JPH06222228A - Optical waveguide type element - Google Patents

Optical waveguide type element

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JPH06222228A
JPH06222228A JP618893A JP618893A JPH06222228A JP H06222228 A JPH06222228 A JP H06222228A JP 618893 A JP618893 A JP 618893A JP 618893 A JP618893 A JP 618893A JP H06222228 A JPH06222228 A JP H06222228A
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JP
Japan
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optical waveguide
optical fiber
optical
forming substrate
positioning marker
Prior art date
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Application number
JP618893A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinari Kozuka
義成 小塚
Takenori Ichiki
武典 一木
Atsuo Kondo
厚男 近藤
Kumiko Matsui
久美子 松井
Tetsuya Ejiri
哲也 江尻
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NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide an optical waveguide type element capable of connecting an optical fiber to an optical waveguide in a short time without using any special connecting element. CONSTITUTION:An electrode for optical waveguide 13 and a positioning marker for optical fiber 11 are formed simultaneously on an optical waveguide forming substrate 10 on which an optical waveguide 12 is formed. The positioning marker for optical fiber 11 is installed on both sides of the optical waveguide 12, and the interval between these markers 11 is approximately the same as the diameters of an incoming side optical fiber 20 and an outgoing side optical fiber 40. Then the incoming side optical fiber 20, outgoing side optical fiber 40, and positioning marker for optical fiber 11 are inspected visually by a microscope to position the incoming side optical fiber 20, outgoing side optical fiber 40, and optical waveguide 12 respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光導波路型素子に関し、
特に光ファイバと結合される光導波路が光導波路形成用
基板に形成された光導波路型素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide type device,
In particular, the present invention relates to an optical waveguide type device in which an optical waveguide coupled to an optical fiber is formed on an optical waveguide forming substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】光通
信システム等においては、光を伝送する光ファイバと、
光の強度変調、位相変調および光のスイッチング等を行
うための光導波路型素子とが互いに結合されて使用され
ている。
2. Description of the Related Art In an optical communication system or the like, an optical fiber for transmitting light,
Optical waveguide type elements for performing light intensity modulation, phase modulation, light switching, etc. are used in combination with each other.

【0003】光導波路型素子は、LiNbO3 等からな
る光導波路形成用基板の一主面に選択的に形成された光
導波路と、光導波路形成用基板表面上に選択的に形成さ
れた光導波路用電極とを有している。
The optical waveguide type element is an optical waveguide selectively formed on one main surface of an optical waveguide forming substrate made of LiNbO 3 or the like, and an optical waveguide selectively formed on the surface of the optical waveguide forming substrate. And an electrode for.

【0004】光導波路用電極は、この電極に電界をかけ
ることによってその周囲に屈折率変化を起こさせ、その
結果光のスイッチング、変調等を行うために使用され
る。
The electrode for the optical waveguide is used to cause a change in the refractive index around the electrode by applying an electric field to the electrode, and as a result, to perform switching and modulation of light.

【0005】光導波路には光ファイバが結合されるが、
この結合を低損失で行なうためにはサブミクロンレベル
で高精度に光導波路と光ファイバとの位置決めを行なう
必要がある。
An optical fiber is coupled to the optical waveguide,
In order to perform this coupling with low loss, it is necessary to position the optical waveguide and the optical fiber with high accuracy at the submicron level.

【0006】従来、この位置決めを行なう一方法とし
て、光導波路を光導波路形成用基板の上面から直接顕微
鏡で観察しながら光ファイバを位置決めすることが行な
われていた。しかしながら、LiNbO3 等からなる光
導波路形成用基板にTi拡散法やプロトン交換法により
形成された光導波路は非常に見えにくいために、この方
法によって光ファイバを位置決めすることが困難であっ
た。
Conventionally, as one method of performing this positioning, the optical fiber has been positioned while observing the optical waveguide directly from the upper surface of the optical waveguide forming substrate with a microscope. However, since the optical waveguide formed by the Ti diffusion method or the proton exchange method on the optical waveguide forming substrate made of LiNbO 3 or the like is very difficult to see, it is difficult to position the optical fiber by this method.

【0007】そのために、光導波路形成用基板の端面で
光ファイバを走査し、光導波路の反対側の端部において
出射光の光強度または光スポットパターンを観察しなが
ら最適位置を探し当てて光導波路と光ファイバとの位置
決めを行なう方法が採られている。
Therefore, the optical fiber is scanned at the end face of the optical waveguide forming substrate, and the optimum position is searched for while observing the light intensity or the light spot pattern of the emitted light at the end portion on the opposite side of the optical waveguide. The method of positioning with the optical fiber is adopted.

