JPH06220226A - Production of prepreg by using polyphenylene ether - Google Patents
Production of prepreg by using polyphenylene etherInfo
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- JPH06220226A JPH06220226A JP801593A JP801593A JPH06220226A JP H06220226 A JPH06220226 A JP H06220226A JP 801593 A JP801593 A JP 801593A JP 801593 A JP801593 A JP 801593A JP H06220226 A JPH06220226 A JP H06220226A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はプリプレグの製造方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a prepreg manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、通信用、民生用、産業用等の電子
機器の分野における実装方法の小型化、高密度化への指
向は著しいものがあり、それに伴って材料の面でもより
優れた耐熱性、寸法安定性、電気特性が要求されつつあ
る。例えばプリント配線基板としては、従来からフェノ
ール樹脂やエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を材料とす
る銅張り積層板が用いられてきた。これらは各種の性能
をバランスよく有するものの、電気特性、特に高周波領
域での誘電特性が悪いという欠点を持っている.この問
題を解決する新しい材料としてポリフェニレンエーテル
が近年注目をあび銅張積層板への応用が試みられてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable trend toward miniaturization and high density of mounting methods in the field of electronic devices for communication, consumer use, industrial use, etc. Heat resistance, dimensional stability, and electrical characteristics are being demanded. For example, as a printed wiring board, a copper-clad laminate made of a thermosetting resin such as phenol resin or epoxy resin has been conventionally used. Although these have various performances in a well-balanced manner, they have the drawback of poor electrical properties, especially dielectric properties in the high frequency range. Polyphenylene ether has attracted attention in recent years as a new material for solving this problem, and its application to copper-clad laminates has been attempted.
【0003】積層板の製造方法は、一般に紙やガラス繊
維等の基材に樹脂の溶液(ワニス)を含浸させて乾燥し
たプリプレグを、金属箔と積層成形する事によって作製
される。したがって、プリプレグの製造方法は非常に重
要な位置を占める。ポリフェニレンエーテルを積層板用
樹脂組成物として用いる場合、プリプレグの作製に用い
る溶媒としては、ポリフェニレンエーテルを溶解する溶
媒であることが望ましい。ポリフェニレンエーテルを溶
解する溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、
トリクロロエチレンなどのハロゲン系溶媒、あるいはベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、さら
にはTHF等があげられ、実施にあたってはこれらの溶
媒が単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられ
る。The laminated plate is generally manufactured by laminating a prepreg obtained by impregnating a base material such as paper or glass fiber with a resin solution (varnish) and drying the prepreg. Therefore, the prepreg manufacturing method occupies a very important position. When polyphenylene ether is used as the resin composition for laminates, the solvent used for producing the prepreg is preferably a solvent that dissolves polyphenylene ether. Solvents for dissolving polyphenylene ether include dichloromethane, chloroform,
Examples thereof include halogen-based solvents such as trichlorethylene, aromatic solvents such as benzene, toluene, and xylene, and THF and the like. In the practice, these solvents may be used alone or in combination of two or more.
【0004】しかし、ハロゲン系溶剤は、人体に及ぼす
影響が大きく使用が困難となりつつあるのが現状であ
る。そこで、芳香族系溶媒をプリプレグ作製用溶剤とし
て用いることが望まれているが、芳香族系溶媒をプリプ
レグ含浸用溶媒として用いると、溶液の粘度が上昇し
(ワックス化)、プリプレグの製造に支障を来たしてし
まうのが現状である。However, under the present circumstances, halogen-based solvents have a great influence on the human body and are becoming difficult to use. Therefore, it is desired to use an aromatic solvent as a solvent for prepreg production, but when an aromatic solvent is used as a solvent for prepreg impregnation, the viscosity of the solution increases (waxing), which hinders the production of prepreg. The current situation is to come to.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上の事情に
鑑みてなされたものであり、溶媒としてキシレンを用
い、ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物のプリプレグ
をワックス化を起こさずに製造する方法を提供しようと
するものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a method for producing a prepreg of a polyphenylene ether resin composition by using xylene as a solvent without causing wax formation. Is what you are trying to do.
