JPH06230207A - Formation of dispersing - type bragg reflector in optical medium - Google Patents

Formation of dispersing - type bragg reflector in optical medium

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JPH06230207A
JPH06230207A JP5345564A JP34556493A JPH06230207A JP H06230207 A JPH06230207 A JP H06230207A JP 5345564 A JP5345564 A JP 5345564A JP 34556493 A JP34556493 A JP 34556493A JP H06230207 A JPH06230207 A JP H06230207A
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Abstract

PURPOSE: To provide an improved method for forming a Bragg diffraction grating in a photosensitive light guide medium by exposing an interference pattern, formed by putting chemical ray beams on top of another. CONSTITUTION: When the Bragg diffraction grating is formed by conventional technology, the diffraction grating tends to show a reflection factor spectrum, having a series of subpeaks that are not desirable on the whole in addition to a center peak. These subpeaks are caused by interference effects of waves. This method corrects or removes the subpeaks by spatially varying the mean refractive index of the diffraction grating or spatially varying the diffraction grating cycles.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバのような光
導波部品の加工に関し、特に、化学線を使用して屈折率
を変えることによる、光導波部品に集積された受動光部
品の形成に関する。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to the fabrication of optical waveguide components such as optical fibers, and more particularly to the formation of passive optical components integrated in optical waveguide components by using actinic radiation to alter the index of refraction. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】一定の光媒体(少なくとも、幾つかのシ
リカ基本光ファイバを含む)は、適切なスペクトル領域
にある電磁波を照射することにより、性質を変えること
ができる。以下、このような放射線(代表的な場合は、
紫外線)を「化学」線という。感光性光ファイバ(また
は、他の光媒体)が化学線に露光されると、光媒体にお
いて露光された部分の屈折率が変わりうる。例えば、レ
ーザから出射された一対の実質的単色放射ビームを、例
えば、重合せることにより、周期パターンを入射光に重
ねることができる。
BACKGROUND OF THE INVENTION Certain optical media, including at least some silica-based optical fibers, can be altered in nature by irradiating them with electromagnetic waves in the proper spectral range. Below, such radiation (typically,
UV rays are called "chemical" rays. When a photosensitive optical fiber (or other optical medium) is exposed to actinic radiation, the refractive index of the exposed portion of the optical medium can change. For example, a pair of substantially monochromatic radiation beams emitted from a laser can be superimposed, for example by superimposing a periodic pattern on the incident light.

【0003】上記のようなパターン化された照射野が適
切な感光性のコアを有する光ファイバまたは他の光導波
路に入射した場合、対応パターンがコアの屈折率におけ
る周期的(または、準周期的)変動の形でコアに負荷さ
れる。上記パターン(「ブラッグ回折格子」または「分
散形ブラッグ反射器(DBR)」と言われることが多
い)は、電磁波のスペクトル選択形反射器として機能し
うる。上記の方法で形成されたブラッグ回折格子は、特
に、光ファイバレーザの終端反射器として有用である。
ブラッグ回折格子は、スペクトル選択性を有し、能動レ
ーザ媒体を支持する同一光ファイバに容易に組込まれる
ので、有用である。
When a patterned field as described above is incident on an optical fiber or other optical waveguide having a suitable photosensitive core, the corresponding pattern is periodic (or quasi-periodic) in the core's refractive index. ) The core is loaded in the form of fluctuations. The above pattern (often referred to as a "Bragg grating" or "dispersive Bragg reflector (DBR)") can function as a spectrally selective reflector for electromagnetic waves. The Bragg diffraction grating formed by the above method is particularly useful as a terminal reflector of an optical fiber laser.
Bragg gratings are useful because they have spectral selectivity and are easily incorporated into the same optical fiber that supports the active laser medium.

【0004】ブラッグ回折格子を形成するための技術
は、1988年2月16日付でダブリュー・エッチ・グ
レン(W.H.Glenn)その他に発行された米国特許第
4,725,110号と1989年2月28日付でダブ
リュー・エッチ・グレンその他に発行された米国特許第
4,807,950号に記載されている。分散形フラッ
グ反射器終端空洞を有する光ファイバレーザは、光学レ
ター17(1992)、420〜422頁に掲載され
た、ジィー・エイ・ボール(G.A.Ball)とダブリ
ュー・ダブリュー・モーレー(W.W.Morey)の論文
「連続チューナブル単一モードエルビウムファイバレー
ザ」に記載されている。
Techniques for forming Bragg gratings are described in US Pat. Nos. 4,725,110 and 1989, issued to W. H. Glenn et al. On February 16, 1988. It is described in U.S. Pat. No. 4,807,950 issued February 28 to W. Et. Glenn et al. Fiber optic lasers with distributed flag reflector termination cavities are described in Optical Letter 17 (1992), pages 420-422, G.A. Ball and W. W. Morley (W. W. Morey), "Continuous Tunable Single-Mode Erbium Fiber Laser".

【0005】ブラッグ回折格子は、ファイバレーザ内の
終端反射器のほかの用途のための受動光部品として有用
である。光ファイバ内に形成されたブラッグ回折格子か
らなる光学フィルタが1991年4月16日付でダブリ
ュー・ダブリュー・モーレーその他に発行された米国特
許第5,007,705号に記載されている。
Bragg gratings are useful as passive optical components for other end reflector applications in fiber lasers. An optical filter consisting of a Bragg grating formed in an optical fiber is described in U.S. Pat. No. 5,007,705 issued to W. W. Moray et al. On April 16, 1991.

【0006】発明者等は、1対の交差したレーザビーム
が光学フィルタ内のブラッグ回折格子を形成するのに使
用されたときは、この回折格子が全体として望ましい一
定の光学特性を発揮しうることを観察している。具体的
には、回折格子の反射率スペクトルは、1個以上の比較
的鋭い副ピーク、または、これらの副ピークの規則的離
間列を中央ピークの一方側(一般的に、短波長側)に示
すことがある。これらの副ピークを微細構造という。こ
の微細構造は、例えば、レーザの出力波長がブラッグ回
折格子の中央ピークに固定されるフィードバック安定化
システムにおいて好ましくない。回折格子が副ピークを
有するときは、レーザの波長調整が環境外乱に応答して
副ピークの方へ偏移することができる。したがって、微
細構造があれば、上記のようなレーザシステムは、環境
外乱に対してロバスト性が低くなることがある。
The inventors have found that when a pair of intersecting laser beams is used to form a Bragg grating in an optical filter, the grating can exhibit certain desirable optical properties as a whole. Are observing. Specifically, the reflectance spectrum of the diffraction grating has one or more relatively sharp sub-peaks or a regularly spaced row of these sub-peaks on one side of the central peak (generally on the short wavelength side). May be shown. These sub-peaks are called fine structure. This fine structure is not desirable, for example, in a feedback stabilization system where the output wavelength of the laser is fixed at the central peak of the Bragg grating. When the grating has sub-peaks, the wavelength tuning of the laser can shift towards the sub-peaks in response to environmental disturbances. Therefore, with a fine structure, such a laser system may be less robust against environmental disturbances.

【0007】説明のため、図1は、光ファイバに形成さ
れた代表的ブラッグ回折格子の透過率スペクトルの実験
測定値を示す。損失がなければ、透過率と反射率との和
は、100%である。透過率スペクトルは、幅広の主ピ
ークと一連の副ピーク15とを含む。
For purposes of explanation, FIG. 1 shows experimental measurements of the transmittance spectrum of a typical Bragg grating formed in an optical fiber. Without loss, the sum of transmittance and reflectance is 100%. The transmittance spectrum contains a broad main peak and a series of minor peaks 15.

【0008】本発明者等は、この微細側波帯が回折格子
域内の屈折率の平均軸方向プロファイルに関係する干渉
効果に起因すると考える。「軸」方向という語は、回折
格子内の電磁波の進行方向を意味する。すなわち、回折
格子域内のファイバ(または、他の導波媒体)の屈折率
は、通常、この屈折率と無露光ファイバの屈折率との差
を表わす摂動δ(Z)と軸方向(すなわち、Z方向)の
摂動の変動として記載される。摂動は、摂動を生じた干
渉パターン内の連続した明暗縞に歩調を合せて周期的に
変動する。
The inventors believe that the fine sidebands are due to interference effects related to the average axial profile of the refractive index within the diffraction grating region. The term "axial" direction means the direction of travel of electromagnetic waves in the diffraction grating. That is, the index of refraction of the fiber (or other waveguiding medium) in the grating region is typically the perturbation δ (Z), which represents the difference between this index and the index of the unexposed fiber, and the axial direction (ie, Z). Direction) perturbation variation. The perturbation varies periodically in step with the continuous light and dark stripes in the perturbed interference pattern.

