素である中心画素の
座標を（０，０）にとり、（ｉ，ｊ）で処理範囲内にあ
る画素の中心画素からの相対座標を示す。そして、中心
画素と処理範囲内のいずれかの画素との濃度勾配ベクト
ルの関係が例えば図５（ｂ）に示すようになっているも
のとして以下の説明を行う。図５（ｂ）では、中心画素
の濃度勾配ベクトルの大きさがＰ0 、方向がθ0 で、処
理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさがＰijで、
方向がθijとなっており、中心画素と上記処理範囲内の
画素の位置（座標点（ｉ，ｊ））の方向（（０，０）か
ら（ｉ，ｊ）に向かう方向）がφijとしてある。
座標を（０，０）にとり、（ｉ，ｊ）で処理範囲内にあ
る画素の中心画素からの相対座標を示す。そして、中心
画素と処理範囲内のいずれかの画素との濃度勾配ベクト
ルの関係が例えば図５（ｂ）に示すようになっているも
のとして以下の説明を行う。図５（ｂ）では、中心画素
の濃度勾配ベクトルの大きさがＰ0 、方向がθ0 で、処
理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさがＰijで、
方向がθijとなっており、中心画素と上記処理範囲内の
画素の位置（座標点（ｉ，ｊ））の方向（（０，０）か
ら（ｉ，ｊ）に向かう方向）がφijとしてある。
【００２７】上記エッジ付近における濃度勾配ベクトル
の大きさは、特定の処理範囲にある画素の濃度勾配ベク
トルの大きさであり、図５（ｂ）の場合にはＰijであ
る。また、濃度勾配ベクトル方向の揃い方は、着目画素
における濃度勾配ベクトルの方向と、処理範囲にある画
素の濃度勾配ベクトルの方向との一致度から分かり、そ
れを係数で表す。例えば、この係数としては、cos （θ
ij−θ0 ）を用いることができる。
の大きさは、特定の処理範囲にある画素の濃度勾配ベク
トルの大きさであり、図５（ｂ）の場合にはＰijであ
る。また、濃度勾配ベクトル方向の揃い方は、着目画素
における濃度勾配ベクトルの方向と、処理範囲にある画
素の濃度勾配ベクトルの方向との一致度から分かり、そ
れを係数で表す。例えば、この係数としては、cos （θ
ij−θ0 ）を用いることができる。
【００２８】さらに、着目画素の濃度勾配ベクトルの方
向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置に
よって決まる重み付けは、着目画素の濃度勾配ベクトル
の方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの位置
により決まる方向との関係から決定される。例えば、こ
の係数としては、cos （φij−θ0 ）を用いることがで
きる。
向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置に
よって決まる重み付けは、着目画素の濃度勾配ベクトル
の方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの位置
により決まる方向との関係から決定される。例えば、こ
の係数としては、cos （φij−θ0 ）を用いることがで
きる。
【００２９】ここで、処理範囲内において、着目画素の
濃度勾配ベクトル方向に処理範囲を設定し、上記エッジ
評価値を演算してもよい（請求項２）。この処理範囲
は、着目画素を基準点として、濃度勾配ベクトルと平行
な方向の重みを大きくして設定することができる。上述
の値Ｐij及び具体係数をcos （θij−θ0 ），cos （φ
ij−θ0 ）を用いた場合の一例としてのエッジ評価値
は、
濃度勾配ベクトル方向に処理範囲を設定し、上記エッジ
評価値を演算してもよい（請求項２）。この処理範囲
は、着目画素を基準点として、濃度勾配ベクトルと平行
な方向の重みを大きくして設定することができる。上述
の値Ｐij及び具体係数をcos （θij−θ0 ），cos （φ
ij−θ0 ）を用いた場合の一例としてのエッジ評価値
は、
【００３０】
【数３】
【００３１】とすればよい。そして、エッジ検出手段６
では、上記エッジ評価値があるしきい値を越える画素を
エッジとして検出する。ここで、上記エッジ評価値を演
算する関数式は、勾配の緩やかなエッジを検出するた
め、エッジに垂直は方向の重みを大きくして、いわゆる
エッジの幅を検出するようになっている。以上のエッジ
検出方法をまとめたフローチャートを図６に示す。
では、上記エッジ評価値があるしきい値を越える画素を
エッジとして検出する。ここで、上記エッジ評価値を演
算する関数式は、勾配の緩やかなエッジを検出するた
め、エッジに垂直は方向の重みを大きくして、いわゆる
エッジの幅を検出するようになっている。以上のエッジ
検出方法をまとめたフローチャートを図６に示す。
【００３２】なお、上記エッジ検出方法におえる処理範
囲の具体的な設定方法としては、図７（ａ）に示すよう
に、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’の濃度
勾配ベクトル（イ’）の方向に平行な矩形領域ロを設定
すればよい（請求項３）。この場合には、図７（ｂ）に
示すように、矩形領域内の各画素の重み付けのために正
の係数値（例えば、１）を付与すればよい。この方法を
採用した場合のエッジ検出方法のフローチャートを図８
に示す。
囲の具体的な設定方法としては、図７（ａ）に示すよう
に、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’の濃度
勾配ベクトル（イ’）の方向に平行な矩形領域ロを設定
すればよい（請求項３）。この場合には、図７（ｂ）に
示すように、矩形領域内の各画素の重み付けのために正
の係数値（例えば、１）を付与すればよい。この方法を
採用した場合のエッジ検出方法のフローチャートを図８
に示す。
【００３３】また、上述の場合には、数３で示す関数式
を用いたが、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理
範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置によって決
まる重み付けは、一般的には、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの
位置により決まる方向との差の余弦関数の偶数乗からな
る係数で行うように拡張することも可能である（請求項
４）。このように重み付け方法を一般化したフローチャ
ートを図９に示す。
を用いたが、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理
範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置によって決
まる重み付けは、一般的には、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの
位置により決まる方向との差の余弦関数の偶数乗からな
る係数で行うように拡張することも可能である（請求項
４）。このように重み付け方法を一般化したフローチャ
ートを図９に示す。
【００３４】さらに、以上の説明はエッジ評価値がどの
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではないことは言うでもない。
つまりは、着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項１）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１に示す。
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではないことは言うでもない。
つまりは、着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項１）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１に示す。
【００３５】（実施例２）実施例１の場合には、着目画
素の濃度勾配ベクトル方向に沿う方向の重みを大きく
し、つまりは勾配の緩やかエッジをも検出できるように
したものであったが、特に勾配の急なエッジが連なって
いる場合に有用なエッジ検出方法について以下に説明す
る。
素の濃度勾配ベクトル方向に沿う方向の重みを大きく
し、つまりは勾配の緩やかエッジをも検出できるように
したものであったが、特に勾配の急なエッジが連なって
いる場合に有用なエッジ検出方法について以下に説明す
る。
【００３６】本実施例の場合には、上記実施例１の場合
には処理範囲を着目画素の濃度勾配ベクトル方向に沿う
方向に設定していたのに対して、本実施例では着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に処理範囲を設
定する点に特徴がある。具体的には、図１１（ａ）に示
すように、処理範囲ロを着目画素１０’を中心としたこ
の着目画素１０’の濃度勾配ベクトル方向に直交する矩
形領域を設定する（請求項６）。ここで、この場合に
は、図７（ｂ）に示すように、矩形領域内の各画素の重
み付けのために正の係数値（例えば、１）を付与すれば
よい。
には処理範囲を着目画素の濃度勾配ベクトル方向に沿う
方向に設定していたのに対して、本実施例では着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に処理範囲を設
定する点に特徴がある。具体的には、図１１（ａ）に示
すように、処理範囲ロを着目画素１０’を中心としたこ
の着目画素１０’の濃度勾配ベクトル方向に直交する矩
形領域を設定する（請求項６）。ここで、この場合に
は、図７（ｂ）に示すように、矩形領域内の各画素の重
み付けのために正の係数値（例えば、１）を付与すれば
よい。
【００３７】図５のように、着目画素１０’と処理範囲
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
【００３８】
【数４】
【００３９】上記数４によれば、エッジに平行な方向の
重みを大きくすることになり、勾配の急なエッジが連な
る、いわゆるエッジの張り（テンション）の大きい場合
に、上記エッジ評価値が大きくなる。以上のエッジ検出
方法をまとめたフローチャートを図１２に示す。ところ
で、上記重み付けは、一般的には、着目画素の濃度勾配
ベクトルの方向と、処理範囲内にある画素の着目画素か
らの位置により決まる方向との差の正弦関数の偶数乗か
らなる係数で行うように拡張することも可能である（請
求項７）。このように重み付け方法を一般化したフロー
チャートを図１３に示す。
重みを大きくすることになり、勾配の急なエッジが連な
る、いわゆるエッジの張り（テンション）の大きい場合
に、上記エッジ評価値が大きくなる。以上のエッジ検出
方法をまとめたフローチャートを図１２に示す。ところ
で、上記重み付けは、一般的には、着目画素の濃度勾配
ベクトルの方向と、処理範囲内にある画素の着目画素か
らの位置により決まる方向との差の正弦関数の偶数乗か
らなる係数で行うように拡張することも可能である（請
求項７）。このように重み付け方法を一般化したフロー
チャートを図１３に示す。
【００４０】さらに、上述の説明もエッジ評価値がどの
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではない。つまりは、着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に特定の処理範
囲を設定し、着目画素を中心とする特定処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項５）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１０に示す。
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではない。つまりは、着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に特定の処理範
囲を設定し、着目画素を中心とする特定処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項５）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１０に示す。
【００４１】（実施例３）本実施例はさらに別の方法に
よりエッジを検出するものである。本実施例において
も、上述した実施例１で説明したと同様に、図１５に示
すように、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’
の濃度勾配ベクトル（イ’）方向に沿う方向に矩形の処
理範囲を設定する。但し、本実施例の場合には、着目画
素１０’の濃度勾配ベクトル（イ’）の方向を正方向と
し、処理範囲内の着目画素１０’の正方向側にある画素
１０には正の係数値（例えば、＋１）を付与すると共
に、負方向側にある画素１０には負の係数値（例えば、
−１）を付与し、これにより着目画素１０’の濃度勾配
ベクトル（イ’）の方向と処理範囲内の演算対象画素１
０の着目画素１０’からの位置によって決まる重み付け
を行う。
よりエッジを検出するものである。本実施例において
も、上述した実施例１で説明したと同様に、図１５に示
すように、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’
の濃度勾配ベクトル（イ’）方向に沿う方向に矩形の処
理範囲を設定する。但し、本実施例の場合には、着目画
素１０’の濃度勾配ベクトル（イ’）の方向を正方向と
し、処理範囲内の着目画素１０’の正方向側にある画素
１０には正の係数値（例えば、＋１）を付与すると共
に、負方向側にある画素１０には負の係数値（例えば、
−１）を付与し、これにより着目画素１０’の濃度勾配
ベクトル（イ’）の方向と処理範囲内の演算対象画素１
０の着目画素１０’からの位置によって決まる重み付け
