JPH062273A - Wash & wear finishing of cellulosic fiber - Google Patents
Wash & wear finishing of cellulosic fiberInfo
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- JPH062273A JPH062273A JP15359092A JP15359092A JPH062273A JP H062273 A JPH062273 A JP H062273A JP 15359092 A JP15359092 A JP 15359092A JP 15359092 A JP15359092 A JP 15359092A JP H062273 A JPH062273 A JP H062273A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、セルロース繊維のウオ
ッシュアンドウェア加工法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wash and wear processing method for cellulose fibers.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、セルロース繊維のウオッシュアン
ドウェア加工剤として、ジメチロール−４,５−ハイド
ロキシエチレン尿素等のＮ−メチロール化合物およびそ
れらのＮ−アルコキシメチル化合物が用いられている。
そしてパッド-ドライ-キュア法で加工され、キュア条件
は一般に150℃〜160℃×２〜３分である。2. Description of the Related Art Conventionally, N-methylol compounds such as dimethylol-4,5-hydroxyethyleneurea and their N-alkoxymethyl compounds have been used as wash and wear processing agents for cellulose fibers.
Then, it is processed by the pad-dry-cure method, and the curing condition is generally 150 ° C to 160 ° C x 2 to 3 minutes.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記の化合物とセルロ
ース繊維との反応は平衡反応であるために、加工時及び
製品となった後に高濃度のホルムアルデヒドが遊離発生
し問題がある。繊維製品の遊離ホルムアルデヒドは法規
制され、２才以下の乳幼児用製品には検出されないこ
と、そして一般用肌着類には75ppm以下と規制されてい
る。Since the reaction between the above compound and cellulose fiber is an equilibrium reaction, there is a problem that a high concentration of formaldehyde is liberated during processing and after it is made into a product. Free formaldehyde in textile products is regulated by law, not detected in products for infants under 2 years old, and regulated to be below 75ppm in general underwear.
【０００４】またキュア温度が150℃〜160℃と高いため
に、セルロース繊維の黄変、強度低下等の問題があり、
さらに熱に弱い繊維との混紡、交編織布の加工は困難で
ある。Further, since the curing temperature is as high as 150 ° C. to 160 ° C., there are problems such as yellowing of cellulose fibers and reduction of strength.
Furthermore, it is difficult to mix fibers with heat-sensitive fibers and to process interwoven fabrics.
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みて、加工
時及び得られた製品からホルムアルデヒドが遊離発生せ
ず、しかも室温付近の低温で加工し繊維の損傷の少ない
セルロース繊維のウオッシュアンドウェア加工法を提供
することを目的としている。In view of the above circumstances, the present invention is a wash-and-wear process for cellulose fibers, which does not release formaldehyde from the products obtained during the process and is processed at a low temperature near room temperature and has little damage to the fibers. It is intended to provide the law.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、ビニル基を２つ以上有するモノマ
ーあるいはオリゴマーと膨潤剤をセルロース繊維に付与
した後、この繊維を低温プラズマ処理あるいは電子線照
射処理することを特徴とするセルロース繊維のウオッシ
ュアンドウェア加工法を要旨としている。In order to achieve such an object, the present invention provides a cellulose fiber with a monomer or oligomer having two or more vinyl groups and a swelling agent, and then subject the fiber to a low temperature plasma treatment. Alternatively, the gist is a wash-and-wear processing method of cellulose fibers, which is characterized by performing electron beam irradiation processing.
【０００７】[0007]
【作用】上記構成により、セルロース繊維に付与された
膨潤剤は繊維を膨潤させ、ビニル基を２つ以上有するモ
ノマーあるいはオリゴマーを繊維内部に浸透するのを容
易にし、その後の低温プラズマ処理あるいは電子線照射
処理により、繊維内部のビニル化合物は、重合し、繊維
を架橋して、セルロース繊維をウオッシュアンドウェア
性のある繊維に変化させる。With the above structure, the swelling agent applied to the cellulose fiber swells the fiber and facilitates the permeation of the monomer or oligomer having two or more vinyl groups into the fiber, and the subsequent low temperature plasma treatment or electron beam irradiation. By the irradiation treatment, the vinyl compound inside the fiber is polymerized and cross-links the fiber, thereby converting the cellulose fiber into a fiber having a wash-and-wear property.
【０００８】[0008]
【実施例】以下に、本発明を、その実施例を参照しつつ
詳しく説明する。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to its examples.
