JPH0619084Y2 - Inductively coupled plasma optical emission spectrometer - Google Patents
Inductively coupled plasma optical emission spectrometerInfo
- Publication number
- JPH0619084Y2 JPH0619084Y2 JP15776486U JP15776486U JPH0619084Y2 JP H0619084 Y2 JPH0619084 Y2 JP H0619084Y2 JP 15776486 U JP15776486 U JP 15776486U JP 15776486 U JP15776486 U JP 15776486U JP H0619084 Y2 JPH0619084 Y2 JP H0619084Y2
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- JP
- Japan
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- gas
- inductively coupled
- spray chamber
- flow rate
- nebulizer
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、誘導結合プラズマ発光分光分析装置(以下単
にICP−AESと称す)に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an inductively coupled plasma optical emission spectrometer (hereinafter simply referred to as ICP-AES).
ネブライザーに供給するキャリヤーガスとは別系統で、
噴霧室へ直接ガスを導入し、噴霧室へのガス流量を調整
することによって、プラズマへのガス流量を調整し、プ
ラズマの温度を調整して、任意の元素の分析に適した条
件を作る。Separate from the carrier gas supplied to the nebulizer,
By introducing gas directly into the spray chamber and adjusting the gas flow rate into the spray chamber, the gas flow rate into the plasma is adjusted, the temperature of the plasma is adjusted, and conditions suitable for the analysis of any element are created.
ICP−AESでは、各元素毎に、分析に最適な条件が
異なる。このとき、条件とは、発光部高さ、ガス類流
量、プラズマ出力のことである。ICP−AESの開発
当初は、全て手動にて調整していたが、分析の迅速さに
欠けることから、これらの条件のうち、キャリヤーガス
の流量を段階的に変化させる試みが行なわれている〔特
開61−14547〕。In ICP-AES, the optimum conditions for analysis differ for each element. At this time, the conditions are the height of the light emitting portion, the flow rate of gases, and the plasma output. At the beginning of the development of ICP-AES, all adjustments were made manually, but due to the lack of speed of analysis, attempts have been made to change the flow rate of the carrier gas stepwise among these conditions [ JP 61-14547].
ガス流量を調整して、プラズマの条件を変化させようと
して、ネブライザーに流すキャリヤーガスの流量を変化
させると、ネブライザーからのガスの噴出孔が狭く、ネ
ブライザー内に加える圧力を変化させなくてはならない
が、ネブライザーに加える圧力が変化するには、時間を
要する。特に減圧する際には、1分間近くも要すること
があり、シーケンシャルに、多くの元素を分析しようと
する場合には、迅速性に欠ける。When the flow rate of the carrier gas flowing to the nebulizer is changed by adjusting the gas flow rate to change the plasma conditions, the gas injection holes from the nebulizer are narrow, and the pressure applied to the nebulizer must be changed. However, it takes time for the pressure applied to the nebulizer to change. Especially when decompressing, it may take as long as one minute, and it is not swift when analyzing many elements sequentially.
キャリヤーガスとは別に、プラズマの条件を変化させる
ためのガスを噴霧室に導入させるための導入孔を噴霧室
に設けると共に、このガスを各元素に最適な量だけ導入
させるための流量制御機構を設け、前記流量制御機構
を、分析を実行するコンピューターから制御するための
制御回路を設けた。In addition to the carrier gas, an injection hole for introducing a gas for changing the plasma conditions into the spray chamber is provided in the spray chamber, and a flow rate control mechanism for introducing an optimum amount of this gas into each element is provided. A control circuit is provided to control the flow rate control mechanism from a computer that executes an analysis.
分析中に、元素毎に、最適な流量をコンピューターが、
流量制御機構に指示して噴霧室内に流し、プラズマの条
件を、最適にする。このとき、ガスはネブライザーを経
由しないので、ガスの増減はすみやかに起こり、分析は
迅速に行なわれる。During the analysis, the computer calculates the optimum flow rate for each element.
The flow rate control mechanism is instructed to flow into the spray chamber to optimize the plasma conditions. At this time, since the gas does not pass through the nebulizer, the increase / decrease of the gas occurs quickly, and the analysis is performed quickly.
以下、図面に基づき実施について、詳細に説明する。 Hereinafter, the implementation will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は、本考案の実施例である。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
ガスコントローラー10で制御されたガスのうち、2流路
は、直接トーチ管1へ導入され、トーチ管1の上部で、
図示されないワークコイルより発生する高周波と誘導結
合し、前記トーチ管1の上部に、誘導結合プラズマを生
成する。このとき、試料6は、前記ガスコントローラー
10より、ネブライザー5を経由して、噴霧室2内に噴霧
されるガスにより吸引され、霧化され、前記噴霧室2内
で粒径選別された後、前記トーチ管1の最内管の内側を
通って、前記トーチ管1の上部に生成した前記誘導結合
プラズマ中へ導入され、前記誘導結合プラズマ中で解離
し、熱励起された後に、前記試料6内の元素固有の光を
発し、図示しない分光器にて、前記光を観察することに
より、前記試料6内に含有される元素の分析を行う。Of the gases controlled by the gas controller 10, two flow paths are directly introduced into the torch tube 1, and above the torch tube 1,
Inductively coupled with a high frequency generated from a work coil (not shown), and inductively coupled plasma is generated above the torch tube 1. At this time, the sample 6 is the gas controller.