を行う。
【００４２】図５のように、着目画素１０’と処理範囲
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
【００４３】
【数５】
【００４４】すなわち、本実施例では、着目画素を中心
とする処理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさ
と、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内に
ある画素の着目画素からの位置により決まる方向との差
の余弦関数で求まる係数と、着目画素における濃度勾配
ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配
ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いてエッジ評
価値を求めるようにしてある。なお、上数５はいわゆる
エッジのバランスを示し、理想的なエッジであれば、エ
ッジ評価値は０となる。
とする処理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさ
と、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内に
ある画素の着目画素からの位置により決まる方向との差
の余弦関数で求まる係数と、着目画素における濃度勾配
ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配
ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いてエッジ評
価値を求めるようにしてある。なお、上数５はいわゆる
エッジのバランスを示し、理想的なエッジであれば、エ
ッジ評価値は０となる。
【００４５】ここで、図１６の画素数２×２のマスクを
設定し、夫々の画素におけるエッジ評価値がａ〜ｄであ
るとし、ａ×ｂ＜０，ａ×ｃ＜０，ａ×ｄ＜０のいずれ
かが成立する場合に、つまりはエッジ評価値の符号が変
化する画素（以下、零交差点と呼ぶ）をエッジ候補点と
し、エッジの検出を行う（請求項９）。上述の場合に
は、各画素のエッジ評価値には１を付与して零交差点を
検出するアルゴリズムを用いてある。以上のエッジ検出
方法をまとめたフローチャートを図１７に示す。
設定し、夫々の画素におけるエッジ評価値がａ〜ｄであ
るとし、ａ×ｂ＜０，ａ×ｃ＜０，ａ×ｄ＜０のいずれ
かが成立する場合に、つまりはエッジ評価値の符号が変
化する画素（以下、零交差点と呼ぶ）をエッジ候補点と
し、エッジの検出を行う（請求項９）。上述の場合に
は、各画素のエッジ評価値には１を付与して零交差点を
検出するアルゴリズムを用いてある。以上のエッジ検出
方法をまとめたフローチャートを図１７に示す。
【００４６】なお、上述の着目画素の濃度勾配ベクトル
の方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置に
より決まる方向との差の余弦関数で求まる係数は、着目
画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素
の着目画素からの位置により決まる方向との差の奇数乗
の余弦関数から求めてもよい（請求項１０）。その場合
のエッジ検出方法を示すフローチャートを図１８に示
す。
の方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置に
より決まる方向との差の余弦関数で求まる係数は、着目
画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素
の着目画素からの位置により決まる方向との差の奇数乗
の余弦関数から求めてもよい（請求項１０）。その場合
のエッジ検出方法を示すフローチャートを図１８に示
す。
【００４７】さらに、本実施例を一般的に拡張すると、
着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃
度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクト
ルの方向を正方向とし、着目画素を基準点として着目画
素より正方向側にある画素に正の係数を付与すると共に
負方向側にある画素に負の係数を付与して求めた係数
と、着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲
内にある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度
を示す係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値
の符号が変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出
を行うようにすればよい（請求項８）。このエッジ検出
方法を示すフローチャートを図１４に示す。
着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃
度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクト
ルの方向を正方向とし、着目画素を基準点として着目画
素より正方向側にある画素に正の係数を付与すると共に
負方向側にある画素に負の係数を付与して求めた係数
と、着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲
内にある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度
を示す係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値
の符号が変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出
を行うようにすればよい（請求項８）。このエッジ検出
方法を示すフローチャートを図１４に示す。
【００４８】（実施例４）ところで、以上の各実施例１
〜３は言わばエッジの特性の特徴に基づいて重み付けを
設定することになるものであったが、エッジの特性は必
ずしも一様ではない。そこで、実施例１〜３の方法で求
めれたエッジ評価値を組み合わせて、エッジの検出を行
うことが好ましい。
〜３は言わばエッジの特性の特徴に基づいて重み付けを
設定することになるものであったが、エッジの特性は必
ずしも一様ではない。そこで、実施例１〜３の方法で求
めれたエッジ評価値を組み合わせて、エッジの検出を行
うことが好ましい。
【００４９】そこで、本実施例では、実施例１と実施例
２とのエッジ評価値（以下、夫々のエッジ評価値を
Ｅ1 ，Ｅ2 と呼び）を用いて、新たなエッジ評価値（Ｅ
4 ）を演算し、これにより求めれたエッジ評価値Ｅ4 を
用いてエッジ検出を行うようにしてある（請求項１
１）。本実施例のエッジ検出方法を示すフローチャート
を図１９に示す。
２とのエッジ評価値（以下、夫々のエッジ評価値を
Ｅ1 ，Ｅ2 と呼び）を用いて、新たなエッジ評価値（Ｅ
4 ）を演算し、これにより求めれたエッジ評価値Ｅ4 を
用いてエッジ検出を行うようにしてある（請求項１
１）。本実施例のエッジ検出方法を示すフローチャート
を図１９に示す。
【００５０】具体的には、図２０のフローチャートに示
すように、検出対象エッジの特性により係数α，βを設
定し、その係数α，βを実施例１及び実施例２で求めら
れる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2 に乗じ、それを加算した
値（αＥ1 ＋βＥ2 ）を、本実施例のエッジ評価値Ｅ4
とすればよい（請求項１２）。そして、このエッジ評価
値Ｅ4 があるしきい値を越える画素をエッジとして検出
すればよい。
すように、検出対象エッジの特性により係数α，βを設
定し、その係数α，βを実施例１及び実施例２で求めら
れる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2 に乗じ、それを加算した
値（αＥ1 ＋βＥ2 ）を、本実施例のエッジ評価値Ｅ4
とすればよい（請求項１２）。そして、このエッジ評価
値Ｅ4 があるしきい値を越える画素をエッジとして検出
すればよい。
【００５１】（実施例５）本実施例は実施例１と実施例
３との組み合わせてエッジ検出を行うものであり、実施
例３により得られるエッジ候補点画像と、実施例１によ
り得られるエッジ評価値Ｅ1 とを用いてエッジ評価値Ｅ
5 を演算し、エッジの検出を行うもので、そのフローチ
ャートを図２１に示す。
３との組み合わせてエッジ検出を行うものであり、実施
例３により得られるエッジ候補点画像と、実施例１によ
り得られるエッジ評価値Ｅ1 とを用いてエッジ評価値Ｅ
5 を演算し、エッジの検出を行うもので、そのフローチ
ャートを図２１に示す。
【００５２】具体的には、実施例１により得られるエッ
ジ評価値Ｅ1 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例６）本実施例は実施例２と実施例３との組み合
わせてエッジ検出を行うものであり、実施例３により得
られるエッジ候補点画像と、実施例２により得られるエ
ッジ評価値Ｅ2 とを用いてエッジ評価値Ｅ6 を演算し、
エッジの検出を行うもので、そのフローチャートを図２
２に示す。
ジ評価値Ｅ1 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例６）本実施例は実施例２と実施例３との組み合
わせてエッジ検出を行うものであり、実施例３により得
られるエッジ候補点画像と、実施例２により得られるエ
ッジ評価値Ｅ2 とを用いてエッジ評価値Ｅ6 を演算し、
エッジの検出を行うもので、そのフローチャートを図２
２に示す。
【００５３】具体的には、実施例１により得られるエッ
ジ評価値Ｅ2 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例７）本実施例は実施例３と実施例４とを組み合
わせてエッジの検出を行うものである。本実施例では、
実施例４により得られるエッジ評価値Ｅ4 を画素値とす
る濃淡画像に、この濃淡画像の各画素に対応する位置に
ある実施例３で得られたエッジ候補点画像の画素値（エ
ッジ候補点の画素値を１、エッジ候補点以外の画素値を
０）を乗じ、各画素であるしきい値を越えたものをエッ
ジとして検出する。
ジ評価値Ｅ2 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例７）本実施例は実施例３と実施例４とを組み合
わせてエッジの検出を行うものである。本実施例では、
実施例４により得られるエッジ評価値Ｅ4 を画素値とす
る濃淡画像に、この濃淡画像の各画素に対応する位置に
ある実施例３で得られたエッジ候補点画像の画素値（エ
ッジ候補点の画素値を１、エッジ候補点以外の画素値を
０）を乗じ、各画素であるしきい値を越えたものをエッ
ジとして検出する。
【００５４】なお、本実施例の場合には、エッジ評価値
Ｅ4 が実施例１及び実施例２の組み合わせで求められる
ものであるから、実施例１乃至実施例３を総合的に用い
てエッジの検出を行うことになる。具体的には、エッジ
評価値Ｅ4 として、図２０のフローチャートで説明した
ように検出対象エッジの特性による係数α，βを実施例
１及び実施例２で求められる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2
に乗じ、それを加算した値（αＥ1 ＋βＥ2 ）（図２４
のフローチャートのＥ4 ’）を用いればよい。
Ｅ4 が実施例１及び実施例２の組み合わせで求められる
ものであるから、実施例１乃至実施例３を総合的に用い
てエッジの検出を行うことになる。具体的には、エッジ
評価値Ｅ4 として、図２０のフローチャートで説明した
ように検出対象エッジの特性による係数α，βを実施例
１及び実施例２で求められる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2
に乗じ、それを加算した値（αＥ1 ＋βＥ2 ）（図２４
のフローチャートのＥ4 ’）を用いればよい。
【００５５】
【発明の効果】請求項１の発明は上述のように、濃度勾
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾配ベク
トル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベク
トル方向との一致度を示す係数とからエッジ評価値を演
算して、エッジ検出を行っているので、各画素の濃度勾
配ベクトルのエッジと直交する方向への揃い方、及びエ
ッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが相対的に大き
な画素が並ぶことから、エッジ検出を行うことができ
る。このエッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベ
クトルを用いエッジ検出を行っているので、つまりはあ
る程度大きな範囲内でエッジ検出を行っているので、局
所的なノイズの影響を受けにくくできる。また、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との関係により決
定される第１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出
しているので、上記第１の係数により認識対象領域に重
み付けを行い、認識対象領域と背景領域との濃度レベル
に明確な差を設けることができる。よって、エッジを安
定して検出することができる。
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾配ベク
トル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベク
トル方向との一致度を示す係数とからエッジ評価値を演