【０００９】ビニル基を２つ以上有するモノマーあるい
はオリゴマーと膨潤剤とが付与されたセルロース繊維
に、低温プラズマあるいは電子線を照射することによ
り、ラジカルが発生し、このラジカルが開始剤となり、
グラフト重合体が形成され、セルロース繊維分子を架橋
し、繊維にウオッシュアンドウェア性及び防縮性を付与
することができる。By irradiating low-temperature plasma or an electron beam to a cellulose fiber provided with a swelling agent and a monomer or oligomer having two or more vinyl groups, a radical is generated, and this radical serves as an initiator.
A graft polymer is formed that can crosslink the cellulose fiber molecules and impart wash and wear and shrink resistance to the fibers.
【００１０】ビニル基を２つ以上有するモノマーあるい
はオリゴマーとしては、Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリル
アミド、アジピン酸ジビニル、ジビニルベンゼン、ジビ
ニルスルホン、ジアリルフタレート、ジアクリルイソフ
タレート、３,９−ジビニル-２,４,８,10−テトラオキ
サスピロ〔５,５〕ウンデカン、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、ビスフェノールＡ-ジエポキシ-アクリル酸付加
物、グリセリンジメタクリレート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、ウレタンプレポリマーなどのジビニルモ
ノマー、１,３,５−トリアクリロイルヘキサハイドロ−
s−トリアジン、１,２,４−トリビニルシクロヘキサ
ン、トリメリト酸トリアリル、トリアリルイソシアヌレ
ート、トリアリルシアヌレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレートなどのようなトリビニルモノマー、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。Examples of the monomer or oligomer having two or more vinyl groups are N, N'-methylenebisacrylamide, divinyl adipate, divinylbenzene, divinylsulfone, diallyl phthalate, diacryl isophthalate and 3,9-divinyl-2. Divinyl such as 4,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, diethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, bisphenol A-diepoxy-acrylic acid adduct, glycerin dimethacrylate, hexamethylene diisocyanate, urethane prepolymer Monomer, 1,3,5-triacryloyl hexahydro-
trivinyl monomers such as s-triazine, 1,2,4-trivinylcyclohexane, triallyl trimellitate, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, trimethylolpropane triacrylate, etc.,
Examples thereof include pentaerythritol tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate.
【００１１】膨潤剤としては、アセトン、ジオキサン、
ＤＭＳＤ、ＤＭＦ、ペンタオキサペンタデカン、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、
スルホラン、苛性ソーダ水溶液、苛性カリ水溶液、塩化
マグネシウム水溶液、塩化カルシウム水溶液などが挙げ
れる。As the swelling agent, acetone, dioxane,
DMSD, DMF, pentaoxapentadecane, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, polyethylene glycol, polyethylene glycol dimethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether,
Examples thereof include sulfolane, a caustic soda aqueous solution, a caustic potash aqueous solution, a magnesium chloride aqueous solution, and a calcium chloride aqueous solution.
【００１２】低温プラズマ処理において用いる放電ガス
は、エッチング作用の大きなガスでなければ、特に限定
されないが、例えば、窒素ガスが挙げられる。The discharge gas used in the low temperature plasma treatment is not particularly limited as long as it does not have a large etching action, and examples thereof include nitrogen gas.
【００１３】放電ガスとして窒素ガスを用いた場合の処
理条件としては、プラズマが発生する条件であれば、特
に限定されないが、真空度が1.0Torr、放電出力が120W
程度が好ましい。処理時間としては、30分以内が好まし
い。30分を越えると、逆にエッチングにより繊維を傷め
る恐れがある。The treatment conditions when nitrogen gas is used as the discharge gas are not particularly limited as long as plasma is generated, but the degree of vacuum is 1.0 Torr and the discharge output is 120 W.
A degree is preferable. The treatment time is preferably within 30 minutes. If it exceeds 30 minutes, the fiber may be damaged by etching.
【００１４】電子線照射処理の場合は、空気中でも構わ
ないが、窒素中の方が好い。In the case of electron beam irradiation, it may be in air, but nitrogen is preferred.
【００１５】電子線照射の条件は、繊維を損傷しなけれ
ば、特に限定されなが、線量としては１〜10Mrad程度が
好ましい。The electron beam irradiation conditions are not particularly limited as long as the fibers are not damaged, but the dose is preferably about 1 to 10 Mrad.