【0008】図2はこの従来の方法を説明するための概
略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining this conventional method.

【0009】まず、図2Aに示すように光導波路12お
よび光導波路用電極13が形成された光導波路形成用基
板10の端面15で入射側光ファイバ20を水平方向9
1および垂直方向92の両方向に走査し、光導波路形成
用基板10の反対側の端面16の光導波路12の端部か
ら出射する光をレンズ30、CCDカメラ60を介して
検出し、出射光観察用モニタ70において出射光スポッ
ト80として観察しながら入射側光ファイバ20の最適
位置を捜し当てて、入射側光ファイバ20の位置の粗調
整を行なう。なお、光導波路12の端面16から出射す
る光スポットの直径は5〜10μmであるのに対して、
CCDカメラ60の受光領域の直径は250μmもある
から、CCDカメラ60の位置決めは容易に行なうこと
ができる。
First, as shown in FIG. 2A, the incident side optical fiber 20 is horizontally oriented at the end face 15 of the optical waveguide forming substrate 10 on which the optical waveguide 12 and the optical waveguide electrode 13 are formed.
The light emitted from the end portion of the optical waveguide 12 of the end face 16 on the opposite side of the optical waveguide forming substrate 10 is detected through the lens 30 and the CCD camera 60, and the emitted light is observed. The optimum position of the incident side optical fiber 20 is searched for while observing as the outgoing light spot 80 on the monitor 70, and the position of the incident side optical fiber 20 is roughly adjusted. The diameter of the light spot emitted from the end face 16 of the optical waveguide 12 is 5 to 10 μm, while
Since the diameter of the light receiving area of the CCD camera 60 is 250 μm, the CCD camera 60 can be easily positioned.

【0010】その後、図2Bに示すように、レンズ3
0、CCDカメラ60および出射光観察用モニタ70
を、出射側光ファイバ40および光パワーメータ50の
組合わせに交換して、光導波路形成用基板10の端面1
6で出射側光ファイバ40を水平方向91および垂直方
向92の両方向に走査し、出射側光ファイバ40からの
出射光の光強度を光パワーメータ50によって測定しな
がら、光パワーメータ50の値が最大となるようにし
て、まず、出射側光ファイバ40の位置の粗調整を行な
い、次に、入射側光ファイバ20および出射側光ファイ
バ40を水平方向91および垂直方向92の両方向に微
走査し、出射側光ファイバ40からの出射光の光強度を
光パワーメータ50によって測定しながら、光パワーメ
ータ50の値が最大となるようにして、入射側光ファイ
バ20および出射側光ファイバ40の位置の微調整を行
なっていた。
Then, as shown in FIG. 2B, the lens 3
0, CCD camera 60 and monitor 70 for observing emitted light
Is replaced with a combination of the output side optical fiber 40 and the optical power meter 50, and the end face 1 of the optical waveguide forming substrate 10 is replaced.
6, the emission side optical fiber 40 is scanned in both the horizontal direction 91 and the vertical direction 92, and while the light intensity of the emission light from the emission side optical fiber 40 is measured by the optical power meter 50, the value of the optical power meter 50 is First, the position of the emission side optical fiber 40 is roughly adjusted so that the maximum, and then the incidence side optical fiber 20 and the emission side optical fiber 40 are finely scanned in both the horizontal direction 91 and the vertical direction 92. While measuring the light intensity of the outgoing light from the outgoing side optical fiber 40 by the optical power meter 50, the position of the incoming side optical fiber 20 and the outgoing side optical fiber 40 is adjusted so that the value of the optical power meter 50 becomes maximum. I was fine-tuning.

【0011】この方法においては、図2Aに示すよう
に、出射光観察用モニタ70によって出射光スポット8
0を観察しつつ入射側光ファイバ20を光導波路形成用
基板10の端面15において広範囲に走査する必要があ
り、また、図2Bに示すように、出射側光ファイバ40
からの出射光の光強度を光パワーメータ50によって測
定しながら、出射側光ファイバ40を光導波路形成用基
板10の端面16において広範囲に走査する必要がある
から、入射側光ファイバ20および出射側光ファイバ4
0の位置の粗調整に時間がかかるという問題があった。
In this method, as shown in FIG. 2A, the emitted light spot 8 is detected by the emitted light observation monitor 70.
It is necessary to scan the incident side optical fiber 20 over the end surface 15 of the optical waveguide forming substrate 10 while observing 0, and as shown in FIG.
Since it is necessary to scan the emission side optical fiber 40 over the end surface 16 of the optical waveguide forming substrate 10 in a wide range while measuring the light intensity of the emission light from the side, the incidence side optical fiber 20 and the emission side. Optical fiber 4
There is a problem that it takes time to roughly adjust the position of 0.