算して、エッジ検出を行っているので、各画素の濃度勾
配ベクトルのエッジと直交する方向への揃い方、及びエ
ッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが相対的に大き
な画素が並ぶことから、エッジ検出を行うことができ
る。このエッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベ
クトルを用いエッジ検出を行っているので、つまりはあ
る程度大きな範囲内でエッジ検出を行っているので、局
所的なノイズの影響を受けにくくできる。また、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との関係により決
定される第１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出
しているので、上記第１の係数により認識対象領域に重
み付けを行い、認識対象領域と背景領域との濃度レベル
に明確な差を設けることができる。よって、エッジを安
定して検出することができる。
【００５６】請求項２の発明は上述のように、着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内
に設定しているので、エッジと直交する方向に処理範囲
を設定し、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃度勾配が
小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわたる濃度
勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾配の緩や
かなエッジを検出することができる。つまりは、例えば
エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの大き
さを積分すると、その積分値はエッジ付近では大きな値
を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッジを
安定して検出することができる。
の濃度勾配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内
に設定しているので、エッジと直交する方向に処理範囲
を設定し、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃度勾配が
小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわたる濃度
勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾配の緩や
かなエッジを検出することができる。つまりは、例えば
エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの大き
さを積分すると、その積分値はエッジ付近では大きな値
を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッジを
安定して検出することができる。
【００５７】請求項５の発明は上述のように、上記処理
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定しているので、主にエッジの方向に濃度勾配ベ
クトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことからエ
ッジを検出することができ、エッジの濃度勾配が急な場
合において、特に有効である。請求項８の発明は上述の
ように、濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素
とし、この着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度
勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画素を基準点と
して着目画素より正方向側にある画素に正の係数を付与
すると共に負方向側にある画素に負の係数を付与して求
めた第１の係数と、着目画素における濃度勾配ベクトル
方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベクトル
方向との一致度を示す第２の係数とからエッジ評価値を
演算し、エッジ評価値の符号が変化する画素をエッジ候
補点としてエッジ検出を行っているので、エッジ付近で
は濃度勾配ベクトルの方向が反転することに着目し、こ
れに加味した形で、エッジを安定して検出することがで
きる。しかも、ある程度大きな範囲内でエッジ検出を行
っているので、局所的なノイズの影響を受けにくくで
き、エッジを安定して検出することができる。
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定しているので、主にエッジの方向に濃度勾配ベ
クトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことからエ
ッジを検出することができ、エッジの濃度勾配が急な場
合において、特に有効である。請求項８の発明は上述の
ように、濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素
とし、この着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度
勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画素を基準点と
して着目画素より正方向側にある画素に正の係数を付与
すると共に負方向側にある画素に負の係数を付与して求
めた第１の係数と、着目画素における濃度勾配ベクトル
方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベクトル
方向との一致度を示す第２の係数とからエッジ評価値を
演算し、エッジ評価値の符号が変化する画素をエッジ候
補点としてエッジ検出を行っているので、エッジ付近で
は濃度勾配ベクトルの方向が反転することに着目し、こ
れに加味した形で、エッジを安定して検出することがで
きる。しかも、ある程度大きな範囲内でエッジ検出を行
っているので、局所的なノイズの影響を受けにくくで
き、エッジを安定して検出することができる。
【００５８】請求項１１乃至請求項１６の発明では、上
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を行え、安定してエッジを検出することができる。
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を行え、安定してエッジを検出することができる。
【図１】本発明の実施例１のエッジ検出方法を示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図２】エッジ検出装置の構成を示すブロック図であ
る。
る。
【図３】局所空間微分を行うマスクの説明図である。
【図４】エッジ付近の濃度勾配ベクトルを示す説明図で
ある。
ある。
【図５】エッジ評価値を求める関数式の変数の説明図で
ある。
ある。
【図６】重み付けの具体方法を示すフローチャートであ
る。
る。
【図７】（ａ），（ｂ）は処理範囲内での処理範囲の設
定方法及びその重み付け方法の説明図である。
定方法及びその重み付け方法の説明図である。
【図８】図７に示すように処理範囲を設定し、重み付け
を行った場合のフローチャートである。
を行った場合のフローチャートである。
【図９】重み付けのために余弦関数を用いた場合のフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図１０】実施例２のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図１１】（ａ），（ｂ）は処理範囲内での処理範囲の
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
【図１２】図１１に示すように処理範囲を設定し、重み
付けを行った場合のフローチャートである。
付けを行った場合のフローチャートである。
【図１３】重み付けの具体方法を示すフローチャートで
ある。
ある。
【図１４】実施例３のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図１５】（ａ），（ｂ）は処理範囲内での処理範囲の
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
【図１６】零交差点を抽出するマスクの説明図である。
【図１７】図１５に示すように処理範囲を設定し、重み
付けを行った場合のフローチャートである。
付けを行った場合のフローチャートである。
【図１８】重み付けのために余弦関数を用いた場合のフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図１９】実施例４のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２０】同上のエッジ評価値の具体的な算出方法を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【図２１】実施例５のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２２】実施例６のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２３】実施例７のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２４】同上の具体的なエッジ評価値の算出方法を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
１ 認識対象物体 ２ 撮像手段 ３ Ａ／Ｄ変換手段 ４ 局所空間微分手段 ５ エッジ評価値演算手段 ６ エッジ検出手段 １０ 画素 １０’ 着目画素 イ，イ’ 濃度勾配ベクトル ロ 処理範囲
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１２月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 エッジ検出方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、計算機等を用いてディ
ジタル画像処理によりエッジを検出するエッジ検出方法
に関するものである。
ジタル画像処理によりエッジを検出するエッジ検出方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ロボットの視覚装置や製品の自動外観検
査装置においては、物体の形状を抽出したり、傷などの
不良部分の検出を行うために濃淡画像からエッジ検出を
行う必要がある。この種のエッジ検出方法としては、多
くのアルゴリズムが知られている。しかし、画像の濃度
値に対する空間微分値を求め、この値が適当なしきい値
よりも大きい画素をエッジ画素とする方法や、特開平２
−９６８８４号などにより提案された零交差点と局所空
間微分値とを組み合わせた方法が代表的である。
査装置においては、物体の形状を抽出したり、傷などの
不良部分の検出を行うために濃淡画像からエッジ検出を
行う必要がある。この種のエッジ検出方法としては、多
くのアルゴリズムが知られている。しかし、画像の濃度
値に対する空間微分値を求め、この値が適当なしきい値
よりも大きい画素をエッジ画素とする方法や、特開平２
−９６８８４号などにより提案された零交差点と局所空
間微分値とを組み合わせた方法が代表的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
方法は、画像中に含まれるノイズの影響を受けやすく、
エッジがぼけている（濃度値の局所空間微分によって求
まる濃度勾配ベクトルの大きさが小さい）場合や、認識
対象領域と背景領域との濃度レベルの差が小さい場合な
どには、エッジを安定して検出することができなかっ
た。
方法は、画像中に含まれるノイズの影響を受けやすく、
エッジがぼけている（濃度値の局所空間微分によって求
まる濃度勾配ベクトルの大きさが小さい）場合や、認識
対象領域と背景領域との濃度レベルの差が小さい場合な
どには、エッジを安定して検出することができなかっ
た。
【０００４】本発明は上述の点に鑑みて為されたもので
あり、その目的とするところは、エッジを安定して検出
することができるエッジ検出方法を提供することにあ
る。
あり、その目的とするところは、エッジを安定して検出
することができるエッジ検出方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明では、上
記目的を達成するために、認識対象物体を撮像手段によ
って撮像し、得られた濃淡画像を局所空間微分して濃度
勾配ベクトルを得て、この濃度勾配ベクトルの大きさと
方向よりなる濃度勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置によ
り決まる方向との関係により決定される第１の係数と、
着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内に
ある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示
す第２の係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価
値を用いてエッジ検出を行っている。
記目的を達成するために、認識対象物体を撮像手段によ
って撮像し、得られた濃淡画像を局所空間微分して濃度
勾配ベクトルを得て、この濃度勾配ベクトルの大きさと
方向よりなる濃度勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置によ
り決まる方向との関係により決定される第１の係数と、
着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内に
ある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示
す第２の係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価
値を用いてエッジ検出を行っている。
【０００６】なお、請求項２に示すように、着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向に上記処理範囲を設定し、上記
濃度勾配ベクトルの大きさと各係数とからエッジ評価値
を演算してもよい。ここで、上記処理範囲は、請求項３
に示すように、例えば着目画素を中心としこの着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向に沿う矩形領域に設定すれば
よい。
濃度勾配ベクトルの方向に上記処理範囲を設定し、上記
濃度勾配ベクトルの大きさと各係数とからエッジ評価値
を演算してもよい。ここで、上記処理範囲は、請求項３
に示すように、例えば着目画素を中心としこの着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向に沿う矩形領域に設定すれば
よい。
【０００７】また、請求項４に示すように、上記第１の
係数としては、例えば着目画素の濃度勾配ベクトルの方
向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置により
決まる方向との差の余弦関数の偶数乗より求まる係数を
用いることができる。請求項５の発明では、上記処理範
囲を、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定して成ることを特徴とする請求項１記載のエッ
ジ検出方法。
係数としては、例えば着目画素の濃度勾配ベクトルの方
向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置により
決まる方向との差の余弦関数の偶数乗より求まる係数を
用いることができる。請求項５の発明では、上記処理範
囲を、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定して成ることを特徴とする請求項１記載のエッ
ジ検出方法。
【０００８】また、請求項５のエッジ検出方法におい
て、請求項６に示すように、上記処理範囲は、着目画素
を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直
交する方向に矩形領域に設定すればよい。さらに、請求
項７に示すように、第１の係数として、例えば、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との差の正弦関数
の偶数乗より求まる係数を用いることができる。
て、請求項６に示すように、上記処理範囲は、着目画素
を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直
交する方向に矩形領域に設定すればよい。さらに、請求
項７に示すように、第１の係数として、例えば、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との差の正弦関数
の偶数乗より求まる係数を用いることができる。
【０００９】請求項８の発明では、上記目的を達成する
ために、認識対象物体を撮像手段によって撮像し、得ら
れた濃淡画像を局所空間微分して濃度勾配ベクトルを得
て、この濃度勾配ベクトルの大きさと方向よりなる濃度
勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾配ベクトル画像の
各画素を順次着目画素とし、この着目画素を中心とする
特定の処理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大き
さと、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向と
し、着目画素を基準点として着目画素より正方向側にあ
る画素に正の係数を付与すると共に負方向側にある画素
に負の係数を付与して求めた第１の係数と、着目画素に
おける濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素に
おける濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係
数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が
変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出を行って
いる。
ために、認識対象物体を撮像手段によって撮像し、得ら
れた濃淡画像を局所空間微分して濃度勾配ベクトルを得
て、この濃度勾配ベクトルの大きさと方向よりなる濃度
勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾配ベクトル画像の
各画素を順次着目画素とし、この着目画素を中心とする
特定の処理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大き
さと、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向と
し、着目画素を基準点として着目画素より正方向側にあ
る画素に正の係数を付与すると共に負方向側にある画素
に負の係数を付与して求めた第１の係数と、着目画素に
おける濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素に
おける濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係
数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が
変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出を行って
いる。
【００１０】上記請求項８のエッジ検出方法において
も、請求項９に示すように、上記処理範囲を、例えば、
着目画素を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向に沿う矩形領域に設定すればよい。また、請求項１
０に示すように、上記第１の係数として、着目画素の濃
度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画
素からの位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数
乗より求まる係数を用いることができる。
も、請求項９に示すように、上記処理範囲を、例えば、
着目画素を中心としこの着目画素の濃度勾配ベクトルの
方向に沿う矩形領域に設定すればよい。また、請求項１
０に示すように、上記第１の係数として、着目画素の濃
度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画
素からの位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数
乗より求まる係数を用いることができる。
【００１１】請求項１１の発明では、請求項２で得られ
るエッジ評価値と、請求項５で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。具体的には、請求項１
２に示すように、請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項５で得られるエッジ評価値とに、エッジの特性に
より決まる係数を乗算した後に加算し、この加算値を大
きさを用いてエッジを検出することができる。
るエッジ評価値と、請求項５で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。具体的には、請求項１
２に示すように、請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項５で得られるエッジ評価値とに、エッジの特性に
より決まる係数を乗算した後に加算し、この加算値を大
きさを用いてエッジを検出することができる。
【００１２】請求項１３の発明では、請求項２で得られ
るエッジ評価値と、請求項８で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。請求項１４の発明で
は、請求項５で得られるエッジ評価値と、請求項８で得
られるエッジ評価値とを用いてエッジを検出している。
請求項１５の発明では、請求項８で得られるエッジ評価
値と、請求項１１で得られるエッジ評価値とを用いてエ
ッジを検出している。
るエッジ評価値と、請求項８で得られるエッジ評価値と
を用いてエッジを検出している。請求項１４の発明で
は、請求項５で得られるエッジ評価値と、請求項８で得
られるエッジ評価値とを用いてエッジを検出している。
請求項１５の発明では、請求項８で得られるエッジ評価
値と、請求項１１で得られるエッジ評価値とを用いてエ
ッジを検出している。
【００１３】請求項１６の発明では、請求項８で得られ
るエッジ評価値と、請求項１２で得られるエッジ評価値
とを用いてエッジを検出している。
るエッジ評価値と、請求項１２で得られるエッジ評価値
とを用いてエッジを検出している。
【００１４】
【作用】認識対象物体を撮像して得られた濃淡画像を、
局所空間微分して求められた濃度勾配ベクトル画像にお
いては、認識対象領域と背景領域の境界部分、つまりエ
ッジ付近では、各画素の濃度勾配ベクトルの方向は、エ
ッジの連なる方向（以下、エッジの方向と呼ぶ）に対し
て直交する方向（以下、エッジと直交する方向と呼ぶ）
に揃っている。また、エッジの方向には、濃度勾配ベク
トルの大きさが相対的に大きな画素が並んでいる。
局所空間微分して求められた濃度勾配ベクトル画像にお
いては、認識対象領域と背景領域の境界部分、つまりエ
ッジ付近では、各画素の濃度勾配ベクトルの方向は、エ
ッジの連なる方向（以下、エッジの方向と呼ぶ）に対し
て直交する方向（以下、エッジと直交する方向と呼ぶ）
に揃っている。また、エッジの方向には、濃度勾配ベク
トルの大きさが相対的に大きな画素が並んでいる。
【００１５】そこで、請求項１の発明は、上述のように
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の
濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す第２の係数とからエッ
ジ評価値を演算して、エッジ検出を行うことにより、各
画素の濃度勾配ベクトルのエッジと直交する方向への揃
い方、及びエッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが
相対的に大きな画素が並ぶことから、エッジ検出を行
う。このエッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベ
クトルを用いエッジ検出を行うことにより、つまりはあ
る程度大きな範囲内でエッジ検出を行うことにより、局
所的なノイズの影響を受けにくくする。また、着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着
目画素からの位置により決まる方向との関係により決定
される第１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出す
ることで、上記第１の係数により認識対象領域に重み付
けを行い、認識対象領域と背景領域との濃度レベルに明
確な差を設ける。これにより、エッジを安定して検出す
る。
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の
濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す第２の係数とからエッ
ジ評価値を演算して、エッジ検出を行うことにより、各
画素の濃度勾配ベクトルのエッジと直交する方向への揃
い方、及びエッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが
相対的に大きな画素が並ぶことから、エッジ検出を行
う。このエッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベ
クトルを用いエッジ検出を行うことにより、つまりはあ
る程度大きな範囲内でエッジ検出を行うことにより、局
所的なノイズの影響を受けにくくする。また、着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着
目画素からの位置により決まる方向との関係により決定
される第１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出す
ることで、上記第１の係数により認識対象領域に重み付
けを行い、認識対象領域と背景領域との濃度レベルに明
確な差を設ける。これにより、エッジを安定して検出す
る。
【００１６】請求項２に示すように、着目画素の濃度勾
配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内に設定す
ることにより、エッジと直交する方向に処理範囲を設定
する。これにより、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃
度勾配が小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわ
たる濃度勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾
配の緩やかなエッジを検出することを可能とする。例え
ば、エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの
大きさを積分すると、その積分値はエッジ付近では大き
な値を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッ
ジを安定して検出することができる。
配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内に設定す
ることにより、エッジと直交する方向に処理範囲を設定
する。これにより、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃
度勾配が小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわ
たる濃度勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾
配の緩やかなエッジを検出することを可能とする。例え
ば、エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの
大きさを積分すると、その積分値はエッジ付近では大き
な値を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッ
ジを安定して検出することができる。
【００１７】請求項５の発明は、上述のように上記処理
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定することにより、主にエッジの方向に濃度勾配
ベクトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことから
エッジを検出する。この場合には、エッジの濃度勾配が
急な場合において、特に有効な方法である。請求項８の
発明は、上述のように濃度勾配ベクトル画像の各画素を
順次着目画素とし、この着目画素を中心とする特定の処
理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着
目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画
素を基準点として着目画素より正方向側にある画素に正
の係数を付与すると共に負方向側にある画素に負の係数
を付与して求めた第１の係数と、着目画素における濃度
勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度
勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係数とからエ
ッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が変化する画
素をエッジ候補点としてエッジ検出を行う。
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定することにより、主にエッジの方向に濃度勾配
ベクトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことから
エッジを検出する。この場合には、エッジの濃度勾配が
急な場合において、特に有効な方法である。請求項８の
発明は、上述のように濃度勾配ベクトル画像の各画素を
順次着目画素とし、この着目画素を中心とする特定の処
理範囲内にある画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着
目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画
素を基準点として着目画素より正方向側にある画素に正
の係数を付与すると共に負方向側にある画素に負の係数
を付与して求めた第１の係数と、着目画素における濃度
勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度
勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の係数とからエ
ッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が変化する画
素をエッジ候補点としてエッジ検出を行う。
【００１８】請求項１１乃至請求項１６の発明では、上
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を可能とし、安定してエッジを検出することを可能と
する。
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を可能とし、安定してエッジを検出することを可能と
する。
【００１９】
【実施例】 （実施例１）図２に本発明の発明が適用される装置の構
成を示す。エッジ検出装置は、認識対象物体１を撮像す
る撮像手段２と、撮像手段２で撮像して得られるアナロ
グ信号をディジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段３
と、得られたディジタル濃淡画像（以下、単に濃淡画像
と呼ぶ）から各画素における濃度勾配の大きさと方向を
表す濃度勾配ベクトル画像を求める局所空間微分手段４
と、濃度勾配ベクトル画像からエッジの特性を評価する
エッジ評価値を演算するエッジ評価値演算手段５と、エ
ッジ評価値に基づいてエッジの検出を行うエッジ検出手
段６とで構成してある。
成を示す。エッジ検出装置は、認識対象物体１を撮像す
る撮像手段２と、撮像手段２で撮像して得られるアナロ
グ信号をディジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段３
と、得られたディジタル濃淡画像（以下、単に濃淡画像
と呼ぶ）から各画素における濃度勾配の大きさと方向を
表す濃度勾配ベクトル画像を求める局所空間微分手段４
と、濃度勾配ベクトル画像からエッジの特性を評価する
エッジ評価値を演算するエッジ評価値演算手段５と、エ
ッジ評価値に基づいてエッジの検出を行うエッジ検出手
段６とで構成してある。
【００２０】図４は、濃淡画像において、局所空間微分
によって求めた各画素１０における濃度勾配ベクトルの
様子を表現してある。この図４における矢印イの長さが
濃度勾配ベクトルの大きさ、矢印イの向きが濃度勾配ベ
クトルの方向を示している。ここで、エッジ付近におけ
る濃度勾配ベクトルは、大きさが背景領域と比較して相
対的に大きく、エッジと直交する方向に向かっており、
またエッジの方向に連続的に連なっている。従って、こ
れら濃度勾配ベクトルの特性を兼ね備えているかを評価
することにより、エッジを検出することができる。
によって求めた各画素１０における濃度勾配ベクトルの
様子を表現してある。この図４における矢印イの長さが
濃度勾配ベクトルの大きさ、矢印イの向きが濃度勾配ベ
クトルの方向を示している。ここで、エッジ付近におけ
る濃度勾配ベクトルは、大きさが背景領域と比較して相
対的に大きく、エッジと直交する方向に向かっており、
またエッジの方向に連続的に連なっている。従って、こ
れら濃度勾配ベクトルの特性を兼ね備えているかを評価
することにより、エッジを検出することができる。
【００２１】以上のことから、エッジ評価の方法として
は、エッジ付近における濃度勾配ベクトルの大きさ、濃
度勾配ベクトル方向の揃い方、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素から
の位置によって決まる重み付けとの３点の評価をすれば
よいことが分かる。以下、本実施例のエッジ検出方法を
説明する。まず、認識対象物体を撮像手段により撮像し
て得られるディジタル濃淡画像（濃度値は０〜２５５の
２５６階調）を得る。この濃淡画像に対する局所空間微
分を行うに先だって、必要に応じてガウシアン関数ｇ
（ｘ，ｙ）を用いた平滑化処理を行ってもよい。
は、エッジ付近における濃度勾配ベクトルの大きさ、濃
度勾配ベクトル方向の揃い方、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素から
の位置によって決まる重み付けとの３点の評価をすれば
よいことが分かる。以下、本実施例のエッジ検出方法を
説明する。まず、認識対象物体を撮像手段により撮像し
て得られるディジタル濃淡画像（濃度値は０〜２５５の
２５６階調）を得る。この濃淡画像に対する局所空間微
分を行うに先だって、必要に応じてガウシアン関数ｇ
（ｘ，ｙ）を用いた平滑化処理を行ってもよい。
【００２２】
【数１】
【００２３】σ：標準偏差次に、マスクサイズ３×３の
ソーベル（sobel)オペレータ（主に局所的な濃度変化を
検出する目的で設計された差分フィルタの一種）を用い
た局所空間微分を行い、Ｘ方向微分値ｆｘと、Ｙ方向微
分値ｆｙを次式より求める。 ｆｘ＝（ｃ＋２ｆ＋ｉ）−（ａ＋２ｄ＋ｇ） ｆｙ＝（ｇ＋２ｈ＋ｉ）−（ａ＋２ｂ＋ｃ） ａ〜ｉ：図３のマスク内の濃淡画像の画素値 また、次式により濃度勾配ベクトルの大きさＦと方向θ
とを求める。
ソーベル（sobel)オペレータ（主に局所的な濃度変化を
検出する目的で設計された差分フィルタの一種）を用い
た局所空間微分を行い、Ｘ方向微分値ｆｘと、Ｙ方向微
分値ｆｙを次式より求める。 ｆｘ＝（ｃ＋２ｆ＋ｉ）−（ａ＋２ｄ＋ｇ） ｆｙ＝（ｇ＋２ｈ＋ｉ）−（ａ＋２ｂ＋ｃ） ａ〜ｉ：図３のマスク内の濃淡画像の画素値 また、次式により濃度勾配ベクトルの大きさＦと方向θ
とを求める。
【００２４】
【数２】
【００２５】これにより、濃度勾配ベクトルの大きさと
方向からなる濃度勾配ベクトル画像を求める。そして、
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内において、エ
ッジ評価値を演算する。ここで、図５に示すように、着
目画素を中心画素とするマスクサイズが３の特定の処理
範囲内でエッジ評価値を演算する場合について説明す
る。
方向からなる濃度勾配ベクトル画像を求める。そして、
濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、こ
の着目画素を中心とする特定の処理範囲内において、エ
ッジ評価値を演算する。ここで、図５に示すように、着
目画素を中心画素とするマスクサイズが３の特定の処理
範囲内でエッジ評価値を演算する場合について説明す
る。
【００２６】図５（ａ）では着目画素である中心画素の
座標を（０，０）にとり、（ｉ，ｊ）で処理範囲内にあ
る画素の中心画素からの相対座標を示す。そして、中心
画素と処理範囲内のいずれかの画素との濃度勾配ベクト
ルの関係が例えば図５（ｂ）に示すようになっているも
のとして以下の説明を行う。図５（ｂ）では、中心画素
の濃度勾配ベクトルの大きさがＰ0 、方向がθ0 で、処
理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさがＰijで、
方向がθijとなっており、中心画素と上記処理範囲内の
画素の位置（座標点（ｉ，ｊ））の方向（（０，０）か
ら（ｉ，ｊ）に向かう方向）がφijとしてある。
座標を（０，０）にとり、（ｉ，ｊ）で処理範囲内にあ
る画素の中心画素からの相対座標を示す。そして、中心
画素と処理範囲内のいずれかの画素との濃度勾配ベクト
ルの関係が例えば図５（ｂ）に示すようになっているも
のとして以下の説明を行う。図５（ｂ）では、中心画素
の濃度勾配ベクトルの大きさがＰ0 、方向がθ0 で、処
理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさがＰijで、
方向がθijとなっており、中心画素と上記処理範囲内の
画素の位置（座標点（ｉ，ｊ））の方向（（０，０）か
ら（ｉ，ｊ）に向かう方向）がφijとしてある。
【００２７】上記エッジ付近における濃度勾配ベクトル
の大きさは、特定の処理範囲にある画素の濃度勾配ベク
トルの大きさであり、図５（ｂ）の場合にはＰijであ
る。また、濃度勾配ベクトル方向の揃い方は、着目画素
における濃度勾配ベクトルの方向と、処理範囲にある画
素の濃度勾配ベクトルの方向との一致度から分かり、そ
れを係数で表す。例えば、この係数としては、cos （θ
ij−θ0 ）を用いることができる。
の大きさは、特定の処理範囲にある画素の濃度勾配ベク
トルの大きさであり、図５（ｂ）の場合にはＰijであ
る。また、濃度勾配ベクトル方向の揃い方は、着目画素
における濃度勾配ベクトルの方向と、処理範囲にある画
素の濃度勾配ベクトルの方向との一致度から分かり、そ
れを係数で表す。例えば、この係数としては、cos （θ
ij−θ0 ）を用いることができる。
【００２８】さらに、着目画素の濃度勾配ベクトルの方
向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置に
よって決まる重み付けは、着目画素の濃度勾配ベクトル
の方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの位置
により決まる方向との関係から決定される。例えば、こ
の係数としては、cos （φij−θ0 ）を用いることがで
きる。
向と処理範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置に
よって決まる重み付けは、着目画素の濃度勾配ベクトル
の方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの位置
により決まる方向との関係から決定される。例えば、こ
の係数としては、cos （φij−θ0 ）を用いることがで
きる。
【００２９】ここで、処理範囲内において、着目画素の
濃度勾配ベクトル方向に処理範囲を設定し、上記エッジ
評価値を演算してもよい（請求項２）。この処理範囲
は、着目画素を基準点として、濃度勾配ベクトルと平行
な方向の重みを大きくして設定することができる。上述
の値Ｐij及び具体係数をcos （θij−θ0 ），cos （φ
ij−θ0 ）を用いた場合の一例としてのエッジ評価値
は、
濃度勾配ベクトル方向に処理範囲を設定し、上記エッジ
評価値を演算してもよい（請求項２）。この処理範囲
は、着目画素を基準点として、濃度勾配ベクトルと平行
な方向の重みを大きくして設定することができる。上述
の値Ｐij及び具体係数をcos （θij−θ0 ），cos （φ
ij−θ0 ）を用いた場合の一例としてのエッジ評価値
は、
【００３０】
【数３】
【００３１】とすればよい。そして、エッジ検出手段６
では、上記エッジ評価値があるしきい値を越える画素を
エッジとして検出する。ここで、上記エッジ評価値を演
算する関数式は、勾配の緩やかなエッジを検出するた
め、エッジに垂直は方向の重みを大きくしている。以上
のエッジ検出方法をまとめたフローチャートを図６に示
す。
では、上記エッジ評価値があるしきい値を越える画素を
エッジとして検出する。ここで、上記エッジ評価値を演
算する関数式は、勾配の緩やかなエッジを検出するた
め、エッジに垂直は方向の重みを大きくしている。以上
のエッジ検出方法をまとめたフローチャートを図６に示
す。
【００３２】なお、上記エッジ検出方法におえる処理範
囲の具体的な設定方法としては、図７（ａ）に示すよう
に、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’の濃度
勾配ベクトル（イ’）の方向に平行な矩形領域ロを設定
すればよい（請求項３）。この場合には、図７（ｂ）に
示すように、矩形領域内の各画素の重み付けのために正
の係数値（例えば、１）を付与すればよい。この方法を
採用した場合のエッジ検出方法のフローチャートを図８
に示す。
囲の具体的な設定方法としては、図７（ａ）に示すよう
に、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’の濃度
勾配ベクトル（イ’）の方向に平行な矩形領域ロを設定
すればよい（請求項３）。この場合には、図７（ｂ）に
示すように、矩形領域内の各画素の重み付けのために正
の係数値（例えば、１）を付与すればよい。この方法を
採用した場合のエッジ検出方法のフローチャートを図８
に示す。
【００３３】また、上述の場合には、数３で示す関数式
を用いたが、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理
範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置によって決
まる重み付けは、一般的には、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの
位置により決まる方向との差の余弦関数の偶数乗からな
る係数で行うように拡張することも可能である（請求項
４）。このように重み付け方法を一般化したフローチャ
ートを図９に示す。
を用いたが、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理
範囲内の演算対象画素の着目画素からの位置によって決
まる重み付けは、一般的には、着目画素の濃度勾配ベク
トルの方向と、処理範囲内にある画素の着目画素からの
位置により決まる方向との差の余弦関数の偶数乗からな
る係数で行うように拡張することも可能である（請求項
４）。このように重み付け方法を一般化したフローチャ
ートを図９に示す。
【００３４】さらに、以上の説明はエッジ評価値がどの
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではないことは言うでもない。
つまりは、着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項１）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１に示す。
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではないことは言うでもない。
つまりは、着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項１）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１に示す。
【００３５】（実施例２）実施例１の場合には、着目画
素の濃度勾配ベクトル方向に沿う方向の重みを大きく
し、つまりは勾配の緩やかエッジをも検出できるように
したものであったが、特に勾配の急なエッジが連なって
いる場合に有用なエッジ検出方法について以下に説明す
る。
素の濃度勾配ベクトル方向に沿う方向の重みを大きく
し、つまりは勾配の緩やかエッジをも検出できるように
したものであったが、特に勾配の急なエッジが連なって
いる場合に有用なエッジ検出方法について以下に説明す
る。
【００３６】本実施例の場合には、上記実施例１の場合
には処理範囲を着目画素の濃度勾配ベクトル方向に沿う
方向に設定していたのに対して、本実施例では着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に処理範囲を設
定する点に特徴がある。具体的には、図１１（ａ）に示
すように、処理範囲ロを着目画素１０’を中心としたこ
の着目画素１０’の濃度勾配ベクトル方向に直交する矩
形領域を設定する（請求項６）。ここで、この場合に
は、図７（ｂ）に示すように、矩形領域内の各画素の重
み付けのために正の係数値（例えば、１）を付与すれば
よい。
には処理範囲を着目画素の濃度勾配ベクトル方向に沿う
方向に設定していたのに対して、本実施例では着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に処理範囲を設
定する点に特徴がある。具体的には、図１１（ａ）に示
すように、処理範囲ロを着目画素１０’を中心としたこ
の着目画素１０’の濃度勾配ベクトル方向に直交する矩
形領域を設定する（請求項６）。ここで、この場合に
は、図７（ｂ）に示すように、矩形領域内の各画素の重
み付けのために正の係数値（例えば、１）を付与すれば
よい。
【００３７】図５のように、着目画素１０’と処理範囲
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
【００３８】
【数４】
【００３９】上記数４によれば、エッジに平行な方向の
重みを大きくすることになり、勾配の急なエッジが連な
る場合に、上記エッジ評価値が大きくなる。以上のエッ
ジ検出方法をまとめたフローチャートを図１２に示す。
ところで、上記重み付けは、一般的には、着目画素の濃
度勾配ベクトルの方向と、処理範囲内にある画素の着目
画素からの位置により決まる方向との差の正弦関数の偶
数乗からなる係数で行うように拡張することも可能であ
る（請求項７）。このように重み付け方法を一般化した
フローチャートを図１３に示す。
重みを大きくすることになり、勾配の急なエッジが連な
る場合に、上記エッジ評価値が大きくなる。以上のエッ
ジ検出方法をまとめたフローチャートを図１２に示す。
ところで、上記重み付けは、一般的には、着目画素の濃
度勾配ベクトルの方向と、処理範囲内にある画素の着目
画素からの位置により決まる方向との差の正弦関数の偶
数乗からなる係数で行うように拡張することも可能であ
る（請求項７）。このように重み付け方法を一般化した
フローチャートを図１３に示す。
【００４０】さらに、上述の説明もエッジ評価値がどの
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではない。つまりは、着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に特定の処理範
囲を設定し、着目画素を中心とする特定処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項５）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１０に示す。
ようなものであるかを明確にするために、具体的な係数
値を示す形で説明を行ったが、一般的には、必ずしも上
記係数に限定されるものではない。つまりは、着目画素
の濃度勾配ベクトル方向に直交する方向に特定の処理範
囲を設定し、着目画素を中心とする特定処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、上記着目画素の
濃度勾配ベクトルの方向と上記処理範囲内にある演算対
象画素の着目画素からの位置により決まる方向との関係
により決定される係数と、上記着目画素における濃度勾
配ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾
配ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いて、エッ
ジ評価値を演算し、このエッジ評価値を用いてエッジ検
出を行えばよい（請求項５）。この本発明の技術思想を
一般化した場合のフローチャートを図１０に示す。
【００４１】（実施例３）本実施例はさらに別の方法に
よりエッジを検出するものである。本実施例において
も、上述した実施例１で説明したと同様に、図１５に示
すように、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’
の濃度勾配ベクトル（イ’）方向に沿う方向に矩形の処
理範囲を設定する。但し、本実施例の場合には、着目画
素１０’の濃度勾配ベクトル（イ’）の方向を正方向と
し、処理範囲内の着目画素１０’の正方向側にある画素
１０には正の係数値（例えば、＋１）を付与すると共
に、負方向側にある画素１０には負の係数値（例えば、
−１）を付与し、これにより着目画素１０’の濃度勾配
ベクトル（イ’）の方向と処理範囲内の演算対象画素１
０の着目画素１０’からの位置によって決まる重み付け
を行う。
よりエッジを検出するものである。本実施例において
も、上述した実施例１で説明したと同様に、図１５に示
すように、着目画素１０’を中心とした着目画素１０’
の濃度勾配ベクトル（イ’）方向に沿う方向に矩形の処
理範囲を設定する。但し、本実施例の場合には、着目画
素１０’の濃度勾配ベクトル（イ’）の方向を正方向と
し、処理範囲内の着目画素１０’の正方向側にある画素
１０には正の係数値（例えば、＋１）を付与すると共
に、負方向側にある画素１０には負の係数値（例えば、
−１）を付与し、これにより着目画素１０’の濃度勾配
ベクトル（イ’）の方向と処理範囲内の演算対象画素１
０の着目画素１０’からの位置によって決まる重み付け
を行う。
【００４２】図５のように、着目画素１０’と処理範囲
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
内にある画素１０との関係がある場合には、次の関数式
を用いてエッジ評価値を求めればよい。
【００４３】
【数５】
【００４４】すなわち、本実施例では、着目画素を中心
とする処理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさ
と、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内に
ある画素の着目画素からの位置により決まる方向との差
の余弦関数で求まる係数と、着目画素における濃度勾配
ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配
ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いてエッジ評
価値を求めるようにしてある。なお、理想的なエッジで
あれば、エッジ評価値は０となる。
とする処理範囲内の画素の濃度勾配ベクトルの大きさ
と、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内に
ある画素の着目画素からの位置により決まる方向との差
の余弦関数で求まる係数と、着目画素における濃度勾配
ベクトル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配
ベクトル方向との一致度を示す係数とを用いてエッジ評
価値を求めるようにしてある。なお、理想的なエッジで
あれば、エッジ評価値は０となる。
【００４５】ここで、図１６の画素数２×２のマスクを
設定し、夫々の画素におけるエッジ評価値がａ〜ｄであ
るとし、ａ×ｂ＜０，ａ×ｃ＜０，ａ×ｄ＜０のいずれ
かが成立する場合に、つまりはエッジ評価値の符号が変
化する画素（以下、零交差点と呼ぶ）をエッジ候補点と
し、エッジの検出を行う（請求項９）。以上のエッジ検
出方法をまとめたフローチャートを図１７に示す。
設定し、夫々の画素におけるエッジ評価値がａ〜ｄであ
るとし、ａ×ｂ＜０，ａ×ｃ＜０，ａ×ｄ＜０のいずれ
かが成立する場合に、つまりはエッジ評価値の符号が変
化する画素（以下、零交差点と呼ぶ）をエッジ候補点と
し、エッジの検出を行う（請求項９）。以上のエッジ検
出方法をまとめたフローチャートを図１７に示す。
【００４６】なお、上述の着目画素の濃度勾配ベクトル
の方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置に
より決まる方向で求まる係数は、着目画素の濃度勾配ベ
クトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの
位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数乗から求
めてもよい（請求項１０）。その場合のエッジ検出方法
を示すフローチャートを図１８に示す。
の方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの位置に
より決まる方向で求まる係数は、着目画素の濃度勾配ベ
クトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素からの
位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数乗から求
めてもよい（請求項１０）。その場合のエッジ検出方法
