JPH06187779A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPH06187779A
JPH06187779A JP5214172A JP21417293A JPH06187779A JP H06187779 A JPH06187779 A JP H06187779A JP 5214172 A JP5214172 A JP 5214172A JP 21417293 A JP21417293 A JP 21417293A JP H06187779 A JPH06187779 A JP H06187779A
Authority
JP
Japan
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data
memory cell
register
bit lines
bli
Prior art date
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Pending
Application number
JP5214172A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Sakui
康司 作井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP5214172A priority Critical patent/JPH06187779A/en
Publication of JPH06187779A publication Critical patent/JPH06187779A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make the read/write of data possible to be carried out even in the period of precharge and to attain reading out the data in the same word line serially. CONSTITUTION:A semiconductor storage device is provided with a memory cell group 3 integrating and forming a random accessable memory cell on a semiconductor substrate in matrix, a bit line BL commonly connecting plural pieces of memory cells in the memory cell group 3 and a sense amplifier 1 making these bit lines be a pair and sensing the potential difference between the bit lines BLi, /BLi made to be a pair. The data storage nodes Ai, /Ai of a register 4 with self sense amplifying ability are connected with the bit lines BLi, /BLi through transfer gates Q30, Q31, and the data of the register 4 are read out successively synchronizing with an external input trigger signal /CAS through an input/output line after the data are transferred from the memory cell to the register 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ランダムアクセス可能
な半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a randomly accessible semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体記憶装置の高速化のために
数多くの新機能の発明,開発がなされてきた。ページモ
ードやニブルモードは高速化のために考案された代表的
なモードである。
2. Description of the Related Art In recent years, many new functions have been invented and developed in order to increase the speed of semiconductor memory devices. Page mode and nibble mode are typical modes devised for speeding up.

【0003】しかしながら、ページモードでは選択ワー
ド線を次のワード線に変更する場合に、またニブルモー
ドでは選択4ビットを次の4ビットに変更する場合に、
必ずビット線及びクロック・ジェネレータのプリチャー
ジを必要とする。アクセスタイムが100nsと非常に
高速なMOSダイナミックRAMにおいても、ビット線
及びクロック・ジェネレータのプリチャージに100n
sも費やす。また、ページモードでは、外部から入力さ
れるカラムアドレスと次のカラムアドレスとの間には、
カラムアドレスバッファ及びカラムデコーダのリセット
及びプリチャージが必要である。更に高速化が要求され
る現在、上記したプリチャージに要する無駄な時間が問
題となっている。
However, when changing the selected word line to the next word line in the page mode, and when changing the selected 4 bits to the next 4 bits in the nibble mode,
Be sure to precharge the bit lines and clock generator. Even in a very fast MOS dynamic RAM with an access time of 100 ns, 100 n is required for precharging the bit line and clock generator.
Also spend s. In page mode, between the column address input from the outside and the next column address,
The column address buffer and column decoder need to be reset and precharged. At present, when higher speed is required, the wasteful time required for the above-mentioned precharge becomes a problem.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように従来、プリ
チャージに要する時間が、半導体記憶装置の高速化を妨
げる要因となっていた。本発明は、上記事情を考慮して
なされたもので、その目的とするところは、プリチャー
ジ期間にもデータの読み出し,書き込みを可能とした、
ランダムアクセス可能な半導体記憶装置を提供すること
にある。
As described above, conventionally, the time required for precharging has been a factor that hinders the speedup of the semiconductor memory device. The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to enable reading and writing of data even during a precharge period.
It is to provide a semiconductor memory device that can be randomly accessed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は次のような構成を採用している。即ち本発明
は、ランダムアクセス可能なメモリセルを半導体基板上
にマトリックス状に集積形成してなるメモリセルアレイ
と、これらのメモリセルアレイ中のメモリセルを複数個
共通接続したビット線と、これらのビット線を対にし
て、この対にしたビット線間の電位差をセンスするセン
スアンプとを備えた半導体記憶装置において、自己セン
ス増幅能力のあるレジスタのデータ記憶ノードである第
1,第2のノードが、対をなすビット線にトランスファ
ゲートを介してそれぞれ接続され、ランダムアクセス可
能なメモリセルからレジスタへのデータ転送後、外部入
力トリガー信号に同期してレジスタのデータが入出力線
を介して順次読み出されることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following configurations. That is, the present invention provides a memory cell array in which randomly accessible memory cells are integrated and formed in a matrix on a semiconductor substrate, a bit line in which a plurality of memory cells in these memory cell arrays are commonly connected, and these bit lines. And a sense amplifier that senses a potential difference between the paired bit lines, in a semiconductor memory device, wherein the first and second nodes that are the data storage nodes of the register having self-sense amplification capability are: Connected to a pair of bit lines via transfer gates respectively, after transferring data from randomly accessible memory cells to the register, the register data is sequentially read out via the input / output lines in synchronization with the external input trigger signal. It is characterized by