【0012】一方、光ファイバと光導波路とを無調整で
接続するために、ガイドピンおよびV溝を用いた接続素
子を使用することが提案されているが(例えば、電子情
報通信学会技術研究報告CPM92ー84、115〜1
20頁、1992参照)、光ファイバおよび光導波路と
ガイドピンおよびV溝間でサブミクロンの位置精度が要
求されるために、このような接続素子を作成することが
困難であるという問題があった。
On the other hand, it has been proposed to use a connecting element using a guide pin and a V-groove to connect an optical fiber and an optical waveguide without adjustment (for example, a technical research report of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers). CPM 92-84, 115-1
(See p. 20, 1992), there is a problem that it is difficult to produce such a connecting element because the submicron positional accuracy is required between the optical fiber and the optical waveguide and the guide pin and the V groove. .

【0013】従って、本発明の目的は、光ファイバと光
導波路との結合を、特殊な接続素子を用いることなくし
かも短時間で行なうことができる光導波路型素子を提供
することにある。
Therefore, it is an object of the present invention to provide an optical waveguide type device capable of coupling an optical fiber and an optical waveguide in a short time without using a special connecting element.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、光ファ
イバと結合される光導波路が光導波路形成用基板に形成
された光導波路型素子において、前記光導波路形成用基
板に前記光ファイバ用位置決めマーカーを設けたことを
特徴とする光導波路型素子が得られる。
According to the present invention, in an optical waveguide type device in which an optical waveguide to be coupled with an optical fiber is formed on an optical waveguide forming substrate, the optical waveguide forming substrate is provided with the optical fiber. An optical waveguide device having a positioning marker is obtained.

【0015】前記光ファイバ用位置決めマーカーは、好
ましくは、前記光導波路形成用基板の前記光導波路が形
成された一主面上であって、前記光ファイバが結合され
る前記光導波路の端部近傍に設けられる。
The optical fiber positioning marker is preferably on one main surface of the optical waveguide forming substrate on which the optical waveguide is formed, and in the vicinity of an end portion of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled. It is provided in.

【0016】前記光ファイバ用位置決めマーカーは、前
記光導波路型素子の光導波路用電極と同一マスクを用い
て同時に形成されることがより好ましい。
More preferably, the optical fiber positioning marker is formed at the same time as the optical waveguide electrode of the optical waveguide element using the same mask.

【0017】さらに、より好ましくは、前記ファイバ用
位置決めマーカーは、前記光ファイバが結合される前記
光導波路の両側に前記光ファイバの直径とほぼ同じ間隔
離れて設けられた二つのパターンからなる。
Still more preferably, the fiber positioning marker is composed of two patterns provided on both sides of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled and at a distance substantially the same as the diameter of the optical fiber.

【0018】[0018]

【作用】本発明においては、光ファイバと結合される光
導波路が光導波路形成用基板に形成された光導波路型素
子において、前記光導波路形成用基板に前記光ファイバ
用位置決めマーカーを設けているから、この位置決めマ
ーカーに対して光ファイバを位置決めすることができ
る。従って、特殊な接続素子を用いることなく光導波路
と光ファイバとを結合できるだけでなく、出射光スポッ
トの観察や出射光の光強度の測定を行いつつ、光ファイ
バを光導波路形成用基板の端面において広範囲に走査す
る必要もなくなるから、光ファイバ位置の調整を短時間
でできるようになる。また、この光ファイバ用位置決め
マーカーを画像処理することにより、自動調芯も容易に
できるようになる。
In the present invention, in the optical waveguide type device in which the optical waveguide to be coupled with the optical fiber is formed on the optical waveguide forming substrate, the optical fiber forming substrate is provided with the optical fiber positioning marker. , The optical fiber can be positioned with respect to this positioning marker. Therefore, not only can the optical waveguide and the optical fiber be coupled without using a special connection element, but the optical fiber can be attached to the end face of the optical waveguide forming substrate while observing the emitted light spot and measuring the light intensity of the emitted light. Since it is not necessary to scan over a wide area, the position of the optical fiber can be adjusted in a short time. Further, by performing image processing on the optical fiber positioning marker, automatic alignment can be easily performed.