【００１６】本加工にホルムアルデヒドを遊離発生しな
い柔軟剤、シリコン樹脂、ウレタン樹脂を併用しても構
わない。A softening agent which does not release formaldehyde, a silicone resin, and a urethane resin may be used in combination in this processing.
【００１７】本方法において処理する繊維としては、
綿、麻、レーヨン等のセルロース繊維及びこれらの混紡
繊維、交編織布がある。The fibers to be treated in this method are:
There are cellulosic fibers such as cotton, hemp, and rayon, and mixed fibers thereof, and interwoven fabrics.
【００１８】〔実施例１〕Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリ
ルアミド４wt％、ジエチレングリコール20wt％の水溶液
に綿ブロード（目付120.1g／m2）を浸漬した後、乾燥し
て、Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリルアミドとジエチレン
グリコールの付着率が32.1％の布を得た。Example 1 Cotton broad (basis weight: 120.1 g / m 2 ) was dipped in an aqueous solution of 4% by weight of N, N′-methylenebisacrylamide and 20% by weight of diethylene glycol, and then dried to obtain N, N′-methylene. A cloth having a bisacrylamide / diethylene glycol attachment ratio of 32.1% was obtained.
【００１９】この布を周波数が13.56MHz、放電ガスが窒
素ガス、真空度が1.0Torr、放電出力が120Wの条件でプ
ラズマ処理を5.2分間行った。処理後、65℃の条件下で
長時間湯洗いを行った後、乾燥して加工布を得た。この
加工布のポリマーの付着率は、1.49％であった。得られ
た加工布のモンサント法による乾防しわ性は開角度（タ
テ＋ヨコ）184゜（原布169゜）、湿防しわ性が開角度
（タテ＋ヨコ）217゜（原布173゜）であった。This cloth was subjected to plasma treatment for 5.2 minutes under the conditions of a frequency of 13.56 MHz, a discharge gas of nitrogen gas, a vacuum degree of 1.0 Torr and a discharge output of 120 W. After the treatment, it was washed with hot water at 65 ° C. for a long time and then dried to obtain a work cloth. The polymer attachment rate of this work cloth was 1.49%. The dry wrinkle resistance of the obtained processed cloth by Monsanto method is an open angle (vertical + horizontal) 184 ° (base cloth 169 °), and the moisture wrinkle resistance is an open angle (vertical + horizontal) 217 ° (base cloth 173 °). Met.
【００２０】〔実施例２〕Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリ
ルアミド５wt％、ジエチレングリコール30wt％の水溶液
にて、綿ブロードを実施例１と同様に処理して、付着率
35.5％の布を得た。[Example 2] Cotton broad was treated in the same manner as in Example 1 with an aqueous solution of 5% by weight of N, N'-methylenebisacrylamide and 30% by weight of diethylene glycol to obtain the adhesion rate.
35.5% cloth was obtained.
【００２１】この布を150W以外は実施例１と同条件で3.
5分間低温プラズマ処理した。そして実施例１と同様に
湯洗、乾燥して、ポリマーの付着率3.30％の加工布を得
た。得られた加工布のモンサント法による湿防しわ性は
開角度（タテ＋ヨコ）213゜（原布173゜）であった。This cloth was prepared under the same conditions as in Example 1 except for 150 W.
Low temperature plasma treatment was performed for 5 minutes. Then, it was washed with hot water and dried in the same manner as in Example 1 to obtain a work cloth having a polymer adhesion rate of 3.30%. The processed fabric thus obtained had a moisture-proof wrinkle resistance according to the Monsanto method of 213 ° (original fabric 173 °) at an opening angle (vertical + horizontal).
【００２２】〔実施例３〕Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリ
ルアミド10wt％、ジエチレングリコール50wt％の水溶液
にて、綿ブロードを実施例１と同様に処理して、付着率
83.1％の布を得た。Example 3 Cotton broad was treated in the same manner as in Example 1 with an aqueous solution of 10% by weight of N, N′-methylenebisacrylamide and 50% by weight of diethylene glycol to obtain an adhesion rate.
83.1% cloth was obtained.
【００２３】この布を実施例１と同条件で6.5分間低温
プラズマ処理した。そして実施例１と同様に湯洗、乾燥
して、ポリマーの付着率7.29％の加工布を得た。得られ
た加工布のモンサント法による湿防しわ性は開角度（タ
テ＋ヨコ）223゜（原布173゜）であった。This cloth was subjected to low temperature plasma treatment for 6.5 minutes under the same conditions as in Example 1. Then, it was washed with hot water and dried in the same manner as in Example 1 to obtain a processed cloth having a polymer adhesion rate of 7.29%. The processed fabric thus obtained had a moisture-proof wrinkle resistance according to the Monsanto method at an opening angle (vertical + width) of 223 ° (original fabric of 173 °).
