JPH06222345A - Channel structural body for plasma address - Google Patents

Channel structural body for plasma address

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JPH06222345A
JPH06222345A JP5234141A JP23414193A JPH06222345A JP H06222345 A JPH06222345 A JP H06222345A JP 5234141 A JP5234141 A JP 5234141A JP 23414193 A JP23414193 A JP 23414193A JP H06222345 A JPH06222345 A JP H06222345A
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channel
fiber
electrode
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reference electrode
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Shii Maatein Pooru
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133374Constructional arrangements; Manufacturing methods for displaying permanent signs or marks

Abstract

PURPOSE:To provide the channel structural body for plasma address having a structure which can be more easily produced. CONSTITUTION:This channel structural body for plasma address has a transparent substrate 56, plural fiber-shaped supporting members 88 which are fixed approximately parallel on the main plane of this transparent substrate and a transparent cover sheet member 90 which covers the top of these plural fiber- shaped supporting members. lonizing gases are sealed within the structural body. Then, the structure is simple and the production process is simplified and, therefore, a remarkable contribution is made to a reduction of costs and an improvement in reliability.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、内部のイオン化可能ガ
スを選択的にイオン化(プラズマ化)させてデータ・エ
レメントのアドレス指定を行うプラズマ・アドレス用チ
ャネル構体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma addressing channel structure for selectively ionizing (plasmaizing) an ionizable gas therein to address a data element.

【0002】[0002]

【従来技術】プラズマ・アドレス装置は種々の応用例が
あり、例えば、メガサンプル・アナログ・メモリ装置、
ビデオ・カメラ、液晶フラット表示パネル等に利用され
ている。このような装置は、ブザク(Buzak)等による
米国特許第4896149号(対応日本出願特開平1−
217396号)に開示されている。この特許の実施例
では、表示スクリーン上を横切る複数の平行チャネル内
にイオン化可能なガスを封入し、各チャネル内のガスを
選択的にイオン化(プラズマ化)し、そのチャネルに沿
った表示エレメントをアドレス指定する。ガスをイオン
化する構体として、基準電極、即ちアノードと、データ
・ストローブ電極、即ちカソードとが各チャネルの全長
に亘り設けられている。
2. Description of the Related Art Plasma address devices have various applications, for example, megasample analog memory devices,
It is used in video cameras, liquid crystal flat display panels, etc. Such an apparatus is disclosed in U.S. Pat. No. 4,896,149 to Buzak et al.
No. 217396). In the example of this patent, the ionizable gas is enclosed in a plurality of parallel channels that traverse the display screen, and the gas in each channel is selectively ionized (plasmaized), and display elements along that channel are placed. Address. A reference electrode, or anode, and a data strobe electrode, or cathode, are provided along the entire length of each channel as a structure for ionizing the gas.

【0003】チャネル内のガスがイオン化さている時、
そのチャネルと垂直に交差する複数のデータ・ラインに
データ信号が供給され、表示エレメントがアドレス指定
される。チャネル配列によって支持された液晶材料がデ
ータ信号に応じて駆動され、画像が表示される。
When the gas in the channel is ionized,
A data signal is provided on a plurality of data lines that intersect the channel vertically to address the display elements. The liquid crystal material supported by the channel array is driven according to the data signal to display an image.

【0004】図4は、従来のプラズマ・アドレス構体の
一部分の分解斜視図である。ガラス製基板10の中に複
数の平行なチャネル12が形成され、各チャネルの断面
は略台形状であり、各チャネル内にはイオン化可能なガ
スが封入される。隣合うチャネル12の間は、2つの側
壁14と上端壁16で構成される支持構体18により分
離されている。これらの複数の支持構体18は液晶材料
及びその他部品を支える。ストローブ用の行電極、即ち
カソード20とグランド基準電極、即ちアノード22
は、各チャネル12の底面4上に配置されている。カソ
ード20及びアノード22は、比較的細くて薄い金属層
である。各カソード20は、データ・ストローブ回路
(図示せず)の対応する出力増幅器から行ストローブ信
号を受け、そのチャネル12内に封入されたガスが選択
的にイオン化される。
FIG. 4 is an exploded perspective view of a portion of a conventional plasma addressed structure. A plurality of parallel channels 12 are formed in the glass substrate 10, each channel has a substantially trapezoidal cross section, and an ionizable gas is enclosed in each channel. Adjacent channels 12 are separated by a support structure 18 composed of two sidewalls 14 and an upper wall 16. These plurality of support structures 18 support the liquid crystal material and other components. Row electrodes for strobes, ie cathodes 20 and ground reference electrodes, ie anodes 22.
Are arranged on the bottom surface 4 of each channel 12. The cathode 20 and the anode 22 are relatively thin and thin metal layers. Each cathode 20 receives a row strobe signal from the corresponding output amplifier of a data strobe circuit (not shown) and the gas enclosed in its channel 12 is selectively ionized.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図4の装置の問題点
は、ガラス基板10を用いているので、上述のチャネル
構体を形成する製造工程が複雑になるという点である。
上述のような従来のイオン化可能ガスを封入するチャネ
ル構体又はその他部品の形成技法によれば、チャネル1
2、カソード20又はアノード22の生成にはフォトリ
ソグラフィー技法があり、チャネル12、カソード20
又はアノード22の粗成形には、スパッタリング、蒸着
又はCVD技法等があり、これらの最終成形にはスクリ
ーン印刷技法が用いられる。プラズマ・アドレス構体に
好適なチャネル構体は、従来よりも簡単な製造方法で形
成することが望ましい。
The problem of the apparatus of FIG. 4 is that the glass substrate 10 is used, and therefore the manufacturing process for forming the above channel structure is complicated.
According to conventional techniques for forming a channel structure or other components that enclose an ionizable gas as described above, the channel 1
2, the production of the cathode 20 or the anode 22 includes photolithography techniques, the channel 12, the cathode 20
Alternatively, the anode 22 may be roughly formed by sputtering, vapor deposition, CVD, or the like, and a screen printing technique is used for final forming the anode 22. It is desirable that the channel structure suitable for the plasma address structure is formed by a manufacturing method simpler than the conventional one.

