JPH0619446B2 - シンチレーションカメラの調整方法 - Google Patents
シンチレーションカメラの調整方法Info
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- JPH0619446B2 JPH0619446B2 JP20608288A JP20608288A JPH0619446B2 JP H0619446 B2 JPH0619446 B2 JP H0619446B2 JP 20608288 A JP20608288 A JP 20608288A JP 20608288 A JP20608288 A JP 20608288A JP H0619446 B2 JPH0619446 B2 JP H0619446B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、生体内に投与された放射性同位元素（ラジオ
アイソトープ；ＲＩ）から放射される放射線（ガンマ線
等）をシンチレータにより光に変換し、その光を平面的
に配設された複数個の光電子増倍管（フォトマル；ＰＭ
Ｔ）により検出し、該検出信号に基づき前記シンチレー
タにおける輝点発光位置に関するＲＩ分布等の情報を
得、病巣部分の形状や位置，大きさ等を診断するように
したシンチレーションカメラにあって、一定のエネルギ
ーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成形後の出力
の波高値を一定レベルに調整する方法に関する。
アイソトープ；ＲＩ）から放射される放射線（ガンマ線
等）をシンチレータにより光に変換し、その光を平面的
に配設された複数個の光電子増倍管（フォトマル；ＰＭ
Ｔ）により検出し、該検出信号に基づき前記シンチレー
タにおける輝点発光位置に関するＲＩ分布等の情報を
得、病巣部分の形状や位置，大きさ等を診断するように
したシンチレーションカメラにあって、一定のエネルギ
ーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成形後の出力
の波高値を一定レベルに調整する方法に関する。
（従来の技術） この種のシンチレーションカメラを第５図を参照して説
明する。すなわち、ＮａＩ（ＴＩ）等で形成されたシン
チレータ１に、コリメータ２を通過した放射線が入射さ
れると、シンチレーション（発光）を生ずる。このシン
チレーション光が、アクリル樹脂等からなるライトガイ
ド３を介してフォトマル４で検出され、電気信号として
出力される。
明する。すなわち、ＮａＩ（ＴＩ）等で形成されたシン
チレータ１に、コリメータ２を通過した放射線が入射さ
れると、シンチレーション（発光）を生ずる。このシン
チレーション光が、アクリル樹脂等からなるライトガイ
ド３を介してフォトマル４で検出され、電気信号として
出力される。
フォトマル４は、シンチレータ１に対しライトガイド３
を挟んで対向して複数個密にして配列されている。各フ
ォトマル４の出力はそれぞれ信号レベルを調整するため
アッテネータ５，プリアンプ６からなるゲイン調整系Ｇ
Ｃに与えられる。このゲイン調整系ＧＣの出力は波形成
形回路７、スレッシュホールド回路８及び非線形回路９
を順次直列に介して抵抗マトリックス位置計算回路１０
に与えられる。
を挟んで対向して複数個密にして配列されている。各フ
ォトマル４の出力はそれぞれ信号レベルを調整するため
アッテネータ５，プリアンプ６からなるゲイン調整系Ｇ
Ｃに与えられる。このゲイン調整系ＧＣの出力は波形成
形回路７、スレッシュホールド回路８及び非線形回路９
を順次直列に介して抵抗マトリックス位置計算回路１０
に与えられる。
抵抗マトリックス位置計算回路１０は、各非線形回路９
の出力が、対応するフォトマル４の位置座標に応じた重
み付け抵抗により重み付けされて各座標要素（Ｘ＋；Ｘ
軸正方向、Ｘ−；Ｘ軸負方向、Ｙ＋；Ｙ軸正方向、Ｙ
−；Ｙ軸負方向）毎の加算信号及びシンチレーションの
総エネルギーに対応する全加算信号を得、さらに前記各
座標要素毎の加算信号を各座標軸（Ｘ，Ｙ）毎に差動増
幅器等で合成［（Ｘ＋）−（Ｘ−）、（Ｙ＋）−（Ｙ
−）］し、これら各座標軸毎の位置信号を前記加算信号
でそれぞれ除し、各座標軸後との位置信号を得てそれを
出力すると共に、前記前加算信号を出力するものであ
る。
の出力が、対応するフォトマル４の位置座標に応じた重
み付け抵抗により重み付けされて各座標要素（Ｘ＋；Ｘ
軸正方向、Ｘ−；Ｘ軸負方向、Ｙ＋；Ｙ軸正方向、Ｙ
−；Ｙ軸負方向）毎の加算信号及びシンチレーションの
総エネルギーに対応する全加算信号を得、さらに前記各
座標要素毎の加算信号を各座標軸（Ｘ，Ｙ）毎に差動増
幅器等で合成［（Ｘ＋）−（Ｘ−）、（Ｙ＋）−（Ｙ