【００２４】〔比較例１〕Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリ
ルアミド３wt％の水溶液にて、綿ブロードを実施例１と
同様に処理して、付着率4.73％の布を得た。Comparative Example 1 Cotton broad was treated in the same manner as in Example 1 with an aqueous solution of 3% by weight of N, N′-methylenebisacrylamide to obtain a cloth having an adhesion rate of 4.73%.
【００２５】この布を150W以外は実施例１と同条件で3.
0分間低温プラズマ処理した。そして実施例１と同様に
湯洗、乾燥して、ポリマーの付着率1.06％の加工布を得
た。得られた加工布のモンサント法による湿防しわ性は
開角度（タテ＋ヨコ）178゜（原布173゜）であった。This cloth was prepared under the same conditions as in Example 1 except for 150 W.
Low temperature plasma treatment was performed for 0 minutes. Then, it was washed with hot water and dried in the same manner as in Example 1 to obtain a work cloth having a polymer adhesion rate of 1.06%. The processed fabric thus obtained had a moisture resistance and wrinkle resistance according to the Monsanto method, which was an open angle (vertical + horizontal) of 178 ° (original fabric of 173 °).
【００２６】〔実施例４〕１,３,５−トリアクリロイル
ヘキサハイドロ-s-トリアジン５wt％、ジエチレングリ
コール30wt％の水溶液にて、綿ブロードを実施例１と同
様に処理して、付着率41.5％の布を得た。Example 4 Cotton broad was treated in the same manner as in Example 1 with an aqueous solution of 1,3,5-triacryloylhexahydro-s-triazine 5 wt% and diethylene glycol 30 wt% to give an adhesion rate of 41.5%. Got the cloth.
【００２７】この布を実施例１と同条件で5.2分間低温
プラズマ処理した。そして実施例１と同様に湯洗、乾燥
して、ポリマーの付着率3.67％の加工布を得た。得られ
た加工布のモンサント法による湿防しわ性は開角度（タ
テ＋ヨコ）198゜（原布173゜）であった。This cloth was subjected to low temperature plasma treatment for 5.2 minutes under the same conditions as in Example 1. Then, it was washed with hot water and dried in the same manner as in Example 1 to obtain a work cloth having a polymer adhesion rate of 3.67%. The processed fabric thus obtained had a moist wrinkle resistance according to the Monsanto method at an opening angle (vertical + horizontal) of 198 ° (original fabric of 173 °).
【００２８】〔実施例５〕ＮＫＯＬＩＧＯＵ−４ＨＡ
（新中村化学工業（株）製、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタ
ンプレポリマー）５wt％、ジエチレングリコール30wt％
のメタノール溶液にて、綿ブロードを実施例１と同様に
処理して、付着率41.8％の布を得た。[Embodiment 5] NKOLIGOU-4HA
(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., pentaerythritol tetraacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) 5 wt%, diethylene glycol 30 wt%
A cotton broad cloth was treated in the same manner as in Example 1 with the methanol solution of Example 1 to obtain a cloth having an adhesion rate of 41.8%.
【００２９】この布を実施例１と同条件で5.0分間低温
プラズマ処理した。そして実施例１と同様に湯洗、乾燥
して、ポリマーの付着率7.59％の加工布を得た。得られ
た加工布のモンサント法による湿防しわ性は開角度（タ
テ＋ヨコ）192゜（原布173゜）であった。This cloth was subjected to low temperature plasma treatment for 5.0 minutes under the same conditions as in Example 1. Then, it was washed with hot water and dried in the same manner as in Example 1 to obtain a work cloth having a polymer adhesion rate of 7.59%. The processed fabric thus obtained had a moisture-proof wrinkle resistance according to the Monsanto method at an opening angle (vertical + horizontal) of 192 ° (original fabric of 173 °).