【0009】しかし、干渉性ビームのそれぞれは、ビー
ムの進行方向に対して垂直な面内で空間的に変動する強
度プロファイルを有する。このプロファイルは、代表的
な場合、ガウス分布形である。干渉性ビームの強度プロ
ファイルは、ブラッグ回折格子の空間的拡がりを定め、
周期的屈折率摂動の振幅を変調する。結果として、摂動
δ(Z)は、一般的に、包絡線(代表的な場合、ガウス
分布形)で囲まれた周期的ピーク列の形をとる。この包
絡線は、回折格子の中央、または、この近傍で最大とな
り、回折格子の終端で0となる。摂動が回折格子周期よ
りかなり大きい軸方向距離に亘って(例えば、10個以
上の周期に亘って)平均されたときは、平均摂動は、当
然、上記包絡線と同一形状となる。
However, each coherent beam has a spatially varying intensity profile in a plane perpendicular to the direction of travel of the beam. This profile is typically Gaussian. The intensity profile of the coherent beam defines the spatial spread of the Bragg grating,
Modulates the amplitude of the periodic index perturbation. As a result, the perturbation δ (Z) generally takes the form of a series of periodic peaks surrounded by an envelope (typically a Gaussian form). This envelope becomes maximum at or near the center of the diffraction grating and becomes 0 at the end of the diffraction grating. When the perturbations are averaged over an axial distance that is significantly larger than the grating period (eg, over 10 periods), the average perturbation will, of course, be of the same shape as the envelope.

【0010】この様な包絡線が存在することは、周知で
ある。事実として、例えば、矩形を有する包絡線が生じ
た反射スペクトル内にサイドローブを生じることができ
ることは、周知である(ベルシステム技術ジャーナル5
5(1976)の109〜126頁に掲載された、例え
ば、エッチ・コゲルニック(H.Kogelnik)の論文
「非一様概周期構造のフィルタ応答」参照)。しかし、
この結果の基本的理由は、回折格子が有限の空間的範囲
を有することである。これに比較して、上記微細構造
は、空間的平均摂動の結果である。この平均摂動は、一
定の点で(回折格子の急速変化(すなわち、「線」)と
別の物理的意味を有する)「暗」摂動として有効であ
る。これまで、スペクトル構造の平均摂動の効果に関す
る十分な議論は、関連技術文献には現れていない。特
に、当業者は、生じた微細構造を緩和する(または、改
良する)ための可能な技術に注意を向けて来なかった。
The existence of such an envelope is well known. In fact, it is well known that side lobes can be produced in the reflection spectrum, for example an envelope having a rectangle (Bellsystem Technical Journal 5).
5 (1976), pp. 109-126, see, for example, H. Kogelnik's paper "Filter Response of Non-Uniform Approximate Periodic Structures". But,
The basic reason for this result is that the grating has a finite spatial extent. In comparison, the fine structure is the result of spatial mean perturbation. This mean perturbation is effective at certain points as a "dark" perturbation (which has a different physical meaning than the rapid change of the grating (ie, "line")). To date, no sufficient discussion of the effects of average perturbations on the spectral structure has appeared in the relevant technical literature. In particular, those skilled in the art have not paid attention to possible techniques for mitigating (or improving) the resulting microstructure.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ブラッグ回折格子が従
来技術により形成されたとき、この回折格子は、中央ピ
ークのほかに、全体として望ましくない一連の副ピーク
を有する反射率スペクトルを示す傾向がある。これらの
副ピークは、波の干渉効果により引起される。本発明
は、副ピークを修正し、または、取除いて、感光性光導
波媒体内にブラッグ回折格子を形成する改良された方法
を提供する。
When a Bragg grating is formed according to the prior art, it tends to exhibit a reflectance spectrum with a central peak as well as an overall undesirable series of sub-peaks. . These sub-peaks are caused by the wave interference effect. The present invention provides an improved method of modifying or removing sub-peaks to form a Bragg grating in a photosensitive optical waveguide medium.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、コンピュ
ータシュミレーションにより、平均屈折率摂動δave
(Z)のプロファイルがブラッグ回折格子の或る部分に
おいてパルスに近似した形を取るときは、回折格子が一
定波長の光に対して共振空洞として機能しうることを証
明するのに成功した。明細書中、「光」という語は、電
磁波スペクトルの紫外領域、可視領域、および赤外領域
の放射を指すのに使用される。(ファブリーペロー共振
に類似した)共振空洞内の干渉が本発明者等が実験室の
実験で観察した側波帯(すなわち、微細構造)の主要因
である。本発明者等は、上記微細構造を和らげる(また
は、改良する)方法を発見した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted an average refractive index perturbation δ ave by computer simulation.
When the (Z) profile takes a pulse-like form in some part of the Bragg grating, it has been successfully demonstrated that the grating can act as a resonant cavity for light of a certain wavelength. In the specification, the term "light" is used to refer to radiation in the ultraviolet, visible and infrared regions of the electromagnetic spectrum. Interference in the resonant cavity (similar to Fabry-Perot resonance) is the main cause of the sidebands (ie, microstructure) that we have observed in laboratory experiments. The inventors have discovered a method of softening (or improving) the above microstructure.

【0013】したがって、発明の一実施態様は、感光性
光媒体内にブラッグ回折格子(分散形ブラッグ反射器と
も言う)を形成する方法に関係する。分散形フラッグ反
射器は、測定可能な振幅を有する主ピークを含む反射率
スペクトルを示す。分散形フラッグ反射器は、屈折率が
初期屈折率と少なくとも最初の(空間周期性または準空
間周期性の)屈折率摂動との和である物体の物質領域か
らなる。準周期性回折格子の範例は、周期が位置により
変動する格子(すなわち、いわゆる「線形チャープ形」
回折格子)である。この和は、少なくとも1個の真空ブ
ラッグ波長(すなわち、分散形フラッグ反射器の少なく
とも一部においてブラッグ条件を満足する電磁波の真空
波長)を有し、結果として、分散形フラッグ反射器によ
り比較的強く反射される。
Accordingly, one embodiment of the invention relates to a method of forming a Bragg grating (also referred to as a distributed Bragg reflector) in a photosensitive optical medium. The dispersive flag reflector exhibits a reflectance spectrum that includes a main peak with a measurable amplitude. A distributed flag reflector consists of a material region of an object whose index of refraction is the sum of the initial index and at least the first (spatial or quasi-spatial) index perturbation. An example of a quasi-periodic diffraction grating is a grating whose period varies with position (ie, the so-called "linear chirp shape").
Diffraction grating). This sum has at least one vacuum Bragg wavelength (ie, the vacuum wavelength of the electromagnetic wave that satisfies the Bragg condition in at least a portion of the dispersive flag reflector) and, as a result, is relatively stronger than the dispersive flag reflector. Is reflected.

【0014】本発明の方法は、化学線波長を有する電磁
波の2本の非共線ビームを生ずるステップを含む。これ
らのビームのそれぞれは、典型的な場合、横断面におい
て、ガウス強度プロファイルを有する。さらに一般的に
言えば、各ビーム径方向に、少なくとも1つの上昇部と
少なくとも1つの下降部とを含む強度プロファイルを有
する。上記2本のビームは、媒体の少なくとも一部に入
射し、干渉パターンは、上記入射部に形成され、この入
射部で第1摂動となる。
The method of the present invention comprises the step of producing two non-collinear beams of electromagnetic waves having actinic wavelengths. Each of these beams typically has a Gaussian intensity profile in cross section. More generally speaking, each beam radial direction has an intensity profile including at least one rising portion and at least one falling portion. The two beams are incident on at least a part of the medium, and the interference pattern is formed on the incident part, where the first perturbation occurs.