【0006】本発明の目的は、より簡単に製造可能な構
造を有するプラズマ・アドレス用チャネル構体を提供す
ることである。
It is an object of the present invention to provide a plasma addressing channel structure having a structure that is easier to manufacture.

【0007】[0007]

【課題を解決する為の手段】本発明のプラズマ・アドレ
ス用チャネル構体は、製造方法が簡単な構造を有する。
このチャネル構体は、透明基板56と、該透明基板の主
面上に略平行に固着された複数のファイバ状支持部材8
8と、該複数のファイバ状支持部材の上を覆う透明カバ
ー・シート部材90とを具え、内部にイオン化可能ガス
が密封されている。
The plasma addressing channel structure of the present invention has a structure that is easy to manufacture.
This channel structure includes a transparent substrate 56 and a plurality of fiber-shaped support members 8 fixed to the main surface of the transparent substrate substantially in parallel.
8 and a transparent cover sheet member 90 covering the plurality of fiber-like support members, and the ionizable gas is sealed inside.

【0008】[0008]

【実施例】本明細書において、「水平」及び「垂直」の
用語は、図2に図示した通りに使用される。すなわち、
「列」の方向は垂直方向(48a)であり、「行」の方
向は水平方向(48b)である。更に、「内側」という
用語は、所謂内側のコンポーネント又はコンポーネント
の一部分を示すのに使用し、例えば、あるコンポーネン
トの上側端面がそのコンポーネントの「内側」の面を意
味する場合は、そのコンポーネントの下側にある他のコ
ンポーネントの数より上側にある他のコンポーネントの
数の方が多い状態にあることを意味する。この場合、
「外側」の面は、そのコンポーネントの下側端面となる
ことは言うまでもない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As used herein, the terms "horizontal" and "vertical" are used as illustrated in FIG. That is,
The "column" direction is the vertical direction (48a) and the "row" direction is the horizontal direction (48b). Further, the term "inner" is used to refer to a so-called inner component or a portion of a component, such as below a component if the upper end face of the component means the "inner" face of the component. It means that the number of other components on the upper side is larger than the number of other components on the side. in this case,
It goes without saying that the "outer" face is the lower end face of the component.

【0009】図2は、フラット表示パネル・システム4
0の構成を示す模式図である。表示パネル42は表示面
44を有する。複数の同一のデータ蓄積エレメント又は
表示エレメント46が長方形に配列されており、互いに
垂直方向48a及び水平方向48bに所定の距離だけ離
れて配置されている。
FIG. 2 shows a flat display panel system 4
It is a schematic diagram which shows the structure of 0. The display panel 42 has a display surface 44. A plurality of identical data storage elements or display elements 46 are arranged in a rectangle, and are arranged at a predetermined distance in the vertical direction 48a and the horizontal direction 48b.

【0010】この配列内の各表示エレメント46は、垂
直の列電極50と水平の行に配列されたチャネル52と
の交差部分であり、これら列電極及び行チャネルは、共
に薄く且つ細く形成されている。表示エレメント46の
各チャネル52に沿った各行は、この実施例では表示デ
ータの水平1ラインを表している。図3は、図2の装置
の一部分の切欠き斜視図である。
Each display element 46 in this array is the intersection of a vertical column electrode 50 and a channel 52 arranged in a horizontal row, both column electrodes and row channels being formed thin and thin. There is. Each row along each channel 52 of display element 46 represents one horizontal line of display data in this embodiment. 3 is a cutaway perspective view of a portion of the apparatus of FIG.

【0011】図1、図2及び図3において、列電極50
とチャネル52の幅によって表示エレメント46の大き
さが決まる。列電極50は、第1の非導電性透明基板5
4の主面上に配置され、チャネル52は、第2の非導電
性透明基板56の主面内に切り込み形成されている。な
お、反射型表示装置、例えば、捻れネマチック液晶セル
ではなく、被包性の液晶セルの直視型又は投射型の表示
装置では透明基板は1つのみで十分であることは当業者
には容易に理解できよう。
In FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3, the column electrode 50
The width of the channel 52 determines the size of the display element 46. The column electrode 50 includes the first non-conductive transparent substrate 5
4, the channel 52 is cut and formed in the main surface of the second non-conductive transparent substrate 56. It is easy for those skilled in the art that only one transparent substrate is sufficient for a reflective display device, for example, a direct-viewing type or projection type display device of an encapsulating liquid crystal cell instead of a twisted nematic liquid crystal cell. You can understand.