【００３０】〔実施例６〕トリアリルシアヌレート５wt
％、ジエチレングリコール30wt％のメタノール溶液に
て、綿ブロードを実施例１と同様に処理して、付着率3
7.2％の布を得た。この布を実施例１と同条件で4.8分間
低温プラズマ処理した。そして実施例１と同様に湯洗、
乾燥して、ポリマーの付着率3.43％の加工布を得た。得
られた加工布のモンサント法による湿防しわ性は開角度
（タテ＋ヨコ）181゜（原布173゜）であった。Example 6 Triallyl cyanurate 5 wt
%, And 30% by weight of diethylene glycol in a methanol solution, cotton broad was treated in the same manner as in Example 1 to give an adhesion rate of 3
7.2% cloth was obtained. This cloth was subjected to a low temperature plasma treatment under the same conditions as in Example 1 for 4.8 minutes. Then, washing with hot water as in Example 1,
After drying, a work cloth having a polymer attachment rate of 3.43% was obtained. The wet wrinkle resistance of the obtained processed cloth according to the Monsanto method was an open angle (vertical + horizontal) of 181 ° (original fabric of 173 °).
【００３１】〔実施例７〕Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリ
ルアミド10wt％、ジエチレングリコール50wt％の水溶液
に綿ブロード（目付120.1g／m2）を浸漬した後、乾燥し
て、Ｎ,Ｎ'−メチレンビスアクリルアミドとジエチレン
グリコールの付着率が74.6％の布を得た。Example 7 Cotton broad (basis weight: 120.1 g / m 2 ) was dipped in an aqueous solution of 10% by weight of N, N′-methylenebisacrylamide and 50% by weight of diethylene glycol and then dried to obtain N, N′-methylene. A cloth having a bisacrylamide / diethylene glycol adhesion rate of 74.6% was obtained.
【００３２】この布をエリアビーム形電子線照射装置に
より窒素中で電子線照射を行なった。条件は加速電圧17
5kV、電子流11mA、トレー搬送速度20m／分で、照射量線
は８Mradであった。処理後、65℃の条件下で長時間湯洗
いを行なった後、乾燥し加工布を得た。この加工布のポ
リマーの付着率は14.29％であった。得られた加工布の
モンサント法による湿防しわ性は開角度（タテ＋ヨコ）
214゜（原布173゜）であった。This cloth was subjected to electron beam irradiation in nitrogen by an area beam type electron beam irradiation device. Conditions are acceleration voltage 17
The dose curve was 8 Mrad at 5 kV, electron flow of 11 mA, and tray transfer speed of 20 m / min. After the treatment, it was washed with hot water at 65 ° C. for a long time and then dried to obtain a processed cloth. The polymer attachment rate of this work cloth was 14.29%. The moist wrinkle resistance of the obtained processed cloth by Monsanto method is an open angle (vertical + horizontal)
It was 214 ° (173 ° of the original fabric).
【００３３】[0033]
【発明の効果】本発明にかかるセルロース繊維のウオッ
シュアンドウェア加工法は、以上のように、ビニル基を
２つ以上有するモノマーあるいはオリゴマーと膨潤剤を
セルロース繊維に付与した後、この繊維を低温プラズマ
処理あるいは電子線照射処理するようになっているの
で、優れたウォッシュアンドウェア性を得ることができ
る。しかも、従来のように、Ｎ−メチロール化合物を用
いることがないので、加工中及び製品からホルムアルデ
ヒドが遊離発生しない。また室温付近〜80℃程度の低温
で処理することができ、繊維の強度低下も少ない加工布
を得ることができる。As described above, the method for wash-and-wear treatment of cellulose fibers according to the present invention is as follows. After the monomer or oligomer having two or more vinyl groups and the swelling agent are applied to the cellulose fibers, the fibers are subjected to low temperature plasma treatment. Since the treatment or the electron beam irradiation treatment is performed, excellent wash and wear property can be obtained. In addition, since N-methylol compounds are not used as in the conventional case, formaldehyde is not released during processing and products. In addition, it can be treated at a low temperature of around room temperature to about 80 ° C., and a work cloth with little reduction in fiber strength can be obtained.