【0006】[0006]
脂組成物中のポリフェニレンエーテルの重量)/(キシ
レンの重量+樹脂組成物中のポリフェニレンエーテルの
重量)で表される比率である。〕[In the formula, T is a melting temperature (° C.), and G is represented by G = (weight of polyphenylene ether in resin composition) / (weight of xylene + weight of polyphenylene ether in resin composition). It is a ratio. ]
以下に本発明を詳しく述べる。 The present invention will be described in detail below.
【0007】本発明に用いられるポリフェニレンエーテ
ル樹脂は、変性物をも含むものである。本発明において
使用されるポリフェニレンエーテルは下記一般式(1)
で表される。The polyphenylene ether resin used in the present invention includes a modified product. The polyphenylene ether used in the present invention has the following general formula (1).
It is represented by.
【0008】[0008]
【化1】 [Chemical 1]
【0009】一般式(A)におけるR1 〜R4 の低級ア
ルキル基の例としては、メチル基、エチル基、nープロ
ピル基、イソプロピル基、nーブチル基、イソブチル基
等が挙げられる。アリール基の例としては、フェニル基
等が挙げられる。ハロアルキル基の例としては、ブロモ
メチル基、クロロメチル基等が挙げられる。ハロゲン原
子の例としては臭素、塩素等が挙げられる。Examples of the lower alkyl group represented by R 1 to R 4 in the general formula (A) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group. A phenyl group etc. are mentioned as an example of an aryl group. Examples of the haloalkyl group include a bromomethyl group and a chloromethyl group. Examples of halogen atoms include bromine and chlorine.
【0010】一般式(1)のQの代表的な例としては、
下記化2の4種の一般式で表される化合物の残基群が挙
げられる。As a typical example of Q in the general formula (1),
A group of residues of the compound represented by the four general formulas of Chemical Formula 2 below can be mentioned.
【0011】[0011]
【化2】 [Chemical 2]
【0012】具体例として、下記化3および化4に表さ
れる化合物の残基などが挙げられる。Specific examples include residues of the compounds represented by the following chemical formulas 3 and 4.
【0013】[0013]
【化3】 [Chemical 3]
【0014】[0014]
【化4】 [Chemical 4]
【0015】一般式(1)中のJで表されるポリフェニ
レンエーテル鎖中には、一般式(A)で表される単位の
他、下記化5の一般式で表される単位が含まれていても
よい。In the polyphenylene ether chain represented by J in the general formula (1), in addition to the unit represented by the general formula (A), a unit represented by the general formula of the following chemical formula 5 is included. May be.
【0016】[0016]
【化5】 [Chemical 5]
【0017】本発明に用いられる一般式(1)のポリフ
ェニレンエーテル樹脂の好ましい例としては、2,6ー
ジメチルフェノールの単独重合で得られるポリ(2,6
ージメチルー1,4ーフェニレンエーテル)、ポリ
(2,6ージメチルー1,4ーフェニレンエーテル)の
スチレングラフト重合体、2,6ージメチルフェノール
と2,3,6ートリメチルフェノールの共重合体、2,
6ージメチルフェノールと2ーメチルー6ーフェニルフ
ェノールの共重合体、2,6ージメチルフェノールと下
記化6の一般式で示される多官能フェノール化合物の存
在下で重合して得られる多官能性ポリフェニレンエーテ
ル樹脂、例えば特開昭63ー301222号公報、特開
平1ー297428号公報に開示されているような一般
式(A)および(B)の単位を含む共重合体等が挙げら
れる。Preferred examples of the polyphenylene ether resin of the general formula (1) used in the present invention include poly (2,6) obtained by homopolymerization of 2,6-dimethylphenol.
-Dimethyl-1,4-phenylene ether), styrene graft polymer of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), copolymer of 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol, 2,
Copolymer of 6-dimethylphenol and 2-methyl-6-phenylphenol, polyfunctional polyphenylene ether obtained by polymerization in the presence of 2,6-dimethylphenol and a polyfunctional phenol compound represented by the following general formula Examples of the resin include copolymers containing units of the general formulas (A) and (B) as disclosed in JP-A-63-301222 and JP-A-1-297428.