【0019】なお、光ファイバ用位置決めマーカーを、
光導波路形成用基板の光導波路が形成された一主面上で
あって、光ファイバが結合される光導波路の端部近傍に
設けることによって、光導波路と光ファイバとの位置決
めがより容易にできるようになる。
The positioning marker for the optical fiber is
By providing the optical waveguide forming substrate on one main surface where the optical waveguide is formed and near the end of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled, the positioning of the optical waveguide and the optical fiber can be made easier. Like

【0020】さらに、光ファイバ用位置決めマーカー
を、光導波路型素子の光導波路用電極と同一マスクを用
いて同時に形成することにより、光ファイバ用位置決め
マーカーを設けるための工程を新たに設ける必要もな
く、光ファイバ用位置決めマーカー用のマスクも別に設
ける必要もない。従って、光ファイバ用位置決めマーカ
ーを設けても製造コストは特に増加することはない。
Further, by simultaneously forming the optical fiber positioning marker and the optical waveguide electrode of the optical waveguide type element using the same mask, it is not necessary to additionally provide a step for providing the optical fiber positioning marker. It is not necessary to separately provide a mask for the positioning marker for the optical fiber. Therefore, even if the optical fiber positioning marker is provided, the manufacturing cost does not particularly increase.

【0021】そればかりではなく、光ファイバ用位置決
めマーカーを、光導波路型素子の光導波路用電極と同一
マスクを用いて同時に形成することにより、光ファイバ
用位置決めマーカーを光導波路に対して位置精度よく設
けることができる。すなわち、光導波路用電極は光導波
路に対してサブミクロンの精度で位置決めされるから、
この光導波路用電極と同一マスクを用いて同時に光ファ
イバ用位置決めマーカーを形成すれば、光ファイバ用位
置決めマーカーも光導波路に対してサブミクロンの精度
で位置決めされる。
Not only that, the optical fiber positioning marker and the optical waveguide electrode of the optical waveguide type element are simultaneously formed by using the same mask, so that the optical fiber positioning marker can be accurately positioned with respect to the optical waveguide. Can be provided. That is, the optical waveguide electrode is positioned with respect to the optical waveguide with submicron accuracy,
If the optical fiber positioning marker is formed at the same time using the same mask as the optical waveguide electrode, the optical fiber positioning marker is also positioned with respect to the optical waveguide with submicron accuracy.

【0022】さらに、また、前記光ファイバ用位置決め
マーカーを、前記光ファイバが結合される前記光導波路
の両側に前記光ファイバの直径とほぼ同じ間隔離れて設
けられた二つのパターンから構成することにより、光導
波路と光ファイバとの位置決めをさらにより容易にでき
るようになる。
Further, the optical fiber positioning marker is composed of two patterns which are provided on both sides of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled and which are spaced apart by substantially the same distance as the diameter of the optical fiber. It becomes possible to more easily position the optical waveguide and the optical fiber.

【0023】[0023]

【実施例】次に、本発明の実施例を添付の図面を参照し
て説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the accompanying drawings.

【0024】図1は、本発明の一実施例の光導波路型素
子およびこの光導波路型素子を用いた光導波路と光ファ
イバとの位置決め方法を説明するための概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an optical waveguide type device according to an embodiment of the present invention and a method for positioning an optical waveguide and an optical fiber using the optical waveguide type device.

【0025】まず、光導波路形成用基板10にTi拡散
法またはプロトン交換法によって光導波路12を選択的
に形成する。なお、光導波路形成用基板10にはLiN
bO 3 基板を用いる。
First, Ti is diffused on the optical waveguide forming substrate 10.
The optical waveguide 12 selectively by the ion exchange method or the proton exchange method
To form. The substrate 10 for forming the optical waveguide is made of LiN.
bO 3A substrate is used.