−）］し、これら各座標軸毎の位置信号を前記加算信号
でそれぞれ除し、各座標軸後との位置信号を得てそれを
出力すると共に、前記前加算信号を出力するものであ
る。
この抵抗マトリクス位置計算回路１０から出力された総
エネルギーに対応する前加算信号は、波高分析器１１に
与えられ、この波高分析器１１は予め設定したエネルギ
ー帯に該当するものに対してアンブランキング信号を出
力する。この抵抗マトリクス位置計算回路１０から出力
される位置信号及び波高分析器１１から出力されるアン
ブランキング信号により、表示器１２の表示画面上に輝
点が表示され、これを予定時間集積して入射放射線分布
像を得る。
エネルギーに対応する前加算信号は、波高分析器１１に
与えられ、この波高分析器１１は予め設定したエネルギ
ー帯に該当するものに対してアンブランキング信号を出
力する。この抵抗マトリクス位置計算回路１０から出力
される位置信号及び波高分析器１１から出力されるアン
ブランキング信号により、表示器１２の表示画面上に輝
点が表示され、これを予定時間集積して入射放射線分布
像を得る。
ところで、ゲイン調整系ＧＣは、図示しないエネルギー
設定器等からの制御によって、異なるＲＩ線源を用いた
場合や信号処理系の経時的な特性変化等が生じた場合で
あってもフォトマル出力が一定信号レベルとなるよう
に、第５図の例ではアッテネータ５の減衰量を調整する
ものであるが、この種のアッテネータ５としてはアナロ
グスイッチを用いたものが代表的である。
設定器等からの制御によって、異なるＲＩ線源を用いた
場合や信号処理系の経時的な特性変化等が生じた場合で
あってもフォトマル出力が一定信号レベルとなるよう
に、第５図の例ではアッテネータ５の減衰量を調整する
ものであるが、この種のアッテネータ５としてはアナロ
グスイッチを用いたものが代表的である。
このような信号レベルを一定とするためのゲイン調整を
行う構成としては、この例の他に陰極接地方式に適用さ
れる第６図及び陽極接地方式に適用される第７図に示す
ような構成が知られている。すなわち、第６図及び第７
図に示すように、フォトマル４のブリーダ回路に内蔵若
しくは外付けされているＫ−Ａ間の印加電圧調整用のポ
テンショメータ４ａを、フォトマル４の中心に57Ｃ0 ポ
イントソースを絞った状態で一定レベルのブリアンプ出
力（ゲイン調整系ＧＣの出力）が得られるように調整し
ていた。
行う構成としては、この例の他に陰極接地方式に適用さ
れる第６図及び陽極接地方式に適用される第７図に示す
ような構成が知られている。すなわち、第６図及び第７
図に示すように、フォトマル４のブリーダ回路に内蔵若
しくは外付けされているＫ−Ａ間の印加電圧調整用のポ
テンショメータ４ａを、フォトマル４の中心に57Ｃ0 ポ
イントソースを絞った状態で一定レベルのブリアンプ出
力（ゲイン調整系ＧＣの出力）が得られるように調整し
ていた。
（発明が解決しようとする課題） 以上の如く従来の技術においては、レベル調整をポテン
ショメータのマニュアル調整に頼っているため、煩雑で
あり且つ信頼性に欠けるものであった。
ショメータのマニュアル調整に頼っているため、煩雑で
あり且つ信頼性に欠けるものであった。
そこで本発明の目的は、信号レベルを一定とするための
ゲイン調整を、容易且つ高信頼性にて行なえるようにし
たシンチレーションカメラの調整方法を提供することに
ある。
ゲイン調整を、容易且つ高信頼性にて行なえるようにし
たシンチレーションカメラの調整方法を提供することに
ある。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明は上記課題を解決し且つ目的を達成するために次
のような手段を講じた構成としている。すなわち、本発
明は、生体内に投与された放射性同位元素から放射され
る放射線を検出器に設けたシンチレータにより光に変換
し、その光を前記検出器に配設された複数個の光電子増
倍管により検出し、該検出信号それぞれにゲイン調整，
波形成形を施した後に前記シンチレータにおける輝点発
光位置に関する情報を求め、それを表示に供するように
したシンチレーションカメラにあって、一定のエネルギ
ーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成形後の出力
の波高値を一定レベルに調整する方法において、前記光
電子増倍管を前記検出器に実装した場合を想定してポイ
ントソースを前記光電子増倍管それぞれの中心に絞った
状態で出力感度を予め同定し、その感度が得られるよう
に、前記光電子増倍管のバイアス電源を調整することを
特徴とするものであり、 また、本発明は、生体内に投与された放射性同位元素か
ら放射される放射線を検出器に設けたシンチレータによ
り光に変換し、その光を前記検出器に配設された複数個