【0018】[0018]
【化6】 [Chemical 6]
【0019】以上述べたポリフェニレンエーテル樹脂の
分子量については、30℃、0.5g/dlのクロロホ
ルム溶液で測定した粘度数ηsp/cが0.1〜1.0
の範囲にあるものが良好に使用できる。溶融樹脂流れを
重視する硬化性樹脂組成物、例えば多層配線板用プリプ
レグとしては、粘度数の小さい樹脂が好ましい。また本
発明に用いられるポリフェニレンエーテルは、変性物を
も含むものである。具体的には、特開昭64−6962
8号、特開平1−113425号、特開平1−1134
26号各公報に開示されている不飽和基を含むポリフェ
ニレンエーテル樹脂、並びにポリフェニレンエーテル樹
脂と不飽和カルボン酸および/または酸無水物との反応
生成物等が挙げられる。Regarding the molecular weight of the polyphenylene ether resin described above, the viscosity number ηsp / c measured with a chloroform solution of 30 g at 0.5 g / dl is 0.1 to 1.0.
Those in the range can be used satisfactorily. A resin having a low viscosity number is preferable for a curable resin composition that places importance on molten resin flow, for example, a prepreg for a multilayer wiring board. The polyphenylene ether used in the present invention also includes modified products. Specifically, JP-A-64-6962
No. 8, JP-A No. 1-113425, and JP-A No. 1-1134.
Examples of the polyphenylene ether resin containing an unsaturated group disclosed in JP-A No. 26, and reaction products of a polyphenylene ether resin with an unsaturated carboxylic acid and / or an acid anhydride, and the like.
【0020】次に、本発明におけるポリフェニレン系樹
脂組成物について説明する。ポリフェニレンエーテル系
樹脂組成物とは、前述したポリフェニレンエーテル(変
性物も含む)を含む樹脂組成物であり、ポリフェニレン
エーテル以外に配合する樹脂については本発明の目的で
あるプリント基板用材料として基板物性を損なわないも
のであればどのようなものでもよい。具体的には、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート、ジビ
ニルベンゼン、多官能性アクリロイル化合物、多官能性
メタクリロイル化合物、多官能性マレイミド、多官能性
メタクリロイル化合物、多官能性マレイミド、多官能性
シアン酸エステル、多官能性イソシアネート、不飽和ポ
リエステル、トリアリルイソシアヌレート、トリアリル
シアヌレート、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン
・スチレン−ブタジエン−スチレン等の架橋性ポリマ
ー、種々の熱可塑性樹脂、種々の熱硬化性樹脂等であ
る。これらのものは一般にプリプレグを積層成形して作
製された基板の物性を向上させる目的で配合される。Next, the polyphenylene resin composition of the present invention will be described. The polyphenylene ether-based resin composition is a resin composition containing the above-mentioned polyphenylene ether (including modified products). Resins other than polyphenylene ether can be used as a material for a printed circuit board, which is an object of the present invention. Any material may be used as long as it does not damage it. Specifically, phenol resin, epoxy resin, diallyl phthalate, divinylbenzene, polyfunctional acryloyl compound, polyfunctional methacryloyl compound, polyfunctional maleimide, polyfunctional methacryloyl compound, polyfunctional maleimide, polyfunctional cyanic acid. Ester, polyfunctional isocyanate, unsaturated polyester, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, polybutadiene, crosslinkable polymers such as styrene-butadiene / styrene-butadiene-styrene, various thermoplastic resins, various thermosetting resins Etc. These are generally compounded for the purpose of improving the physical properties of a substrate produced by laminating and molding a prepreg.