【0012】ネマチック液晶のような電気光学材料の層
58が基板54と56の間に封入されている。基板56
に形成されたチャネル52の中にイオン化可能なガスが
封入される。薄膜誘電体層80は、ガラス、マイカ、プ
ラスチック等の絶縁体で形成され、チャネル52内のイ
オン化可能ガスと液晶層58との間の絶縁層として機能
する。この誘電体層80がないと、液晶材料がチャネル
52の中に流れ込み、イオン化可能ガス又は液晶材料の
一方又は両方が汚染されてしまう。この誘電体層80
は、固体又は被包性の電気光学材料であり、高温耐性が
あり且つイオン化可能ガスとの混濁を生じないものを使
用した場合には除去しても良い。
A layer 58 of electro-optic material such as nematic liquid crystal is encapsulated between substrates 54 and 56. Board 56
An ionizable gas is enclosed in the channel 52 formed in the channel. The thin film dielectric layer 80 is formed of an insulator such as glass, mica, or plastic, and functions as an insulating layer between the ionizable gas in the channel 52 and the liquid crystal layer 58. Without this dielectric layer 80, the liquid crystal material would flow into the channel 52 and contaminate the ionizable gas or the liquid crystal material or both. This dielectric layer 80
Is a solid or encapsulating electro-optical material, and may be removed when a material that has high temperature resistance and does not cause turbidity with the ionizable gas is used.

【0013】列電極50は、 データ・ドライバ64の
異なる出力増幅器62からの平行出力導体60のアナロ
グ電圧のデータ・ドライブ信号を夫々受ける。チャネル
52は、データ・ストローブ発生器70の異なる出力増
幅器68の平行出力導体66からパルス状のデータ・ス
トローブ信号を夫々受ける。画像を表示領域44の略全
域で同期させる為に、表示システム40には、走査コン
トローラ72が設けられ、データ・ドライバ64とデー
タ・ストローブ発生器70の動作が制御される。この結
果、各行の走査期間中に、その行の全ての列の表示エレ
メント46がアドレス指定される。
The column electrodes 50 each receive a data drive signal of an analog voltage on the parallel output conductors 60 from different output amplifiers 62 of the data driver 64. Channels 52 each receive pulsed data strobe signals from parallel output conductors 66 of different output amplifiers 68 of data strobe generator 70. The display system 40 is provided with a scan controller 72 to control the operation of the data driver 64 and the data strobe generator 70 in order to synchronize the images over substantially the entire display area 44. As a result, during each row scan, the display elements 46 in all columns of that row are addressed.

【0014】表示パネル42は、1対の略平行な電極構
体74を含み、これらの電極構体74は電気光学材料層
58及び誘電体層80によって離間されている。電極構
体74の基板54の内側表面82上には、酸化インジウ
ム・スズでの略平行な透明列電極50が縞状のパターン
状に形成されている。隣合う列電極50は互いに距離8
4だけ離間し、この距離84は、1行内の隣合う表示エ
レメント46の水平離間距離である。
The display panel 42 includes a pair of substantially parallel electrode assemblies 74, which are separated by an electro-optic material layer 58 and a dielectric layer 80. On the inner surface 82 of the substrate 54 of the electrode assembly 74, the substantially parallel transparent column electrodes 50 of indium tin oxide are formed in a striped pattern. Adjacent column electrodes 50 have a distance of 8 from each other.
4, the distance 84 is the horizontal distance between adjacent display elements 46 in a row.

【0015】図3及び図1に示しているように、チャネ
ル52は細長いファイバ88を電極構体76の基板56
の内側表面上に結合して形成しても良い。また、このチ
ャネル52には基準電極92及び行電極94も設けてい
る。この結果、チャネル52は、ファイバ88、基板の
内側表面86及び誘電体層80により形成されることに
なる。基板56は透明であることが望ましい。更に望ま
しくは、基板56は熱膨張係数が71E−7/℃〜75
E−7/℃(「E−7」は10の−7乗を意味する。)
の範囲のガラスで形成されたものが良い。本発明に好適
なガラス材料の一例は、市販されているスコット(Scho
tt)D−263ガラスである。基板56の寸法は任意で
あるが、例えば15.24cm×15.24cm(6イ
ンチ×6インチ)でも良い。
As shown in FIGS. 3 and 1, channel 52 includes elongated fiber 88 and substrate 56 of electrode assembly 76.
It may be formed by bonding on the inner surface of. The channel 52 is also provided with a reference electrode 92 and a row electrode 94. As a result, the channel 52 will be formed by the fiber 88, the inner surface 86 of the substrate and the dielectric layer 80. The substrate 56 is preferably transparent. More preferably, the substrate 56 has a coefficient of thermal expansion of 71E-7 / ° C to 75.
E-7 / ° C. (“E-7” means 10 −7 power)
The one formed of glass in the range is preferable. One example of a glass material suitable for the present invention is the commercially available Scott (Scho
tt) D-263 glass. The size of the substrate 56 is arbitrary, but may be, for example, 15.24 cm × 15.24 cm (6 inches × 6 inches).

【0016】ファイバ88も適当な寸法と形状で良く、
量産に適した円筒形ファイバでも良い。これらのファイ
バの直径の一例は、約76μm(3mil)〜約152
μm(6mil)である。ファイバの長さは、表示面4
4の長さと略同じで良い。
The fiber 88 may also be of suitable size and shape,
A cylindrical fiber suitable for mass production may be used. An example of the diameter of these fibers is from about 76 μm (3 mil) to about 152 μm.
μm (6 mil). The length of the fiber is 4
It can be almost the same as the length of 4.