の光電子増倍管により検出し、該検出信号それぞれにゲ
イン調整，波形成形を施した後に前記シンチレータにお
ける輝点発光位置に関する情報を求め、それを表示に供
するようにしたシンチレーションカメラにあって、一定
のエネルギーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成
形後の出力の波高値を一定レベルに調整する方法におい
て、前記ゲイン調整をＤ／Ａ変換器を用いたディジタル
ゲイン制御により行う構成とし、前記光電子増倍管を前
記検出器に実装した場合を想定してポイントソースを前
記光電子増倍管それぞれの中心に絞った状態で出力感度
を予め同定し、その感度が得られるように、前記光電子
増倍管のバイアス電源を調整し、この調整した前記光電
子増倍管それぞれを前記検出器に実装した後に、前記デ
ィジタルゲイン制御を行うことを特徴とする。
のような手段を講じた構成としている。すなわち、本発
明は、生体内に投与された放射性同位元素から放射され
る放射線を検出器に設けたシンチレータにより光に変換
し、その光を前記検出器に配設された複数個の光電子増
倍管により検出し、該検出信号それぞれにゲイン調整，
波形成形を施した後に前記シンチレータにおける輝点発
光位置に関する情報を求め、それを表示に供するように
したシンチレーションカメラにあって、一定のエネルギ
ーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成形後の出力
の波高値を一定レベルに調整する方法において、前記光
電子増倍管を前記検出器に実装した場合を想定してポイ
ントソースを前記光電子増倍管それぞれの中心に絞った
状態で出力感度を予め同定し、その感度が得られるよう
に、前記光電子増倍管のバイアス電源を調整することを
特徴とするものであり、 また、本発明は、生体内に投与された放射性同位元素か
ら放射される放射線を検出器に設けたシンチレータによ
り光に変換し、その光を前記検出器に配設された複数個
の光電子増倍管により検出し、該検出信号それぞれにゲ
イン調整，波形成形を施した後に前記シンチレータにお
ける輝点発光位置に関する情報を求め、それを表示に供
するようにしたシンチレーションカメラにあって、一定
のエネルギーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成
形後の出力の波高値を一定レベルに調整する方法におい
て、前記ゲイン調整をＤ／Ａ変換器を用いたディジタル
ゲイン制御により行う構成とし、前記光電子増倍管を前
記検出器に実装した場合を想定してポイントソースを前
記光電子増倍管それぞれの中心に絞った状態で出力感度
を予め同定し、その感度が得られるように、前記光電子
増倍管のバイアス電源を調整し、この調整した前記光電
子増倍管それぞれを前記検出器に実装した後に、前記デ
ィジタルゲイン制御を行うことを特徴とする。
（作用） 以上の如くの構成によれば、フォトマルにおけるポイン
トソースを置いた状態での感度を、実装位置に応じた感
度に対応させて予め調整でき、また、これで調整ができ
なかったときには、ディジタルゲイン制御により調整不
足分を吸収することができる。
トソースを置いた状態での感度を、実装位置に応じた感
度に対応させて予め調整でき、また、これで調整ができ
なかったときには、ディジタルゲイン制御により調整不
足分を吸収することができる。
よって、従来はマニュアルで行っていた調整を、ポイン
トソースを検出器面上に置く作業を除いて自動化するこ
とができる。
トソースを検出器面上に置く作業を除いて自動化するこ
とができる。
また、ディジタルゲイン制御により適確にして高信頼性
にて調整を行うことができるようになる。
にて調整を行うことができるようになる。
（実施例） 以下本発明にかかるシンチレーションカメラの調整方法
の一実施例を図面を参照して説明する。
の一実施例を図面を参照して説明する。
先ず、本実施例方法を実施することができるシンチレー
ションカメラの構成を第４図を参照して説明する。
ションカメラの構成を第４図を参照して説明する。
すなわち、本シンチレーションカメラでは、ブリーダ回
路として陽極接地方式を採用し、高電圧電源１３により
−ＨＶのバイアスを受けているフォトマル４の出力を、
同軸ケーブル１４の芯線１４ａの一端に導入し、該芯線
１４ａの他端は抵抗１５を介して接地している。また、
同軸ケーブル１４におけるシールド部１４ｂの一端をフ
ォトマル４の接地部に接続し、シールド部１４ｂの他端
を接地している。これにより、同軸ケーブル１４におけ
る芯線１４ａとシールド部１４ｂとの間の浮遊容量と、
抵抗１５とにより積分回路を構成し、フォトマル４の出
力（インパルス）を積分処理するようにしている。