【0015】この化学線露光の結果、入射部は、初期屈
折率と第1摂動との和を取ることにより、および、この
和を少なくとも10個の分散形フラッグ反射器周期また
は準周期に亘って空間的に平均することにより定義され
る暗屈折率を持つことになる。一般的に、暗屈折率は、
ビーム強度プロファイルの上昇部と下降部とに対応する
上昇部と下降部とを有するように、上記入射部方向の位
置によって一部変化する。入射部のいずれの点において
も、真空ブラッグ波長は、一般的に、当該点の暗屈折率
による。
As a result of this actinic radiation exposure, the entrance portion takes the sum of the initial index of refraction and the first perturbation, and this sum is applied over at least 10 dispersed flag reflector periods or quasi-periods. It will have a dark refractive index defined by spatial averaging. Generally, the dark refractive index is
The beam intensity profile is partially changed depending on the position in the incident portion direction so as to have an ascending part and a descending part corresponding to the ascending part and the descending part. The vacuum Bragg wavelength at any point of the entrance is generally due to the dark index of refraction at that point.

【0016】上記入射部は、一般的に、暗屈折率が第1
端において上昇し第2端において下降する第1端と第2
端とを有する少なくとも1個の区間(「共振区間」とい
う)を含む。各共振区間は、さらに、上述した第1摂動
以外の屈折率がなければ、第1端と第2端とにおいてブ
ラッグ条件を満足する少なくとも1つの電磁波真空波長
が存在し、第1端と第2端との間の領域においては、ブ
ラッグ条件を満足しない各特性を有する。一般的に、共
振区間は、分散形フラッグ反射器の反射スペクトルに対
して副ピークを与える。
The incident portion generally has a dark refractive index of the first
The first end and the second end that rise at the end and fall at the second end
And at least one section having an end (referred to as a "resonance section"). In each resonance section, if there is no refractive index other than the above-mentioned first perturbation, there is at least one electromagnetic wave vacuum wavelength satisfying the Bragg condition at the first end and the second end, and the first end and the second end. In the region between the edges, each property does not satisfy the Bragg condition. Generally, the resonant section gives a sub-peak to the reflection spectrum of the distributed flag reflector.

【0017】従来技術の方法と比較して、本発明の一実
施態様にかかる方法は、入射ステップの前または後に、
副ピークが修正されるように、入射部の少なくとも一部
に第2屈折率摂動を生じる。本発明の他の実施態様によ
れば、副ピークは、抑制され、または、改良される。
Compared to the prior art method, the method according to one embodiment of the invention is
A second index perturbation occurs in at least a portion of the entrance such that the sub-peak is modified. According to another embodiment of the present invention, sub-peaks are suppressed or improved.

【0018】本発明の他の実施態様は、第2摂動ステッ
プの代りとなる、または、追加されるステップを含む。
この実施態様は、副ピークが抑制され、または、改良さ
れるように、入射ステップ中に、軸方向位置によって摂
動周期を変化させるステップを含む。
Other embodiments of the present invention include steps that replace or add to the second perturbation step.
This embodiment includes varying the perturbation period with the axial position during the injection step so that the sub-peaks are suppressed or improved.

【0019】[0019]

【実施例】本発明者等は、1個の平行移動可能なミラー
の平行移動により、その位置合せ精度を維持しつつ、干
渉パターンの位置をファイバに沿って変えうる構造を有
する走査形干渉計を用いて、干渉パターンを作成するこ
とが有利であることを発見した。結果として、ファイバ
は、複数個のブラッグ回折格子の形成につながるそれぞ
れの露光ステップの間、任意に固定したままであること
ができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present inventors have developed a scanning interferometer having a structure in which the position of an interference pattern can be changed along a fiber while maintaining its alignment accuracy by parallel movement of a single movable mirror. We have found that it is advantageous to create an interference pattern using. As a result, the fiber can optionally remain fixed during each exposure step leading to the formation of multiple Bragg gratings.

【0020】このような干渉計の一例は、1978年7
月6日付でジィー・シィー・ビョルクルンド(C.C.
Bjorklund)に発行された米国特許第4,093,33
8号に記載されている。この干渉計の光学的構成は、図
12に示されている。このような光学的構成は、レーザ
光源80、平行移動自在のミラー85、回転自在のミラ
ー120、および、ミラー90,100および110を
含む。干渉性ビームは、感光性光媒体130(一例とし
て、光ファイバ)で集束する。干渉パターンは、(その
位相に影響を与えることなく)ミラー85を平行移動す
ることにより、ファイバに沿って位置を変えることがで
きる。
An example of such an interferometer is shown in July 1978.
On the 6th day of the month, Zee Björklund (CC
Bjorklund) issued U.S. Pat. No. 4,093,33
No. 8. The optical configuration of this interferometer is shown in FIG. Such an optical configuration includes a laser light source 80, a translatable mirror 85, a rotatable mirror 120, and mirrors 90, 100 and 110. The coherent beam is focused on a photosensitive optical medium 130 (as an example, an optical fiber). The interference pattern can be repositioned along the fiber by translating the mirror 85 (without affecting its phase).

【0021】一般的に、干渉パターンの周期性は、複数
本の干渉性ビームの交差角φを調整することにより、変
更しうる。この例の干渉計によれば、この周期性の変更
は、上記干渉性ビーム間の光路長差を変更することな
く、ミラー120を回転することにより達成すれる。2
個以上の回折格子からなる列は、ミラー85を平行移動
させ、ついで、1本のファイバの新しい部分を露光する
ことにより、この光ファイバに容易に形成される。
In general, the periodicity of the interference pattern can be changed by adjusting the crossing angle φ of the coherent beams. According to the interferometer of this example, the change of the periodicity is achieved by rotating the mirror 120 without changing the optical path length difference between the coherent beams. Two
An array of one or more diffraction gratings is easily formed in this optical fiber by translating the mirror 85 and then exposing a new portion of the fiber.

【0022】ブラッグ回折格子を製作する好適な方法に
よれば、ファイバは、まず、露光しようとする領域が真
直ぐになるのを保証するため、定位置に狭持される。フ
ァイバは、有効放射線(典型的には、紫外線)露光され
る。種々の適切な紫外線源が利用可能であり、当業者に
は公知である。
According to the preferred method of making a Bragg grating, the fiber is first clamped in place to ensure that the area to be exposed is straight. The fiber is exposed to effective radiation (typically ultraviolet). A variety of suitable UV sources are available and known to those of ordinary skill in the art.

【0023】説明すれば、本発明者等は、約245nm
で発光するエキシマ励起、周波数2倍チューナブル色素
レーザが適切な露光源であることを発見した。本発明者
等は、このような露光源の使用について、ディー・ジェ
イ・ディギオバンニ(D.J.DiGiovanni)その他に
より1992年5月5日に出願された米国特許庁に係属
中の米国特許願第07/878791号に記載してい
る。
To explain, the present inventors have found that the wavelength is about 245 nm.
It was discovered that an excimer-excited, frequency-doubled tunable dye laser, which emits at, is a suitable exposure source. The inventors of the present invention filed U.S. patent application pending on May 5, 1992 filed by D. J. DiGiovanni et al. On the use of such an exposure source. 07/878791.

【0024】この米国特許出願に詳述されているよう
に、上記露光源は、高濃度エルビウムドープおよびシリ
カ基本光ファイバ内に回折格子を製作するのに有用であ
る。これらのファイバは、典型的な場合、毎秒20パル
スの繰返し率で2mJのパルスに露光される。円柱レン
ズは、レーザ光を0.5cm長および100〜200μ
m幅の帯域に集束させる。典型的な露光は、約30秒間
持続する。この方法により、ブラッグ回折格子は、約
0.5μmの一定周期で容易に形成される。
As detailed in this US patent application, the exposure source is useful for fabricating diffraction gratings in heavily erbium-doped and silica-based optical fibers. These fibers are typically exposed to 2 mJ pulses at a repetition rate of 20 pulses per second. The cylindrical lens has a laser beam of 0.5 cm in length and 100 to 200 μm.
Focus on a band of m width. A typical exposure lasts about 30 seconds. By this method, the Bragg diffraction grating is easily formed with a constant period of about 0.5 μm.

【0025】上述したレーザ露光源の強度プロファイル
の形状は、近似ガウス分布である。結果として、生じた
ブラッグ回折格子内の屈折率摂動は、近似ガウス分布の
包絡線により変調された周期を有する波として出現す
る。数多くの周期に亘って平均された摂動は、当然、上
記包絡線とほぼ同一形状を有する。上記周期を有する波
の出現は、少なくとも部分的にパルス形である包絡線の
例である。
The shape of the intensity profile of the laser exposure source described above has an approximate Gaussian distribution. As a result, the refractive index perturbations in the resulting Bragg grating appear as waves with a period modulated by the envelope of an approximate Gaussian distribution. Perturbations averaged over a number of periods, of course, have almost the same shape as the envelope. The appearance of waves with the above period is an example of an envelope that is at least partially pulsed.