【0021】特に限定されないが、好ましい樹脂組成物
の例としては、ポリフェニレンエーテル並びにトリアリ
ルイソシアヌレートおよび/またはトリアリルシアヌレ
ート;ポリフェニレンエーテルおよびエポキシ樹脂;ポ
リフェニレンエーテル、スチレンブタジエンブロックコ
ポリマー並びにトリアリルイソシアヌレートおよび/ま
たはトリアリルシアヌレート;不飽和基を含むポリフェ
ニレンエーテル並びにトリアリルイソシアヌレートおよ
び/またはトリアリルシアヌレート;不飽和基を含むポ
リフェニレンエーテル、トリアリルイソシアヌレートお
よび/またはトリアリルシアヌレート並びにエポキシ樹
脂;ポリフェニレンエーテル樹脂と不飽和カルボン酸お
よび/または酸無水物との反応生成物並びにトリアリル
イソシアヌレートおよび/またはトリアリルシアヌレー
ト;ポリフェニレンエーテル樹脂と不飽和カルボン酸お
よび/または酸無水物との反応生成物並びにエポキシ樹
脂;ポリフェニレンエーテル樹脂と不飽和カルボン酸お
よび/または酸無水物との反応生成物、トリアリルイソ
シアヌレートおよび/またはトリアリルシアヌレート並
びにエポキシ樹脂等が挙げられる。また配合量は、目的
に応じて決定される。Although not particularly limited, examples of preferred resin compositions include polyphenylene ether and triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate; polyphenylene ether and epoxy resin; polyphenylene ether, styrene butadiene block copolymer and triallyl isocyanurate. And / or triallyl cyanurate; polyphenylene ether containing unsaturated group and triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate; polyphenylene ether containing unsaturated group, triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate and epoxy resin Reaction products of polyphenylene ether resins with unsaturated carboxylic acids and / or acid anhydrides and triallyl isocyanurate And / or triallyl cyanurate; reaction product of polyphenylene ether resin with unsaturated carboxylic acid and / or acid anhydride and epoxy resin; reaction product of polyphenylene ether resin with unsaturated carboxylic acid and / or acid anhydride , Triallyl isocyanurate and / or triallyl cyanurate and epoxy resin. The blending amount is determined according to the purpose.
【0022】本発明に用いられる基材としては、ロービ
ングクロス、クロス、チョップドマット、サーフェシン
グマットなどの各種ガラス布、アスベスト布、金属繊維
布およびその他合成もしくは天然の無機繊維布;ポリビ
ニルアルコール繊維、ポリエステル繊維、アクリル繊
維、全芳香族ポリアミド繊維、ポリテトラフルオロエチ
レン繊維などの合成繊維から得られる織布または不織
布;綿布、麻布、フェルトなどの天然繊維布;カーボン
繊維布;クラフト紙、コットン紙、紙ーガラス混繊紙な
どの天然セルロース系布などがそれぞれ単独で、あるい
は2種以上併せて用いられる。As the substrate used in the present invention, various kinds of glass cloth such as roving cloth, cloth, chopped mat, surfacing mat, asbestos cloth, metal fiber cloth and other synthetic or natural inorganic fiber cloth; polyvinyl alcohol fiber, Woven or non-woven fabric obtained from synthetic fibers such as polyester fiber, acrylic fiber, wholly aromatic polyamide fiber, polytetrafluoroethylene fiber; natural fiber cloth such as cotton cloth, linen cloth and felt; carbon fiber cloth; kraft paper, cotton paper, Natural cellulosic cloth such as paper-glass mixed fiber paper may be used alone or in combination of two or more kinds.
【0023】また、反応温度を低くしたり不飽和基の架
橋反応を促進する目的でラジカル開始剤を含有させて使
用してもよい。ラジカル開始剤の代表的な例を挙げる
と、ベンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイ
ドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチ
ルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、
α,α′−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロ
ピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−
ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイ
ド、ジ−t−ブチルパーオキシイソフタレート、t−ブ
チルパーオキシベンゾエート、2,2−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルパー
オキシ)オクタン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベ
ンゾイルパーオキシ)ヘキサン、ジ(トリメチルシリ
ル)パーオキサイド、トリメチルシリルトリフェニルシ
リルパーオキサイド等の過酸化物があるがこれらに限定
されない。また過酸化物ではないが、2,3−ジメチル
−2,3−ジフェニルブタンもラジカル開始剤として使
用できる。しかし、本樹脂組成物の硬化に用いられる開
始剤はこれらの例に限定されない。Further, a radical initiator may be contained for the purpose of lowering the reaction temperature or accelerating the crosslinking reaction of the unsaturated group. Typical examples of the radical initiator include benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t -Butylperoxy) hexyne-3, di-t-butylperoxide, t-butylcumylperoxide,
α, α'-bis (t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-
Butylperoxy) hexane, dicumyl peroxide, di-t-butylperoxyisophthalate, t-butylperoxybenzoate, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (t- There are, but not limited to, peroxides such as butylperoxy) octane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, di (trimethylsilyl) peroxide, and trimethylsilyltriphenylsilylperoxide. Although not a peroxide, 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane can also be used as a radical initiator. However, the initiator used for curing the resin composition is not limited to these examples.