路として陽極接地方式を採用し、高電圧電源１３により
−ＨＶのバイアスを受けているフォトマル４の出力を、
同軸ケーブル１４の芯線１４ａの一端に導入し、該芯線
１４ａの他端は抵抗１５を介して接地している。また、
同軸ケーブル１４におけるシールド部１４ｂの一端をフ
ォトマル４の接地部に接続し、シールド部１４ｂの他端
を接地している。これにより、同軸ケーブル１４におけ
る芯線１４ａとシールド部１４ｂとの間の浮遊容量と、
抵抗１５とにより積分回路を構成し、フォトマル４の出
力（インパルス）を積分処理するようにしている。
上記の積分処理出力は、バッファ１６を通って乗算型Ｄ
／Ａ変換器１７の電圧リファレンス端子Ｖref に入力さ
れる。この乗算型Ｄ／Ａ変換器１７の出力端子（ＯＵＴ
1 ）は、オペアンプ１８ａ及びコンデンサ１８ｂから
なるＩ／Ｖ（電流／電圧）変換回路１８に接続され、こ
のＩ／Ｖ変換回路１８の出力は、オペアンプ，抵抗，コ
ンデンサからなる波形成形回路７に導かれている。
／Ａ変換器１７の電圧リファレンス端子Ｖref に入力さ
れる。この乗算型Ｄ／Ａ変換器１７の出力端子（ＯＵＴ
1 ）は、オペアンプ１８ａ及びコンデンサ１８ｂから
なるＩ／Ｖ（電流／電圧）変換回路１８に接続され、こ
のＩ／Ｖ変換回路１８の出力は、オペアンプ，抵抗，コ
ンデンサからなる波形成形回路７に導かれている。
また、この乗算型Ｄ／Ａ変換器１７のディジタルコード
端子Ｂ1 〜Ｂ12にはラッチ回路１９ａ，１９ｂからなる
コントローラ１９が接続されている。
端子Ｂ1 〜Ｂ12にはラッチ回路１９ａ，１９ｂからなる
コントローラ１９が接続されている。
このコントローラ１９は図示しないコンピュータからデ
ータの供給を受けるようになっている。ここで、コント
ローラ１９のラッチ回路１９ａ，１９ｂは、コンピュー
タから送られてくる１２ビットのディジタルコードをＣ
Ｋ端子に与えられるデータに基づきラッチするものであ
る。また、同コントローラ１９は、そのＥＮＡＢＬ端子
に入力されるデータに基づきＣＫ端子に対して所定区間
ゲートを掛けるようにしている。
ータの供給を受けるようになっている。ここで、コント
ローラ１９のラッチ回路１９ａ，１９ｂは、コンピュー
タから送られてくる１２ビットのディジタルコードをＣ
Ｋ端子に与えられるデータに基づきラッチするものであ
る。また、同コントローラ１９は、そのＥＮＡＢＬ端子
に入力されるデータに基づきＣＫ端子に対して所定区間
ゲートを掛けるようにしている。
ここで、このコンピュータは、例えば、第１図又は第２
図の構成における各段の信号処理系に対するデータ値を
モニタすることにより、各段において本来有るべきデー
タに対する補正データを算出し、この補正データに基づ
きコントローラ１９に対してデータを与え、コントロー
ラ９の各ラッチ１９ａ，１９ｂは乗算型Ｄ／Ａ変換器１
７に対してディジタルコードを与えるようになってい
る。
図の構成における各段の信号処理系に対するデータ値を
モニタすることにより、各段において本来有るべきデー
タに対する補正データを算出し、この補正データに基づ
きコントローラ１９に対してデータを与え、コントロー
ラ９の各ラッチ１９ａ，１９ｂは乗算型Ｄ／Ａ変換器１
７に対してディジタルコードを与えるようになってい
る。
すなわち、上記のコンピュータがモニタするのは、 （イ） フォトマル４までの信号処理系、 （ロ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣまでの信号
処理系、 （ハ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣを経て波形
成形回路７までの信号処理系、 （ニ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８までの信号処理系、 （ホ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９まで
の信号処理系、 （ヘ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０までの信号処理系、 （ト） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０，波高分析器１１まで
の信号処理系、 （チ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０，波高分析器１１，表
示器１２までの信号処理系、 （リ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０，波高分析器１１，表
示器１２までのエネルギー信号処理系、のいずれかを対
象としている。