【0026】次に、光導波路12が形成された光導波路
形成用基板10上にCr層(図示せず)を形成し、Cr
層上にAu層(図示せず)を形成し、Au層上にホトレ
ジスト層(図示せず)を形成する。その後、同一のマス
クを用いて光導波路用電極形成用パターンと光ファイバ
用位置決めマーカー用パターンとをホトレジスト層に同
時に形成する。次に、このホトレジスト層をマスクにし
てAu層およびCr層をエッチングして光導波路用電極
13と光ファイバ用位置決めマーカー11とを同時に形
成する。このように、本実施例においては、光導波路用
電極13と光ファイバ用位置決めマーカー11をエッチ
ング法によって形成したが、リフトオフ法によっても、
同一のマスクを用いて同時に形成することができる。
Next, a Cr layer (not shown) is formed on the optical waveguide forming substrate 10 on which the optical waveguide 12 is formed, and Cr is formed.
An Au layer (not shown) is formed on the layer, and a photoresist layer (not shown) is formed on the Au layer. Then, the same mask is used to simultaneously form an optical waveguide electrode forming pattern and an optical fiber positioning marker pattern on the photoresist layer. Next, the Au layer and the Cr layer are etched using the photoresist layer as a mask to simultaneously form the optical waveguide electrode 13 and the optical fiber positioning marker 11. As described above, in this embodiment, the optical waveguide electrode 13 and the optical fiber positioning marker 11 are formed by the etching method.
It can be formed at the same time using the same mask.

【0027】光ファイバ用位置決めマーカー11は、光
導波路形成用基板10の端面15側の光導波路12の端
部近傍および光導波路形成用基板10の端面16側の光
導波路12の端部近傍に設けられている。いずれの側に
おいても光ファイバ用位置決めマーカー11は光導波路
12の両側に設けられ、その間隔は後に光導波路12と
結合される入射側光ファイバ20および出射側光ファイ
バ40の直径とほぼ同じとした。
The optical fiber positioning marker 11 is provided near the end of the optical waveguide 12 on the end face 15 side of the optical waveguide forming substrate 10 and near the end of the optical waveguide 12 on the end face 16 side of the optical waveguide forming substrate 10. Has been. The optical fiber positioning markers 11 are provided on both sides of the optical waveguide 12 on either side, and the distance between them is substantially the same as the diameter of the incident side optical fiber 20 and the emitting side optical fiber 40 to be coupled to the optical waveguide 12 later. .

【0028】次に、入射側光ファイバ20および光ファ
イバ用位置決めマーカー11を顕微鏡により目視して、
入射側光ファイバ20と光導波路12との位置の粗調整
を行ない、出射側光ファイバ40および光ファイバ用位
置決めマーカー11を顕微鏡により目視して、出射側光
ファイバ40と光導波路12との位置の粗調整をそれぞ
れ行なう。本実施例においては、光導波路形成用基板1
0上に光ファイバ用位置決めマーカー11が設けられて
いるから、この位置の粗調整は短時間で容易にできる。
Next, the incident side optical fiber 20 and the optical fiber positioning marker 11 are visually observed with a microscope,
The positions of the incident side optical fiber 20 and the optical waveguide 12 are roughly adjusted, and the emitting side optical fiber 40 and the optical fiber positioning marker 11 are visually observed with a microscope to check the positions of the emitting side optical fiber 40 and the optical waveguide 12. Make coarse adjustments. In this embodiment, the optical waveguide forming substrate 1
Since the optical fiber positioning marker 11 is provided on the position 0, rough adjustment of this position can be easily performed in a short time.

【0029】また、光ファイバ用位置決めマーカー11
が、光導波路12の両側に設けられ、その間隔も入射側
光ファイバ20および出射側光ファイバ40の直径とほ
ぼ同じであるから、この位置決め作業はより容易に行な
える。
The optical fiber positioning marker 11
However, since the optical waveguides 12 are provided on both sides and the distance between them is almost the same as the diameter of the incident side optical fiber 20 and the emission side optical fiber 40, this positioning operation can be performed more easily.

【0030】このようにして、入射側光ファイバ20お
よび出射側光ファイバ40の位置の粗調整を行なった
後、入射側光ファイバ20および出射側光ファイバ40
を水平方向91および垂直方向92の両方向に微走査
し、出射側光ファイバ40からの出射光の光強度を光パ
ワーメータ50によって測定しながら、光パワーメータ
50の値が最大となるようにして、入射側光ファイバ2
0および出射側光ファイバ40の位置の微調整を行な
う。
After the coarse adjustment of the positions of the incident side optical fiber 20 and the emitting side optical fiber 40 in this way, the incident side optical fiber 20 and the emitting side optical fiber 40 are performed.
Is finely scanned in both the horizontal direction 91 and the vertical direction 92, and while measuring the light intensity of the outgoing light from the outgoing side optical fiber 40 by the optical power meter 50, the value of the optical power meter 50 is maximized. , Incident side optical fiber 2
The positions of 0 and the output side optical fiber 40 are finely adjusted.