【0024】上述したラジカル開始剤の他に、エポキシ
樹脂を反応させる目的で硬化促進剤を用いてもよい。硬
化促進剤としては、例えばアミン系化合物、イミダゾー
ル系化合物、ジアザビシクロウンデセンのような含窒素
複素環式化合物、有機ホスフィン化合物、有機ホスフィ
ン・有機ボロン錯体、第4級アンモニウム化合物、第4
級ホスホニウム化合物等公知のものを用いることができ
る。硬化促進剤に関する技術の詳細については、例えば
垣内弘編著「エポキシ樹脂 最近の進歩」昭晃堂(19
90)第4章およびその引用文献を参照されたい。In addition to the above-mentioned radical initiator, a curing accelerator may be used for the purpose of reacting the epoxy resin. Examples of the curing accelerator include amine compounds, imidazole compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as diazabicycloundecene, organic phosphine compounds, organic phosphine / organic boron complexes, quaternary ammonium compounds, and quaternary ammonium compounds.
Known compounds such as secondary phosphonium compounds can be used. For details of the technology related to the curing accelerator, see, for example, “Recent Advances in Epoxy Resins” by Hiroshi Kakiuchi, Shokoido (19
90) See Chapter 4 and references cited therein.
【0025】この他、多官能性マレイモドの適した硬化
剤としてはポリアミンが、多官能性シアン酸エステルに
適した触媒としては鉱酸、ルイス酸、炭酸ナトリウムあ
るいは塩化リチウム等の塩類、トリブチルホスフィン等
のリン酸エステル類等が、また多官能性イソシアネート
に適した触媒、硬化剤としては、例えば岩田敬治編「ポ
リウレタン樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社(198
7)P.118−123中に教示されているようなアミ
ン類、有機金属、多価アルコール等がそれぞれ挙げられ
る。In addition to the above, polyamine is used as a suitable curing agent for polyfunctional maleimod, and as a catalyst suitable for polyfunctional cyanate ester, mineral acid, Lewis acid, salts such as sodium carbonate or lithium chloride, tributylphosphine, etc. Examples of suitable catalysts and curing agents for polyfunctional isocyanates are the phosphoric acid esters, etc., of Polyurethane Resin Handbook, edited by Keiji Iwata, Nikkan Kogyo Shimbun (198).
7) P. Amines, organometallics, polyhydric alcohols, etc., as taught in 118-123, respectively.
【0026】以上の触媒、開始剤、硬化剤等は、樹脂組
成物の種類に応じて適宜選択して用いられる。本発明で
は樹脂組成物に、その用途に応じて所望の性能を付与さ
せる目的で本来の性質を損なわない範囲の量の充填剤や
添加剤を配合して用いることができる。充填剤は繊維状
であっても粉末状であってもよく、シリカ、アルミナ、
タルク、雲母、ガラスビーズ、ガラス中空球等を挙げる
ことができる。添加剤としては、酸化防止剤、熱安定
剤、帯電防止剤、可塑剤、顔料、染料、着色剤等が挙げ
られる。また難燃性の一層の向上を図る目的で塩素系、
臭素系、リン系の難燃剤や、Sb2 O3 、Sb2 O5 、
NbSbO3 ・1/4H2 O等の難燃助剤を併用するこ
ともできる。さらには、他の熱可塑性樹脂、あるいは熱
硬化性樹脂を一種または二種以上配合することも可能で
ある。The above catalyst, initiator, curing agent, etc. are appropriately selected and used according to the type of resin composition. In the present invention, the resin composition may be used by blending an amount of a filler or an additive in a range that does not impair the original properties for the purpose of imparting desired performance depending on the application. The filler may be fibrous or powdered, silica, alumina,
Examples thereof include talc, mica, glass beads and glass hollow spheres. Examples of the additives include antioxidants, heat stabilizers, antistatic agents, plasticizers, pigments, dyes, colorants and the like. For the purpose of further improving flame retardancy, chlorine-based,
Bromine- and phosphorus-based flame retardants, Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 ,
A flame retardant aid such as NbSbO 3 .1 / 4H 2 O can also be used in combination. Furthermore, it is also possible to mix one or more kinds of other thermoplastic resins or thermosetting resins.
