JPH06208231A - Electrophotographic receptor - Google Patents

Electrophotographic receptor

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JPH06208231A
JPH06208231A JP195493A JP195493A JPH06208231A JP H06208231 A JPH06208231 A JP H06208231A JP 195493 A JP195493 A JP 195493A JP 195493 A JP195493 A JP 195493A JP H06208231 A JPH06208231 A JP H06208231A
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JP
Japan
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layer
charge generating
substrate
electric charge
conductive substrate
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Application number
JP195493A
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Japanese (ja)
Inventor
Asao Matsushima
朝夫 松島
Takeo Oshiba
武雄 大柴
Yoshihiko Eto
嘉彦 江藤
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the electrophotographic receptor which has no picture flaw and which is high sensitivity and excellent in repetivive performance by using an aluminum substrate which is subjected to warhing by water or to a positive oxidation to the electrically conductive substrate and incorporating the electric charge generating material expressed by a specified formula in a electric charge generating layer. CONSTITUTION:The constituting layer is formed by providing an electric charge generating layer on an electrically conductive substrate and providing an electric charge transfer layer on that. And the aluminum substrate which is subjected to washing by water or to a positive oxidation to the electrically conductive substrate is used and the electric charge generating layer is incorporated with the electric charge generating material expressed by formula I or II. In formula I or II, Z is the atom group forming a bivalent arom. ring which may have a substd. group. and as the constituting layer, the photosensitive photoreceptor may have the intermediate layer consisting of polyamide resin between the electrically conductive substrate and the electric charge generating layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真に利用される感
光体に関し、画像欠陥がなく電位特性が良好な高感度感
光体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoconductor used for electrophotography, and more particularly to a high-sensitivity photoconductor having no image defects and good potential characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来電子写真用感光体として、板状、ベ
ルト状又はドラム状のアルミ基体上に、無機光導電性材
料を用いた感光層や有機光導電性材料を用いた感光層を
設けた感光体が知られている。
2. Description of the Related Art As a conventional electrophotographic photoreceptor, a photosensitive layer made of an inorganic photoconductive material or a photosensitive layer made of an organic photoconductive material is provided on a plate-shaped, belt-shaped or drum-shaped aluminum substrate. Photoconductors are known.

【0003】前記感光体の電子写真性能はアルミ基体の
表面状態及び材質による影響が大である。即ち基体表面
の機械的平滑度が悪く凹凸や傷があると電気的欠陥を生
じ、画像形成時黒ぽちや黒筋等を発生する。そこで通常
ダイアモンドバイト等により鏡面加工が施される。また
アルミ基体は所望の機械的強度を確保するため、通常マ
グネシウム、鉄、珪素、銅、マンガン等が合金成分とし
て含有される。
The electrophotographic performance of the photoconductor is largely influenced by the surface condition and material of the aluminum substrate. That is, if the mechanical smoothness of the surface of the substrate is poor and there are irregularities or scratches, electrical defects occur and black spots, black streaks, etc. occur during image formation. Therefore, mirror finishing is usually performed with a diamond bite or the like. Further, the aluminum substrate usually contains magnesium, iron, silicon, copper, manganese and the like as alloy components in order to secure desired mechanical strength.

【0004】これらのアルミニウム合金からなる導電性
基体を用いて有機系材料による感光体を製造する場合に
は、基体上に電荷発生層(CGL)をサブミクロンオー
ダに薄く塗布形成し、その上に電荷輸送層(CTL)を
10〜30μmの膜厚で形成する。高品質の電子写真画像が
得られる感光体とするためには、異物などの混在しない
非常に均一な膜でなければならない。そのため、基体の
表面には高い清浄度が要求される。
When a photosensitive member made of an organic material is manufactured using a conductive base member made of any of these aluminum alloys, a charge generation layer (CGL) is thinly applied and formed on the base member on the order of submicron, and is formed thereon. Charge transport layer (CTL)
It is formed with a film thickness of 10 to 30 μm. In order to obtain a high-quality electrophotographic image-bearing photoreceptor, it must be a very uniform film free from foreign substances. Therefore, high cleanliness is required on the surface of the substrate.

【0005】このアルミニウム系合金からなる回転ドラ
ム状の基体は、一般に管状素材の表面を切削加工して仕
上げられ、この切削加工時には、通常切削液が使用され
る。この切削液は冷却作用、潤滑作用、洗浄作用等を目
的として使用されるものであり具体的には、石油系、ポ
リブデン系、灯油、白灯油等が使用されている。
The rotary drum-shaped substrate made of the aluminum alloy is generally finished by cutting the surface of a tubular material, and a cutting fluid is usually used during the cutting. This cutting fluid is used for the purpose of cooling action, lubricating action, cleaning action, etc. Specifically, petroleum-based, polybutene-based, kerosene, white kerosene, etc. are used.

【0006】さらに画像欠陥の発生を防止するために基
体の切削加工後にブラシや研磨剤等を利用した接触式の
洗浄手段により基体の表面を洗浄することが行われてい
る。
Further, in order to prevent the occurrence of image defects, the surface of the substrate is cleaned by a contact type cleaning means using a brush, an abrasive or the like after cutting the substrate.

【0007】基体表面に異物が存在し電荷発生層に不均
一な部位ができると、得られた画像上に白抜けが発生す
る。ところが、異物の存在がほとんど無視できるレベル
にまで洗浄した基体を用いても高温環境下では画像上に
微小白点が発生することがある。これは導電性基体から
電荷発生層にフリーキャリアが注入されるためとされて
おり、このフリーキャリア注入を抑制するためには基体
と電荷発生層との界面に所要の抵抗値を有する電荷注入
阻止層(バリア層)が設けられているものが多い。バリ
ア層としては、基体上に塗布されたポリアミドなどに代
表される比較的低抵抗の樹脂膜,アルミニウム合金であ
る基体の表面に陽極酸化処理を施して形成した陽極酸化
被膜などが知られている。アルミニウム合金の陽極酸化
被膜は、成膜条件(陽極酸化条件,封孔処理条件)によ
り膜質,抵抗などを制御できる。バリア層として好適な
陽極酸化被膜を形成するためにはその成膜条件は比較的
狭い範囲に限定されるが、得られた被膜はバリア層とし
て好適であるだけでなく硬く膜質が安定でしかも取り扱
いが容易であるために従来から多用されている。
If foreign matter is present on the surface of the substrate and an uneven portion is formed in the charge generation layer, white spots are generated on the obtained image. However, even if a substrate that has been cleaned to a level where the presence of foreign matter can be almost ignored is used, minute white spots may occur on the image in a high temperature environment. This is because free carriers are injected from the conductive base material into the charge generation layer. In order to suppress this free carrier injection, charge injection blocking that has a required resistance value at the interface between the base material and the charge generation layer is performed. In many cases, a layer (barrier layer) is provided. As the barrier layer, a resin film having a relatively low resistance typified by polyamide or the like applied on a substrate, an anodized film formed by subjecting the surface of an aluminum alloy substrate to anodizing treatment, and the like are known. . The film quality, resistance, etc. of the aluminum alloy anodized film can be controlled by the film forming conditions (anodizing condition, sealing treatment condition). In order to form an anodized film that is suitable as a barrier layer, the film formation conditions are limited to a relatively narrow range, but the film obtained is not only suitable as a barrier layer, but also hard and stable in film quality and easy to handle. Since it is easy, it has been widely used.