【0017】本実施例のファイバ88はガラス又はそれ
に類似した材料で形成できるが、ガラスが好適である。
その際、ファイバのガラスの熱膨張係数は、チャネル5
2を形成する基板56の熱膨張係数値と同一又は近似さ
せる。本明細書の目的達成の為には、両者の熱膨張係数
の差を約2〜3CTE(熱膨張係数単位)以内とする。
The fiber 88 of this embodiment can be made of glass or a similar material, with glass being preferred.
The coefficient of thermal expansion of the glass of the fiber is then
The coefficient of thermal expansion of the substrate 56 forming 2 is the same as or approximates. In order to achieve the object of the present specification, the difference in thermal expansion coefficient between the two is within about 2 to 3 CTE (coefficient of thermal expansion unit).

【0018】各チャネル52の全長に沿って1対の電極
92及び94が基板内側表面86の上又はファイバ88
の表面上に配置されている。隣合うチャネル52は、相
互に距離96、すなわち円筒形ファイバ88の直径分だ
け離間している。この離間距離96は、チャネル52の
垂直方向の寸法も決定する。列電極50とチャネル52
との交差領域は表示エレメント46の大きさを決定し、
その様子を図3に点線部分46で示している。
Along the length of each channel 52 is a pair of electrodes 92 and 94 on the substrate inner surface 86 or fiber 88.
Are placed on the surface of. Adjacent channels 52 are separated from each other by a distance 96, the diameter of cylindrical fiber 88. This separation distance 96 also determines the vertical dimension of the channel 52. Column electrode 50 and channel 52
The area of intersection with and determines the size of the display element 46,
This state is shown by a dotted line portion 46 in FIG.

【0019】行電極94は表示システムにおいてカソー
ドとして機能し、過酷な環境に晒されるので、荷電粒子
に対する耐久性が必要である。本発明に好適なカソード
(行電極)94は十分な強度と導電性を有する必要もあ
る。また、基板に結合されたときは、熱膨張係数は同じ
か約2CTE以内にあることも必要である。よって、こ
れらの条件を満足するような材料としては、ニッケル・
ワイヤ、トリウム化タングステンをコーティングした
銅、鉄ワイヤ、導電合金等で略同じ熱膨張係数の材料を
使用できる。このカソード行電極94に好適な市販の材
料は、例えばニューヨークのマテリアル・リサーチ社
(Material Research Corp.)から入手できる。
Since the row electrode 94 functions as a cathode in the display system and is exposed to a harsh environment, it is required to have resistance to charged particles. The cathode (row electrode) 94 suitable for the present invention must also have sufficient strength and conductivity. It is also necessary that the coefficient of thermal expansion be the same or within about 2 CTE when bonded to the substrate. Therefore, as a material that satisfies these conditions, nickel.
Materials having substantially the same coefficient of thermal expansion can be used such as wires, copper coated with thorium tungsten, iron wires, and conductive alloys. Suitable commercially available materials for the cathode row electrode 94 are available, for example, from Material Research Corp. of New York.

【0020】この表示システムにおいてアノードとして
機能する基準電極92は、図1に示すように、ファイバ
88の表面又は基板内側表面86に適当なワイヤを結合
して形成する。基準電極92は、カソードとして機能す
る行電極94程は動作中に過酷な環境に晒されることは
ない。本発明に好適なアノードである基準電極92は、
チャネル52の全長にわたり一様なプラズマ放電を得る
電流を維持できる性質及び強度を有し、基板に結合され
たとき、略同一の熱膨張係数(約2CTE以内)を有す
ることが必要である。よって、基準電極92は、銅、ア
ルミニウム、その他適当な合金等で、略同一の熱膨張係
数を有するもので形成可能である。好適なアノード基準
電極92の材料は、市販されており、例えば上述のマテ
リアル・リサーチ社から入手できる。
The reference electrode 92, which serves as the anode in this display system, is formed by bonding a suitable wire to the surface of the fiber 88 or the substrate inner surface 86, as shown in FIG. The reference electrode 92 is less exposed to the harsh environment during operation than the row electrode 94, which functions as a cathode. The reference electrode 92, which is an anode suitable for the present invention, is
It is necessary to have a property and strength capable of maintaining a current for obtaining a uniform plasma discharge over the entire length of the channel 52, and have substantially the same coefficient of thermal expansion (within about 2 CTE) when bonded to a substrate. Therefore, the reference electrode 92 can be formed of copper, aluminum, or another suitable alloy having the substantially same thermal expansion coefficient. Suitable anode reference electrode 92 materials are commercially available and are available, for example, from Material Research, Inc., supra.

【0021】チャネル52の基準電極92は、図3に示
すように、グランド電位に固定可能な共通基準電位に接
続される。チャネル52の行電極94は、データ・スト
ローブ発生器70の異なる出力増幅器68に夫々接続さ
れている。基準電極92及び行電極94は、表示パネル
42の裏側で夫々基準電位源及びデータ・ストローブ発
生出力端66に接続されることが望ましい。
The reference electrode 92 of the channel 52 is connected to a common reference potential which can be fixed to the ground potential, as shown in FIG. The row electrodes 94 of the channel 52 are respectively connected to different output amplifiers 68 of the data strobe generator 70. The reference electrode 92 and the row electrode 94 are preferably connected to the reference potential source and the data strobe generating output terminal 66 on the back side of the display panel 42, respectively.