処理系、 （ハ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣを経て波形
成形回路７までの信号処理系、 （ニ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８までの信号処理系、 （ホ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９まで
の信号処理系、 （ヘ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０までの信号処理系、 （ト） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０，波高分析器１１まで
の信号処理系、 （チ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０，波高分析器１１，表
示器１２までの信号処理系、 （リ） フォトマル４からゲイン調整系ＧＣ，波形成形
回路７，スレッシュホールド回路８，非線形回路９，抵
抗マトリックス位置計算回路１０，波高分析器１１，表
示器１２までのエネルギー信号処理系、のいずれかを対
象としている。
以上のような本実施例のシンチレーションカメラで特徴
としている構成は次の（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）である。
としている構成は次の（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）である。
（Ａ） 陽極接地法を採用したフォトマル４の出力を同
軸ケーブル１４で伝送し、しかも同軸ケーブル１４の浮
遊容量と抵抗１５によりフォトマル出力をＩ／Ｖ変換
（電流／電圧変換）すると共に積分処理を行うようにし
ている（陰極接地法でも可能である。）。
軸ケーブル１４で伝送し、しかも同軸ケーブル１４の浮
遊容量と抵抗１５によりフォトマル出力をＩ／Ｖ変換
（電流／電圧変換）すると共に積分処理を行うようにし
ている（陰極接地法でも可能である。）。
（Ｂ） また、上記（Ａ）の出力を、バッファ１６で受
け、その出力を乗算型Ｄ／Ａ変換器１７のＶref 入力と
し、信号処理系をモニタするコンピュータ及びコントロ
ーラ１９からの制御信号によりディジタルゲイン制御を
行うようにしている。
け、その出力を乗算型Ｄ／Ａ変換器１７のＶref 入力と
し、信号処理系をモニタするコンピュータ及びコントロ
ーラ１９からの制御信号によりディジタルゲイン制御を
行うようにしている。
（Ｃ） さらに、上記（Ｂ）の出力を、波形成形回路７
に入力してここで微分処理を加えて、信号の時間分解能
を高めるようにしている。
に入力してここで微分処理を加えて、信号の時間分解能
を高めるようにしている。
以上の構成にあって、ディジタルゲイン制御を行う主要
素である乗算型Ｄ／Ａ変換器１７を、バッファ１６と波
形成形回路７との間に介挿していることにより、ダイナ
ミックレンジの低いものを用いることができ（波形成形
回路７の後段に乗算型Ｄ／Ａ変換器１７を設けると、乗
算型Ｄ／Ａ変換器１７としてはダイナミックレンジの高
いものを必要とする。）、また、微分処理後であるた
め、乗算型Ｄ／Ａ変換器１７としては周波数特性の低い
ものを用いることができる。
素である乗算型Ｄ／Ａ変換器１７を、バッファ１６と波
形成形回路７との間に介挿していることにより、ダイナ
ミックレンジの低いものを用いることができ（波形成形
回路７の後段に乗算型Ｄ／Ａ変換器１７を設けると、乗
算型Ｄ／Ａ変換器１７としてはダイナミックレンジの高
いものを必要とする。）、また、微分処理後であるた
め、乗算型Ｄ／Ａ変換器１７としては周波数特性の低い
ものを用いることができる。
以上のように第４図に示すシンチレーションカメラによ
れば、Ｄ／Ａ変換器１７を用いたディジタルゲイン制御
回路によるゲイン調整系ＧＣによって、分解能の高いゲ
イン調整を行うことができ、しかも、調整における制御
データを、信号処理系の全体を対象として生成すること
により、どのようなエネルギー帯のＲＩ線源を用いた場
合であっても信号処理系の全体に亙って高精度にゲイン
調整をなし得るようになる。
れば、Ｄ／Ａ変換器１７を用いたディジタルゲイン制御
回路によるゲイン調整系ＧＣによって、分解能の高いゲ
イン調整を行うことができ、しかも、調整における制御
データを、信号処理系の全体を対象として生成すること
により、どのようなエネルギー帯のＲＩ線源を用いた場
合であっても信号処理系の全体に亙って高精度にゲイン
調整をなし得るようになる。
以上のような本シンチレーションカメラにあって本実施
例の調整方法は次のようにして行う。すなわち、正面図