【0026】「パルス形状」という語には、軸方向位置
が回折格子の或る連続区間に沿って増大するにつれて、
コアの屈折率が最大値を取り、ついで、低い値になると
いうことを意味する。
The term "pulse shape" refers to as the axial position increases along a continuous section of the grating.
It means that the refractive index of the core takes a maximum value and then a low value.

【0027】微細構造も、負のパルス形包絡線(すなわ
ち、中央近傍で、最大値でなく、最小値となる包絡線)
を有する回折格子により形成される。このような回折格
子は、非定型であるが、これらの非定型回折格子もパル
ス形包絡線を有する回折格子の定義に含まれるとする。
The fine structure also has a negative pulse-shaped envelope (that is, an envelope having a minimum value, not a maximum value, near the center).
Is formed by a diffraction grating having. Such diffraction gratings are atypical, but these atypical diffraction gratings are also included in the definition of a diffraction grating having a pulse-shaped envelope.

【0029】本発明者等は、定性的方法で、パルス形摂
動の共振挙動を説明する助けとなる簡単な概念的モデル
を発見した。このモデルについて、図2を参照して説明
する。ブラッグ回折格子の中央ピーク近傍の一定の複数
の波長に対して、回折格子内の平均屈折率(すなわち、
数多くの(例えば、10個の)回折格子周期について平
均された屈折率は、それぞれn1 ,n2 およびn3 (た
だし、ほぼn1 =n3,n1 <n2 >n3 )の屈折率を
有する3個の矩形パルスとして表わされる。各パルス内
を進行する光の波長λは、以下の数式(1)により対応
する真空波長λvac と関係づけられる。
The inventors have discovered, in a qualitative way, a simple conceptual model that helps explain the resonant behavior of pulse-shaped perturbations. This model will be described with reference to FIG. The average refractive index in the grating (ie,
The indices of refraction averaged over a large number (eg, 10) of grating periods are n 1 , n 2 and n 3 (where approximately n 1 = n 3 , n 1 <n 2 > n 3 ) refraction, respectively. It is represented as three rectangular pulses with a rate. The wavelength λ of the light traveling in each pulse is related to the corresponding vacuum wavelength λvac according to equation (1) below.

【0030】[0030]

【数1】 [Equation 1]

【0031】数式中、nは、相対屈折率である。In the equation, n is a relative refractive index.

【0032】回折格子の主反射率ピークの中央近傍の複
数の波長について、ブラッグ条件は、平均屈折率プロフ
ァイルの中央部において(すなわち、第2パルスにおい
て)満足される。しかし、第1パルスとに第3パルスと
において、幾つかの波長は、ブラッグ条件を満足する
が、中央のパルスにおいて、ブラッグ条件を満足しな
い。結果として、これらの波長を有する電磁波は、第1
パルスおよび第3パルスにおいて反射される。これに比
して、第2パルス内においては、上記電磁波は、自由に
進行し、反射しない。また、この電磁波の少なくとも一
部は、2個の反射的端パルス間に閉じ込められる。これ
により、ファブリーペロー空洞が形成される。この様な
回折格子の反射率スペクトルは、一般的に、主反射率ピ
ークの中央より短い波長に存在する微細構造を示す。こ
の微細構造のピークは、ファブリーペロー空洞内の定在
波に対応する。
For wavelengths near the center of the main reflectance peak of the diffraction grating, the Bragg condition is satisfied at the center of the average refractive index profile (ie at the second pulse). However, some wavelengths in the first pulse and the third pulse satisfy the Bragg condition, but do not satisfy the Bragg condition in the central pulse. As a result, electromagnetic waves with these wavelengths are
It is reflected in the pulse and the third pulse. On the other hand, in the second pulse, the electromagnetic wave travels freely and is not reflected. Also, at least a portion of this electromagnetic wave is trapped between the two reflective edge pulses. This creates a Fabry-Perot cavity. The reflectance spectrum of such a diffraction grating generally shows a fine structure present at a wavelength shorter than the center of the main reflectance peak. This fine structure peak corresponds to the standing wave in the Fabry-Perot cavity.

【0033】さらに詳細な分析によれば、ブラッグ回折
格子は、設計波長λ0 を有する。この設計波長は、与え
られた周期と無摂動コア材料の平均屈折率と等しい平均
屈折率n0 とを有する理想回折格子のピーク反射率の真
空波長である。干渉性ビームに対する回折格子の露光の
強度と持続時間とが増大するにつれて、摂動は、回折格
子の周期を変えることなく、増大する。この結果、ピー
ク真空波長は、λ0 から他の波長へ変更される。λ0
は、以下の数式で与えられる。
According to a more detailed analysis, the Bragg grating has a design wavelength λ 0. This design wavelength is the vacuum wavelength of the peak reflectivity of an ideal diffraction grating with a given period and an average index of refraction no equal to the average index of the unperturbed core material. As the intensity and duration of exposure of the grating to the coherent beam increases, the perturbation increases without changing the period of the grating. As a result, the peak vacuum wavelength is changed from .lambda.0 to another wavelength. λ0
Is given by the following formula.

【0034】[0034]

【数2】 [Equation 2]

【0035】一般的に、露光を増大すれば、屈折率が増
大するので、この離調は、一般的に、より長い真空波長
の方へ向かう。干渉性ビームの強度プロファイルのため
に、この効果は、一般的に、回折格子内で軸方向位置に
よって変化する。
This detuning is generally towards longer vacuum wavelengths, as increasing exposure generally increases the index of refraction. Due to the intensity profile of the coherent beam, this effect generally varies with axial position within the diffraction grating.

【0036】理想回折格子は、回折格子全体に亘って、
波長λ0 について反射的である。これを換言すれば、波
長λ0 の光は、回折格子の全長に亘ってエバネッセント
成分を有するということである。ここで、回折格子は、
端においてよりも中央において長く、離調がないと仮定
する。この場合、波長λ0 より若干長いか、または、短
い真空波長は、回折格子が最強となる回折格子の中央部
においてのみエバネッセントとなる。この状況が図3に
示されている。
The ideal diffraction grating is
It is reflective about the wavelength λ 0. In other words, the light of wavelength λ0 has an evanescent component over the entire length of the diffraction grating. Here, the diffraction grating is
Suppose there is no detuning, longer in the center than at the edges. In this case, the vacuum wavelength slightly longer or shorter than the wavelength λ 0 becomes evanescent only in the central portion of the diffraction grating where the diffraction grating becomes the strongest. This situation is shown in FIG.

【0037】与えられた真空波長の波長λ0 からの偏差
は、図中、Δを付された縦軸方向に測定される。軸方向
座標は、Zを付される。図中、陰影付領域として現れて
いる部分は、ブラッグ条件が満足されるすべての点
(Z,Δ)の軌跡である。回折格子のどの部分が与えら
れた真空波長に対して反射的であるかを決定するため、
水平線が対応するΔ値で引かれる。陰影領域とこの水平
線との交差部がZ軸に投影される。この投影は、回折格
子の反射部の軸方向長さを定める。
The deviation of the given vacuum wavelength from the wavelength λ 0 is measured in the direction of the vertical axis labeled Δ in the figure. The axial coordinates are labeled Z. In the figure, a portion appearing as a shaded area is a locus of all points (Z, Δ) satisfying the Bragg condition. To determine which part of the grating is reflective for a given vacuum wavelength,
A horizontal line is drawn with the corresponding Δ value. The intersection of the shaded area and this horizon is projected on the Z axis. This projection defines the axial length of the reflector of the diffraction grating.