【0022】基準電極92は、動作状態において行電極
94の場合ほど過酷な環境に会わない。よって、基準電
極92を内側基板表面86上に導電材料でデポジション
形成しても良い。デポジション(堆積)技法は、本発明
の装置のチャネル構体の量産に好適である。基準電極9
2は、チャネル92の成形前、成形中又は成形後に基板
56上又はファイバ88上に堆積成形しても良い。基準
電極92の成形するのにスクリーン・デポジション技法
を使用することは、本発明の実施に好適な製造方法の一
つである。
The reference electrode 92 does not encounter a more harsh environment than the row electrode 94 in the operating condition. Therefore, the reference electrode 92 may be deposited and formed on the inner substrate surface 86 with a conductive material. The deposition technique is suitable for mass production of the channel structure of the device of the present invention. Reference electrode 9
2 may be deposited and molded on the substrate 56 or fiber 88 before, during, or after molding the channel 92. The use of screen deposition techniques to shape the reference electrode 92 is one of the preferred manufacturing methods for practicing the present invention.

【0023】基準電極92は、ガスのイオン化に適する
ようにチャネル52の中で比較的大面積の導電表面を形
成した幅98を有する。この基準電極92の幅98の導
電表面領域は、チャネル52及び誘電体層80の非導電
構体に起因するイオン化ガスの消滅に打ち勝つので、ガ
スのイオン化状態が維持できる。
The reference electrode 92 has a width 98 that forms a relatively large area of the conductive surface in the channel 52 to accommodate gas ionization. The conductive surface region having the width 98 of the reference electrode 92 overcomes the disappearance of the ionized gas due to the non-conductive structure of the channel 52 and the dielectric layer 80, so that the ionized state of the gas can be maintained.

【0024】幅98を有する基準電極92と行電極94
は、チャネル52の底面部分の大部分を占める導電表面
領域である。この比較的大きな導電表面領域により、少
量のガスのイオン化(プラズマ)状態が維持される。よ
って、例えば直径の小さいファイバを用いることにより
各チャネル52の深さを浅く成形しても良いので、製造
が簡単になる上に、有効視野角の大きな表示パネル42
を実現することが出来る。
Reference electrode 92 and row electrode 94 having a width 98
Is a conductive surface region that occupies most of the bottom portion of the channel 52. This relatively large conductive surface area maintains the ionized (plasma) state of a small amount of gas. Therefore, the depth of each channel 52 may be formed shallow by using, for example, a fiber having a small diameter, which simplifies the manufacturing process and increases the effective viewing angle of the display panel 42.
Can be realized.

【0025】基準電極92を形成するのに適した透明導
電材料は、例えば、酸化インジウム・スズや金属又はニ
ッケル及び酸化インジウム・スズの混合体等を用いてチ
ャネルの全長に亘って導電性を維持するようにしても良
い。しかし、このような材料の導電性は比較的低い。よ
って、酸化インジウム・スズで形成し、且つ広めの幅9
8を有する基準電極92は、図示していないが、高導電
性の細い金属ストリップを酸化インジウム・スズの上に
被着して形成するようにしても良い。
A suitable transparent conductive material for forming the reference electrode 92 is, for example, indium tin oxide or metal or a mixture of nickel and indium tin oxide to maintain conductivity over the entire length of the channel. It may be done. However, the conductivity of such materials is relatively low. Therefore, it is made of indium tin oxide and has a wide width 9
Although not shown, the reference electrode 92 having 8 may be formed by depositing a thin metal strip having high conductivity on indium tin oxide.

【0026】または、厚膜スクリーニング技法を採用し
て基板表面86上にニッケルその他類似の材料の幅広の
ストリップを堆積成形しても良い。ファイバ88は、こ
の成形されたストリップの幅方向の略中央に配置され、
焼結サイクル中に基板が軟化するにつれてその位置で焼
結される。このような構成にすると、必要な処理ステッ
プ数が低減するという効果が生じ、1回の成形ステップ
によってファイバ88の何れかの側面に電極が成形さ
れ、ファイバ88はニッケル電極の上に固定される。電
極のアノード及びカソードの機能を交互に交換させるこ
とにより、チャネル52の全てがアノード及びカソード
の両方の機能を有し、電極及び接続の総数を上述の実施
例の半分にすることが出来る。しかし、この場合には、
チャネル52の駆動方法はより複雑になる。
Alternatively, thick film screening techniques may be employed to deposit wide strips of nickel or similar material on the substrate surface 86. The fiber 88 is arranged substantially in the center in the width direction of the molded strip,
As the substrate softens during the sintering cycle, it sinters in place. This configuration has the effect of reducing the number of processing steps required, and one molding step forms the electrode on either side of the fiber 88 and fixes the fiber 88 on the nickel electrode. . By alternating the anode and cathode functions of the electrodes, all of the channels 52 have both anode and cathode functions, and the total number of electrodes and connections can be halved from the previous embodiment. But in this case,
The driving method of the channel 52 becomes more complicated.

【0027】チャネル52の成形は、例えば、ガラス・
ファイバ固着法のような種々の既知の技法により行え
る。ファイバ88は、任意の適当な方法により基板内側
表面86上に固着しても良い。同様に、基準電極92及
び行電極94を適当な方法により基板内側表面86又は
ファイバ88に結合する場合には、基準電極92と行電
極94とカバー・シート90とを分離させ、電極92及
び94を外部から電気的にアクセスできるようにする。
また、基準電極92と行電極94との間の離間距離は、
チャネル52の全長に亘って維持されることが望まし
い。電極92及び94の場合と同様の接続技術を用いて
ファイバ88を接続する場合には、これらのコンポーネ
ントの接続順序は本発明にとっては重要ではない。
The channel 52 is formed, for example, from glass.
This can be done by a variety of known techniques such as fiber sticking. The fibers 88 may be affixed to the substrate inner surface 86 by any suitable method. Similarly, when the reference electrode 92 and the row electrode 94 are coupled to the substrate inner surface 86 or the fiber 88 by a suitable method, the reference electrode 92, the row electrode 94 and the cover sheet 90 are separated, and the electrodes 92 and 94 are separated. To be electrically accessible from the outside.
In addition, the distance between the reference electrode 92 and the row electrode 94 is
It is desirable to maintain the entire length of the channel 52. If the fiber 88 is connected using a connection technique similar to that of the electrodes 92 and 94, the connection order of these components is not critical to the invention.