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成４年６月１８日[Submission date] June 18, 1992
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１０[Correction target item name] 0010
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１０】 ビニル基を２つ以上有するモノマーある
いはオリゴマーとしては、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアク
リルアミド、アジピン酸ジビニル、ジビニルベンゼン、
ジビニルスルホン、ジアリルフタレート、ジアリルイソ
フタレート、３，９−ジビニル−２，４，８，１０−テ
トラオキサスピロ〔５，５〕 ウンデカン、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、ピスフェノールＡ−ジエポキシ−アク
リル酸付加物、グリセリンジメタクリレート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、ウレタンプレポリマーなどの
ジビニルモノマー、１，３，５−トリアクリロイルヘキ
サハイドロ−ｓ−トリアジン、１，２，４−トリビニル
シクロヘキサン、トリメリト酸トリアリル、トリアリル
イソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレートなどのようなトリビニ
ルモノマー、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが
挙げられる。As the monomer or oligomer having two or more vinyl groups, N, N′-methylenebisacrylamide, divinyl adipate, divinylbenzene,
Divinyl sulfone, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, 3,9-divinyl-2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, diethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pisphenol A-diepoxy-acrylic Acid addition products, glycerin dimethacrylate, hexamethylene diisocyanate, divinyl monomers such as urethane prepolymers, 1,3,5-triacryloylhexahydro-s-triazine, 1,2,4-trivinylcyclohexane, triallyl trimellitate, and triaryl triate. Trivinyl monomers such as allyl isocyanurate, triallyl cyanurate, trimethylolpropane triacrylate, etc., pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythriate Examples include tall hexaacrylate.
【手続補正２】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１５[Name of item to be corrected] 0015
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１５】 電子線照射の条件は、繊維を損傷しなけ
れば、特に限定されないが、線量としては１〜１０Ｍｒ
ａｄ程度が好ましい。The conditions of electron beam irradiation are not particularly limited as long as the fibers are not damaged, but the dose is 1 to 10 Mr.
About ad is preferable.
【手続補正３】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００３２[Name of item to be corrected] 0032
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００３２】 この布をエリアビーム形電子線照射装置
により窒素中で電子線照射を行なった。条件は加速電圧
１７５ｋＶ，電子流１１ｍＡ、トレー搬送速度２０ｍ／
分で、照射線量は８Ｍｒａｄであった。処理後、６５℃
の条件下で長時間湯洗いを行なった後、乾燥し加工布を
得た。この加工布のポリマーの付着率は１４．２９％で
あった。得られた加工布のモンサント法による湿防しわ
性は開角度（タテ＋ヨコ）２１４゜（原布１７３゜）で
あった。This cloth was subjected to electron beam irradiation in nitrogen by an area beam type electron beam irradiation device. The conditions are accelerating voltage of 175 kV, electron flow of 11 mA, tray transfer speed of 20 m /
In minutes, the irradiation dose was 8 Mrad. After processing, 65 ℃
After being rinsed with hot water for a long time under the conditions described above, it was dried to obtain a processed cloth. The polymer attachment rate of this work cloth was 14.29%. The processed fabric thus obtained had a moist wrinkle resistance according to the Monsanto method of an opening angle (vertical + width) of 214 ° (a raw fabric of 173 °).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 静男 和歌山県伊都郡かつらぎ町東渋田567番地 (72)発明者 伊藤 修 和歌山県和歌山市島51−11 県職員住宅２ 号 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shizuo Kubota 567, Higashi-Shibuda, Katsuragi-cho, Ito-gun, Wakayama Prefecture (72) Inventor Osamu Ito 51-11 Island, Wakayama-shi, Wakayama Prefecture Prefectural Employee Housing No. 2
Claims (1)
いはオリゴマーと膨潤材をセルロース繊維に付与した
後、この繊維を低温プラズマ処理あるいは電子線照射処
理することを特徴とするセルロース繊維のウオッシュア
ンドウェア加工法。1. A wash-and-wear process for cellulose fibers, which comprises applying a monomer or oligomer having two or more vinyl groups and a swelling material to cellulose fibers, and then subjecting these fibers to low-temperature plasma treatment or electron beam irradiation treatment. Law.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15359092A JPH062273A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Wash & wear finishing of cellulosic fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15359092A JPH062273A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Wash & wear finishing of cellulosic fiber |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH062273A true JPH062273A (en) | 1994-01-11 |
Family
ID=15565820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15359092A Withdrawn JPH062273A (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Wash & wear finishing of cellulosic fiber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062273A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4807972A (en) * | 1986-01-21 | 1989-02-28 | American Microsystems, Inc. | Temperature compensating driver for a liquid crystal display |
| CN100412259C (en) * | 2006-05-11 | 2008-08-20 | 天津工业大学 | Stimuli-responsive textile fabric and method for preparing same |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP15359092A patent/JPH062273A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4807972A (en) * | 1986-01-21 | 1989-02-28 | American Microsystems, Inc. | Temperature compensating driver for a liquid crystal display |
| CN100412259C (en) * | 2006-05-11 | 2008-08-20 | 天津工业大学 | Stimuli-responsive textile fabric and method for preparing same |
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|---|---|---|---|
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