【0027】上記のポリフェニレンエーテル系樹脂組成
物を調合し、溶媒に溶解するが本発明では、溶媒として
はキシレンを用いる。次に、本発明における樹脂組成物
をキシレンに溶解する温度について説明する。溶解する
温度は、以下に示す温度(T℃)以上であることが必須
の条件である。 T=136.8G+59.6 ………… (I) 〔式中、Tは溶解する温度(℃)であり、GはG=(樹
脂組成物中のポリフェニレンエーテルの重量)/(キシ
レンの重量+樹脂組成物中のポリフェニレンエーテルの
重量)で表される比率である。〕 本発明で、ポリフェニレンエーテル(変性物も含む)
は、少なくとも溶解が完了するまで上記の式で示される
温度以上で溶解されることが望ましい。また溶解する温
度は樹脂組成物の変性、分解、さらには溶液の沸騰等が
起こらない範囲内で行うことが望ましい。溶解が不十分
であると溶液のワックス化が促進される恐れがある。ま
た本発明において、ポリフェニレンエーテル系樹脂組成
物を溶解する場合の溶解温度はポリフェニレンエーテル
とキシレンとの重量分率のみによって決定される。The above polyphenylene ether resin composition is prepared and dissolved in a solvent. In the present invention, xylene is used as the solvent. Next, the temperature at which the resin composition of the present invention is dissolved in xylene will be described. It is an essential condition that the melting temperature is equal to or higher than the temperature (T ° C.) shown below. T = 136.8 G + 59.6 (I) [In the formula, T is the melting temperature (° C.), and G is G = (weight of polyphenylene ether in the resin composition) / (weight of xylene + It is the ratio represented by the weight of the polyphenylene ether in the resin composition). ] In the present invention, polyphenylene ether (including modified products)
Is preferably dissolved at a temperature equal to or higher than the temperature represented by the above formula at least until the dissolution is completed. Further, it is desirable that the melting temperature is within a range in which denaturation and decomposition of the resin composition and boiling of the solution do not occur. Insufficient dissolution may accelerate the wax formation of the solution. Further, in the present invention, the melting temperature when the polyphenylene ether resin composition is dissolved is determined only by the weight fraction of polyphenylene ether and xylene.
【0028】基材に含浸する場合、含浸温度は溶液の濃
度によって調整することが可能であるが好ましくは40
℃以上、より好ましくは45℃以上、さらに好ましくは
50℃以上が望ましい。40℃未満の温度では、溶液の
ワックス化を促進する恐れがある。含浸は必要に応じて
複数回繰り返すことも可能であり、またこの際組成や濃
度の異なる複数の溶液を用いて含浸を繰り返し、最終的
に希望とする樹脂組成および樹脂量に調整することも可
能である。When the substrate is impregnated, the impregnation temperature can be adjusted by the concentration of the solution, but is preferably 40.
C. or higher, more preferably 45.degree. C. or higher, even more preferably 50.degree. C. or higher. Temperatures below 40 ° C. may accelerate the waxing of the solution. Impregnation can be repeated multiple times as needed, and in this case it is also possible to repeat impregnation using multiple solutions with different compositions and concentrations to finally adjust the desired resin composition and amount. Is.
【0029】基材を含む複合材料の難燃剤としては、臭
素化ジフェニルエーテルと酸化アンチモンの組み合わせ
が好ましく用いられる。A combination of brominated diphenyl ether and antimony oxide is preferably used as the flame retardant for the composite material containing the base material.
【0030】[0030]
【実施例】以下、本発明を一層明確にするために実施例
を挙げて説明するが、本発明の範囲をこれらの実施例に
限定するものではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples in order to further clarify the present invention, but the scope of the present invention is not limited to these examples.
【0031】[0031]
【合成例1】30℃、0.5g/dlのクロロホルム溶
液で測定した粘度数ηsp/cが0.54のポリ(2,
6ージメチルー1,4ーフェニレンエーテル)100重
量部と、無水マレイン酸1.5重量部、および2,5ー
ジメチルー2,5ージ(tーブチルパーオキシ)ヘキサ
ン(日本油脂(株)製 パーヘキサ25B)1.0重量
部を室温でドライブレンドした後、シリンダー温度30
0℃、スクリュー回転数230rpmの条件で2軸押し
出し機により押出した。この反応生成物をAとする。[Synthesis Example 1] Poly (2,3) having a viscosity number ηsp / c of 0.54 measured at 30 ° C. in a chloroform solution of 0.5 g / dl.