を示すフローチャートを図１８に示す。
【００４７】さらに、本実施例を一般的に拡張すると、
着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃
度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクト
ルの方向を正方向とし、着目画素を基準点として着目画
素より正方向側にある画素に正の係数を付与すると共に
負方向側にある画素に負の係数を付与して求めた係数
と、着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲
内にある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度
を示す係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値
の符号が変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出
を行うようにすればよい（請求項８）。このエッジ検出
方法を示すフローチャートを図１４に示す。
着目画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃
度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクト
ルの方向を正方向とし、着目画素を基準点として着目画
素より正方向側にある画素に正の係数を付与すると共に
負方向側にある画素に負の係数を付与して求めた係数
と、着目画素における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲
内にある画素における濃度勾配ベクトル方向との一致度
を示す係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値
の符号が変化する画素をエッジ候補点としてエッジ検出
を行うようにすればよい（請求項８）。このエッジ検出
方法を示すフローチャートを図１４に示す。
【００４８】（実施例４）ところで、以上の各実施例１
〜３は言わばエッジの特性の特徴に基づいて重み付けを
設定することになるものであったが、エッジの特性は必
ずしも一様ではない。そこで、実施例１〜３の方法で求
めれたエッジ評価値を組み合わせて、エッジの検出を行
うことが好ましい。
〜３は言わばエッジの特性の特徴に基づいて重み付けを
設定することになるものであったが、エッジの特性は必
ずしも一様ではない。そこで、実施例１〜３の方法で求
めれたエッジ評価値を組み合わせて、エッジの検出を行
うことが好ましい。
【００４９】そこで、本実施例では、実施例１と実施例
２とのエッジ評価値（以下、夫々のエッジ評価値を
Ｅ1 ，Ｅ2 と呼び）を用いて、新たなエッジ評価値（Ｅ
4 ）を演算し、これにより求めれたエッジ評価値Ｅ4 を
用いてエッジ検出を行うようにしてある（請求項１
１）。本実施例のエッジ検出方法を示すフローチャート
を図１９に示す。
２とのエッジ評価値（以下、夫々のエッジ評価値を
Ｅ1 ，Ｅ2 と呼び）を用いて、新たなエッジ評価値（Ｅ
4 ）を演算し、これにより求めれたエッジ評価値Ｅ4 を
用いてエッジ検出を行うようにしてある（請求項１
１）。本実施例のエッジ検出方法を示すフローチャート
を図１９に示す。
【００５０】具体的には、図２０のフローチャートに示
すように、検出対象エッジの特性により係数α，βを設
定し、その係数α，βを実施例１及び実施例２で求めら
れる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2 に乗じ、それを加算した
値（αＥ1 ＋βＥ2 ）を、本実施例のエッジ評価値Ｅ4
とすればよい（請求項１２）。そして、このエッジ評価
値Ｅ4 があるしきい値を越える画素をエッジとして検出
すればよい。
すように、検出対象エッジの特性により係数α，βを設
定し、その係数α，βを実施例１及び実施例２で求めら
れる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2 に乗じ、それを加算した
値（αＥ1 ＋βＥ2 ）を、本実施例のエッジ評価値Ｅ4
とすればよい（請求項１２）。そして、このエッジ評価
値Ｅ4 があるしきい値を越える画素をエッジとして検出
すればよい。
【００５１】（実施例５）本実施例は実施例１と実施例
３との組み合わせてエッジ検出を行うものであり、実施
例３により得られるエッジ候補点画像と、実施例１によ
り得られるエッジ評価値Ｅ1 とを用いてエッジ評価値Ｅ
5 を演算し、エッジの検出を行うもので、そのフローチ
ャートを図２１に示す。
３との組み合わせてエッジ検出を行うものであり、実施
例３により得られるエッジ候補点画像と、実施例１によ
り得られるエッジ評価値Ｅ1 とを用いてエッジ評価値Ｅ
5 を演算し、エッジの検出を行うもので、そのフローチ
ャートを図２１に示す。
【００５２】具体的には、実施例１により得られるエッ
ジ評価値Ｅ1 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例６）本実施例は実施例２と実施例３との組み合
わせてエッジ検出を行うものであり、実施例３により得
られるエッジ候補点画像と、実施例２により得られるエ
ッジ評価値Ｅ2 とを用いてエッジ評価値Ｅ6 を演算し、
エッジの検出を行うもので、そのフローチャートを図２
２に示す。
ジ評価値Ｅ1 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例６）本実施例は実施例２と実施例３との組み合
わせてエッジ検出を行うものであり、実施例３により得
られるエッジ候補点画像と、実施例２により得られるエ
ッジ評価値Ｅ2 とを用いてエッジ評価値Ｅ6 を演算し、
エッジの検出を行うもので、そのフローチャートを図２
２に示す。
【００５３】具体的には、実施例２により得られるエッ
ジ評価値Ｅ2 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例７）本実施例は実施例３と実施例４とを組み合
わせてエッジの検出を行うものである。本実施例では、
実施例４により得られるエッジ評価値Ｅ4 を画素値とす
る濃淡画像に、この濃淡画像の各画素に対応する位置に
ある実施例３で得られたエッジ候補点画像の画素値（エ
ッジ候補点の画素値を１、エッジ候補点以外の画素値を
０）を乗じ、各画素であるしきい値を越えたものをエッ
ジとして検出する。
ジ評価値Ｅ2 を画素値とする濃淡画像に、この濃淡画像
の各画素に対応する位置にある実施例３で得られたエッ
ジ候補点画像の画素値（エッジ候補点の画素値を１、エ
ッジ候補点以外の画素値を０）を乗じ、各画素であるし
きい値を越えたものをエッジとして検出する。 （実施例７）本実施例は実施例３と実施例４とを組み合
わせてエッジの検出を行うものである。本実施例では、
実施例４により得られるエッジ評価値Ｅ4 を画素値とす
る濃淡画像に、この濃淡画像の各画素に対応する位置に
ある実施例３で得られたエッジ候補点画像の画素値（エ
ッジ候補点の画素値を１、エッジ候補点以外の画素値を
０）を乗じ、各画素であるしきい値を越えたものをエッ
ジとして検出する。
【００５４】なお、本実施例の場合には、エッジ評価値
Ｅ4 が実施例１及び実施例２の組み合わせで求められる
ものであるから、実施例１乃至実施例３を総合的に用い
てエッジの検出を行うことになる。具体的には、エッジ
評価値Ｅ4 として、図２０のフローチャートで説明した
ように検出対象エッジの特性による係数α，βを実施例
１及び実施例２で求められる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2
に乗じ、それを加算した値（αＥ1 ＋βＥ2 ）（図２４
のフローチャートのＥ4 ’）を用いればよい。
Ｅ4 が実施例１及び実施例２の組み合わせで求められる
ものであるから、実施例１乃至実施例３を総合的に用い
てエッジの検出を行うことになる。具体的には、エッジ
評価値Ｅ4 として、図２０のフローチャートで説明した
ように検出対象エッジの特性による係数α，βを実施例
１及び実施例２で求められる各エッジ評価値Ｅ1 ，Ｅ2
に乗じ、それを加算した値（αＥ1 ＋βＥ2 ）（図２４
のフローチャートのＥ4 ’）を用いればよい。
【００５５】
【発明の効果】請求項１の発明は上述のように、濃度勾
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾配ベク
トル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベク
トル方向との一致度を示す係数とからエッジ評価値を演
算して、エッジ検出を行っているので、各画素の濃度勾
配ベクトルのエッジと直交する方向への揃い方、及びエ
ッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが相対的に大き
な画素が並ぶことから、エッジ検出を行うことができ
る。このエッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベ
クトルを用いエッジ検出を行っているので、つまりはあ
る程度大きな範囲内でエッジ検出を行っているので、局
所的なノイズの影響を受けにくくできる。また、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との関係により決
定される第１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出
しているので、上記第１の係数により認識対象領域に重
み付けを行い、認識対象領域と背景領域との濃度レベル
に明確な差を設けることができる。よって、エッジを安
定して検出することができる。
配ベクトル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目
画素を中心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾
配ベクトルの大きさと、着目画素における濃度勾配ベク
トル方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベク
トル方向との一致度を示す係数とからエッジ評価値を演
算して、エッジ検出を行っているので、各画素の濃度勾
配ベクトルのエッジと直交する方向への揃い方、及びエ
ッジの方向に濃度勾配ベクトルの大きさが相対的に大き
な画素が並ぶことから、エッジ検出を行うことができ
る。このエッジ検出において、複数の画素の濃度勾配ベ
クトルを用いエッジ検出を行っているので、つまりはあ
る程度大きな範囲内でエッジ検出を行っているので、局
所的なノイズの影響を受けにくくできる。また、着目画
素の濃度勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の
着目画素からの位置により決まる方向との関係により決
定される第１の係数を含めて、上記エッジ評価値を算出
しているので、上記第１の係数により認識対象領域に重
み付けを行い、認識対象領域と背景領域との濃度レベル
に明確な差を設けることができる。よって、エッジを安
定して検出することができる。
【００５６】請求項２の発明は上述のように、着目画素
の濃度勾配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内
に設定しているので、エッジと直交する方向に処理範囲
を設定し、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃度勾配が
小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわたる濃度
勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾配の緩や
かなエッジを検出することができる。つまりは、例えば
エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの大き
さを積分すると、その積分値はエッジ付近では大きな値
を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッジを
安定して検出することができる。
の濃度勾配ベクトルの方向に処理範囲を上記処理範囲内
に設定しているので、エッジと直交する方向に処理範囲
を設定し、濃度勾配のゆるやかで、局所的な濃度勾配が
小さいエッジでも、エッジと直交する方向にわたる濃度
勾配ベクトルの大きさを総合評価して、濃度勾配の緩や
かなエッジを検出することができる。つまりは、例えば
エッジと直交する方向にわたる濃度勾配ベクトルの大き
さを積分すると、その積分値はエッジ付近では大きな値
を示すので、これにより濃度勾配のゆるやかなエッジを
安定して検出することができる。
【００５７】請求項５の発明は上述のように、上記処理
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定しているので、主にエッジの方向に濃度勾配ベ
クトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことからエ
ッジを検出することができ、エッジの濃度勾配が急な場
合において、特に有効である。請求項８の発明は上述の
ように、濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素
とし、この着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度
勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画素を基準点と
して着目画素より正方向側にある画素に正の係数を付与
すると共に負方向側にある画素に負の係数を付与して求
めた第１の係数と、着目画素における濃度勾配ベクトル