【0028】例えば、ガラス誘電体層又は適当な接着性
の有機混合物(例えば、エレクトロサイエンス・ラボラ
トリー社製の4032Cフリットのような接着剤)をき
れいな基板表面86上に乗せる。この接着剤を基板表面
86上に一様に塗るには、表面がきれいで塗色していな
いことが望ましい。更に、この接着剤は、処理後のプラ
ズマ即ち電離気体によるイオン衝撃によって分解しない
ことが望ましい。ファイバ88は、この接着剤が塗られ
た基板上に配置される。このファイバの配置をするに
は、例えば、ファイバ88を受ける機械成形された溝を
有する金属プレートを使用する等の適当な方法がある。
これらファイバ、接着剤及び基板の組立構体は、オーブ
ンの中で焼結され、加熱の後に冷却され、ファイバが基
板上に固着され、所望の構造となる。冷却後に金属プレ
ートその他の位置調整装置を取り外す。
For example, a glass dielectric layer or a suitable adhesive organic mixture (eg, an adhesive such as 4032C frit from Electroscience Laboratories) is placed on a clean substrate surface 86. In order to apply this adhesive uniformly on the substrate surface 86, it is desirable that the surface is clean and unpainted. Further, it is desirable that the adhesive does not decompose by the plasma after processing, that is, ion bombardment by the ionized gas. The fiber 88 is placed on a substrate coated with this adhesive. This fiber placement is in any suitable manner, such as by using a metal plate with machined grooves to receive the fiber 88.
The fiber, adhesive and substrate assembly is sintered in an oven, heated and cooled to bond the fibers onto the substrate and form the desired structure. After cooling, remove the metal plate and other alignment devices.

【0029】ワイヤ状の電極92及び94を、同様のプ
ロセスで基板内側表面86又はファイバ88に結合して
も良い。ワイヤ状電極92及び94は、ファイバ88の
結合の前に結合しておくことが望ましい。
Wire-shaped electrodes 92 and 94 may be bonded to substrate inner surface 86 or fiber 88 in a similar process. Wire-shaped electrodes 92 and 94 are preferably bonded prior to bonding fiber 88.

【0030】基準電極92又は行電極94を、外部との
電気的接触をする接触パッド(図示せず)に同様の方法
で結合しても良い。この場合、ガラス上のパッドか又は
ガラスに接続された回路基板上のパッドの何れかに対し
て電気的接触が行われる。これらの接触パッドは、アル
ミニウム、金、銀その他の金属等のような導電製の材料
が望ましい。本実施例では、液晶パネルのエッジ・シー
ル(図示せず)は、電極92又は94の上に直接配置す
るか、又は外部からパネルへの電気的アクセスをする為
のパッドに配置する。液晶セルのエッジ・シールは、周
辺シール(図1の96)の上の少し外側に配置するのが
好適である。周辺シール96は、ガラス・カバー90と
基板56との間を密封する。エッジ・シール及び周辺シ
ール96は、既知の技法で成形しても良い。液晶用エッ
ジ・シールの一例は、3M(Minnesota Mining and Man
ufacturing)社製の1838エポキシ樹脂であり、周辺
シールの一例は、オーエンス・イリノイ(Owens Illino
is)社製のXS1175M1がある。あるいは、基準電
極92又は行電極94を回路基板に直接接続し、コネク
タその他の接続部品を使用しても良い。
The reference electrode 92 or the row electrode 94 may be connected in a similar manner to a contact pad (not shown) for making electrical contact with the outside. In this case, electrical contact is made to either the pad on the glass or the pad on the circuit board connected to the glass. These contact pads are preferably made of a conductive material such as aluminum, gold, silver or other metal. In this embodiment, the edge seal (not shown) of the liquid crystal panel is placed directly on the electrodes 92 or 94 or on pads for external electrical access to the panel. The edge seal of the liquid crystal cell is preferably located slightly outside the peripheral seal (96 in FIG. 1). Perimeter seal 96 provides a seal between glass cover 90 and substrate 56. The edge seal and perimeter seal 96 may be molded by known techniques. An example of a liquid crystal edge seal is 3M (Minnesota Mining and Man).
1838 epoxy resin manufactured by ufacturing, and an example of a peripheral seal is Owens Illino.
is) XS1175M1. Alternatively, the reference electrode 92 or the row electrode 94 may be directly connected to the circuit board and a connector or other connecting component may be used.