100 parts by weight of 6-dimethyl-1,4-phenylene ether, 1.5 parts by weight of maleic anhydride, and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane (Perhexa 25B manufactured by NOF Corporation) ) After 1.0 parts by weight dry blending at room temperature, the cylinder temperature is 30.
Extrusion was carried out by a twin-screw extruder under the conditions of 0 ° C. and screw rotation speed of 230 rpm. This reaction product is designated as A.
【0032】[0032]
【合成例2】合成例1と同様の方法で測定した粘度数η
sp/cが0.60のポリ(2,6ージメチルー1,4
ーフェニレンエーテル)100重量部と、無水マレイン
酸1.5重量部を室温でドライブレンドした後、シリン
ダー温度300℃、スクリュー回転数230rpmの条
件で2軸押し出し機により押出した。この反応生成物を
Bとする。[Synthesis example 2] Viscosity number η measured by the same method as in synthesis example 1
Poly (2,6-dimethyl-1,4) with sp / c of 0.60
-Phenylene ether) (100 parts by weight) and maleic anhydride (1.5 parts by weight) were dry blended at room temperature and then extruded by a twin-screw extruder under the conditions of a cylinder temperature of 300 ° C. and a screw rotation speed of 230 rpm. This reaction product is designated as B.
【0033】[0033]
【合成例3】 不飽和基を含むポリフェニレンエーテル樹脂 平均置換率14%、合成例1と同様の方法で測定したη
sp/c=0.62のアリル基置換ポリフェニレンエー
テルを特開昭64−69629号公報に開示された公知
の方法に従ってηsp/C=0.56のポリ(2,6−
ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)より合成し
た。このアリル置換ポリフェニレンエーテルをCとす
る。[Synthesis Example 3] Polyphenylene ether resin containing an unsaturated group Average substitution ratio 14%, η measured by the same method as in Synthesis Example 1
An allyl group-substituted polyphenylene ether with sp / c = 0.62 was prepared according to a known method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 64-69629, and poly (2,6-) with ηsp / C = 0.56.
Dimethyl-1,4-phenylene ether). This allyl-substituted polyphenylene ether is designated as C.
【0034】[0034]
【実施例1〜5】A、B、Cおよび合成例1と同様の方
法で測定したηsp/c=0.56のポリ(2,6−ジ
メチル−1,4−フェニレンエーテル)(以後Dとす
る)を各種組成物と表1に示した組成で配合し、表2に
示した温度でキシレンに1時間溶解した。溶解は速やか
に行われ、いずれの樹脂も均一にキシレンに溶解した。Examples 1 to 5 Poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether) having ηsp / c = 0.56 measured in the same manner as in A, B and C and Synthesis Example 1 (hereinafter referred to as D). Was mixed with various compositions in the composition shown in Table 1 and dissolved in xylene at the temperature shown in Table 2 for 1 hour. The dissolution was carried out promptly, and all the resins were uniformly dissolved in xylene.
【0035】これらの溶液を表2に示した温度に冷却
し、所定の温度に達してから1時間後にガラスクロス
(Eガラス製、目付48g/m2 または105g/
m2 )を浸漬して含浸を行い、その後エアーオーブン中
で乾燥させプリプレグを作製した。いずれの溶液もワッ
クス化を起こすことなく含浸する事ができ、プリプレグ
の表面状態はいずれも良好であった。These solutions were cooled to the temperatures shown in Table 2, and one hour after reaching the predetermined temperature, glass cloth (made of E glass, basis weight 48 g / m 2 or 105 g /
m 2 ) was dipped for impregnation and then dried in an air oven to prepare a prepreg. Any of the solutions could be impregnated without causing wax formation, and the surface condition of the prepreg was good.