【0008】また、前記のように切削油を使用して表面
加工されたアルミニウム系合金からなる基体では、切削
油を充分に除去するためには、フロン11,112,113等の
フロン、トリクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタ
ン、パークロルエチレン、塩化メチレン等の塩素系溶剤
を用いて洗浄しなければならず、従って、このような溶
剤を多量に使用することは、オゾン層破壊、発癌性等の
観点から環境汚染、作業安全性に問題がある。
Further, in the case of a substrate made of an aluminum alloy surface-treated with cutting oil as described above, in order to sufficiently remove the cutting oil, Freon such as Freon 11, 112, 113 and trichloroethylene are used. , 1,1,1-trichloroethane, perchlorethylene, methylene chloride, etc. must be washed with a chlorine-based solvent. Therefore, using a large amount of such a solvent may cause ozone depletion or carcinogenesis. There is a problem in environmental pollution and work safety from the viewpoint of sex.

【0009】そこで現在洗浄液として有機溶剤に換え
て、洗剤水溶液による水系洗浄が検討されている。しか
し基体の切削加工後の基体表面の洗浄を洗浄液として洗
剤溶液を用いた水系洗浄を採用した場合、有機溶剤洗浄
と比べてどうしても洗浄効率が低下してしまい、画像欠
陥の原因となる基体の表面加工時に発生した切削粉、環
境異物、切削油等が基体表面に残ったままとなる。この
様な水系洗浄されたアルミニウム基体に従来用いられて
いる顔料を電荷発生材料として用いると得られる画像に
白抜け、局部的濃度低下が発生する。さらに帯電電位、
感度の低下、繰返し時においては更に残留電位の増大が
生じる。そこでアルミニウム基体として切削加工後、水
系洗浄を施した基体を用いても画像不良が少なく、感度
が良くしかも繰返し特性の良好な材料が望まれていた。
Therefore, instead of an organic solvent as the cleaning liquid, an aqueous cleaning method using a detergent aqueous solution is under study. However, when water-based cleaning that uses a detergent solution as the cleaning liquid for cleaning the surface of the substrate after cutting the substrate is used, the cleaning efficiency is inevitably lower than that of organic solvent cleaning, and the surface of the substrate that causes image defects is inevitable. Cutting powder, environmental foreign matter, cutting oil, etc. generated during processing remain on the substrate surface. When a pigment conventionally used for such a water-cleaned aluminum substrate is used as a charge-generating material, white spots occur in the obtained image and a local decrease in density occurs. Furthermore, the charging potential,
The sensitivity decreases, and the residual potential further increases with repetition. Therefore, there has been a demand for a material having less image defects, good sensitivity, and good repeatability even if a water-based base material that has been subjected to a cutting process after being used as an aluminum base material is used.

【0010】更にまた前記アルミニウムの陽極酸化処理
においても、種々検討した結果では、上述のように導電
性基体としてのアルミニウム基体上にバリア層として基
体に陽極酸化処理をするだけでは画像上の微小白抜けは
ある程度減少させることはできるが、アルマイト層(陽
極酸化皮膜層)の膜質を種々変化させて改善を試みても
皆無にすることは不可能であることが分かった。
Furthermore, in the above-mentioned results of various studies in the anodizing treatment of aluminum, it was found that the anodizing treatment of a substrate as a barrier layer on an aluminum substrate as a conductive substrate as described above would result in a minute white image on the image. Although it is possible to reduce the loss to some extent, it has been found that it is impossible to eliminate it even if various improvements are made by changing the film quality of the alumite layer (anodized film layer).

【0011】一方アルミニウム基体の表面の各種欠陥を
被覆し、感光体として用いたときの画質の調整を目的と
して、例えばポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の下引層を設ける技術が知られている。
On the other hand, there is known a technique of covering various defects on the surface of an aluminum substrate and providing an undercoat layer of, for example, polyamide resin or polyvinyl butyral resin for the purpose of adjusting image quality when used as a photoreceptor.

【0012】しかしながら前記下引層を設けた感光体で
は、繰返し像形成の過程で疲労劣化を生じ易く、帯電
性、電荷保持性が低下しかつ残留電位が上昇して画質が
悪化すると言う問題がある。
However, in the photoconductor provided with the undercoat layer, fatigue deterioration is apt to occur in the process of repeated image formation, the charging property and the charge retention property are lowered, and the residual potential is increased, so that the image quality is deteriorated. is there.

【0013】このような画像欠陥は、感光体の高感度化
に伴い多くなり、かつ像形成時の温湿度条件等の環境の
影響をうける。
The number of such image defects increases as the sensitivity of the photosensitive member increases, and is affected by the environment such as temperature and humidity conditions during image formation.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】前記の状況に鑑み、本
発明は更に基体材料として、低コスト、軽量、加工容易
なアルミニウム系合金の利点を生かし、環境的に或は労
働衛生上問題のない水系洗浄を施した基体、或は陽極酸
化を施しその性能を補完し、画像欠陥がなく、高感度で
あり、かつ繰返し特性の良好な感光体を提供することを
課題とする。
In view of the above situation, the present invention further takes advantage of the low cost, light weight, and easily processable aluminum-based alloy as a substrate material, and has no environmental or occupational health problems. It is an object of the present invention to provide a substrate that has been subjected to water-based cleaning or anodization to complement its performance, to provide a photoreceptor having no image defects, high sensitivity, and good repeatability.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】前記課題は下記の構成に
よって解決される。即ち;導電性基体上に電荷発生層、
その上に電荷輸送層を設けて構成層を形成する電子写真
感光体において、前記導電性支持体が水系洗浄が施され
たか或は陽性酸化を施されたいずれかのアルミニウム基
体を用い、かつ前記電荷発生層に前記一般式〔I〕又は
〔II〕で示される電荷発生物質を含有することを特徴と
する電子写真感光体のいずれによっても解決することが
できる。
The above-mentioned problems can be solved by the following constitutions. A charge generation layer on a conductive substrate,
In an electrophotographic photoreceptor on which a charge transport layer is provided to form a constituent layer, the conductive support is an aluminum substrate which is either water-based washed or positively oxidized, and The problem can be solved by any of the electrophotographic photoreceptors characterized in that the charge generating layer contains the charge generating substance represented by the general formula [I] or [II].

【0016】但し一般式〔I〕,〔II〕において、Zは
置換基を有してもよい2価の芳香族環を形成する原子群
である。
However, in the general formulas [I] and [II], Z is an atomic group forming a divalent aromatic ring which may have a substituent.

【0017】前記一般式〔I〕または〔II〕で表される
化合物;ビスイミダゾピリドノペリレン(BIPPと標
記する)において、Zで表される芳香族基の好ましい例
としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラ
セン環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリミジン
環、ピラゾール環、アントラキノン環等が挙げられ、特
にベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。
またZで表される芳香族環は置換されていてもよく、置
換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール
基、アリールオキシ基、アシール基、アシロキシ基、ア
ミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基などを挙げることができる。
In the bisimidazopyridonoperylene (denoted as BIPP) compound represented by the general formula [I] or [II], preferred examples of the aromatic group represented by Z include, for example, a benzene ring. , Naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazole ring, anthraquinone ring, etc., and particularly preferably benzene ring or naphthalene ring.
The aromatic ring represented by Z may be substituted, and as the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an asyl group, an acyloxy group, an amino group, a carbamoyl group, a halogen atom, Examples thereof include a nitro group and a cyano group.

【0018】以下本発明に好ましく用いられるBIPP
の具体例を示すが、本発明はこれらによって限定される
ものではない。
BIPP preferably used in the present invention
However, the present invention is not limited thereto.