方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベクトル
方向との一致度を示す第２の係数とからエッジ評価値を
演算し、エッジ評価値の符号が変化する画素をエッジ候
補点としてエッジ検出を行っているので、エッジを安定
して検出することができる。しかも、ある程度大きな範
囲内でエッジ検出を行っているので、局所的なノイズの
影響を受けにくくでき、エッジを安定して検出すること
ができる。
範囲を着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方
向に設定しているので、主にエッジの方向に濃度勾配ベ
クトルの大きさが相対的に大きな画素が並ぶことからエ
ッジを検出することができ、エッジの濃度勾配が急な場
合において、特に有効である。請求項８の発明は上述の
ように、濃度勾配ベクトル画像の各画素を順次着目画素
とし、この着目画素を中心とする特定の処理範囲内にあ
る画素の濃度勾配ベクトルの大きさと、着目画素の濃度
勾配ベクトルの方向を正方向とし、着目画素を基準点と
して着目画素より正方向側にある画素に正の係数を付与
すると共に負方向側にある画素に負の係数を付与して求
めた第１の係数と、着目画素における濃度勾配ベクトル
方向と処理範囲内にある画素における濃度勾配ベクトル
方向との一致度を示す第２の係数とからエッジ評価値を
演算し、エッジ評価値の符号が変化する画素をエッジ候
補点としてエッジ検出を行っているので、エッジを安定
して検出することができる。しかも、ある程度大きな範
囲内でエッジ検出を行っているので、局所的なノイズの
影響を受けにくくでき、エッジを安定して検出すること
ができる。
【００５８】請求項１１乃至請求項１６の発明では、上
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を行え、安定してエッジを検出することができる。
記各発明の組み合わせにより、さらに総合的なエッジ検
出を行え、安定してエッジを検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１のエッジ検出方法を示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図２】エッジ検出装置の構成を示すブロック図であ
る。
る。
【図３】局所空間微分を行うマスクの説明図である。
【図４】エッジ付近の濃度勾配ベクトルを示す説明図で
ある。
ある。
【図５】エッジ評価値を求める関数式の変数の説明図で
ある。
ある。
【図６】重み付けの具体方法を示すフローチャートであ
る。
る。
【図７】（ａ），（ｂ）は処理範囲内での処理範囲の設
定方法及びその重み付け方法の説明図である。
定方法及びその重み付け方法の説明図である。
【図８】図７に示すように処理範囲を設定し、重み付け
を行った場合のフローチャートである。
を行った場合のフローチャートである。
【図９】重み付けのために余弦関数を用いた場合のフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図１０】実施例２のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図１１】（ａ），（ｂ）は処理範囲内での処理範囲の
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
【図１２】図１１に示すように処理範囲を設定し、重み
付けを行った場合のフローチャートである。
付けを行った場合のフローチャートである。
【図１３】重み付けの具体方法を示すフローチャートで
ある。
ある。
【図１４】実施例３のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図１５】（ａ），（ｂ）は処理範囲内での処理範囲の
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
設定方法及びその重み付け方法の説明図である。
【図１６】零交差点を抽出するマスクの説明図である。
【図１７】図１５に示すように処理範囲を設定し、重み
付けを行った場合のフローチャートである。
付けを行った場合のフローチャートである。
【図１８】重み付けのために余弦関数を用いた場合のフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図１９】実施例４のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２０】同上のエッジ評価値の具体的な算出方法を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【図２１】実施例５のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２２】実施例６のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２３】実施例７のエッジ検出方法を示すフローチャ
ートである。
ートである。
【図２４】同上の具体的なエッジ評価値の算出方法を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【符号の説明】 １ 認識対象物体 ２ 撮像手段 ３ Ａ／Ｄ変換手段 ４ 局所空間微分手段 ５ エッジ評価値演算手段 ６ エッジ検出手段 １０ 画素 １０’ 着目画素 イ，イ’ 濃度勾配ベクトル ロ 処理範囲
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１３】
Claims (16)
- 【請求項１】 認識対象物体を撮像手段によって撮像
し、得られた濃淡画像を局所空間微分して濃度勾配ベク
トルを得て、この濃度勾配ベクトルの大きさと方向より
なる濃度勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾配ベクト
ル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目画素を中
心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾配ベクト
ルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向と処
理範囲内にある画素の着目画素からの位置により決まる
方向との関係により決定される第１の係数と、着目画素
における濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素
における濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す第２の
係数とからエッジ評価値を演算し、エッジ評価値を用い
てエッジ検出を行って成ることを特徴とするエッジ検出
方法。 - 【請求項２】 上記着目画素の濃度勾配ベクトルの方向
に処理範囲を設定し、上記濃度勾配ベクトルの大きさと
各係数とからエッジ評価値を演算して成ることを特徴と
する請求項１記載のエッジ検出方法。 - 【請求項３】 上記処理範囲を、着目画素を中心としこ
の着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に沿う矩形領域に
設定して成ることを特徴とする請求項２記載のエッジ検
出方法。 - 【請求項４】 上記第１の係数として、着目画素の濃度
勾配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素
からの位置により決まる方向との差の余弦関数の偶数乗
より求まる係数を用いて成ることを特徴とする請求項２
記載のエッジ検出方法。 - 【請求項５】 上記処理範囲を、着目画素の濃度勾配ベ
クトルの方向に直交する方向に設定して成ることを特徴
とする請求項１記載のエッジ検出方法。 - 【請求項６】 上記処理範囲を、着目画素を中心としこ
の着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に直交する方向に
矩形領域に設定して成ることを特徴とする請求項５記載
のエッジ検出方法。 - 【請求項７】 第１の係数として、着目画素の濃度勾配
ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素から
の位置により決まる方向との差の余弦関数の偶数乗より
求まる係数を用いて成ることを特徴とする請求項５記載
のエッジ検出方法。 - 【請求項８】 認識対象物体を撮像手段によって撮像
し、得られた濃淡画像を局所空間微分して濃度勾配ベク
トルを得て、この濃度勾配ベクトルの大きさと方向より
なる濃度勾配ベクトル画像を求め、この濃度勾配ベクト
ル画像の各画素を順次着目画素とし、この着目画素を中
心とする特定の処理範囲内にある画素の濃度勾配ベクト
ルの大きさと、着目画素の濃度勾配ベクトルの方向を正
方向とし、着目画素を基準点として着目画素より正方向
側にある画素に正の係数を付与すると共に負方向側にあ
る画素に負の係数を付与して求めた係数と、着目画素に
おける濃度勾配ベクトル方向と処理範囲内にある画素に
おける濃度勾配ベクトル方向との一致度を示す係数とか
らエッジ評価値を演算し、エッジ評価値の符号が変化す
る画素をエッジ候補点としてエッジ検出を行って成るこ
とを特徴とするエッジ検出方法。 - 【請求項９】 上記処理範囲を、着目画素を中心としこ
の着目画素の濃度勾配ベクトルの方向に沿う矩形領域に
設定して成ることを特徴とする請求項８記載のエッジ検
出方法。 - 【請求項１０】 第１の係数として、着目画素の濃度勾
配ベクトルの方向と処理範囲内にある画素の着目画素か
らの位置により決まる方向との差の余弦関数の奇数乗よ
り求まる係数を用いて成ることを特徴とする請求項８記
載のエッジ検出方法。 - 【請求項１１】 請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項５で得られるエッジ評価値とを用いてエッジを検
出して成ることを特徴とするエッジ検出方法。 - 【請求項１２】 請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項５で得られるエッジ評価値とに、エッジの特性に
より決まる係数を乗算した後に加算し、この加算値を大
きさを用いてエッジを検出して成ることを特徴とするエ
ッジ検出方法。 - 【請求項１３】 請求項２で得られるエッジ評価値と、
請求項８で得られるエッジ評価値とを用いてエッジを検
出して成ることを特徴とするエッジ検出方法。 - 【請求項１４】 請求項５で得られるエッジ評価値と、
請求項８で得られるエッジ評価値とを用いてエッジを検
出して成ることを特徴とするエッジ検出方法。 - 【請求項１５】 請求項８で得られるエッジ評価値と、
請求項１１で得られるエッジ評価値とを用いてエッジを
検出して成ることを特徴とするエッジ検出方法。 - 【請求項１６】 請求項５で得られるエッジ評価値と、
請求項１２で得られるエッジ評価値とを用いてエッジを
検出して成ることを特徴とするエッジ検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5032999A JP2859067B2 (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | エッジ検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5032999A JP2859067B2 (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | エッジ検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06241751A true JPH06241751A (ja) | 1994-09-02 |
| JP2859067B2 JP2859067B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=12374557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5032999A Expired - Fee Related JP2859067B2 (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | エッジ検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2859067B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010015392A (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Fanuc Ltd | 画像処理装置 |
| JP2010079414A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Nikon Corp | プログラム、カメラおよび画像の輪郭抽出方法 |
-
1993
- 1993-02-23 JP JP5032999A patent/JP2859067B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010015392A (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Fanuc Ltd | 画像処理装置 |
| JP2010079414A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Nikon Corp | プログラム、カメラおよび画像の輪郭抽出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2859067B2 (ja) | 1999-02-17 |
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