【0006】[0006]

【作用】本発明によれば、従来データのアクセスが不可
能であったビット線のプリチャージ期間にも外部的には
データの読み出し,書き込みが可能になる。即ち、無駄
な時間がなくなって連続的なアクセスが可能になり、半
導体記憶装置の高速化が図られる。
According to the present invention, it is possible to externally read and write data even during the precharge period of the bit line, which was conventionally impossible to access data. That is, wasteful time is eliminated, continuous access is possible, and the speed of the semiconductor memory device is increased.

【0007】また、ランダムアクセス可能なメモリセル
のデータをレジスタに転送した後、外部入力トリガー信
号に同期してレジスタからデータを読み出すことによ
り、同一ワードラインのデータをシリアルに読み出すこ
とが可能となる。
Further, by transferring the data of the randomly accessible memory cell to the register and then reading the data from the register in synchronization with the external input trigger signal, the data of the same word line can be serially read. .

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は、本発明の一実施例に係わるMOS−dR
AMの要部構成を示す回路図である。この実施例は折返
し型ビット線構成のdRAMに適用した例であり、図で
は、i番目の一対のビット線BLi ,/BLi に接続さ
れている部分のみを示している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a MOS-dR according to an embodiment of the present invention.
It is a circuit diagram which shows the principal part structure of AM. This embodiment is an example applied to a dRAM having a folded bit line configuration, and in the figure, only the portion connected to the i-th pair of bit lines BLi and / BLi is shown.

【0009】センスアンプ1は、MOSFET−Q11
〜Q21及びプルアップ用キャパシタC11,C12か
ら構成されている。Q11,Q12は、ドライバ用であ
り、これらのソースはクロック線φSEに接続されてい
る。Q13,Q14はアクティブ・プルアップ用の負荷
として作用するもので、そのドレインは電源VDDに接続
され、ソースはそれぞれビット線BLi ,/BLi に接
続されている。Q15,Q16及びC11,C12がプ
ルアップ回路を構成している。
The sense amplifier 1 is MOSFET-Q11.
To Q21 and pull-up capacitors C11 and C12. Q11 and Q12 are for drivers, and their sources are connected to the clock line φSE. Q13 and Q14 act as loads for active pull-up, and their drains are connected to the power supply VDD and their sources are connected to the bit lines BLi and / BLi, respectively. Q15, Q16 and C11, C12 form a pull-up circuit.

【0010】Q18,Q19は、それぞれQ13,Q1
4のゲートをプリチャージするためのもの、Q17,Q
20,Q21はビット線BLi ,/BLi 及びセンスア
ンプのノードをプリチャージするものであり、これらの
ゲートはいずれもプリチャージ用クロック線φ2 に接続
されている。
Q18 and Q19 are respectively Q13 and Q1.
For precharging the gate of Q4, Q17, Q
Reference numerals 20 and Q21 are for precharging the bit lines BLi, / BLi and the nodes of the sense amplifier, and their gates are all connected to the precharging clock line .phi.2.

【0011】ビット線BLi ,/BLi にはそれぞれ一
つずつダミーセル21 ,22 が接続されている。一方の
ダミーセル21 は、MOSFET−Q22,Q23及び
キャパシタC13からなり,他方のダミーセル22 はM
OSFET−Q24,Q25及びキャパシタC14から
なる。これらダミーセルのQ22,Q25はそれぞれダ
ミーワード線DWL1 ,DWL2 により選択され、また
Q23,Q24はクロック線φ3 により同時に選択され
るようになっている。キャパシタC13,C14の基準
電位端子は、電源VDD又はVSS或いは(1/2)VDDに
接続されている。
Dummy cells 2 1 and 2 2 are connected to the bit lines BLi and / BLi, respectively. One dummy cell 2 1 is composed of MOSFET-Q22, Q23 and a capacitor C13, and the other dummy cell 2 2 is M
It is composed of OSFETs-Q24, Q25 and a capacitor C14. These dummy cells Q22 and Q25 are selected by the dummy word lines DWL1 and DWL2, respectively, and Q23 and Q24 are simultaneously selected by the clock line φ3. The reference potential terminals of the capacitors C13 and C14 are connected to the power source VDD or VSS or (1/2) VDD.

【0012】メモリセル群3は、図ではワード線WL1
,WL2 ,WL(n-1) 及びWLn により選択される4
個のメモリセルを示している。これらのメモリセルのキ
ャパシタの基準電位端子もVDD,VSS又は(1/2)V
DDに接続されている。
The memory cell group 3 is shown in FIG.
, WL2, WL (n-1) and 4 selected by WLn
Memory cells are shown. The reference potential terminals of the capacitors of these memory cells are also VDD, VSS or (1/2) V.
Connected to DD.

【0013】ラッチ型メモリセル(レジスタ)4は、M
OSFET−Q32,Q33を用いたフリップフロップ
により構成されており、自己センス増幅機能を有する。
Q30,Q31は、このラッチ型メモリセル4の2つの
ノードAi,/Aiをそれぞれビット線BLi ,/BL
i に接続するトランスファゲートである。これらトラン
スファゲートとしてのMOSFET−Q30,Q31の
ゲートはクロックφ4により制御される。
The latch type memory cell (register) 4 is M
It is composed of a flip-flop using OSFET-Q32 and Q33, and has a self-sense amplification function.
Q30 and Q31 connect the two nodes Ai and / Ai of the latch type memory cell 4 to the bit lines BLi and / BL, respectively.
It is a transfer gate connected to i. The gates of the MOSFETs-Q30 and Q31 as the transfer gates are controlled by the clock φ4.

【0014】Q34,Q35は、ビット線BLi ,/B
Li 或いはノードAi,/Aiをそれぞれ入出力線 I/
O,/I/O に接続するトランスファゲートである。これ
らMOSFET−Q34,Q35のゲートはカラム選択
線CSLiに接続されている。
Q34 and Q35 are bit lines BLi and / B.
I / O line I /
This is a transfer gate connected to O and / I / O. The gates of these MOSFETs-Q34 and Q35 are connected to the column selection line CSLi.

【0015】次に、このように構成されたdRAMの動
作を、図2及び図3を参照して次に説明する。図2は、
通常のアクセス動作の他にラッチ型メモリセルのデータ
をビット線プリチャージ期間に入出力線に転送する動作
を説明するための信号波形である。
Next, the operation of the dRAM thus configured will be described with reference to FIGS. 2 and 3. Figure 2
6 is a signal waveform for explaining an operation of transferring data of a latch type memory cell to an input / output line during a bit line precharge period in addition to a normal access operation.

【0016】最初クロック線φ2 のレベルは(3/2)
VDD程度にあり、ビット線は全てプリチャージされてい
る。いま、i番目のセンスアンプ1に着目し、メモリセ
ルのキャパシタC15のノードN13にはVPP,ラッチ
型メモリセル4のAi,/AiにはそれぞれVSS,VDD
の初期電圧が書き込まれていたとする。
First, the level of the clock line φ 2 is (3/2)
It is about VDD and all bit lines are precharged. Now, paying attention to the i-th sense amplifier 1, VPP is applied to the node N13 of the capacitor C15 of the memory cell, and VSS and VDD are applied to Ai and / Ai of the latch type memory cell 4, respectively.
It is assumed that the initial voltage of is written.

【0017】図2において、/RAS(第1の外部入力
トリガー信号)が/CAS(第2の外部入力トリガー信
号)よりも早くVIHからVILになると、φ2 が(3/
2)VDDからVSSに下がり、ワード線WL1 とダミーワ
ード線DW2 のレベルがVSSから(3/2)VDDまで上
がると、Q26,Q25が導通し、C14,C15の内
容がそれぞれビット線BLi ,/BLi に伝わる。次に
クロックφSEがVDD−Vthから徐々にVSSまで下がりセ
ンスアンプ1が活性化されると、ダミーセルを読み出し
たビット線/BLi のレベルはVSSに下がる。論理
“1”を読み出したビット線BLi のレベルは/BLi
のカップリング及びレーシングにより僅かに下がるが、
クロックφ1 がVSSからVDDに上がってアクティブプル
アップがかかり、Q13が導通すると、再びVPPに復帰
する。
In FIG. 2, when / RAS (first external input trigger signal) changes from VIH to VIL earlier than / CAS (second external input trigger signal), φ 2 becomes (3 /
2) When VDD drops to VSS and the level of the word line WL1 and dummy word line DW2 rises from VSS to (3/2) VDD, Q26 and Q25 become conductive, and the contents of C14 and C15 are changed to bit lines BLi and /, respectively. It is transmitted to BLi. Next, when the clock .phi.SE gradually falls from VDD-Vth to VSS and the sense amplifier 1 is activated, the level of the bit line / BLi from which the dummy cell is read falls to VSS. The level of the bit line BLi that has read the logic "1" is / BLi
It will drop slightly due to the coupling and racing of
When the clock .phi.1 rises from VSS to VDD and an active pull-up is applied and Q13 conducts, it returns to VPP again.

【0018】次にクロックφ4 がVSSから(3/2)V
PPまで上がり、Q30,Q31が導通すると、ビット線
BLi ,/BLi の内容がラッチ型メモリセル4のノー
ドAi,/Aiに伝わる。図2の場合、書き込まれる前
のAiの状態は論理“0”であったため、Aiのレベル
はVSSからVDDに上がっている。/Aiはこれと逆であ
る。
Next, the clock φ4 is changed from VSS to (3/2) V.
When the voltage reaches PP and Q30 and Q31 become conductive, the contents of the bit lines BLi and / BLi are transmitted to the nodes Ai and / Ai of the latch type memory cell 4. In the case of FIG. 2, since the state of Ai before being written was logic "0", the level of Ai has risen from VSS to VDD. / Ai is the opposite.

【0019】その後、例えばi番目のカラムが選択さ
れ、CSLiのレベルがVSSから(3/2)VDDに上が
ると、ビット線BLi ,/BLi 及びノードAi,/A
iが入出力線 I/O,/I/O に接続される。I/O はVDDを
保ち、/I/O はVDDからVSSに下がり、出力バッファD
out がHizから論理“1”のVOHを出力する。ビット線
に入出力線が接続されているこの状態では、ラッチ型メ
モリセルを介さなくても直接メモリセルにデータの読み
出し,書き込みを行うことができる。
After that, for example, when the i-th column is selected and the level of CSLi rises from VSS to (3/2) VDD, the bit lines BLi and / BLi and the nodes Ai and / A.
i is connected to the I / O lines I / O and / I / O. I / O keeps VDD, / I / O drops from VDD to VSS, output buffer D
out outputs VOH of logic "1" from Hiz. In this state where the input / output lines are connected to the bit lines, it is possible to read and write data directly to the memory cells without using the latch type memory cells.

【0020】次に/CASがVILからVIHになると、ク
ロックφ4 ,ワード線WL1 ,ダミーワード線DWL1
が(3/2)VDDからVSSまで下がり、ビット線BLi
,/BLi とラッチ型メモリセル4が切り離された状
態でクロックφ2 がVSSから(3/2)VDDまで上が
り、ビット線のプリチャージが開始される。
Next, when / CAS changes from VIL to VIH, clock φ4, word line WL1, dummy word line DWL1
Goes from (3/2) VDD to VSS, and bit line BLi
, / BLi and the latch type memory cell 4 are separated from each other, the clock φ2 rises from VSS to (3/2) VDD, and the precharge of the bit line is started.

【0021】即ち、第2の外部入力トリガー信号(/C
AS)に同期して、トランスファゲートQ30,Q31
は非導通状態になり、ビット線BLi ,/BLi とラッ
チ型メモリセル4が切り離される。
That is, the second external input trigger signal (/ C
Transfer gates Q30 and Q31 in synchronization with AS).
Becomes non-conductive, and the bit lines BLi and / BLi are disconnected from the latch type memory cell 4.

【0022】そして次に、/CASがVIHからVILに再
び下がり、j番目のカラムが選択されると、ビット線と
は既に切り離されているj番目のラッチ型メモリセル
(図示せず)のデータが入出力線に転送される。図2で
はこのj番目のラッチ型メモリセルの内容はAj=VS
S,/Aj=VDDであったことを示している。
Then, / CAS falls from VIH to VIL again, and when the jth column is selected, the data of the jth latch type memory cell (not shown) already separated from the bit line is written. Are transferred to the input / output line. In FIG. 2, the contents of the j-th latch type memory cell is Aj = VS
It indicates that S, / Aj = VDD.

【0023】このように、第1の外部入力トリガー信号
(/RAS)が、ランダムアクセス可能なメモリセルを
ビット線BL,/BLへ読み出すことと、ビット線セン
スアンプのセンス動作をすることを司り、第2の外部入
力トリガー信号(/CAS)がラッチ型メモリセル4へ
転送されたデータを入出力線を介して出力バッファから
読み出すことを司る。即ち、ランダムアクセス可能なメ
モリセルから、ラッチ型メモリセル4へのデータ転送後
は、/CASに同期してラッチ型メモリセル4のデータ
が入出力線 I/O,/I/O を介して、出力バッファDout
からi番目,j番目と順次読み出される。こうして、ラ
ッチ型メモリセル4から出力バッファDout への連続的
な高速読み出しが行える。
As described above, the first external input trigger signal (/ RAS) controls reading of randomly accessible memory cells to the bit lines BL and / BL and the sensing operation of the bit line sense amplifier. The second external input trigger signal (/ CAS) controls reading of the data transferred to the latch type memory cell 4 from the output buffer via the input / output line. That is, after the data is transferred from the randomly accessible memory cell to the latch type memory cell 4, the data of the latch type memory cell 4 is transferred through the input / output lines I / O and / I / O in synchronization with / CAS. , Output buffer Dout
From i to j. Thus, continuous high-speed reading from the latch type memory cell 4 to the output buffer Dout can be performed.

【0024】図3はラッチ型メモリセルに書き込まれた
データをメモリセルに転送する場合の動作を説明する信
号波形である。図3において、/CASが/RASより
も早くVIHからVILになると、クロックφ2 が(3/
2)VDDからVSSに下がりビット線はフローティング状
態になる。そしてワード線及びダミーワード線より早く
クロックφ4 がVSSから(3/2)VDDに上がる。ラッ
チ型メモリセル4はスタティック型のメモリセルである
から、クロックφ4 によりMOSFET−Q30,Q3
1が導通すると、Aiと/Aiの内容がBLi と/BL
i にそれぞれ転送され、BLi のレベルはVDDからVSS
に下がり,/BLi のレベルはVDDを保つ。その後ワー
ド線WL1及びダミーワード線DWL2 が選択される
と、メモリセルのキャパシタC15にAiの内容である
論理“1”が書き込まれる。
FIG. 3 is a signal waveform for explaining the operation when the data written in the latch type memory cell is transferred to the memory cell. In FIG. 3, when / CAS changes from VIH to VIL earlier than / RAS, the clock φ2 becomes (3 /
2) From VDD to VSS, the bit line becomes floating. Then, the clock φ4 rises from VSS to (3/2) VDD earlier than the word line and the dummy word line. Since the latch type memory cell 4 is a static type memory cell, the MOSFET-Q30 and Q3 are driven by the clock φ4.
When 1 becomes conductive, the contents of Ai and / Ai are BLi and / BL
i, respectively, and the level of BLi changes from VDD to VSS
, And the level of / BLi keeps VDD. After that, when the word line WL1 and the dummy word line DWL2 are selected, the logic "1" which is the content of Ai is written in the capacitor C15 of the memory cell.

【0025】以上のようにして本実施例によれば、プリ
チャージのみの無駄な時間がなくなり、連続的な高速ア
クセスが可能なdRAMが得られる。本発明は上記実施
例に限られるものではなく、種々変形して実施すること
ができる。例えば実施例では、折返し型ビット線構成の
場合を説明したが、いわゆるオープンエンド型ビット線
構成のdRAMにも原理的には本発明を適用することが
できる。またスタティックRAMにもやはり本発明を適
用することが可能である。
As described above, according to this embodiment, it is possible to obtain a dRAM capable of continuous high-speed access without wasting time only for precharging. The present invention is not limited to the above embodiments, but can be implemented with various modifications. For example, in the embodiment, the case of the folded bit line structure has been described, but the present invention can be applied in principle to a dRAM having a so-called open end type bit line structure. The present invention can also be applied to a static RAM.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、対
をなすビット線にトランスファゲートを介して自己セン
ス増幅能力のあるレジスタを接続し、ランダムアクセス
可能なメモリセルからレジスタへのデータ転送後、外部
入力トリガー信号に同期してレジスタのデータを入出力
線を介して順次読み出すことにより、従来データのアク
セスが不可能であったビット線のプリチャージ期間にも
外部的にはデータの読み出し,書き込みが可能になる。
即ち、無駄な時間がなくなって連続的なアクセスが可能
になり、半導体記憶装置の高速化が図られる。また、ラ
ンダムアクセス可能なメモリセルのデータをレジスタに
転送した後、外部入力トリガー信号に同期してレジスタ
からデータを読み出すことにより、同一ワードラインの
データをシリアルに読み出すことが可能となる。
As described in detail above, according to the present invention, a register having a self-sense amplification capability is connected to a pair of bit lines via a transfer gate to allow random access from a memory cell to a register. After the transfer, the data in the register is sequentially read out via the input / output lines in synchronization with the external input trigger signal, so that the data can be externally read even during the precharge period of the bit line where the conventional data cannot be accessed. Read / write is possible.
That is, wasteful time is eliminated, continuous access is possible, and the speed of the semiconductor memory device is increased. Further, by transferring the data of the randomly accessible memory cell to the register and then reading the data from the register in synchronization with the external input trigger signal, the data of the same word line can be serially read.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係わるdRAMの構成を示
す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a dRAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】実施例のdRAMの動作を説明するための信号
波形図。
FIG. 2 is a signal waveform diagram for explaining the operation of the dRAM according to the embodiment.

【図3】実施例のdRAMの動作を説明するための信号
波形図。
FIG. 3 is a signal waveform diagram for explaining the operation of the dRAM according to the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…センスアンプ 21 ,22 …ダミーセル 3…メモリセル群 4…ラッチ型メモリセル(レジスタ) BL,/BL…ビット線 WL1 ,WL2 ,WL(n-1) ,WLn …ワード線 Q30,Q31…MOSトランジスタ(トランスファゲ
ート)
1 ... Sense amplifier 2 1 , 2 2 ... Dummy cell 3 ... Memory cell group 4 ... Latch type memory cell (register) BL, / BL ... Bit line WL1, WL2, WL (n-1), WLn ... Word line Q30, Q31 ... MOS transistor (transfer gate)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ランダムアクセス可能なメモリセルを半導
体基板上にマトリックス状に集積形成してなるメモリセ
ルアレイと、これらのメモリセルアレイ中のメモリセル
を複数個共通接続したビット線と、これらのビット線を
対にして、この対にしたビット線間の電位差をセンスす
るセンスアンプとを備えた半導体記憶装置において、 自己センス増幅能力のあるレジスタのデータ記憶ノード
である第1,第2のノードが、前記対をなすビット線に
トランスファゲートを介してそれぞれ接続され、前記ラ
ンダムアクセス可能なメモリセルから前記レジスタへの
データ転送後、外部入力トリガー信号に同期して前記レ
ジスタのデータが入出力線を介して順次読み出されるこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory cell array in which randomly accessible memory cells are integrated and formed in a matrix on a semiconductor substrate, bit lines in which a plurality of memory cells in these memory cell arrays are commonly connected, and these bit lines. And a sense amplifier that senses a potential difference between the paired bit lines. In a semiconductor memory device, the first and second nodes that are data storage nodes of a register having self-sense amplification capability are The data of the register is connected to the pair of bit lines via transfer gates, and after the data is transferred from the randomly accessible memory cell to the register, the data of the register is transferred via the input / output line in synchronization with the external input trigger signal. A semiconductor memory device characterized by being sequentially read.
【請求項2】前記外部入力トリガー信号は2種の信号か
らなり、 第1の外部入力トリガー信号は、前記ランダムアクセス
可能なメモリセルのデータを前記ビット線へ読み出すこ
と及び前記センスアンプのセンス動作に供されるもので
あり、 第2の外部入力トリガー信号は、前記レジスタへ転送さ
れたデータを入出力線を介して順次読み出すことに供さ
れるものであることを特徴とする請求項1記載の半導体
記憶装置。
2. The external input trigger signal is composed of two kinds of signals, and the first external input trigger signal reads data of the randomly accessible memory cell to the bit line and sense operation of the sense amplifier. 2. The second external input trigger signal is used for sequentially reading the data transferred to the register via an input / output line. Semiconductor memory device.
【請求項3】第2の外部入力トリガー信号に同期して、
前記トランスファゲートを構成するMOSトランジスタ
は非導通状態になり、前記ビット線と前記レジスタが切
り離されることを特徴とする請求項2記載の半導体記憶
装置。
3. Synchronizing with a second external input trigger signal,
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the MOS transistor forming the transfer gate is turned off, and the bit line and the register are disconnected.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5956276A (en) * 1982-09-24 1984-03-31 Hitachi Ltd Semiconductor storage device

Patent Citations (1)

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