【0019】[0019]

【化3】 [Chemical 3]

【0020】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性支持体としては、基体材料として特定のアルミニウム
系合金を用いる。このアルミニウム系合金はマグネシウ
ム(Mg)0.1〜3重量%、珪素(Si)0.01〜0.8重量%、
鉄(Fe)0.01〜0.4重量%の添加成分を含有してなるア
ルミニウム系合金である。更に好ましくはMg 0.2〜2.0
%,Si 0.02〜0.6%,Fe 0.02〜0.2%である。またその
他の添加成分として、銅(Cu)が0.01重量%以下、その
他の金属が0.1重量%以下の割合で含有されていてもよ
い。
In the electroconductive support used in the electrophotographic photosensitive member of the present invention, a specific aluminum alloy is used as the base material. This aluminum alloy is magnesium (Mg) 0.1-3 wt%, silicon (Si) 0.01-0.8 wt%,
An aluminum-based alloy containing 0.01 to 0.4 wt% of iron (Fe) as an additive component. More preferably Mg 0.2-2.0
%, Si 0.02 to 0.6%, Fe 0.02 to 0.2%. Further, as other additive components, copper (Cu) may be contained in an amount of 0.01% by weight or less and the other metal may be included in an amount of 0.1% by weight or less.

【0021】添加成分であるマグネシウム(Mg)は、被
切削性の改善、機械的強度の向上に寄与する。またAl-M
g金属化合物は、孔食腐食を起こさず、全面腐食となる
ため、画像欠陥の原因とはならない。ただし、Mgの割合
が0.1重量%未満では、このような効果が充分には発揮
されない。逆にMgの割合が3重量%を超えるときは、M
g,Si相晶出、粒界腐食、応力腐食が促進される。
Magnesium (Mg) as an additive component contributes to improvement of machinability and mechanical strength. Also Al-M
g Metallic compounds do not cause pitting corrosion but general corrosion, so they do not cause image defects. However, if the proportion of Mg is less than 0.1% by weight, such effects are not sufficiently exhibited. On the contrary, when the ratio of Mg exceeds 3% by weight, M
g, Si phase crystallization, intergranular corrosion, and stress corrosion are accelerated.

【0022】添加成分である珪素(Si)は、機械的強度
の向上、耐食性の改善に寄与する。ただし、Siの割合が
0.01重量%未満では、このような効果が充分には発揮さ
れない。逆にSiの割合が0.8重量%を超えるときは、粗
大Si相が析出し、表面欠陥となる。
Silicon (Si) as an additive component contributes to improvement of mechanical strength and corrosion resistance. However, if the proportion of Si is
If it is less than 0.01% by weight, such an effect is not sufficiently exhibited. On the other hand, when the Si content exceeds 0.8% by weight, a coarse Si phase precipitates and becomes a surface defect.

【0023】添加成分である鉄(Fe)は共存するアルミ
ニウムや珪素とFe-Al系をFe-Al-Si系の金属間化合物を
形成し、アルミニウムマトリックス中にハードスポット
として現れる。特にこのハードスポットは鉄含量0.4%
を界にして鉄が増加すると急激に増加し、例えば鏡面切
削加工等の際に悪影響を及ぼす。従って本発明のアルミ
ニウム合金における好ましい鉄含量は、0.4%以下さら
に好ましくは0.2%以下である。
Iron (Fe), which is an additive component, forms an intermetallic compound of Fe—Al—Si based on Fe—Al with coexisting aluminum or silicon, and appears as a hard spot in the aluminum matrix. In particular, this hard spot has an iron content of 0.4%
When the amount of iron increases at the boundary, the amount of iron increases sharply, which adversely affects, for example, mirror cutting. Therefore, the preferable iron content in the aluminum alloy of the present invention is 0.4% or less, more preferably 0.2% or less.

【0024】なお、基体を構成するアルミニウム系合金
における添加成分の含有割合は、理学電気社製の波長分
散型蛍光X線分析装置「システム3080」を用いて測定さ
れたものである。
The content ratio of the additive component in the aluminum-based alloy constituting the substrate is measured by using a wavelength dispersive X-ray fluorescence analyzer "System 3080" manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.

【0025】本発明の水系洗浄は従来通りの方法で表面
加工されたアルミニウム基体に対して施される。
The aqueous cleaning of the present invention is applied to an aluminum substrate surface-treated by a conventional method.

【0026】水系洗浄は、通常、洗浄−濯ぎ−乾燥の3
工程からなり、洗浄で素管表面の切削油,アルミニウム
切り粉等の除去、濯ぎで洗浄液の除去、乾燥で水分の除
去を行っている。
The water-based cleaning is usually performed by washing-rinsing-drying.
The process consists of cleaning to remove cutting oil and aluminum chips on the surface of the raw pipe, rinsing to remove the cleaning liquid, and drying to remove water.

【0027】乾燥工程は水を均一に乾燥させるのが非常
に難しく、色々な方法が検討されている(熱風乾燥、エ
アーリングブロー乾燥、温純水引き上げ乾燥等)。
In the drying step, it is very difficult to uniformly dry water, and various methods have been studied (hot air drying, air ring blow drying, hot pure water pulling drying, etc.).

【0028】これら乾燥方法の中で、温純水引き上げ乾
燥を選択した場合、水分の均一完全除去を行うことがで
き、もっとも好ましい。
Of these drying methods, when hot-pure water pulling-up and drying are selected, it is most preferable because the water can be uniformly and completely removed.

【0029】以下に水系洗浄の実施態様について述べ
る。
An embodiment of water-based cleaning will be described below.

【0030】〔洗浄〕洗剤水溶液により導電性基体表面
についた切削油、アルミニウム切り粉等を除去する。
[Washing] The cutting oil, the aluminum cutting powder, and the like adhering to the surface of the conductive substrate are removed with an aqueous detergent solution.

【0031】除去方法としては、 ・洗剤水溶液中に浸漬させる方法(単純浸漬、素管の回
転、揺動含む) ・超音波による洗浄(US洗浄) 超音波の配置→槽の底、横、斜め、およびこれらの組合
せ 超音波の種類→28KHz、40KHz、同時多重波、多周波交互
発振等 ・ブラシ、スポンジによる擦り洗浄 好ましいスポンジ形状→特開平3-257456記載のスポンジ
(カネボウ社製ベルクリーンが市販されている) があり、通常は1槽目=洗剤US洗浄、2槽目=洗剤ス
ポンジ+洗剤シャワーを組合せている。
As a removing method, a method of immersing in a detergent aqueous solution (including simple immersion, rotation of a raw pipe, and shaking) -Ultrasonic cleaning (US cleaning) Arrangement of ultrasonic waves → bottom of tank, side, diagonal , And combinations of these types of ultrasonic waves → 28KHz, 40KHz, simultaneous multiple wave, multi-frequency alternating oscillation, etc. ・ Scrubbing with a brush or sponge Preferred sponge shape → Sponge described in JP-A-3-257456
(Kanebo Belclean is commercially available), and usually the first tank = detergent US cleaning, the second tank = detergent sponge + detergent shower are combined.

【0032】洗剤には種々の市販品があり、表1に例示
する。
There are various commercially available detergents, examples of which are shown in Table 1.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】中性洗剤とアルカリ性洗剤を比較すると、
アルカリ性洗剤の方が洗浄性が良く、好ましい。
Comparing the neutral detergent and the alkaline detergent,
An alkaline detergent is preferable because it has better detergency.

【0035】〔濯ぎ〕洗剤のついたアルミニウム基体か
ら洗剤を除去する。
Rinsing Remove detergent from the aluminum substrate with detergent.

【0036】除去方法としては、洗浄工程と同じ方法で
行われる。汚れの再付着防止の観点から、浸漬、超音波
等の非接触の方法が好ましい(ブラシ、スポンジは好ま
しくない。)。
The removal method is the same as the cleaning step. From the viewpoint of preventing redeposition of stains, non-contact methods such as immersion and ultrasonic waves are preferable (brushes and sponges are not preferable).