【0038】離調の効果は、図4に関連して詳述され
る。通常通り、回折格子の離調は、真空波長の長い方へ
向うと仮定する。いま、回折格子は、波長λ0 より長井
波長に対して最も効果的であるから、離調により、陰影
領域全体は、長い波長側へ移動し、主反射率ピークは、
波長λ0 からこれより長い真空波長λ1 の方へ移動す
る。しかし、全ての干渉性ビームがパルス形プロファイ
ルを有するときは、離調は、回折格子の両端でよりも中
央において強くなる。これにより、陰影領域の中央部2
0は、両端部25より多く移動される。この結果、回折
格子において、弱いが離調の小さい端部により反射され
るが、強いが離調の大きい中央部によって反射されない
λ1 より短い波長の範囲が存在しうる。
The effect of detuning is described in detail in connection with FIG. As usual, the detuning of the grating is assumed to be towards the longer vacuum wavelength. Now, since the diffraction grating is most effective for the Nagai wavelength rather than the wavelength λ0, the entire shadow area moves to the longer wavelength side due to detuning, and the main reflectance peak is
It moves from the wavelength λ0 to the longer vacuum wavelength λ1. However, when all coherent beams have a pulsed profile, the detuning is stronger in the center than at the ends of the grating. As a result, the central portion 2 of the shaded area
0 is moved more than both ends 25. As a result, in the diffraction grating, there may be a range of wavelengths shorter than λ1 that is reflected by the weak but less detuned ends, but not by the strong but detuned central part.

【0039】これらの波長に関して、中央部は、上述し
た概念的モデルの中央パルスに類似して、共振空洞によ
うにふるまう。同一のアナロジーによれば、反射端部2
5(以下、「翼」という)は、中央パルスの両側境界と
なる2個のパルスに対応する。この状況が図5に示され
ている。
With respect to these wavelengths, the central part behaves like a resonant cavity, similar to the central pulse of the conceptual model described above. According to the same analogy, the reflective end 2
5 (hereinafter, referred to as “wing”) corresponds to two pulses that are both side boundaries of the central pulse. This situation is shown in FIG.

【0040】上述したように、回折格子の一部の離調
は、この一部の屈折率修正放射線への露光を増大するこ
とにより増大しうる。離調が増大するにつれて、図4の
陰影領域の対応部分は、長波長側へ移動する。共振空洞
が、もはや、光を反射しない(反射しないとすれば、回
折格子の中央部で共振する)ように、共振空洞が両翼2
5の少なくとも一方を長波長側へ移動させることにより
避けられうることは、図から明らかである。この移動
は、化学線ビームを1本の非干渉性ビームから回折格子
へ入射させることにより、容易に行われうる。この屈折
率修正ビームは回折格子の中央から変位される。このよ
うな処理から生じた微細構造の変化は、容易に観察さ
れ、処理中においても監視されうる。上記処理は、微細
構造が許容水準まで低下したとき、終了しうる。
As mentioned above, the detuning of a portion of the grating can be increased by increasing the exposure of this portion to the index modifying radiation. As the detuning increases, the corresponding part of the shaded area in FIG. 4 moves to the long wavelength side. The resonant cavity does not reflect light anymore (if it does not, it resonates at the center of the diffraction grating), so that the resonant cavity has two wings 2
It is clear from the figure that it can be avoided by moving at least one of 5 to the long wavelength side. This movement can be easily performed by injecting the actinic ray beam from one incoherent beam into the diffraction grating. This index-correcting beam is displaced from the center of the diffraction grating. The microstructural changes resulting from such processing are easily observed and can be monitored during processing. The above process can be terminated when the microstructure is reduced to an acceptable level.

【0041】非干渉性屈折率修正露光の一例が図5〜図
8に示されている。無修正回折格子は、図1に示された
スペクトルを(コンピュータシュミレーションにより)
生じた回折格子である。この回折格子は、1557.4
5nmの設計波長と、化学線露光による0.08%のピ
ーク屈折率変化と、1.75nmの最大値の1/2にお
いて、全幅とを有する。上記回折格子は、1.45の被
覆部屈折率を有する無損失光ファイバ内に形成される。
図5は、無修正回折格子の屈折率プロファイルを示す。
屈折率は、上記の通り、対応する真空ブラッグ波長に換
算して表わされる。図中、曲線30は、空間的に平均さ
れた屈折率を表わし、曲線35と40とは、それぞれ、
回折格子内で反射される最長波長と最短波長とを表わ
す。
An example of a non-coherent refractive index modified exposure is shown in FIGS. The uncorrected diffraction grating has the spectrum shown in FIG. 1 (by computer simulation).
The resulting diffraction grating. This diffraction grating is 1557.4.
It has a design wavelength of 5 nm, a peak refractive index change of 0.08% due to actinic radiation and a full width at 1/2 of the maximum value of 1.75 nm. The diffraction grating is formed in a lossless optical fiber having a cladding index of 1.45.
FIG. 5 shows the refractive index profile of an unmodified diffraction grating.
The refractive index is expressed in terms of the corresponding vacuum Bragg wavelength, as described above. In the figure, curve 30 represents the spatially averaged refractive index, and curves 35 and 40 respectively represent
It represents the longest wavelength and the shortest wavelength reflected in the diffraction grating.

【0042】図6により、屈折率修正露光を説明する。
化学線ビームは、無修正回折格子と同一空間範囲を有す
るガウス分布プロファイルを有する。屈折率修正ビーム
の中央は、図5に示されたプロファイルがそのピーク値
のe-2倍に低下する位置までずらされる。図7に示され
た(シュミレーションによる)ビームプロファイルは、
上記露光が初期状態の感光性媒体内に生み出す全屈折率
プロファイルとして(等価真空波長に換算して)表現さ
れる。図7は、図6に示された、露光による修正後の同
一回折格子のシュミレーションされた屈折率プロファイ
ルである。曲線35と40との間の領域に関連して、図
5に示された右翼が除去され、左翼が微細にほとんど寄
与しないか、または、全く寄与しない極めて狭い領域ま
で縮小されていることは、明らかである。
The refractive index correction exposure will be described with reference to FIG.
The actinic beam has a Gaussian distribution profile with the same spatial extent as the unmodified grating. The center of the index modifying beam is offset to a position where the profile shown in FIG. 5 drops by e −2 times its peak value. The beam profile (according to the simulation) shown in FIG. 7 is
It is expressed as a total refractive index profile (in terms of equivalent vacuum wavelength) produced by the exposure in the photosensitive medium in the initial state. FIG. 7 is a simulated refractive index profile of the same diffraction grating after exposure modification shown in FIG. In relation to the area between the curves 35 and 40, the right wing shown in FIG. 5 has been removed and the left wing has been reduced to a very narrow area with little or no contribution to the fines. it is obvious.

【0043】図8は、修正済回折格子の透過率スペクト
ルを示す。図1の分解された副ピーク15が除去されて
いることは、明らかである。
FIG. 8 shows the transmittance spectrum of the modified diffraction grating. It is clear that the resolved sub-peak 15 of FIG. 1 has been removed.

【0044】屈折率修正露光は、ガウス分布プロファイ
ルを有する露光に限定されない。他の種々の空間変調露
光も容易に行われるし、また、幾つかの場合には、望ま
しいと思われる。例えば、傾斜型露光は、比較的径小の
化学線ビームを用いて、回折格子領域を操作することに
より、達成されうる。走査中、ビームの平均強度は、例
えば、軸方向位置の一次関数として、変えられる。連続
レーザビームの平均強度は、例えば、レーザへの入力を
変化させることにより、容易に変調される。パルスレー
ザビームの平均強度は、例えば、パルス繰返し率を変化
させることにより容易に変調される。
Refractive index modified exposures are not limited to exposures with a Gaussian profile. Various other spatially modulated exposures are easy to perform and in some cases may be desirable. For example, tilted exposure can be achieved by manipulating the grating region with a relatively small beam of actinic radiation. During scanning, the average intensity of the beam is varied, for example as a linear function of axial position. The average intensity of a continuous laser beam is easily modulated, for example by changing the input to the laser. The average intensity of the pulsed laser beam is easily modulated by changing the pulse repetition rate, for example.

【0045】上記の通り、微細構造は、典型的な場合、
回折格子の主反射率ピークの中央より短い波長において
現われる。或る場合には、上記微細構造を、取除くより
も、主ピークの中央より長い波長の方へ移動することが
望ましい。図2の単純化モデルに関連して、微細構造の
位置は、第2パルスに対して第1パルスと第3パルスと
を逆転することにより、主ピークに対して逆転しうる。
すなわち、平均屈折率が中央域でよりも第1パルス域と
第3パルス域とにおいて大きくなるように、1本の非干
渉性ビームをこれら第1パルス域と第3パルス域とを選
択的に露光するのに使用しうる。この結果は、図9に示
されている。この処理の結果として、ブラッグ条件を満
足する真空波長は、第2パルスについてよりも、第1パ
ルスと第3パルスとについて大きくなる。したがって、
側パルス内で反射するが中央パルス内で反射しない主反
射ピークの中央より長い波長が存在する。
As noted above, the microstructure is typically
It appears at a wavelength shorter than the center of the main reflectance peak of the diffraction grating. In some cases, it may be desirable to move the microstructure to a wavelength longer than the center of the main peak rather than removed. With reference to the simplified model of FIG. 2, the position of the microstructure can be reversed with respect to the main peak by reversing the first pulse and the third pulse with respect to the second pulse.
That is, one incoherent beam is selectively applied to the first pulse region and the third pulse region so that the average refractive index is larger in the first pulse region and the third pulse region than in the central region. It can be used to expose. The result is shown in FIG. As a result of this process, the vacuum wavelength that satisfies the Bragg condition is greater for the first and third pulses than for the second pulse. Therefore,
There is a longer wavelength than the center of the main reflection peak that reflects in the side pulse but not in the center pulse.

【0046】上述した屈折率修正露光が回折格子の露光
された部分の強度を小さくすることがあることに留意す
べきである。
It should be noted that the refractive index modification exposure described above may reduce the intensity of the exposed portion of the diffraction grating.

【0047】屈折率を修正する他の方法は、回折格子を
加熱することである。本発明者等は、少なくとも幾つか
の感光性ガラスにおいて、ブラッグ回折格子の加熱によ
り回折格子が消去される(すなわち、屈折率摂動の振幅
が小さくなる)傾向があることを発見した。したがっ
て、上述したのと類似の結果は、回折格子の平均屈折率
を変調するために局部加熱を使用することにより達成さ
れうる。この様な局部加熱は、炭酸ガスレーザのような
赤外線レーザから発振されたビームを感光性媒体に入射
することにより、容易に達成される。このビームは、露
光中に、上記感光性媒体に沿って任意にずらされる。加
熱された針状のプローブの近接チップによる加熱のよう
な他の種々の局部加熱方法が可能である。
Another method of modifying the index of refraction is to heat the diffraction grating. The inventors have discovered that in at least some photosensitive glasses, heating the Bragg grating tends to erase it (ie, reduce the amplitude of the index perturbation). Therefore, results similar to those described above can be achieved by using local heating to modulate the average refractive index of the grating. Such local heating is easily achieved by injecting a beam oscillated from an infrared laser such as a carbon dioxide laser into the photosensitive medium. The beam is arbitrarily offset along the photosensitive medium during exposure. Various other localized heating methods are possible, such as heating with a proximity tip of a heated needle-shaped probe.

【0048】微細構造を取除き、改良し、または、逆転
する第2の方法は、回折格子の周期を変えることであ
る。この技術は、平均屈折率を変える技術の代りに、ま
たは、追加して、実施しうる。上記第2の技術によれ
ば、与えられた領域においてブラッグ条件を満足する真
空波長は、この領域において回折格子の周期を長くする
ことにより長くされ、回折格子の周期を短くすることに
より短くされる。微細構造は、回折格子の一方側で回折
格子の周期を長くすることにより取除かれる。これは、
例えば、周期が軸方向位置により変化する回折格子(す
なわち、線形チャープ回折格子)を形成することにより
達成される。
A second way to remove, improve or reverse the microstructure is to change the period of the grating. This technique may be implemented in place of or in addition to the technique of changing the average index of refraction. According to the second technique, the vacuum wavelength satisfying the Bragg condition in a given region is lengthened by lengthening the period of the diffraction grating in this region and shortened by shortening the period of the diffraction grating. The fine structure is removed by lengthening the period of the grating on one side of the grating. this is,
For example, by forming a diffraction grating (that is, a linear chirp diffraction grating) whose period varies with axial position.

【0049】チャープ回折格子は、感光性材料に1対の
干渉性、非共線性、集束性化学線ビームを入射すること
により、上記感光性材料内に形成しうることは、周知で
ある。これらのビームは、集束するので、有効交差角
は、位置により定まる。回折格子の局部周期は、交差角
の変化により変化する。回折格子のスペクトル挙動にお
けるこのような変化の効果は、線形変動屈折率摂動を追
加する効果に定性的に類似する。事実、回折格子周期の
変更により、平均屈折率を変えることにより生じた効果
に類似した数多くの効果を生じることは、当業者には、
明らかである。
It is well known that a chirped grating can be formed in a photosensitive material by injecting a pair of coherent, non-collinear, focused actinic radiation beams into the photosensitive material. Since these beams are focused, the effective crossing angle is position dependent. The local period of the diffraction grating changes as the crossing angle changes. The effect of such a change in the spectral behavior of the grating is qualitatively similar to the effect of adding a linearly varying index perturbation. In fact, it will be appreciated by those skilled in the art that changing the grating period produces a number of effects similar to those produced by changing the average index of refraction.
it is obvious.

【0050】チャープ回折格子を制作する公的な方法
は、図12に示された干渉計の使用を含むものであり、
ブイ・ミツラヒ(V.Mizrahi)その他により出願され
た、発明の名称「光媒体内に空間変動形分散形ブラッグ
反射器を形成する方法」の係属中米国特許出願に記載さ
れている。要約して言えば、、チューナブル化学線源が
使用され、化学線波長が露光中に変更される一方、干渉
パターンが感光性媒体に沿ってずらされる。また、化学
線波長が一定に保持され、(複数本の)化学線ビームの
交差角が変えられる。これは、干渉計光学システムの複
数個の固定平面ミラーのうちの1個を局面ミラーに代
え、露光中、干渉パターンをずらすことにより、達成さ
れる。
The official method of making a chirped grating involves the use of the interferometer shown in FIG.
It is described in a pending U.S. patent application entitled "Method of forming a spatially variable dispersive Bragg reflector in an optical medium" filed by V. Mizrahi et al. In summary, a tunable actinic radiation source is used and the actinic radiation wavelength is changed during exposure while the interference pattern is offset along the photosensitive medium. Also, the actinic wavelength is held constant and the crossing angle of the (plural) actinic beams is varied. This is accomplished by replacing one of the fixed plane mirrors of the interferometer optical system with a curved mirror and shifting the interference pattern during exposure.

【0051】幾つかの場合においては、微細構造を和ら
げるよりも改良することが実際には望ましい。例えば、
極めて目立つ微細構造を重ねることにより、回折格子反
射率スペクトル内の鋭い中央ピークを生じることができ
る。これは、極めて鋭いスペクトルピークが望ましく、
近接した複数のピークの存在が許容されうる応用例にお
いて有用である。微細構造は、回折格子の選択された中
央部を追加離調することにより改良されうる。このよう
な追加離調は、1本の化学線ビームを回折格子の選択さ
れた一部に入射させることにより達成されうる。例え
ば、回折格子は、無修正回折格子と同一の空間範囲のガ
ウス分布プロファイルを有する軸対称ビームにより、露
光されうる。このような露光後の図5の回折格子のシュ
ミレーションされた透過率スペクトルが図10に示され
ている。上述した説明から明らかなように、回折格子周
期を空間的に変えることにより、同様の効果が達成され
うる。
In some cases, it is actually desirable to improve rather than soften the microstructure. For example,
The superposition of highly visible microstructures can result in a sharp central peak in the grating reflectance spectrum. It is desirable to have a very sharp spectral peak,
This is useful in applications where the presence of multiple peaks in close proximity is acceptable. The microstructure can be improved by additional detuning of selected central portions of the grating. Such additional detuning can be accomplished by injecting a single actinic radiation beam onto a selected portion of the diffraction grating. For example, the grating can be exposed with an axisymmetric beam having a Gaussian distribution profile in the same spatial range as the unmodified grating. The simulated transmittance spectrum of the diffraction grating of FIG. 5 after such exposure is shown in FIG. As is apparent from the above description, the same effect can be achieved by spatially changing the diffraction grating period.