From the inside of the innermost tube of the torch tube 1, after being sucked by the gas sprayed in the spray chamber 2 via the nebulizer 5 and atomized, and the particle size is sorted in the spray chamber 2, Is introduced into the inductively coupled plasma generated in the upper part of the torch tube 1, dissociated in the inductively coupled plasma and thermally excited, and then emits light peculiar to the element in the sample 6, The element contained in the sample 6 is analyzed by observing the light with a spectroscope.
元素を単独にあるいは、順番に分析する際に、コンピュ
ーター9から、制御回路8を通じて流量制御機構7によ
って、ネブライザーアダプター4から、前記噴霧室2内
に導入するガス流量を、分析する元素に最適な量とする
ことにより、分析に最適な条件を得る。When analyzing elements individually or in sequence, the gas flow rate introduced into the spray chamber 2 from the nebulizer adapter 4 from the computer 9 through the control circuit 8 through the control circuit 8 is optimal for the element to be analyzed. Optimal conditions for analysis are obtained by setting the amount.
第2図は、本考案の他の実施例で、流量制御機構を段階
式とし、2段階としたもので、第3図は、噴霧室2に、
直接ガスを導入するものである。FIG. 2 shows another embodiment of the present invention in which the flow rate control mechanism is of a stepped type and has two stages.
The gas is directly introduced.
本考案により、プラズマへ導入するガスの流量を制御す
ることにより、元素毎に、分析に最適条件を、分析の迅
速さを損なうことなく実現できる。According to the present invention, by controlling the flow rate of gas introduced into plasma, optimum conditions for analysis can be realized for each element without impairing the speed of analysis.
第1図は、本考案の実施例の断面図で、第2図は、本考
案の他の実施例の断面図で、第3図は、他の実施例の断
面図である。 1……トーチ管 2……噴霧室 3……ドレインビン 4……ネブライザーアダプター 5……ネブライザー 6……試料 7……流量制御機構 8……制御回路 9……コンピューター 10……ガスコントローラーFIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a sectional view of another embodiment. 1 …… Torch tube 2 …… Spraying chamber 3 …… Drain bin 4 …… Nebulizer adapter 5 …… Nebulizer 6 …… Sample 7 …… Flow control mechanism 8 …… Control circuit 9 …… Computer 10 …… Gas controller
Claims (1)
より試料を吸引し、かつ霧化するネブライザと、 前記ネブライザにより霧化した試料を粒径選別する噴霧
室と、 高周波と誘導結合し、前記噴霧室にて粒径選別された試
料をプラズマ化する、前記噴霧室に接続されたトーチ管
と、 前記キャリヤーガスとは別に、前記噴霧室に、前記ガス
コントローラからガスを導入するために、前記噴霧器に
設けられたガス導入孔と、 前記ガス導入孔から前記噴霧器に導入するガスの流量を
制御する流量制御機構よりなることを特徴とする誘導結
合プラズマ発光分光分析装置。1. A nebulizer for sucking and atomizing a sample by a carrier gas from a gas controller, a spray chamber for selecting a particle size of the sample atomized by the nebulizer, and an inductively coupled high frequency wave to the spray chamber. And a torch pipe connected to the spray chamber for plasma-converting the particle size-selected sample, and provided in the sprayer to introduce gas into the spray chamber from the gas controller, separately from the carrier gas. An inductively coupled plasma emission spectroscopic analyzer comprising: the gas introduction hole and a flow rate control mechanism for controlling the flow rate of the gas introduced into the atomizer from the gas introduction hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15776486U JPH0619084Y2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Inductively coupled plasma optical emission spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15776486U JPH0619084Y2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Inductively coupled plasma optical emission spectrometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6363756U JPS6363756U (en) | 1988-04-27 |
JPH0619084Y2 true JPH0619084Y2 (en) | 1994-05-18 |
Family
ID=31080619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15776486U Expired - Lifetime JPH0619084Y2 (en) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | Inductively coupled plasma optical emission spectrometer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0619084Y2 (en) |
-
1986
- 1986-10-15 JP JP15776486U patent/JPH0619084Y2/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
ぶんせき、1977〔8〕、P.485−490 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6363756U (en) | 1988-04-27 |
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