【0031】図1は、チャネル構体の構成を示す斜視図
であり、支持ファイバ88の右側に隣接して行電極(カ
ソード)94が配置され、行電極94は、夫々接触パッ
ド94′に電気的に接触している。これと対照的に、支
持ファイバ88の左側に隣接した基準電極(アノード)
92は、接触パッド92′に夫々電気的接触している。
この構造の代わりに、電極92及び94をチャネル52
の中でファイバ88と基板表面86の何れか一方又は両
方に結合させればどの位置に配置しても良い。基準電極
92及び行電極94は、何れもカバー・シート90に隣
接する位置には配置されないことが望ましい。これら基
準電極92及び行電極94の何れもカバー・シート90
に接触させないようにすることにより、クロストークを
低減し、それに付随する問題を解消する。実際に、基準
電極92及び行電極94は、カバー・シート90から出
来るだけ遠ざけるように配置するのが良い。電極とカバ
ー・シートとの距離が離れるにつれてクロストークが低
減するからである。脱気及びガス充填孔98が基板表面
86に設けられている。
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of the channel structure. A row electrode (cathode) 94 is arranged adjacent to the right side of the supporting fiber 88, and the row electrode 94 is electrically connected to the contact pads 94 '. Is in contact with. In contrast, the reference electrode (anode) adjacent to the left side of the support fiber 88.
The contacts 92 are in electrical contact with the contact pads 92 '.
Instead of this structure, the electrodes 92 and 94 are connected to the channel 52.
Among them, the fiber 88 and the substrate surface 86 may be arranged at any position as long as they are coupled to one or both of them. It is desirable that neither the reference electrode 92 nor the row electrode 94 be arranged at a position adjacent to the cover sheet 90. Both the reference electrode 92 and the row electrode 94 have a cover sheet 90.
By avoiding contact with, the crosstalk is reduced and the problems associated with it are eliminated. In practice, the reference electrode 92 and the row electrode 94 should be located as far away from the cover sheet 90 as possible. This is because crosstalk decreases as the distance between the electrode and the cover sheet increases. Degassing and gas filling holes 98 are provided in the substrate surface 86.

【0032】チャネル52は、図3に示すように、プラ
ズマ液晶表示装置に適用される。更に、チャネル52
は、他の応用例や類似の装置に採用可能なチャネル構体
の一部分として利用しても良い。
The channel 52 is applied to a plasma liquid crystal display device as shown in FIG. In addition, channel 52
May be utilized as part of a channel structure that can be employed in other applications and similar devices.

【0033】本発明の実施例に好適な誘電体層80は、
透明であり、ガラス、ポリアミド・プラスチック、マイ
カその他類似の材料で形成される。好適な誘電体層80
は、支持ファイバ88と略同じ熱膨張係数を有し、その
誤差は約2CTE(熱膨張係数ユニット)の範囲内であ
る。誘電体層80の厚さの範囲は、約38μm(1.5
mil)〜約76μm(3mil)程度である。この誘
電体層80は、単一のシートか又は複数のシートの集合
体で構成され、その表面領域は表示面44に平行であ
り、その面積は表示面44より大きく、周辺シール96
の大きさに合わせてある。更に、誘電体層80は、適当
な方法により基板表面86に結合されている。
The dielectric layer 80 suitable for the embodiment of the present invention is
It is transparent and is made of glass, polyamide plastic, mica and similar materials. Suitable dielectric layer 80
Has approximately the same coefficient of thermal expansion as the support fiber 88 and its error is in the range of about 2 CTE (coefficient of thermal expansion unit). The thickness range of the dielectric layer 80 is about 38 μm (1.5
mil) to about 76 μm (3 mil). The dielectric layer 80 is composed of a single sheet or an assembly of a plurality of sheets, the surface area of which is parallel to the display surface 44, the area of which is larger than that of the display surface 44, and the peripheral seal 96.
According to the size of. Further, the dielectric layer 80 is bonded to the substrate surface 86 by any suitable method.

【0034】例えば、誘電体層80を周辺シール96を
用いて基板表面86に封入しても良い。液晶パネルを吸
気し、大気圧よりかなり低い圧力(大気圧の5分の1程
度)まで内気圧を戻しと時、外部圧力により、誘電体層
80の位置は保持され、ファイバ88の上側表面に接触
する。誘電体層80の一例は、スコット・ガラス社(Sc
hott Glass Company)のD−263−000ガラスで形
成されたものである。
For example, the dielectric layer 80 may be encapsulated on the substrate surface 86 using a peripheral seal 96. When the liquid crystal panel is inhaled and the internal pressure is returned to a pressure considerably lower than the atmospheric pressure (about one fifth of the atmospheric pressure), the position of the dielectric layer 80 is held by the external pressure and the upper surface of the fiber 88 is held. Contact. An example of the dielectric layer 80 is Scott Glass (Sc
hott glass company) D-263-000 glass.

【0035】チャネル52の各々は、イオン化可能ガス
又はプラズマで満たされている。このガスはヘリウムを
含むことが望ましい。好適なガスの組成の一例は純粋な
ヘリウムである。表示エレメント46をアドレス指定す
るには、イオン化構造を用いてチャネル52のガスを選
択的にイオン化(プラズマ化)する。このイオン化構造
は、アノードとして機能する基準電極92とカソードと
して機能する行電極94を含んでいる。
Each of the channels 52 is filled with an ionizable gas or plasma. The gas preferably contains helium. An example of a suitable gas composition is pure helium. To address the display element 46, the ionization structure is used to selectively ionize (plasmaize) the gas in the channel 52. The ionization structure includes a reference electrode 92 that functions as an anode and a row electrode 94 that functions as a cathode.