【0052】ある場合には、無修正回折格子の微細構造
は、主ピークの側により与えられる緩く変化するバック
グラウンドに良く分解された1個以上の副ピークを重ね
ることにより主ピークに粗さを追加する。この様な状況
は、図11に模式的に示されている。図11において、
(完全に分解され、曲線50として示された)副ピーク
45は、スペクトルに粗さを追加する。他方、(完全に
分解され、曲線60として示された)副ピーク55は、
主ピークを、実質的に粗くすることなく、その幅を拡げ
るだけである。例えば、レーザがフィードバック安定化
作用により、ブラッグ回折格子の中央ピーク上に固定さ
れたときは、粗さは、それがピーク位置の周囲に不明確
さを増大させ増幅器の同調が副ピークに飛ぶかも知れな
いので、望ましくない。
In some cases, the fine structure of the uncorrected diffraction grating is characterized by roughness of the main peak by superimposing one or more well resolved subpeaks on a slowly varying background provided by the side of the main peak. to add. Such a situation is schematically shown in FIG. In FIG.
Sub-peak 45 (completely resolved and shown as curve 50) adds roughness to the spectrum. On the other hand, the sub-peak 55 (completely resolved and shown as curve 60) is
It only widens the main peak without substantially roughening it. For example, when the laser is fixed on the central peak of a Bragg grating by feedback stabilization, the roughness may cause it to increase the ambiguity around the peak position, causing the amplifier tuning to jump to the subpeak. I don't know, so it's not desirable.

【0053】したがって、本発明の一の適用は、微細構
造により追加された粗さを減らすことである。粗さを定
量化する一の方法は、緩変動バックグラウンド上方の副
ピークの高さに換算して粗さを表わすことである。この
高さは、主ピークの高さに対して正規化されることが望
ましい。したがって、図11に示された特徴45に対応
する粗さは、Hs対HM の比として表わされる増幅器の
同調のような目的のため、ピークにより追加された最大
粗さが10%より少なくなるように修正されることが望
ましい。
Therefore, one application of the present invention is to reduce the roughness added by the microstructure. One way to quantify the roughness is to express it in terms of the height of the sub-peak above the slowly varying background. This height is preferably normalized to the height of the main peak. Thus, the roughness corresponding to feature 45 shown in FIG. 11 is such that the maximum roughness added by the peak is less than 10% for purposes such as amplifier tuning expressed as the ratio of Hs to HM. It is desirable to be corrected to.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明によれば、感光性光導波媒体内に
ブラッグ回折格子を形成する際に、干渉パターンの形成
に使用された複数本の化学線ビームの波の干渉効果によ
り引起される一連の副ピークを改良し、または、修正し
た方法が、得られる。ブラッグ回折格子が従来技術によ
り形成されたとき、この回折格子は、中央ピークのほか
に、全体として望ましくない一連の副ピークを有する反
射率スペクトルを示す傾向がある。これらの副ピーク
は、回折格子の平均屈折率を空間的に変えることによ
り、または、回折格子周期を空間的に変えることによ
り、修正され、または、取除かれる。
According to the present invention, when the Bragg diffraction grating is formed in the photosensitive optical waveguide medium, it is caused by the interference effect of the waves of the plurality of actinic radiation beams used for forming the interference pattern. An improved or modified method of the series of subpeaks is obtained. When a Bragg grating is formed according to the prior art, it tends to exhibit a reflectance spectrum with a series of unwanted peaks in addition to the central peak. These sub-peaks are modified or removed by spatially changing the average refractive index of the grating or by spatially changing the grating period.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】光ファイバ内に形成された典型的ブラッグ回折
格子の、コンピュータシュミレーションによる透過率ス
ペクトルである。
FIG. 1 is a computer-simulated transmittance spectrum of a typical Bragg grating formed in an optical fiber.

【図2】光媒体内に形成された典型的ブラッグ回折格子
の平均屈折率の空間変動を示す概略である。
FIG. 2 is a schematic showing the spatial variation of the average refractive index of a typical Bragg grating formed in an optical medium.

【図3】干渉効果がパルス形平均屈折率プロファイルを
有するブラッグ回折格子に生じうる仕組みを示す概略図
である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing how interference effects can occur in a Bragg grating having a pulsed average refractive index profile.

【図4】干渉効果がパルス形平均屈折率プロファイルを
有するブラッグ回折格子に生じうる他の仕組みを示す概
略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing another mechanism by which interference effects can occur in a Bragg grating having a pulsed average refractive index profile.

【図5】図1に示されたブラッグ回折格子のコンピュー
タシュミレーションによる屈折率プロファイルである。
図5においては、図6および図7と同様に、平均屈折率
摂動は、真空波長に換算して表わされる。与えられた点
において、回折格子が反射器となる真空波長上の上限と
下限とが示されている。
FIG. 5 is a refractive index profile obtained by computer simulation of the Bragg diffraction grating shown in FIG.
In FIG. 5, as in FIGS. 6 and 7, the average refractive index perturbation is expressed in terms of vacuum wavelength. At a given point, the upper and lower limits on the vacuum wavelength where the diffraction grating is a reflector are shown.

【図6】本発明の一実施例に従って、一例による屈折率
修正露光により行われた屈折率摂動の、コンピュータシ
ュミレーションによるプロファイルである。
FIG. 6 is a computer-simulated profile of refractive index perturbations performed by an exemplary refractive index modified exposure, in accordance with one embodiment of the present invention.

【図7】図6の屈折率修正が成された後の図5に示され
たブラッグ回折格子のコンピュータシュミレーションに
よる屈折率プロファイルである。
7 is a computer simulated refractive index profile of the Bragg grating shown in FIG. 5 after the refractive index modification of FIG. 6 has been made.

【図8】図7に示された修正済ブラッグ回折格子の、コ
ンピュータシュミレーションによる透過率スペクトル図
である。
8 is a computer-simulated transmittance spectrum of the modified Bragg grating shown in FIG. 7. FIG.

【図9】結果として生じた側波帯が中央反射率ピークに
対して逆転される、図4に示された干渉効果の修正を示
す概略図である。本発明の一実施態様によれば、この修
正は、平均屈折率を変えることにより、達成される。
9 is a schematic diagram showing a modification of the interference effect shown in FIG. 4, in which the resulting sidebands are reversed with respect to the central reflectance peak. According to one embodiment of the invention, this modification is achieved by changing the average refractive index.

【図10】本発明の一実施例に従って、微細構造改良の
ための屈折率修正露光後の、図5に示されたブラッグ回
折格子のコンピュータシュミレーションによる透過率ス
ペクトル図である。
FIG. 10 is a transmission spectrum diagram by computer simulation of the Bragg grating shown in FIG. 5 after a refractive index correction exposure for improving a microstructure according to an embodiment of the present invention.

【図11】仮想ブラッグ回折格子の反射率スペクトル図
であって、主ピークの幅を拡げる幾つかの副ピークの傾
向を主ピークの側に粗さを追加する他の副ピークの傾向
とを示す。
FIG. 11 is a reflectance spectrum diagram of a virtual Bragg diffraction grating showing the tendency of some sub-peaks to widen the width of the main peak and the tendency of other sub-peaks to add roughness to the side of the main peak. .

【図12】本発明方法を実施するのに有用な従来技術に
かかる干渉計の一例の光学的配置を示す概略図である。
FIG. 12 is a schematic diagram showing the optical arrangement of an example of a prior art interferometer useful for carrying out the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 中央部 25 端部(翼) 20 Central part 25 End part (wing)

フロントページの続き (72)発明者 ヴィクター ミズラヒ アメリカ、07921、ニュージャージー、ベ ッドミンスター、カーディナル レーン 412 (72)発明者 ジョン エドワード ザイプ カナダ、エム5ビィー2エイチ9、トロン ト、アプト.1217、カールトン ストリー ト 45Front Page Continuation (72) Inventor Victor Misrahi America, 07921, New Jersey, Bedminster, Cardinal Lane 412 (72) Inventor John Edward Zaip Canada, M5B2H9, Toronto, Apt. 1217, Carlton Street 45

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも1つの光進行軸を有する光透
過感光性物体であって、該物体内でブラッグ条件を定
め、ブラッグ条件を近似的に満足する光の真空波長に対
して主ピークを有する反射率スペクトルを示す第1屈折
率摂動が形成された物品の製造方法において、 (a) 2本の化学線ビームを生成させるステップであ
って、各化学線ビームは、横断面において、少なくとも
1個の上昇部と少なくとも1個の下降部とを含む強度プ
ロファイルとを有する化学線ビーム生成ステップと、 (b) 屈折率摂動の形成に至るために、干渉パターン
が上記光進行軸方向に形成されるように、上記感光性物
体の少なくとも一部に化学線ビームを入射するステップ
と第1屈折率摂動の形成に至るために、干渉パターンが
上記光進行軸方向に形成されるように、上記感光性物体
の少なくとも一部に化学線ビームを入射するステップ
と、 c. 前記(b)ステップは、少なくとも1個の上昇部
と少なくとも1個の下降部とを光進行軸方向に有する第
1摂動内に空間的に平均化された屈折率プロファイルに
至り、「共振区間」と名付けられた少なくとも1個の区
間は、上記上昇部と上記下降部との間に含まれ、これに
より、化学線に露光されることがなく上記反射スペクト
ルは、少なくとも1個の副ピークを含み、 (d) 前記(b)ステップの前または後に、上記物体
内に第2屈折率摂動を生じさせることにより、上記主ピ
ークと上記副ピークとの相対振幅に変化を生じさせるス
テップとを含むことを特徴とする、光媒体内に分散形ブ
ラッグ反射器を形成する方法。
1. A light-transmissive photosensitive object having at least one light traveling axis, wherein a Bragg condition is defined in the object and has a main peak for a vacuum wavelength of light that approximately satisfies the Bragg condition. In the method of manufacturing an article in which a first refractive index perturbation exhibiting a reflectance spectrum is formed, (a) a step of generating two actinic ray beams, each actinic ray beam having at least one actinic ray beam in a cross section. Actinic beam generation step having an intensity profile including an ascending part and at least one descending part, and (b) an interference pattern is formed in the light traveling axis direction to reach the formation of a refractive index perturbation. As described above, since the step of injecting the actinic ray beam into at least a part of the photosensitive object and the formation of the first refractive index perturbation are reached, an interference pattern is formed in the light traveling axis direction. In the steps of incident actinic beams on at least a portion of said photosensitive body, c. The step (b) leads to a spatially averaged refractive index profile in the first perturbation having at least one rising portion and at least one falling portion in the light traveling axis direction, and the “resonance section” At least one section, designated as, is included between the rising portion and the falling portion, so that the reflection spectrum without exposure to actinic radiation includes at least one subpeak. And (d) before or after the step (b), a step of causing a change in relative amplitude between the main peak and the sub-peak by causing a second refractive index perturbation in the object. A method of forming a distributed Bragg reflector in an optical medium.
【請求項2】 前記(d)ステップは、上記感光性物体
の少なくとも一部に1本の非干渉性化学線ビームを入射
させるステップを含むことを特徴とする請求項1記載の
方法。
2. The method of claim 1, wherein step (d) includes the step of injecting a single incoherent actinic radiation beam onto at least a portion of the photosensitive object.
【請求項3】 上記1本の化学線ビーム入射ステップの
間に、上記光進行軸方向に上記1本の化学線ビームを変
位させるステップと、 上記1本の化学線ビームの平均強度を変えるステップと
を更に含むことを特徴とする請求項2記載の方法。
3. A step of displacing the one actinic ray beam in the light traveling axis direction during the step of injecting the one actinic ray beam, and a step of changing an average intensity of the one actinic ray beam. The method of claim 2, further comprising:
【請求項4】 前記(d)ステップは、前記感光性物体
の少なくとも一部を加熱するステップを含むことを特徴
とする請求項1記載の方法。
4. The method of claim 1, wherein step (d) comprises heating at least a portion of the photosensitive object.
【請求項5】 前記加熱ステップは、赤外線レーザから
前記感光性物体の少なくとも一部へビームを入射させる
ステップを含むことを特徴とする請求項4記載の方法。
5. The method of claim 4, wherein the heating step includes the step of directing a beam from an infrared laser to at least a portion of the photosensitive object.
【請求項6】 前記(d)ステップは、前記主ピークに
対して、前記副ピークの振幅を増大させることを特徴と
する請求項1記載の方法。
6. The method according to claim 1, wherein the step (d) increases the amplitude of the sub-peak with respect to the main peak.
【請求項7】 前記(d)ステップは、前記主ピークに
対して、前記副ピークの振幅を増大させることを特徴と
する請求項1記載の方法。
7. The method according to claim 1, wherein the step (d) increases the amplitude of the sub-peak with respect to the main peak.
【請求項8】 前記(d)ステップは、前記主ピークに
対して、前記副ピークの振幅を増大させることを特徴と
する請求項1記載の方法。
8. The method according to claim 1, wherein the step (d) increases the amplitude of the sub-peak with respect to the main peak.
【請求項9】 前記第1摂動は、中間点を有し、前記1
本の化学線入射ステップは、前記中間点から軸方向へず
らされた物体の一部に前記1本の化学線ビームを入射さ
せるステップを含むことを特徴とする請求項2記載の方
法。
9. The first perturbation has a midpoint, and the first
3. The method of claim 2, wherein the actinic ray injection step comprises injecting the actinic ray beam onto a portion of an object axially offset from the midpoint.
【請求項10】 前記(d)ステップは、実質的に前記
共振区間を取除くことを特徴とする請求項1記載の方
法。
10. The method of claim 1, wherein the step (d) substantially removes the resonant section.
【請求項11】 前記第2摂動が存在しない状態で、前
記副ピークは、前記スペクトルが主ピーク側に対して粗
さを有するように、主ピーク側に重ねられ、(d)ステ
ップは、いずれかの副ステップのために、主ピーク振幅
に対して10%未満の粗さを減少させることを特徴とす
る請求項1記載の方法。
11. In the absence of the second perturbation, the sub-peak is overlaid on the main peak side so that the spectrum has roughness relative to the main peak side, and step (d) is A method according to claim 1, characterized in that, due to these substeps, the roughness is reduced by less than 10% relative to the main peak amplitude.
【請求項12】 少なくとも1つの光進行軸を有する光
透過感光性物体であって、該物体内にブラッグ条件を定
め、ブラッグ条件を近似的に満足する光の真空波長に対
して主ピークを有する反射率スペクトルを示す第1屈折
率摂動が形成された物品の製造方法において、 (a) 2本の化学線ビームを生成させるステップであ
って、各化学線ビームは、横断面において、少なくとも
1個の上昇部と少なくとも1個の下降部とを含む強度プ
ロファイルとを有する化学線ビーム生成ステップと、 (b) 屈折率摂動の形成に至るために、干渉パターン
が上記光進行軸方向に形成されるように、上記感光性物
体の少なくとも一部に化学線ビームを入射するステップ
と第1屈折率摂動の形成に至るために、干渉パターンが
上記光進行軸方向に形成されるように、上記感光性物体
の少なくとも一部に化学線ビームを入射するステップ
と、 c. 前記(b)ステップは、少なくとも1個の上昇部
と少なくとも1個の下降部とを光進行軸方向に有する第
1摂動内に空間的に平均化された屈折率プロファイルに
至り、「共振区間」と名付けられた少なくとも1個の区
間は、上記上昇部と上記下降部との間に含まれ、 d. 前記(b)ステップ中に、前記上昇部および前記
下降部内において、ブラッグ条件を満足させる全ての真
空波長が前記共振区間のかなりの部分においてもブラッ
グ条件を満足させるように、軸方向位置によって周期を
変化させ、実質的に副ピークがない反射率スペクトルを
生じさせることを特徴とする、光媒体内に分散形ブラッ
グ反射器を形成する方法。
12. A light-transmissive photosensitive object having at least one light traveling axis, wherein a Bragg condition is defined in the object and has a main peak for a vacuum wavelength of light that approximately satisfies the Bragg condition. In the method of manufacturing an article in which a first refractive index perturbation exhibiting a reflectance spectrum is formed, (a) a step of generating two actinic ray beams, each actinic ray beam having at least one actinic ray beam in a cross section. Actinic beam generation step having an intensity profile including an ascending part and at least one descending part, and (b) an interference pattern is formed in the light traveling axis direction to reach the formation of a refractive index perturbation. As described above, an interference pattern is formed in the light traveling axis direction in order to reach the step of injecting the actinic ray beam into at least a part of the photosensitive object and the formation of the first refractive index perturbation. Sea urchin, a step of entering the actinic beams on at least a portion of said photosensitive body, c. The step (b) leads to a spatially averaged refractive index profile in the first perturbation having at least one rising portion and at least one falling portion in the light traveling axis direction, and the “resonance section” At least one section labeled d is included between the ascending section and the descending section, d. During the step (b), in the ascending section and the descending section, a cycle is set according to the axial position so that all the vacuum wavelengths satisfying the Bragg condition satisfy the Bragg condition even in a considerable part of the resonance section. A method of forming a distributed Bragg reflector in an optical medium, characterized in that it is varied to produce a reflectance spectrum that is substantially free of subpeaks.
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