【0036】[0036]
【比較例1〜3】AおよびDを実施例2および3と同様
な組成でキシレンに溶解した。溶解温度は表2に示した
温度で1時間溶解した。これらの溶液を表2に示した温
度に冷却し、実施例1〜5と同様な操作をおこなってプ
リプレグを作製した。溶液は、冷却を行うとワックス化
を起こした。また得られたプリプレグは表面がひび割れ
たものとなった。Comparative Examples 1 to 3 A and D having the same composition as in Examples 2 and 3 were dissolved in xylene. The melting temperature was as shown in Table 2 for 1 hour. These solutions were cooled to the temperatures shown in Table 2 and the same operations as in Examples 1 to 5 were performed to prepare prepregs. The solution waxed when cooled. The surface of the obtained prepreg was cracked.
【0037】[0037]
【表1】 [Table 1]
【0038】[0038]
【表2】 [Table 2]
【0039】[0039]
【発明の効果】本発明のプリプレグの製造方法はハロゲ
ン系溶媒を用いないプロセスであり、人体への影響がよ
り少ないプロセスである。また、ワックス化を抑えたプ
ロセスであり、得られたプリプレグは表面状態の良好な
ものとなっている。従って本発明の製法で得られたプリ
プレグは、電気産業、電子産業、宇宙・航空機産業等の
分野において誘電材料、絶縁材料、耐熱材料等として用
いることができる。特に片面、両面、多層プリント基
板、セミリジット基板、金属ベース基板、多層プリント
基板用プリプレグとして好適に用いられる。The prepreg manufacturing method of the present invention is a process that does not use a halogen-based solvent, and is a process that has less influence on the human body. Further, this is a process in which wax formation is suppressed, and the obtained prepreg has a good surface condition. Therefore, the prepreg obtained by the manufacturing method of the present invention can be used as a dielectric material, an insulating material, a heat-resistant material, etc. in the fields of electric industry, electronic industry, space / aircraft industry and the like. Particularly, it is suitably used as a single-sided, double-sided, multi-layer printed circuit board, semi-rigid substrate, metal base substrate, and prepreg for multi-layer printed circuit board.
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 105:06 Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display area B29K 105: 06
Claims (1)
キシレンに溶解して基材に含浸するプリプレグを製造方
法において、上記樹脂組成物を下式(I)で表される温
度(T℃)以上で溶解することを特徴とするポリフェニ
レンエーテルを用いたプリプレグの製造方法。 T=136.8G+59.6 ………… (I) 〔式中、Tは溶解する温度(℃)であり、GはG=(樹
脂組成物中のポリフェニレンエーテルの重量)/(キシ
レンの重量+樹脂組成物中のポリフェニレンエーテルの
重量)で表される比率である。〕1. A method for producing a prepreg in which a polyphenylene ether-based resin composition is dissolved in xylene to impregnate a base material, wherein the resin composition is dissolved at a temperature (T ° C.) or higher represented by the following formula (I). A method for producing a prepreg using a polyphenylene ether, which comprises: T = 136.8 G + 59.6 (I) [In the formula, T is the melting temperature (° C.), and G is G = (weight of polyphenylene ether in the resin composition) / (weight of xylene + It is the ratio represented by the weight of the polyphenylene ether in the resin composition). ]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP801593A JPH06220226A (en) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | Production of prepreg by using polyphenylene ether |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP801593A JPH06220226A (en) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | Production of prepreg by using polyphenylene ether |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06220226A true JPH06220226A (en) | 1994-08-09 |
Family
ID=11681526
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP801593A Withdrawn JPH06220226A (en) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | Production of prepreg by using polyphenylene ether |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06220226A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008054893A1 (en) * | 2006-10-30 | 2008-05-08 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Poly(arylene ether) compositions |
US10995182B2 (en) | 2018-04-30 | 2021-05-04 | Shpp Global Technologies B.V. | Phenylene ether oligomer, curable composition comprising the phenylene ether oligomer, and thermoset composition derived therefrom |
-
1993
- 1993-01-21 JP JP801593A patent/JPH06220226A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008054893A1 (en) * | 2006-10-30 | 2008-05-08 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Poly(arylene ether) compositions |
JP2010508395A (en) * | 2006-10-30 | 2010-03-18 | サビック・イノベーティブ・プラスチックス・アイピー・ベスローテン・フェンノートシャップ | Poly (arylene ether) composition |
US10995182B2 (en) | 2018-04-30 | 2021-05-04 | Shpp Global Technologies B.V. | Phenylene ether oligomer, curable composition comprising the phenylene ether oligomer, and thermoset composition derived therefrom |
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