【0031】このように、本実施例においては、入射側
光ファイバ20、出射側光ファイバ40および光ファイ
バ用位置決めマーカー11を顕微鏡により目視して、入
射側光ファイバ20および出射側光ファイバ40と光フ
ァイバ用位置決めマーカー11とをそれぞれ位置合わせ
するだけで、入射側光ファイバ20および出射側光ファ
イバ40と光導波路12との位置の粗調整を行なえるか
ら、出射光スポットを出射光観察用モニタ70を用いて
観察しつつ入射側光ファイバ20を光導波路形成用基板
10の端面15において広範囲に走査する必要や、出射
側光ファイバ40からの出射光の光強度を光パワーメー
タ50によって測定しながら、出射側光ファイバ40を
光導波路形成用基板10の端面16において広範囲に走
査する必要がなくなり、従って、短時間で入射側光ファ
イバ20および出射側光ファイバ40の位置決めができ
るようになる。
As described above, in this embodiment, the incident side optical fiber 20, the emitting side optical fiber 40, and the optical fiber positioning marker 11 are visually observed with a microscope to determine the incident side optical fiber 20 and the emitting side optical fiber 40. Since the positions of the optical waveguide 12 and the incident side optical fiber 20 and the emitting side optical fiber 40 can be roughly adjusted only by aligning the optical fiber positioning markers 11 with each other, the emitted light spot can be monitored with the emitted light observation monitor. While observing using 70, it is necessary to scan the incident side optical fiber 20 over the end surface 15 of the optical waveguide forming substrate 10 in a wide range, and the light intensity of the emitted light from the emitting side optical fiber 40 is measured by the optical power meter 50. However, it is not necessary to scan the emitting side optical fiber 40 over the end surface 16 of the optical waveguide forming substrate 10 in a wide range. Ri, therefore, it becomes possible to position the incident-side optical fiber 20 and the output side optical fiber 40 in a short time.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明においては、光ファイバと結合さ
れる光導波路が光導波路形成用基板に形成された光導波
路型素子において、前記光導波路形成用基板に前記光フ
ァイバ用位置決めマーカーを設けているから、この位置
決めマーカーに対して光ファイバを位置決めすることが
できる。従って、特殊な接続素子を用いることなく光導
波路と光ファイバとを結合できるだけでなく、出射光ス
ポットの観察や出射光の光強度の測定を行いつつ、光フ
ァイバを光導波路形成用基板の端面において広範囲に走
査する必要もなくなるから、光ファイバ位置の調整を短
時間でできるようになる。また、この光ファイバ用位置
決めマーカーを画像処理することにより、自動調芯も容
易にできるようになる。
According to the present invention, in the optical waveguide type device in which the optical waveguide to be coupled with the optical fiber is formed on the optical waveguide forming substrate, the optical fiber forming substrate is provided with the optical fiber positioning marker. Therefore, the optical fiber can be positioned with respect to this positioning marker. Therefore, not only can the optical waveguide and the optical fiber be coupled without using a special connection element, but the optical fiber can be attached to the end face of the optical waveguide forming substrate while observing the emitted light spot and measuring the light intensity of the emitted light. Since it is not necessary to scan over a wide area, the position of the optical fiber can be adjusted in a short time. Further, by performing image processing on the optical fiber positioning marker, automatic alignment can be easily performed.

【0033】なお、光ファイバ用位置決めマーカーを、
光導波路形成用基板の光導波路が形成された一主面上で
あって、光ファイバが結合される光導波路の端部近傍に
設けることによって、光導波路と光ファイバとの位置決
めがより容易にできるようになる。
The positioning marker for the optical fiber is
By providing the optical waveguide forming substrate on one main surface where the optical waveguide is formed and near the end of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled, the positioning of the optical waveguide and the optical fiber can be made easier. Like

【0034】さらに、光ファイバ用位置決めマーカー
を、光導波路型素子の光導波路用電極と同一マスクを用
いて同時に形成することにより、製造コストが特に増加
することなく光ファイバ用位置決めマーカーを設けるこ
とができるばかりではなく、光ファイバ用位置決めマー
カーを光導波路に対して位置精度よく設けることができ
る。
Further, by simultaneously forming the optical fiber positioning marker and the optical waveguide electrode of the optical waveguide type element using the same mask, the optical fiber positioning marker can be provided without increasing the manufacturing cost. Not only can this be done, but the positioning marker for the optical fiber can be provided to the optical waveguide with high positional accuracy.