である第１図及びその平面図である第２図に示すよう
に、シンチレータ１上に実装されるフォトマル４は、位
置“Ａ”と位置“Ｂ”とでは、ＰＳ（鉛ポットに絞った
５７Ｃ0 ポイントソース）をそれぞれ中心部に絞った状
態での出力が異なる（これは、主にシンチレータ１のエ
ッジ効果によるものである。）。そこで、位置“Ａ”で
も位置“Ｂ”であっても、ＰＳを絞った状態でプリアン
プ出力（ゲイン調整系ＧＣの出力）が同じレベルにする
ためには、フォトマル４の感度を各々変えて調整する必
要がある。
例の調整方法は次のようにして行う。すなわち、正面図
である第１図及びその平面図である第２図に示すよう
に、シンチレータ１上に実装されるフォトマル４は、位
置“Ａ”と位置“Ｂ”とでは、ＰＳ（鉛ポットに絞った
５７Ｃ0 ポイントソース）をそれぞれ中心部に絞った状
態での出力が異なる（これは、主にシンチレータ１のエ
ッジ効果によるものである。）。そこで、位置“Ａ”で
も位置“Ｂ”であっても、ＰＳを絞った状態でプリアン
プ出力（ゲイン調整系ＧＣの出力）が同じレベルにする
ためには、フォトマル４の感度を各々変えて調整する必
要がある。
よって、本実施例では、第１図及び第２図のフォトマル
実装位置に応じた感度に応じ、フォトマル実装前に、ブ
リーダ回路に内蔵又は外付けされるポテンショメータを
調整してから実装する。
実装位置に応じた感度に応じ、フォトマル実装前に、ブ
リーダ回路に内蔵又は外付けされるポテンショメータを
調整してから実装する。
一方、フォトマル単体の調整方法は、単体調整用のシン
チレータ１の上にフォトマル４を実装し、その状態でＰ
Ｓを絞り、その出力からＡ−Ｋ間でどれだけの高電圧を
印加すれば、その実装位置でのＰＳを絞った状態で基準
レベルになるかを逆算し、ポテンショメータを調整す
る。
チレータ１の上にフォトマル４を実装し、その状態でＰ
Ｓを絞り、その出力からＡ−Ｋ間でどれだけの高電圧を
印加すれば、その実装位置でのＰＳを絞った状態で基準
レベルになるかを逆算し、ポテンショメータを調整す
る。
上述により調整した各フォトマル４をシンチレータ１上
に実装した後、要調整分（シンチレータ１の位置による
発光特性やフォトマル４の機械的取付けのずれによって
生ずる。）は、第４図に示すゲイン調整系ＧＣとしてデ
ィジタルゲイン制御回路をなす乗算型Ａ／Ｄ変換器１７
及びコントローラ１９により調整することができる。
に実装した後、要調整分（シンチレータ１の位置による
発光特性やフォトマル４の機械的取付けのずれによって
生ずる。）は、第４図に示すゲイン調整系ＧＣとしてデ
ィジタルゲイン制御回路をなす乗算型Ａ／Ｄ変換器１７
及びコントローラ１９により調整することができる。
第４図に示すシンチレーションカメラは、上述の用調整
部分を適確に調整することができるものであるが、その
調整のアルゴリズムを説明する。すなわち、第３図に示
すように、ズレがある場合のディジタルデータの可変量
ＤCOは下記の式により求めることができる。なお、第３
図において、ＨCOはＰＳをそのフォトマルに絞った状態
での波高値の中心値であり、Ｈinitは基準レベルであ
る。
部分を適確に調整することができるものであるが、その
調整のアルゴリズムを説明する。すなわち、第３図に示
すように、ズレがある場合のディジタルデータの可変量
ＤCOは下記の式により求めることができる。なお、第３
図において、ＨCOはＰＳをそのフォトマルに絞った状態
での波高値の中心値であり、Ｈinitは基準レベルであ
る。
ＤCO＝Ｄinit・（Ｈinit／ＨCO） ここで、ＨCOは実測値、ＤCOはＰＳを絞った状態で波高
値をＨinitにするためのディジタルデータ、Ｄinitは乗
算型Ｄ／Ａ変換器１７のディジタルデータの初期値であ
る。
値をＨinitにするためのディジタルデータ、Ｄinitは乗
算型Ｄ／Ａ変換器１７のディジタルデータの初期値であ
る。
上記において、フォトマル４の単体調整つまりフォトマ
ル４の高電圧を予めポテンショメータを用いてトリミン
グしておくので、ディジタルゲイン制御回路におけるレ
ベル一定のための制御が容易且つ高精度になる。
ル４の高電圧を予めポテンショメータを用いてトリミン
グしておくので、ディジタルゲイン制御回路におけるレ
ベル一定のための制御が容易且つ高精度になる。
仮に、単体調整を行わないフォトマル４を実装したとす
ると、プリアンプ（ゲイン調整系ＧＣ）の出力のバラツ
キの程度が大きくなってしまい、ディジタルゲイン制御
回路におけるディジタルデータ（コード）そのものが各
チャンネル（フォトマル４）で大幅にバラツキが生じ、
この結果、各チャンネルのディジタルデータの１ビット
当りのトリミング精度が大幅に変わってしまい、結局、
精度の低下も招くことになる。
ると、プリアンプ（ゲイン調整系ＧＣ）の出力のバラツ