【0036】各チャネル52に封入されたイオン化可能
ガスは、データ・ストローブ発生器70からの電圧に応
じて2つのスイッチ状態間で切り換わる電気スイッチと
して動作する。このスイッチにより基準電極92と液晶
材料層58との間が接続される。ストローブ信号が供給
されない時、チャネル52内のガスはイオン化せず、ス
イッチが非導通状態なのでスイッチはオフ状態である。
ストローブ信号が行電極94に印加されると、そのチャ
ネル52内のガスがイオン化(プラズマ化)され、導通
状態となるので、スイッチがオン状態となる。
The ionizable gas enclosed in each channel 52 acts as an electrical switch that switches between two switch states depending on the voltage from the data strobe generator 70. This switch connects the reference electrode 92 and the liquid crystal material layer 58. When the strobe signal is not provided, the gas in channel 52 is not ionized and the switch is off because the switch is non-conducting.
When the strobe signal is applied to the row electrode 94, the gas in the channel 52 is ionized (plasmaized) and brought into conduction, so that the switch is turned on.

【0037】より具体的に説明すると、電極構体76の
チャネル52に含まれるイオン化可能ガスは誘電体層8
0に通じており、ガスのイオン化により電極構体74と
基準電極92との間に導電路を形成する。ストローブ信
号を受けた行電極94のチャネル52内のプラズマ(イ
オン化ガス)は、導電状態(スイッチのオン状態)とな
って液晶材料層58の部分にグランド導電路を提供す
る。これによって、同時に列電極50から供給されるア
ナログ・データ電圧を液晶材料がサンプリングすること
が可能となる。ストローブ信号がオフとなってガスが非
導通となり、スイッチがオフ状態になると、その表示エ
レメント46の液晶材料層58にデータ・サンプル電圧
が保持される。このデータ・サンプル電圧は、その後の
画像フィールド期間中の新しいデータ電圧がプラズマ・
スイッチのオン状態の時に供給されるまで液晶材料層5
8の表示エレメント46に保持され続ける。上述の構成
によって、全ての表示エレメント46に略100%のデ
ューティ・サイクルの信号を供給することが可能にな
る。
More specifically, the ionizable gas contained in the channel 52 of the electrode assembly 76 is the dielectric layer 8
0, which forms a conductive path between the electrode assembly 74 and the reference electrode 92 by ionization of the gas. The plasma (ionized gas) in the channel 52 of the row electrode 94, which has received the strobe signal, is brought into a conductive state (switch-on state) and provides a ground conductive path to the portion of the liquid crystal material layer 58. This allows the liquid crystal material to sample the analog data voltage supplied from the column electrodes 50 at the same time. When the strobe signal turns off, the gas becomes non-conductive, and the switch turns off, the liquid crystal material layer 58 of the display element 46 holds the data sample voltage. This data sample voltage is the new data voltage for the plasma
Liquid crystal material layer 5 until it is supplied when the switch is on
8 display elements 46 continue to be held. The configuration described above allows all display elements 46 to be provided with a signal with a duty cycle of approximately 100%.

【0038】以上本発明の好適実施例について説明した
が、本発明はここに説明した実施例のみに限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱することなく必要に応
じて種々の変形及び変更を実施し得ることは当業者には
明らかである。
Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various modifications and changes can be made as necessary without departing from the gist of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that changes can be made.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明のプラズマ・アドレス用チャネル
構体は、透明基板上に複数のファイバ状支持部材を固着
し、その上を透明カバー・シートで覆い、内部にイオン
化可能ガスを封入するように構成したので、従来と比較
して製造工程が格段に簡単化され、製造コスト低減及び
信頼性の向上等に顕著な効果がある。
According to the plasma addressing channel structure of the present invention, a plurality of fiber-like supporting members are fixed on a transparent substrate, the transparent cover sheet is covered thereover, and an ionizable gas is enclosed inside. Since it is configured, the manufacturing process is remarkably simplified as compared with the conventional one, and there are remarkable effects in reduction of manufacturing cost and improvement of reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の構造を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing the structure of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明を利用するのに好適なプラズマ・アドレ
ス型フラット表示装置の構成を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a plasma addressed flat display device suitable for utilizing the present invention.

【図3】図2の装置の一部分の構成を示す切り欠け斜視
図である。
3 is a cutaway perspective view showing a partial configuration of the apparatus of FIG. 2. FIG.

【図4】従来のチャネル構体の部分構造を示す斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view showing a partial structure of a conventional channel structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

56 透明基板 88 ファイバ状支持部材 90 カバー・シート部材 92 基準電極 94 行電極 96 周辺シール 56 transparent substrate 88 fibrous support member 90 cover / sheet member 92 reference electrode 94 row electrode 96 peripheral seal

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板と、 該透明基板の主面上に略平行に固着された複数のファイ
バ状支持部材と、 該複数のファイバ状支持部材の上を覆う透明カバー・シ
ート部材とを具え、内部にイオン化可能ガスが密封され
たことを特徴とするプラズマ・アドレス用チャネル構
体。
1. A transparent substrate, a plurality of fiber-shaped supporting members fixed to the main surface of the transparent substrate substantially in parallel, and a transparent cover sheet member covering the plurality of fiber-shaped supporting members. A channel structure for plasma addressing, wherein an ionizable gas is sealed inside.
JP5234141A 1992-08-26 1993-08-26 Channel structure for plasma address Expired - Lifetime JP2739626B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

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US93560992A 1992-08-26 1992-08-26
US935609 1992-08-26

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1010812C2 (en) * 1997-12-15 2000-05-30 Koninkl Philips Electronics Nv Electrode structure for PALC panel.
EP1049129A1 (en) * 1999-04-28 2000-11-02 Technical Visions, Inc. Liquid crystal display device employing fiber spacers
CN100338692C (en) * 2002-05-23 2007-09-19 日本油脂株式会社 Transparent conductive laminate film, touch panel having this transparent conductive laminate film, and production method for this transparent conductive laminate film

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