【0035】さらに、また、前記光ファイバ用位置決め
マーカーを、前記光ファイバが結合される前記光導波路
の両側に前記光ファイバの直径とほぼ同じ間隔離れて設
けられた二つのパターンから構成することにより、光導
波路と光ファイバとの位置決めをさらにより容易に行な
うことができる。
Furthermore, the positioning marker for the optical fiber is composed of two patterns provided on both sides of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled, with a spacing substantially the same as the diameter of the optical fiber. The positioning of the optical waveguide and the optical fiber can be performed more easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の光導波路型素子およびこの
光導波路型素子を用いた光導波路と光ファイバとの位置
決め方法を説明するための概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an optical waveguide type device according to an embodiment of the present invention and a method for positioning an optical waveguide and an optical fiber using the optical waveguide type device.

【図2】従来の光導波路と光ファイバとの位置決め方法
を説明するための概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a conventional method for positioning an optical waveguide and an optical fiber.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…光導波路形成用基板 11…光ファイバ用位置決めマーカー 12…光導波路 13…光導波路用電極 15、16…端面 20…入射側光ファイバ 30…レンズ 40…出射側光ファイバ 50…光パーワーメータ 60…CCDカメラ 70…出射光観察用モニタ 80…出射光スポット 10 ... Optical waveguide forming substrate 11 ... Optical fiber positioning marker 12 ... Optical waveguide 13 ... Optical waveguide electrode 15, 16 ... End face 20 ... Incident side optical fiber 30 ... Lens 40 ... Emission side optical fiber 50 ... Optical power meter 60 … CCD camera 70… Monitor for outgoing light observation 80… Spot for outgoing light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江尻 哲也 愛知県春日井市八事町1丁目36番地 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tetsuya Ejiri 1-36 Yagoto-cho, Kasugai-shi, Aichi

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光ファイバと結合される光導波路が光導波
路形成用基板に形成された光導波路型素子において、前
記光導波路形成用基板に前記光ファイバ用位置決めマー
カーを設けたことを特徴とする光導波路型素子。
1. An optical waveguide type device in which an optical waveguide to be coupled with an optical fiber is formed on an optical waveguide forming substrate, wherein the optical fiber forming marker is provided on the optical waveguide forming substrate. Optical waveguide device.
【請求項2】請求項1記載の光導波路型素子において、
前記光ファイバ用位置決めマーカーが、前記光導波路形
成用基板の前記光導波路が形成された一主面上であっ
て、前記光ファイバが結合される前記光導波路の端部近
傍に設けられていることを特徴とする光導波路型素子。
2. The optical waveguide device according to claim 1, wherein
The optical fiber positioning marker is provided on one main surface of the optical waveguide forming substrate on which the optical waveguide is formed and in the vicinity of an end portion of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled. An optical waveguide type device characterized by:
【請求項3】請求項2記載の光導波路型素子において、
前記光ファイバ用位置決めマーカーが前記光導波路型素
子の光導波路用電極と同一マスクを用いて同時に形成さ
れたことを特徴とする光導波路型素子。
3. The optical waveguide device according to claim 2,
The optical waveguide type element, wherein the optical fiber positioning marker is formed simultaneously with the optical waveguide electrode of the optical waveguide type element using the same mask.
【請求項4】請求項2または3記載の光導波路型素子に
おいて、前記光ファイバ用位置決めマーカーが、前記光
ファイバが結合される前記光導波路の両側に前記光ファ
イバの直径とほぼ同じ間隔離れて設けられた二つのパタ
ーンからなることを特徴とする光導波路型素子。
4. The optical waveguide type element according to claim 2, wherein the optical fiber positioning markers are provided on both sides of the optical waveguide to which the optical fiber is coupled with a distance substantially equal to a diameter of the optical fiber. An optical waveguide device comprising two patterns provided.
JP618893A 1993-01-18 1993-01-18 Optical waveguide type element Pending JPH06222228A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111004722A (en) * 2019-11-21 2020-04-14 浙江大学 Frequency shift super-resolution microscopic chip capable of applying electric field

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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