キの程度が大きくなってしまい、ディジタルゲイン制御
回路におけるディジタルデータ（コード）そのものが各
チャンネル（フォトマル４）で大幅にバラツキが生じ、
この結果、各チャンネルのディジタルデータの１ビット
当りのトリミング精度が大幅に変わってしまい、結局、
精度の低下も招くことになる。
本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明
の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施できるもの
である。
の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施できるもの
である。
［発明の効果］ 以上のように本発明は、光電子増倍管を検出器に実装し
た場合を想定してポイントソースを前記光電子増倍管そ
れぞれの中心に絞った状態で出力感度を予め同定し、そ
の感度が得られるように、前記光電子増倍管のバイアス
電流を調整することを特徴とするものであり、 また、ゲイン調整をＤ／Ａ変換器を用いたディジタルゲ
イン制御により行う構成とし、前記光電子増倍管を前記
検出器に実装した場合を想定してポイントソースを前記
光電子増倍管それぞれの中心に絞った状態で出力感度を
予め同定し、その感度が得られるように、前記光電子増
倍管のバイアス電源を調整し、この調整した前記光電子
増倍管それぞれを前記検出器に実装した後に、前記ディ
ジタルゲイン制御を行うものである。
た場合を想定してポイントソースを前記光電子増倍管そ
れぞれの中心に絞った状態で出力感度を予め同定し、そ
の感度が得られるように、前記光電子増倍管のバイアス
電流を調整することを特徴とするものであり、 また、ゲイン調整をＤ／Ａ変換器を用いたディジタルゲ
イン制御により行う構成とし、前記光電子増倍管を前記
検出器に実装した場合を想定してポイントソースを前記
光電子増倍管それぞれの中心に絞った状態で出力感度を
予め同定し、その感度が得られるように、前記光電子増
倍管のバイアス電源を調整し、この調整した前記光電子
増倍管それぞれを前記検出器に実装した後に、前記ディ
ジタルゲイン制御を行うものである。
このような構成によれば、フォトマルにおけるポイント
ソースを置いた状態での感度を、実装位置に応じた感度
に対応させて予め調整でき、また、これで調整ができな
かったときには、ディジタルゲイン制御により調整不足
分を吸収することができる。
ソースを置いた状態での感度を、実装位置に応じた感度
に対応させて予め調整でき、また、これで調整ができな
かったときには、ディジタルゲイン制御により調整不足
分を吸収することができる。
よって、従来はマニュアルで行っていた調整を、ポイン
トソースを検出器面上に置く作業を除いて自動化するこ
とができ、また、ディジタルゲイン制御により適確にし
て高信頼性にて調整を行うことができるようになる。
トソースを検出器面上に置く作業を除いて自動化するこ
とができ、また、ディジタルゲイン制御により適確にし
て高信頼性にて調整を行うことができるようになる。
第１図〜第３図は本発明のシンチレーションカメラの調
整方法の一実施例を示す図、第４図は同実施例における
シンチレーションカメラの構成を示す回路図、第５図は
一般的なシンチレーションカメラの構成を示すブロック
図、第６図及び第７図は従来例を説明する図である。 １……シンチレータ、４……フォトマル、７……波形成
形回路、１３……高電圧電源、１４……同軸ケーブル、
１５……抵抗、１６……バッファ、１７……乗算器Ｄ／
Ａ変換器、１８……Ｉ／Ｖ変換器、１９……コントロー
ラ、１９a ，１９b ……ラッチ回路。
整方法の一実施例を示す図、第４図は同実施例における
シンチレーションカメラの構成を示す回路図、第５図は
一般的なシンチレーションカメラの構成を示すブロック
図、第６図及び第７図は従来例を説明する図である。 １……シンチレータ、４……フォトマル、７……波形成
形回路、１３……高電圧電源、１４……同軸ケーブル、
１５……抵抗、１６……バッファ、１７……乗算器Ｄ／
Ａ変換器、１８……Ｉ／Ｖ変換器、１９……コントロー
ラ、１９a ，１９b ……ラッチ回路。
Claims (2)
- 【請求項１】生体内に投与された放射性同位元素から放
射される放射線を検出器に設けたシンチレータにより光
に変換し、その光を前記検出器に配設された複数個の光
電子増倍管により検出し、該検出信号それぞれにゲイン
調整，波形成形を施した後に前記シンチレータにおける
輝点発光位置に関する情報を求め、それを表示に供する
ようにしたシンチレーションカメラにあって、一定のエ
ネルギーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成形後