【0037】浸漬する濯ぎ水としては、一般に純水、超
純水と称されるイオン、微粒子が除去された水が用いら
れる。
As the rinsing water to be dipped, water in which ions and fine particles are generally called pure water or ultrapure water is used.

【0038】〔乾燥〕アルミニウム基体表面に付着した
水分を除去する。
[Drying] Water adhering to the surface of the aluminum substrate is removed.

【0039】除去方法としては、 ・熱風乾燥 ・エアーブロー乾燥 ・温純水引き上げ乾燥 等があるが、素管表面の乾燥が均一になるようにするた
めには、温純水引き上げ乾燥が好ましい。
Examples of the removing method include hot air drying, air blow drying, and warm pure water pull-up and drying. However, warm pure water pull-up and drying are preferred in order to make the surface of the tube uniform.

【0040】温純水引き上げ乾燥は、温純水中にアルミ
ニウム基体を温純水と同じ温度になるまで浸漬(数秒〜
数10秒)した後、ゆっくりと一定速度でアルミニウム基
体を鉛直方向に引き上げ、アルミニウム基体の熱容量で
表面の水膜を乾燥させる。引き上げ速度は0.1cm/sec〜
2.0cm/sec(好ましくは0.5〜1.0cm/sec)であるが、タ
クトが許すなら遅い方が好ましい。温純水の温度として
は、高い方がはやく乾燥するが、あまり高すぎると蒸気
により乾燥ムラとなることがある。本発明においては、
乾燥工程における温純水の温度としては60〜90℃が好ま
しく、さらに好ましくは70〜80℃である。
The hot pure water is pulled up and dried by immersing the aluminum substrate in the hot pure water until the temperature becomes the same as that of the hot pure water (from several seconds to several seconds).
After several tens of seconds), the aluminum substrate is slowly pulled up vertically at a constant speed, and the water film on the surface is dried by the heat capacity of the aluminum substrate. Lifting speed is 0.1 cm / sec ~
It is 2.0 cm / sec (preferably 0.5 to 1.0 cm / sec), but it is preferably slower if tact allows. As for the temperature of the hot pure water, the higher the temperature, the faster the drying. However, if the temperature is too high, the steam may cause uneven drying. In the present invention,
The temperature of the hot pure water in the drying step is preferably 60 to 90 ° C, more preferably 70 to 80 ° C.

【0041】本発明に係る前記基体用素管の水洗に用い
られる純水としては以下の特性を有するものが好まし
い。
The pure water used for washing the base material tube according to the present invention preferably has the following characteristics.

【0042】比抵抗:10MΩcm以上、好ましくは17MΩ
cm以上 微粒子:100個/ml以下(0.2μm以上の微粒子)、好
ましくは30個/ml以下 生 菌:0.1コロニー/ml以下 本発明における陽極酸化処理は、アルミニウム基体の表
面を切削により表面を平滑にし前処理を施した後行われ
る。また前記処理の脱脂は酸系、アルカリ系、中性のい
ずれでもよく、エッチングの酸系、アルカリ系のいずれ
も使用できる。
Specific resistance: 10 MΩcm or more, preferably 17 MΩcm
cm or more Fine particles: 100 particles / ml or less (fine particles of 0.2 μm or more), preferably 30 particles / ml or less Bacteria: 0.1 colonies / ml or less Anodizing treatment in the present invention is performed by cutting the surface of an aluminum substrate to smooth the surface. It is performed after the pretreatment. The degreasing treatment may be acid-based, alkali-based or neutral, and etching acid-based or alkali-based may be used.

【0043】陽極酸化処理は通常の方法に従って行うこ
とができ、特に制限はないがいわゆる硫酸法が薬品が安
価であり、経済的に優れることと、膜生成速度が速く生
産性に優れるので好ましい。基本的に硫酸法に限らず蓚
酸、燐酸、クロム酸等の単独または複数の混合溶液でも
よいし、電解方法も定電流、定電圧、パルス法、2段電
界法等特に限定されるものではない。
The anodic oxidation treatment can be carried out according to a usual method, but there is no particular limitation, but the so-called sulfuric acid method is preferable because the chemicals are inexpensive, the cost is excellent, and the film formation rate is high and the productivity is excellent. Basically, it is not limited to the sulfuric acid method, but may be a single solution or a mixed solution of oxalic acid, phosphoric acid, chromic acid, etc., and the electrolysis method is not particularly limited, such as constant current, constant voltage, pulse method, two-step electric field method. .

【0044】このようにして形成された陽極酸性皮膜の
うち、多孔質であるものは化学的に活性な場合が多く、
耐膜性、耐食性、耐汚染性等が必ずしも十分でないた
め、封孔処理を行ない不活性することが望ましい。封孔
処理としては沸騰水、水蒸気を用いた水和封孔、重金属
水溶液を用いる無機質封孔等が好ましい。
Of the anodic acid coatings thus formed, those that are porous are often chemically active,
Since the film resistance, corrosion resistance, stain resistance, etc. are not always sufficient, it is desirable to carry out a sealing treatment to inactivate. As the sealing treatment, boiling water, hydration sealing using water vapor, inorganic sealing using a heavy metal aqueous solution and the like are preferable.

【0045】陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜50μm、好まし
くは2〜20μmである。
The thickness of the anodized film is 0.5 to 50 μm, preferably 2 to 20 μm.

【0046】本発明においては、バリアの効果を有する
中間層の層厚は0.01〜5μm、好ましくは0.05〜3μmの
範囲とされる。0.01μmを下まわると、基体から感光層
への電荷の注入が阻止され得ない。基本の凹凸を原因と
して、感光層にピンホールが発生しやすくなる。5μm
を上まわると、感光層の残留電位が効果的に除去され得
ない。
In the present invention, the intermediate layer having a barrier effect has a layer thickness of 0.01 to 5 μm, preferably 0.05 to 3 μm. Below 0.01 μm injection of charges from the substrate into the photosensitive layer cannot be prevented. Due to the basic unevenness, pinholes are likely to occur in the photosensitive layer. 5 μm
Above the residual potential of the photosensitive layer cannot be effectively removed.

【0047】更に中間層に用いられるバインダとして
は、電気抵抗、耐環境性、他層との接着性或は他層の溶
媒に不溶であること等を考慮して選ばれるが、本発明に
おいてはポリアミド樹脂が最も好ましい。
Further, the binder used in the intermediate layer is selected in consideration of electrical resistance, environment resistance, adhesiveness with other layers, insolubility in the solvent of other layers, etc., but in the present invention, it is selected. Polyamide resin is most preferred.

【0048】ポリアミドとしては、アルコール可溶性ポ
リアミドが最も好ましく、共重合ナイロンやN-アルコキ
シメチル変性ナイロン等を用いることができる。
As the polyamide, alcohol-soluble polyamide is most preferable, and copolymerized nylon, N-alkoxymethyl-modified nylon and the like can be used.

【0049】感光体の層構成は種々の形態が知られてお
り、本発明の感光体はそれらのいずれかの形態をとりう
るが、積層型もしくは分散型の機能分離型感光体とする
のが望ましい。この場合、通常は図1(イ)〜(ニ)の
ような構成となる。(イ)に示す層構成は、導電性支持
体1上に電荷発生物質(CGM)を含有する電荷発生層
(CGL)2を形成し、これに電荷輸送物質(CTM)
を含有する電荷輸送層(CTL)3を積層して感光層
(PCL)4を形成したものであり、(ロ)は(イ)の
層構成のPCL4と導電性支持体1の間に接着層、バリ
ア層などの中間層(ASL)5を設けたものである。
(ハ)の層構成はCGMをCTMとバインダを含有する
層に分散したPCL4を導電性支持体上に形成したもの
であり、(ニ)は(ハ)の層構成のPCL4と導電性支
持体1の間にASL5を設けたものである。図1(イ)
〜(ニ)の構成において、最表層にはさらに保護層を設
けてもよく、またCGL2中にCTMを含有してもよ
い。本発明においてはCGLとCTLの少なくとも2層
を有する感光体が特に好ましい。
Various forms of the layer structure of the photoconductor are known, and the photoconductor of the present invention may take any of these forms, but it is a laminated type or dispersion type function-separated type photoconductor. desirable. In this case, the structure is usually as shown in FIGS. In the layer structure shown in (a), a charge generation layer (CGL) 2 containing a charge generation substance (CGM) is formed on a conductive support 1, and a charge transport substance (CTM) is formed thereon.
Is a photosensitive layer (PCL) 4 formed by laminating a charge-transporting layer (CTL) 3 containing a resin, and (b) is an adhesive layer between the PCL 4 having the layer structure of (a) and the conductive support 1. An intermediate layer (ASL) 5 such as a barrier layer is provided.
The layer structure of (C) is obtained by forming PCL4 in which CGM is dispersed in a layer containing CTM and a binder on a conductive support, and (D) is the PCL4 of the layer structure of (C) and a conductive support. ASL5 is provided between the two. Figure 1 (a)
In the configurations (1) to (4), a protective layer may be further provided on the outermost layer, and CGL2 may contain CTM. In the present invention, a photoreceptor having at least two layers of CGL and CTL is particularly preferable.

【0050】CGL2は例えば下記に示す方法によって
作製された塗布液を導電性支持体1、もしくはCTL3
上に直接、あるいは必要に応じて接着層もしくはバリヤ
層などのASL5を設けた上に塗布することにより形成
することができる。
For CGL2, for example, a coating solution prepared by the following method is used as the conductive support 1 or CTL3.
It can be formed directly on top of it, or by applying it on the ASL5 such as an adhesive layer or a barrier layer if necessary.

【0051】前記CGMを一緒にあるいは別々に適当
な溶媒に溶解した溶液、あるいは更に必要に応じてバイ
ンダ樹脂および又はCTMを加え混合溶解した溶液。
A solution prepared by dissolving the above CGM together or separately in a suitable solvent, or a solution prepared by further mixing and dissolving a binder resin and / or CTM as required.

【0052】前記CGMを一緒にあるいは別々にボー
ルミル、サンドグラインダ等を用いて分散中で微細粒子
(好ましくは粒径5μm以下、更に好ましくは1μm以
下)とし、必要に応じてバインダ樹脂および/又はCT
M加え混合分散した分散液。
Fine particles (preferably having a particle size of 5 μm or less, more preferably 1 μm or less) are dispersed in the CGM together or separately using a ball mill, a sand grinder or the like, and if necessary, a binder resin and / or CT.
A dispersion liquid in which M is added and mixed and dispersed.

【0053】CGLの形成に使用される溶媒あるいは分
散媒としては、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレ
ンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホルムア
ミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、1,2-ジクロルエタン、1,2-ジク
ロルプロパン、1,1,2-トリクロルエタン、1,1,1-トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエタ
ン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸
エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ロソルブ等が挙げられるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
Solvents or dispersion media used to form CGL include butylamine, diethylamine, ethylenediamine, isopropanolamine, triethanolamine, triethylenediamine, N, N-dimethylformamide, acetone, methylethylketone, methylisobutylketone, cyclohexanone, Benzene, toluene, xylene, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichloropropane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethane, dichloromethane, tetrahydrofuran , Dioxane, methanol, ethanol, isopropanol, ethyl acetate, butyl acetate, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve and the like, but the present invention is not limited thereto.

【0054】また、少なくともCTMを含有するCTL
は上記CGLと同様にして形成することができる。
CTL containing at least CTM
Can be formed in the same manner as the above CGL.

【0055】CGLあるいはCTLの形成に用いられる
バインダ樹脂は任意のものを用いることができるが、疎
水性で、かつ誘電率が高く、電気絶縁性のフィルム形成
性高分子重合体を用いることが好ましい。このような高
分子重合体としては、例えば次のものを挙げることがで
きるが、これらに限定されるものではない。
Any binder resin can be used for forming CGL or CTL, but it is preferable to use a film-forming high molecular polymer which is hydrophobic, has a high dielectric constant and is electrically insulating. . Examples of such high molecular weight polymers include, but are not limited to, the followings.

【0056】P−1) ポリカーボネート P−2) ポリエステル P−3) メタクリル酸 P−4) ポリアクリル樹脂 P−5) ポリ塩化ビニル P−6) ポリ塩化ビニリデン P−7) ポリスチレン P−8) ポリビニルアセテート P−9) スチレン-プタジエン共重合体 P−10) 塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体 P−11) 塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体 P−12) 塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重
合体 P−13) シリコーン樹脂 P−14) シリコーン-アルキッド樹脂 P−15) フェノールホルムアルデヒド樹脂 P−16) スチレン-アルキッド樹脂 P−17) ポリ-N-ビニルカルバゾール P−18) ポリビニルブチラール P−19) ポリビニルフォルマール これらのバインダ樹脂は、単独であるいは2種以上の混
合物として用いることができる。
P-1) Polycarbonate P-2) Polyester P-3) Methacrylic acid P-4) Polyacrylic resin P-5) Polyvinyl chloride P-6) Polyvinylidene chloride P-7) Polystyrene P-8) Polyvinyl Acetate P-9) Styrene-Ptadiene Copolymer P-10) Vinylidene Chloride-Acrylonitrile Copolymer P-11) Vinyl Chloride-Vinyl Acetate Copolymer P-12) Vinyl Chloride-Vinyl Acetate-Maleic Anhydride Copolymer P-13) Silicone resin P-14) Silicone-alkyd resin P-15) Phenol formaldehyde resin P-16) Styrene-alkyd resin P-17) Poly-N-vinylcarbazole P-18) Polyvinyl butyral P-19) Polyvinyl Formal These binder resins may be used alone or as a mixture of two or more kinds. Can.

【0057】以上のようにして形成されるCGLにおい
て、一般式〔I〕および/または一般式〔II〕で表され
るBIPPからなるCGMとバインダとの重量比は好ま
しくは100:0〜1000である。CGMの含有割合がこれ
より少いと光感度が低く、残留電位の増加を招き、また
これにより多いと暗減衰及び受容電位が低下する。
In the CGL formed as described above, the weight ratio of the CGM made of BIPP represented by the general formula [I] and / or the general formula [II] and the binder is preferably from 100: 0 to 1000. is there. If the CGM content is lower than this range, the photosensitivity is low and the residual potential increases, and if it is high, the dark decay and the receptive potential decrease.

【0058】また、CGL中にCTMを含有する場合に
は、CGMとCTMとの割合は重量比で10:0〜10:10
00であることが好ましく、特に好ましくは10:0〜10:
100である。
When CTM is contained in CGL, the weight ratio of CGM to CTM is from 10: 0 to 10:10.
It is preferably 00, particularly preferably 10: 0 to 10:
Is 100.

【0059】形成されるCGLの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μmである。
The film thickness of the formed CGL is preferably 0.
01 to 10 μm.

【0060】また、前記のようにして形成されるCTL
において、CTMはCTL中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。
The CTL formed as described above
In the above, CTM is preferably 20 to 200 parts by weight, and particularly preferably 30 to 150 parts by weight, per 100 parts by weight of the binder resin in CTL.
Parts by weight.

【0061】また、形成されるCTLの厚さは、好まし
くは5〜60μm、特に好ましくは10〜40μmである。
The thickness of the formed CTL is preferably 5 to 60 μm, particularly preferably 10 to 40 μm.

【0062】本発明に用いられるCTMとしては、特に
制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導
体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダ
ゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリ
ジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラ
ゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベ
ンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キ
ナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導
体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ
-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9
-ビニルアントラセン等が挙げられる。
The CTM used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives. , Styryl compounds, hydrazone compounds, pyrazoline derivatives, amine derivatives, oxazolone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, poly
-N-vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9
-Vinyl anthracene and the like.

【0063】ただし本発明においてCTMは、光照射時
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記BIPP等のCGMとの組合せも考慮
して選択されることが好ましく、かかるCTMとしては
下記一般式(A)または(B)で表される化合物を挙げ
ることができる。
In the present invention, however, the CTM is preferably selected in consideration of the transporting ability of holes generated at the time of light irradiation to the surface of the photoreceptor or the side of the support, as well as the combination with the CGM such as BIPP. Examples of such CTM include compounds represented by the following general formula (A) or (B).

【0064】[0064]

【化4】 [Chemical 4]

【0065】但し、Ar1,Ar2,Ar4はそれぞれ置換又
は無置換のアリール基を表し、Ar3は置換又は無置換の
アリーレン基を表し、R1は水素原子、置換若しくは無
置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール
基を表す。
However, Ar 1 , Ar 2 and Ar 4 each represent a substituted or unsubstituted aryl group, Ar 3 represents a substituted or unsubstituted arylene group, and R 1 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a group or a substituted or unsubstituted aryl group.

【0066】このような化合物の具体例は特開昭58-654
40号の第3〜4頁及び同第58-198043号の第3〜6頁に
詳細に記載されている。
Specific examples of such compounds are described in JP-A-58-654.
No. 40, pages 3-4 and 58-198043, pages 3-6.

【0067】[0067]

【化5】 [Chemical 5]

【0068】式中Ar1,Ar4,Ar5はそれぞれ置換、無
置換のアリール基、好ましくは置換、無置換のフェニル
基、置換、無置換のナフチル基を表し、R1,R2は水素
原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアリ
ール基を表し、好ましくは水素原子、炭素原子数1個か
ら8個のアルキル基、置換、無置換のフェニル基、置
換、無置換のナフチル基を表す。Ar2,Ar3は置換、無
置換のアリーレン基、好ましくは置換、無置換のフェニ
レン基、置換、無置換のナフチレン基を表す。
In the formula, Ar 1 , Ar 4 and Ar 5 each represent a substituted or unsubstituted aryl group, preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, and R 1 and R 2 are hydrogen. An atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted Represents a naphthyl group. Ar 2 and Ar 3 represent a substituted or unsubstituted arylene group, preferably a substituted or unsubstituted phenylene group or a substituted or unsubstituted naphthylene group.

【0069】上記化合物の具体的は例えば特開昭64-322
65号の第4〜10頁に詳細に記載されている。
Specific examples of the above-mentioned compounds are described in, for example, JP-A 64-322.
No. 65, p. 4-10.

【0070】本発明のPCLにはCGMの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に2級アミンを添加するのが好ましい。
Organic amines can be added to the PCL of the present invention for the purpose of improving the charge generation function of CGM.
It is particularly preferable to add a secondary amine.

【0071】かかる2級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジ-ノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。
Examples of the secondary amine include dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, di-isopropylamine, dibutylamine, di-isobutylamine, diamylamine, di-isoamylamine, dihexylamine, di-isohexylamine, dipentyl. Amine, di-isopentylamine, di-octylamine, di-
Examples thereof include isooctylamine, di-nonylamine, di-isononylamine, didecylamine, di-isodecylamine, dimonodecylamine, di-isomonodecylamine, didodecylamine and di-isododecylamine.

【0072】かかる有機アミン類の添加量としては、C
GMの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。
The addition amount of such organic amines is C
The number of moles is equal to or less than the equivalent of GM, preferably in the range of 0.2 times to 0.005 times.

【0073】本発明においてCGLには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。
In the present invention, CGL may contain one or more electron-accepting substances for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential and reducing fatigue during repeated use.

【0074】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、5-ニトロ
サリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリ
ット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げるこ
とができる。
Examples of the electron accepting substance which can be used here include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride and 3-nitrophthalic anhydride. , 4-nitrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, mellitic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1,3,5-trinitrobenzene, paranitrobenzonitrile , Picryl chloride, quinone chlorimide, chloranil, bulmannyl, dichlorodicyanoparabenzoquinone, anthraquinone, dinitroanthraquinone, 2,7-dinitrofluorenone, 2,4,7-trinitrofluorenone,
2,4,5,7-Tetranitrofluorenone, 9-fluorenylidene [dicyanomethylene malonodinitrile], polynitro-9
-Fluorenylidene- [dicyanomethylene malonodinitrile], picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3,5-benzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid, phthal Examples thereof include acids, meritic acid, and other compounds having a high electron affinity.

【0075】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質:電子受容性物質=100:0.01=200、好ましく
は100:0.1〜100である。
The amount of the electron-accepting substance added is, by weight ratio, charge generating substance: electron-accepting substance = 100: 0.01 = 200, preferably 100: 0.1 to 100.

【0076】電子受容性物質はCTLに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でC
TM:電子受容性物質=100:0.01〜100、好ましくは10
0:0.1〜50である。
The electron accepting substance may be added to the CTL. The amount of the electron-accepting substance added to the layer is C by weight.
TM: electron acceptor = 100: 0.01-100, preferably 10
0: 0.1 to 50.

【0077】またCGL中にレベリング剤を添加しても
よい。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイ
ル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオ
イル類が使用され、その使用量はバインダ樹脂に対して
0〜1重量%程度が適当である。
A leveling agent may be added to CGL. As the leveling agent, silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil are used, and the amount thereof is preferably about 0 to 1% by weight based on the binder resin.

【0078】また本発明の感光体には、その他、必要に
よりPCLを保護する目的で酸化防止剤や紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。
In addition, the photoreceptor of the present invention may further contain an antioxidant, an ultraviolet absorber or the like for the purpose of protecting PCL, if necessary, and may also contain a dye for correcting color sensitivity. .

【0079】[0079]

【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
る。
EXAMPLES The present invention will be described in detail with reference to examples.

【0080】尚水系洗浄に関る実施例A群と、陽極酸化
に関る実施例B群に分けて述べる。
An example A group relating to still water cleaning and an example B group relating to anodic oxidation will be described separately.

【0081】:実施例A群: 実施例A1 (アルミニウム素管)本発明に係るアルミニウム合金引
抜管を用意し、両端インロー加工後、ダイヤモンドバイ
トで鏡面加工を施した。
Example A group: Example A1 (aluminum blank) An aluminum alloy drawn tube according to the present invention was prepared, and after both ends inlay processing, mirror surface processing was performed with a diamond cutting tool.

【0082】素管の大きさ:φ80mm×355.5mm 素管表面粗さ:0.3s以下 (アルミニウム素管の洗浄) (1)(超音波洗浄) 非イオン活性剤(ソニックフェロー社製SE-115)10%水
溶液を用い、40℃で超音波洗浄60秒。超音波発振器は28
kHzのものを槽の底部と横の両方に配置。回転及び振動
の併用。
Size of blank tube: φ80 mm × 355.5 mm Surface roughness of blank tube: 0.3 s or less (cleaning of aluminum blank tube) (1) (ultrasonic cleaning) Nonionic activator (SE-115 manufactured by Sonic Fellow) Ultrasonic cleaning for 60 seconds at 40 ° C using a 10% aqueous solution. The ultrasonic oscillator is 28
Place kHz at both the bottom and side of the tank. Combined use of rotation and vibration.

【0083】(2)(スポンジ擦り洗浄) 前記界面活性剤水溶液(40℃)中でベルクリーン(カネ
ボウ社製)スポンジを素管に擦りつけ、擦り洗浄。
(2) (Sponge scrubbing) In the above-mentioned aqueous surfactant solution (40 ° C.), a Bellclean (manufactured by Kanebo Ltd.) sponge was rubbed on the base tube for rubbing and washing.

【0084】(3)(濯ぎ) 超純水(比抵抗5Ωcm以上;40℃)中で超音波洗浄(周
波数28KHz)を行った。
(3) (Rinse) Ultrasonic cleaning (frequency 28 KHz) was performed in ultrapure water (specific resistance 5 Ωcm or more; 40 ° C.).

【0085】(4)(乾燥) 40℃の超純水に1分間浸漬させて0.5cm/secの引上速度
にて素管を引き上げ、素管を乾燥させる。
(4) (Drying) It is immersed in ultrapure water at 40 ° C. for 1 minute and the raw tube is pulled up at a pulling rate of 0.5 cm / sec to dry the raw tube.

【0086】ASL用塗料 バインダとしてポリアミドCM8000(東レ社製)1.5gを
メタノール/ブタノール(4/1wt比)混合液100mlに溶
解させた。
As a coating binder for ASL, 1.5 g of polyamide CM8000 (manufactured by Toray) was dissolved in 100 ml of a mixed solution of methanol / butanol (4/1 wt ratio).

【0087】CGL用塗料 CGLとしてBIPP(例示化合物A−1)7.5g、バイ
ンダとしてブチラール樹脂エレックスBX−L(セキス
イ社製)1.5g及び溶媒としてメチルエチルケトン300ml
をサンドグラインダに10時間かけて分散した。
BIGL (Exemplary Compound A-1) 7.5 g as CGL coating material CGL, butyral resin Elex BX-L (manufactured by Sekisui) 1.5 g as a binder, and methyl ethyl ketone 300 ml as a solvent.
Was dispersed in a sand grinder for 10 hours.

【0088】CTL用塗料 CTMとして〔化6〕に記載の化合物(T−1)11.25g
と、バインダとしてBPZ型ポリカーボネート;ユーピ
ロンZ−300(三菱瓦斯化学社製)15gをジクロルエタン
100mlに溶解させた。
11.25 g of the compound (T-1) described in [Chemical Formula 6] as a coating material CTM for CTL
And BPZ type polycarbonate as a binder; 15 g of Iupilon Z-300 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) in dichloroethane
It was dissolved in 100 ml.

【0089】感光体の作製 前記水系洗浄を施したアルミニウムドラムにASL用塗
料をディップ塗布し、乾燥膜厚0.2μmのASLを形成し
た。
Preparation of Photoreceptor ASL paint was dip-coated on the aluminum drum that had been subjected to the water-based cleaning to form an ASL having a dry film thickness of 0.2 μm.

【0090】次にえられたCGL用塗料をディップ塗布
し乾燥膜厚0.5μmのCGLを形成した。次いで前記CT
L塗料をディップ塗布により乾燥膜厚20μmのCTLを
形成し、感光体試料A1をえた。
Next, the obtained CGL paint was dip-coated to form a CGL having a dry film thickness of 0.5 μm. Then the CT
L coating material was applied by dip to form a CTL having a dry film thickness of 20 μm, and a photoreceptor sample A1 was obtained.

【0091】実施例A2 実施例A1においてASLを塗布していない以外は同様
にして感光体試料2を作製した。
Example A2 Photoreceptor sample 2 was prepared in the same manner as in Example A1 except that ASL was not applied.

【0092】比較例(A1) 実施例A1においてCGL用塗料のCGMに例示化合物
A−1に換えて〔化6〕に記載のペリレン化合物(C−
1)を用いた以外は同様にして比較感光体(A1)を作
製した。
Comparative Example (A1) In Example A1, the CGM of the coating composition for CGL was replaced with the exemplified compound A-1, and the perylene compound (C-
A comparative photoconductor (A1) was prepared in the same manner except that 1) was used.

【0093】比較例(A2) 比較例(A1)においてASLを塗布していない以外は
同様にして比較感光体(A2)を作製した。
Comparative Example (A2) A comparative photoreceptor (A2) was prepared in the same manner as in Comparative Example (A1) except that ASL was not applied.

【0094】[0094]

【化6】 [Chemical 6]

【0095】以上のようにして得られた感光体試料につ
いて下記の特性評価を行ない、結果を表2に示した。
The following characteristic evaluations were carried out on the photoreceptor samples obtained as described above, and the results are shown in Table 2.

【0096】〔画像評価〕電子写真複写機「U−Bix 4
045」(コニカ社製)に組込み白紙チャートを実写して
行った。
[Image Evaluation] Electrophotographic copying machine “U-Bix 4
045 ”(manufactured by Konica Corporation), and the built-in blank paper chart was actually taken.

【0097】(1)白抜け 画像解析装置「オムニコン3000形」(島津製作所製)を
用い白抜けの粒径と箇数を測定し、φ(径)0.05mm以上
の白抜け数/cm2により下記評価符号により判定した。
(1) White voids The particle size and number of white voids were measured using an image analysis device "Omnicon 3000 type" (manufactured by Shimadzu Corporation), and the number of white voids of φ (diameter) of 0.05 mm or more / cm 2 It was judged by the following evaluation code.

【0098】 評価符号 0.05mm以上白抜け数/cm2 実用性 ◎ 0 適 ○ 1〜3 〃 △ 4〜10 実用限界 × 11〜20 不適 ×× 21以上 〃 (2)画像濃度 反射濃度計による濃度測定 (3)画質 画像濃度と白抜けの2要因を総合して評価する。Evaluation code 0.05 mm or more White spots / cm 2 Practicality ◎ 0 Suitable ○ 1 to 3 〃 △ 4 to 10 Practical limit × 11 to 20 Not suitable × × 21 or more 〃 (2) Image density Density by reflection densitometer Measurement (3) Image quality The two factors of image density and white spots are comprehensively evaluated.

【0099】◎;画像濃度1.3以上かつ0.3mm以上白抜け
0個(A4プリントにて) ○;画像濃度1.2以上、0.3mm以上0.5mm未満白抜け5個
以下かつ0.5mm以上白抜け0個(A4プリント) △;画像濃度1.2以上かつ0.3mm以上白抜け6個以上(A
4プリント)又は画像濃度1.2未満かつ0.3mm以上0.5mm未
満の白抜け5個以下(A4プリント) ×;画像濃度1.2未満かつ0.3mm以上白抜け6個以上(A
4プリント) 〔耐用性評価〕前記「U−Bix 4045」を改造し表面電
位計を設置し、帯電→露光→除電のプロセスを10,000回
を繰返し、1回目と10,000回目の黒紙、白紙電位及び残
留電位変化量ΔVr(V)を測定した。
◎: Image density 1.3 or more and 0.3 mm or more 0 blanks (A4 print) ○: Image density 1.2 or more, 0.3 mm or more but less than 0.5 mm 5 blanks or less and 0.5 mm or more 0 blanks ( A4 print) △: Image density 1.2 or more and 0.3 mm or more White voids 6 or more (A
4 prints) or image density of less than 1.2 and 0.3 or more and less than 0.5 mm of blank areas 5 or less (A4 print) ×; Image density of less than 1.2 and 0.3 mm or more of blank areas 6 or more (A
4 prints) [Durability evaluation] The "U-Bix 4045" was modified and a surface electrometer was installed, and the process of charging → exposure → static elimination was repeated 10,000 times, and the black and white paper potentials of the first and 10,000th The residual potential change amount ΔVr (V) was measured.

【0100】白紙電位;濃度0.0の原稿面を複写すると
きのドラムの表面電位,Vw(V) 黒紙電位;濃度1.30の原稿面を複写するときのドラムの
表面電位,Vb(V)
White paper potential; drum surface potential when copying a document surface having a density of 0.0, Vw (V) Black paper potential; drum surface potential when copying a document surface having a density of 1.30, Vb (V)

【0101】[0101]

【表2】 [Table 2]

【0102】:実施例B群: 実施例B1 (アルミニウム基体の陽極酸化処理)外径80mm,長
さ355.5mmのアルミニウム基体を表面切削により鏡面加
工を施し、その後市販の中性脱脂剤にて洗浄し、水洗の
後、5wt% NaOH溶液にて40℃,30秒浸漬のエッチング
処理を行ない、水洗し、陽極酸化を施した。
Example Group B: Example B1 (Anodic oxidation treatment of aluminum substrate) An aluminum substrate having an outer diameter of 80 mm and a length of 355.5 mm was mirror-finished by surface cutting, and then washed with a commercially available neutral degreasing agent. Then, after washing with water, etching treatment was performed by dipping in a 5 wt% NaOH solution at 40 ° C. for 30 seconds, washing with water, and anodization.

【0103】陽極酸化処理は15wt%の硫酸溶液にて浴温
20℃、電流密度1A/dm2で6μmの皮膜を形成した。陽
極酸化の後水洗を行ない、続いて酢酸ニッケル溶液中に
て50℃,10分間浸漬することにより、封孔処理を行っ
た。
For the anodizing treatment, the bath temperature was adjusted with a 15 wt% sulfuric acid solution.
A 6 μm film was formed at 20 ° C. and a current density of 1 A / dm 2 . After anodic oxidation, washing with water was performed, and subsequently, a pore-sealing treatment was performed by immersing in a nickel acetate solution at 50 ° C. for 10 minutes.

【0104】(感光層の形成) (ASLの塗布)ポリアミドCM8000(東レ社製)1.5
g、メタノールブタノール混合液100ml(重量比メタノー
ル:ブタノール=4:1)からなる液により浸漬塗布に
て膜厚0.2μmのASLを形成させた。
(Formation of photosensitive layer) (Application of ASL) Polyamide CM8000 (manufactured by Toray) 1.5
An ASL having a film thickness of 0.2 μm was formed by dip coating with a solution consisting of 100 g of methanol butanol mixed solution (weight ratio of methanol: butanol = 4: 1).

【0105】(CGLの塗布)例示化合物(A−1)7.
5g、ブチラール樹脂エレックスBX−L(セキスイ社
製)、MEK300mlから成るサンドグラインダにより分
散して得たCGL塗料により浸漬塗布にて膜厚0.5μmの
CGLを形成させた。
(Coating of CGL) Exemplified Compound (A-1) 7.
CGL having a film thickness of 0.5 μm was formed by dip coating with CGL paint obtained by dispersing with 5 g, butyral resin Elex BX-L (manufactured by Sekisui Co., Ltd.), and 300 ml of MEK.

【0106】(CTLの塗布)ビスフェノールZ型ポリ
カーボネート樹脂、ユーピロンZ−300(三菱瓦斯化学
社製)前記CTM化合物(T−1)11.75g、ジクロルエ
タン100mlからなるCTL塗料により、浸漬塗布にて膜
厚約20μmのCTLを形成させた(乾燥:90℃,1時
間) 実施例B2 実施例1においてASLを塗布していない以外は同様に
して感光体試料を作製した。
(Coating of CTL) Bisphenol Z-type polycarbonate resin, Iupilon Z-300 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) A CTL coating consisting of 11.75 g of the above CTM compound (T-1) and 100 ml of dichloroethane was used for dip coating. A CTL of about 20 μm was formed (drying: 90 ° C., 1 hour) Example B2 A photoreceptor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that ASL was not applied.

【0107】比較例(B1) 実施例B1においてCGMに例示化合物(A−1)に換
えて前記(C−1)を用いた以外は同様にして感光体試
料を作製した。
Comparative Example (B1) A photoconductor sample was prepared in the same manner as in Example B1 except that the exemplified compound (A-1) was used in place of CGM in place of the above (C-1).

【0108】比較例(B2) 比較例(B1)においてASLを塗布していない以外は
同様にして感光試料を作製した。
Comparative Example (B2) A photosensitive sample was prepared in the same manner as Comparative Example (B1) except that ASL was not applied.

【0109】以上のようにして得られた感光体試料に対
し実施例A群と同様の特性評価を行ない、結果を表3に
示す。
The photoreceptor samples obtained as described above were evaluated for characteristics similar to those in Example A group, and the results are shown in Table 3.

【0110】[0110]

【表3】 [Table 3]

【0111】[0111]

【発明の効果】電気特性が良好で耐用性がよく、かつ高
画質の電子写真画像を達成することができる。
EFFECT OF THE INVENTION It is possible to achieve an electrophotographic image having good electrical characteristics, good durability and high image quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の感光体例の断面図。FIG. 1 is a sectional view of an example of a photoconductor of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アルミニウム合金導電性基体 2 キャリア発生層 3 キャリア輸送層 4 感光層 5 中間層 1 Aluminum Alloy Conductive Substrate 2 Carrier Generation Layer 3 Carrier Transport Layer 4 Photosensitive Layer 5 Intermediate Layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性基体上に電荷発生層、その上に電
荷輸送層を設けて構成層を形成する電子写真感光体にお
いて、前記導電性支持体が水系洗浄を施されたアルミニ
ウム基体であり、かつ前記電荷発生層に下記一般式
〔I〕又は〔II〕で示される電荷発生物質を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。 【化1】 〔但し一般式〔I〕,〔II〕において、Zは置換基を有
してもよい2価の芳香族環を形成する原子群である。〕
1. An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate on which a charge generation layer and a charge transport layer are provided to form a constituent layer, wherein the conductive support is an aluminum substrate subjected to aqueous cleaning. An electrophotographic photosensitive member characterized in that the charge generating layer contains a charge generating substance represented by the following general formula [I] or [II]. [Chemical 1] [In the general formulas [I] and [II], Z is an atom group forming a divalent aromatic ring which may have a substituent. ]
【請求項2】 導電性基体上に電荷発生層、その上に電
荷輸送層を設けて構成層を形成する電子写真感光体にお
いて、前記導電性支持体が陽極酸化を施されたアルミニ
ウム基体であり、かつ前記電荷発生層に下記一般式
〔I〕又は〔II〕で示される電荷発生物質を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。 【化2】 〔但し一般式〔I〕,〔II〕において、Zは置換基を有
してもよい2価の芳香族環を形成する原子群である。〕
2. An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate on which a charge generation layer and a charge transport layer are provided to form a constituent layer, wherein the conductive support is an anodized aluminum substrate. An electrophotographic photosensitive member characterized in that the charge generating layer contains a charge generating substance represented by the following general formula [I] or [II]. [Chemical 2] [In the general formulas [I] and [II], Z is an atom group forming a divalent aromatic ring which may have a substituent. ]
【請求項3】 前記感光体の構成層として、導電性基体
と電荷発生層の間に、ポリアミド樹脂からなる中間層を
有することを特徴とする請求項1又は2に記載の電子写
真感光体。
3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein an intermediate layer made of a polyamide resin is provided between a conductive substrate and a charge generation layer as a constituent layer of the photosensitive member.
JP195493A 1992-12-25 1993-01-08 Electrophotographic receptor Pending JPH06208231A (en)

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