の出力の波高値を一定レベルに調整する方法において、
前記光電子増倍管を前記検出器に実装した場合を想定し
てポイントソースを前記光電子増倍管それぞれの中心に
絞った状態で出力感度を予め同定し、その感度が得られ
るように、前記光電子増倍管のバイアス電源を調整する
ことを特徴とするシンチレーションカメラの調整方法。 - 【請求項２】生体内に投与された放射性同位元素から放
射される放射線を検出器に設けたシンチレータにより光
に変換し、その光を前記検出器に配設された複数個の光
電子増倍管により検出し、該検出信号それぞれにゲイン
調整，波形成形を施した後に前記シンチレータにおける
輝点発光位置に関する情報を求め、それを表示に供する
ようにしたシンチレーションカメラにあって、一定のエ
ネルギーを持つ放射線パルスの入力に対する波形成形後
の出力の波高値を一定レベルに調整する方法において、
前記ゲイン調整をＤ／Ａ変換器を用いたディジタルゲイ
ン制御により行う構成とし、前記光電子増倍管を前記検
出器に実装した場合を想定してポイントソースを前記光
電子増倍管それぞれの中心に絞った状態で出力感度を予
め同定し、その感度が得られるように、前記光電子増倍
管のバイアス電源を調整し、この調整した前記光電子増
倍管それぞれを前記検出器に実装した後に、前記ディジ
タルゲイン制御を行うことを特徴とするシンチレーショ
ンカメラの調整方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20608288A JPH0619446B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | シンチレーションカメラの調整方法 |
| US07/365,385 US5004904A (en) | 1988-06-17 | 1989-06-13 | Method and system for controlling gain and offset in radiation measurement apparatus |
| EP89110817A EP0346878B1 (en) | 1988-06-17 | 1989-06-14 | System for controlling gain and offset in radiation measurement apparatus |
| DE68918501T DE68918501T2 (de) | 1988-06-17 | 1989-06-14 | Einrichtung zur Steuerung von Gewinn und Offsetspannung in Strahlungsmessapparaten. |
| CA000603103A CA1333638C (en) | 1988-06-17 | 1989-06-16 | Method and system for controlling gain and offset in radiation measurement apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20608288A JPH0619446B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | シンチレーションカメラの調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0255983A JPH0255983A (ja) | 1990-02-26 |
| JPH0619446B2 true JPH0619446B2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=16517524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20608288A Expired - Fee Related JPH0619446B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-08-19 | シンチレーションカメラの調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0619446B2 (ja) |
-
1988
- 1988-08-19 JP JP20608288A patent/JPH0619446B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0255983A (ja) | 1990-02-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |