JPH06173082A - Continuous plating device - Google Patents

Continuous plating device

Info

Publication number
JPH06173082A
JPH06173082A JP34100192A JP34100192A JPH06173082A JP H06173082 A JPH06173082 A JP H06173082A JP 34100192 A JP34100192 A JP 34100192A JP 34100192 A JP34100192 A JP 34100192A JP H06173082 A JPH06173082 A JP H06173082A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal strip
plating
metallic strip
plating solution
prevent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34100192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyoshi Kawaguchi
洋良 川口
Shigehiro Takushima
重宏 多久島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
Priority to JP34100192A priority Critical patent/JPH06173082A/en
Publication of JPH06173082A publication Critical patent/JPH06173082A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the flow of a plating liquid to the contact parts of conductor rolls and a metallic strip and to prevent the overcoating of both end edges of this metallic strip with plating. CONSTITUTION:The metallic strip 1 with its transverse direction positioned perpendicularly is passed in a horizontal direction and is subjected to plating by running the plating liquid between the metallic strip 1 and anode 3a from above. The plating liquid passed between the metallic strip 1 and the anode 3a is flown out of the end in the transverse direction of the metallic strip 1, by which the remaining of the plating liquid on the front surface of the passing metallic strip 1 is prevented and an effect of liquid draining is enhanced. A jet header 4 for supplying the plating liquid is lifted according to the width of the metallic strip 1 to prevent the concentration of current to both end edges of the metallic strip 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は金属ストリップの表面
に連続して電気めっきを施す連続めっき装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a continuous plating apparatus for continuously electroplating a surface of a metal strip.

【0002】[0002]

【従来の技術】鉄鋼等の金属ストリップに連続して電気
めっきする装置としては水平型,竪型等種々の装置があ
る。従来の水平型の連続電気めっき装置は、図4のライ
ン構成図に示すように、金属ストリップ1の幅方向と通
板方向を水平にした搬送路に設けられたコンダクタロ−
ル2で金属ストリップ1をカソ−ドにしながら、アノ−
ド3a,3bと金属ストリップ1との間の空間に噴流ヘ
ッダ4a,4bのノズルからめっき液を流し、コンダク
タロ−ル2にめっき液が流れるのをダムロ−ル5で防ぎ
ながら金属ストリップ1の両面に電気めっきを行なって
いる。竪型の連続めっき装置は、図5に示すように金属
ストリップ1の幅方向を水平にし、通板方向を垂直方
向、すなわち竪型タンク6の下部に設けたボトムロ−ル
7で進行方向を下方向と上方向に反転させながら、竪型
タンク6にめっき液を満たしたり(特開昭60−56092号
公報)、図6に示すように、アノ−ド3a,3bと金属
ストリップ1との間の空間に噴流ヘッダ4a,4bから
めっき液を流したりして(特開昭61−190096号公報)、
金属ストリップ1の両面に電気めっきを行なっている。
また、図7に示すように、金属ストリップ1の幅方向を
垂直にし、めっき液を満たしためっき槽8内を水平方向
に通板しながら金属ストリップ1の両面にめっきする垂
直型めっき装置も使用されている(特開平1−168890号
公報)。
2. Description of the Related Art As an apparatus for continuously electroplating a metal strip of steel or the like, there are various apparatuses such as a horizontal type and a vertical type. In the conventional horizontal type continuous electroplating apparatus, as shown in the line configuration diagram of FIG. 4, a conductor roll provided in a transport path in which the width direction of the metal strip 1 and the plate passing direction are horizontal.
While making the metal strip 1 a cathode with the rule 2,
Both sides of the metal strip 1 are provided while flowing the plating solution from the nozzles of the jet headers 4a, 4b into the space between the electrodes 3a, 3b and the metal strip 1 and preventing the plating solution from flowing to the conductor roll 2 by the dam roll 5. Is electroplated. In the vertical continuous plating apparatus, as shown in FIG. 5, the width direction of the metal strip 1 is horizontal and the plate passing direction is vertical, that is, the bottom roll 7 provided at the bottom of the vertical tank 6 lowers the traveling direction. The vertical tank 6 is filled with the plating solution while reversing in the upward direction and the upward direction (Japanese Patent Laid-Open No. 60-56092), or as shown in FIG. 6, between the anodes 3a and 3b and the metal strip 1. The plating solution is caused to flow from the jet headers 4a and 4b into the space (Japanese Patent Laid-Open No. 61-190096).
Both sides of the metal strip 1 are electroplated.
Further, as shown in FIG. 7, a vertical type plating device is also used in which the width direction of the metal strip 1 is made vertical and the both sides of the metal strip 1 are plated while horizontally passing through the plating tank 8 filled with the plating solution. (JP-A-1-168890).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記図4〜図6に示す
ように、アノ−ド3a,3bと金属ストリップ1との間
の空間にめっき液を流す水平型又は竪型めっき装置にお
いては、走行する金属ストリップ1の蛇行や処理する金
属ストリップ1の幅が変わっても金属ストリップの表面
に良好なめっきができるように、通常はアノ−ド3a,
3bの幅を通板する金属ストリップ1の最大幅よりも広
くして、金属ストリップ1の両端エッジ部もめっき液で
完全に覆った状態でアノ−ド3a,3bからカソ−ドで
ある金属ストリップ1に電流が流される。このため金属
ストリップ1の両端エッジ部に電流が集中し、両端エッ
ジ部にめっきがオ−バコ−トされてしまう。このオ−バ
コ−トを防止するために、金属ストリップ1の両端エッ
ジ部に絶縁体からなるエッジマスクを付けて余分な電流
をカットする必要がある。このようにエッジマスクを付
けると装置が複雑になり、メンテナンス性が悪いという
短所があった。
As shown in FIGS. 4 to 6, in the horizontal type or vertical type plating apparatus in which the plating solution is caused to flow in the space between the anodes 3a, 3b and the metal strip 1. Normally, the anode 3a, so that the surface of the metal strip 1 can be plated well even if the running metal strip 1 meanders or the width of the metal strip 1 to be processed changes.
The width of the metal strip 1 is larger than the maximum width of the metal strip 1 passing through the metal strip 1, and the metal strip 1 is a cathode from the nodes 3a and 3b in a state where both edge portions of the metal strip 1 are completely covered with the plating solution. An electric current is applied to 1. For this reason, current concentrates on the edges of both ends of the metal strip 1, and plating is overcoated on the edges of both ends. In order to prevent this over-coating, it is necessary to attach an edge mask made of an insulator to both end edges of the metal strip 1 to cut off an excessive current. When the edge mask is attached in this way, the device becomes complicated and the maintainability is poor.

【0004】また、コンダクタロ−ル2と金属ストリッ
プ1との接触部には電流が流れており、コンダクタロ−
ル2はコンダクタロ−ル2と金属ストリップ1の接触抵
抗の分だけ金属ストリップ1より陰極になる、この接触
部にもめっき液が流れるのでコンダクタロ−ル2の表面
もめっきされる。このめっきの付着量は金属ストリップ
1の板幅に応じた接触面に流れる電流密度に比例し、コ
ンダクタロ−ル2の表面に金属ストリップ1の板幅に応
じた段差を生じる。このような段差が生じると通板する
金属ストリップ1の板幅が大きくなった場合には、コン
ダクタロ−ル2と金属ストリップ1とが幅方向に均一に
接触せず、金属ストリップ1に均一なめっきができなく
なってしまう。これを防止するために研磨装置を設けて
コンダクタロ−ル2を研磨する必要がある。このため装
置が複雑になるとともに、研磨のため余分な時間を要す
るという短所があった。
Further, a current is flowing in the contact portion between the conductor roll 2 and the metal strip 1,
The conductor 2 becomes a cathode from the metal strip 1 by the contact resistance between the conductor roll 2 and the metal strip 1. Since the plating solution also flows to this contact portion, the surface of the conductor roll 2 is also plated. The amount of plating adhered is proportional to the density of the current flowing through the contact surface depending on the plate width of the metal strip 1, and a step is formed on the surface of the conductor roll 2 according to the plate width of the metal strip 1. If the width of the metal strip 1 passing through becomes large when such a step occurs, the conductor roll 2 and the metal strip 1 do not contact each other uniformly in the width direction, and the metal strip 1 is plated uniformly. Will not be possible. In order to prevent this, it is necessary to provide a polishing device to polish the conductor roll 2. For this reason, the apparatus becomes complicated and there is a disadvantage that extra time is required for polishing.

【0005】また、図7に示すような垂直型めっき装置
は幅の狭い材料について低速で通板するものに限定され
る装置であるとともに上記の短所に対してはなんら解決
がされていなかった。
Further, the vertical plating apparatus as shown in FIG. 7 is an apparatus limited to the one which passes a narrow material at a low speed, and the above disadvantages have not been solved at all.

【0006】この発明はかかる短所を解決するためにな
されたものであり、コンダクタロ−ルと金属ストリップ
の接触部にめっき液が流れることを防止するとともに、
金属ストリップの両端エッジ部にめっきがオ−バコ−ト
することを防止することができる連続めっき装置を得る
ことを目的とするものである。
The present invention has been made to solve the above drawbacks, and prevents the plating solution from flowing to the contact portion between the conductor roll and the metal strip.
It is an object of the present invention to provide a continuous plating apparatus capable of preventing the plating from overcoating on both edges of the metal strip.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明に係る連続めっ
き装置は、金属ストリップの幅方向を垂直にして水平方
向に通板する搬送路と、金属ストリップのそれぞれの面
に対向して設けられたアノ−ドと、上記搬送路の上部に
設けられ、通板する金属ストリップの幅に応じて電極間
を昇降する噴流ヘッダとを備えたことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A continuous plating apparatus according to the present invention is provided so as to oppose each surface of a metal strip and a conveying path for vertically passing the metal strip in the horizontal direction. It is characterized in that it is provided with an anode and a jet header which is provided on the upper part of the above-mentioned transport path and which moves up and down between the electrodes according to the width of the metal strip to be passed.

【0008】[0008]

【作用】この発明においては、金属ストリップの幅方向
を垂直にして水平方向に通板し、金属ストリップと電極
との間に上部からめっき液を流してめっきする。この金
属ストリップと電極との間に流しためっき液を金属スト
リップの幅方向下端部から流出させ、通板している金属
ストリップの表面にめっき液が残留することを防ぎ、か
つ液切れ効果を高めて、めっき液がコンダクタロ−ルと
金属ストリップの接触部に流れることを防ぐ。
In the present invention, the metal strip is passed horizontally with the width direction vertical and the plating solution is flowed from above between the metal strip and the electrode for plating. The plating solution flowing between the metal strip and the electrode is caused to flow out from the lower end portion in the width direction of the metal strip to prevent the plating solution from remaining on the surface of the passing metal strip, and to enhance the liquid drainage effect. To prevent the plating solution from flowing to the contact portion between the conductor roll and the metal strip.

【0009】また、めっき液を供給する噴流ヘッダを通
板する金属ストリップの幅に応じて昇降させて、金属ス
トリップ1の両端エッジ部に電流が集中することを防
ぐ。
Further, the jet header for supplying the plating solution is moved up and down in accordance with the width of the metal strip passing through the jet header to prevent the electric current from concentrating on the edges of both ends of the metal strip 1.

【0010】[0010]

【実施例】図1,図2はこの発明の一実施例のライン構
成図を示し、図1は正面図、図2は上面断面図である。
図に示すように、金属ストリップ1を走行させる搬送路
には複数のコンダクタロ−ル2とアノ−ド3a,3bと
が水平方向に連設されている。コンダクタロ−ル2は軸
心が垂直方向に配置され、金属ストリップ1の幅方向を
垂直にして水平方向に走行させる。アノ−ド3a,3b
は電極面が走行する金属ストリップ1を挾んで垂直に設
けられ、アノ−ド3a,3bの前端部と後端部及び下端
部には、例えばラビリンスパッキンからなる遮蔽部10
a,10b,10cがそれぞれ取り付けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIGS. 1 and 2 are line construction diagrams of an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a front view and FIG. 2 is a top sectional view.
As shown in the figure, a plurality of conductor rolls 2 and nodes 3a and 3b are connected in a horizontal direction in a transport path along which the metal strip 1 travels. The conductor roll 2 has its axis arranged in the vertical direction, and runs the metal strip 1 in the horizontal direction with the width direction of the metal strip 1 being vertical. Anode 3a, 3b
Is provided vertically so as to sandwich the metal strip 1 on which the electrode surface runs, and the front and rear ends and the lower and lower ends of the nodes 3a and 3b are covered with a shielding portion 10 made of, for example, a labyrinth packing.
a, 10b and 10c are attached respectively.

【0011】このアノ−ド3a,3bの上部には昇降装
置11に取り付けられた噴流ヘッダ4が設置してある。
噴流ヘッダ4は、図3の側面断面図に示すように、アノ
−ド3a,3bと金属ストリップ1との間の空間にめっ
き液を噴出させる一対のノズル12a、12bを有す
る。
A jet header 4 attached to a lifting device 11 is installed above the nodes 3a and 3b.
As shown in the side sectional view of FIG. 3, the jet header 4 has a pair of nozzles 12a, 12b for ejecting the plating solution into the space between the anodes 3a, 3b and the metal strip 1.

【0012】上記のように構成された連続電気めっき装
置において、幅方向を垂直にした金属ストリップ1の下
端部をアノ−ド3a,3bの下端部に位置合わせしなが
ら、金属ストリップ1を水平方向に走行させる。この走
行する金属ストリップ1の幅に応じて昇降装置11を駆
動し、噴流ヘッダ4のノズル12a、12bの位置を可
変する。そして走行する金属ストリップ1をコンダクタ
ロ−ル2でカソ−ドにしながら、噴流ヘッダ4のノズル
12a,12bからめっき液を噴出する。このように幅
方向が垂直で水平方向に走行する金属ストリップ1に上
部からめっき液を噴出するから、1個の噴流ヘッダ4で
金属ストリップ1の両面にめっき液を噴出することがで
きる。
In the continuous electroplating apparatus constructed as described above, while aligning the lower end of the metal strip 1 whose width direction is vertical to the lower ends of the nodes 3a and 3b, the metal strip 1 is moved horizontally. Drive to. The elevating device 11 is driven according to the width of the traveling metal strip 1 to change the positions of the nozzles 12a and 12b of the jet header 4. Then, while the running metal strip 1 is made into a casing by the conductor roll 2, the plating solution is jetted from the nozzles 12 a and 12 b of the jet header 4. In this way, since the plating solution is jetted from above onto the metal strip 1 which is vertical in the width direction and runs horizontally, the plating solution can be jetted onto both sides of the metal strip 1 by one jet header 4.

【0013】ノズル12a,12bから噴出されためっ
き液はアノ−ド3a,3bの前後に設けられた遮蔽部1
0a,10bによりアノ−ド3a,3bの前後に流出す
ることを抑えられて、アノ−ド3a,3bと金属ストリ
ップ1との間の空間に供給される。この供給されためっ
き液はアノ−ド3a,3bの下端部に設けられた遮蔽部
10cから一定量ずつ回収パン13に流れ落ちながら、
アノ−ド3a,3bと金属ストリップ1との間を流れ、
金属ストリップ1の両面をめっきする。
The plating solution ejected from the nozzles 12a and 12b is shielded by the shields 1 provided in front of and behind the nodes 3a and 3b.
By 0a and 10b, the outflow before and after the anodes 3a and 3b is suppressed, and they are supplied to the space between the anodes 3a and 3b and the metal strip 1. The supplied plating solution flows down into the recovery pan 13 from the shielding part 10c provided at the lower ends of the nodes 3a and 3b by a fixed amount.
Flowing between the anodes 3a, 3b and the metal strip 1,
Plate both sides of the metal strip 1.

【0014】この幅方向を垂直にした金属ストリップ1
をめっきするときに、金属ストリップ1の下端部をアノ
−ド3a,3bの下端部に位置合わせし、かつ噴流ヘッ
ダ4のノズル12a、12bの位置を金属ストリップ1
の幅に応じて昇降装置11で可変して、めっき液が金属
ストリップ1の板幅分だけ存在するように調節する。こ
のように噴流ヘッダ4のノズル12a、12bの位置を
調節することにより、アノ−ド3a,3bはめっき液が
存在する部分においてのみ陽極として作用する。このた
めアノ−ド3a,3bの金属ストリップ1の板幅より外
側の部分からは電流が流れず、金属ストリップ1のエッ
ジ部に電流が集中することを防ぎ、金属ストリップ1に
は全面にほぼ均一な電流が流れる。したがって、エッジ
マスクを使用しなくても金属ストリップ1のエッジ部に
めっきがオ−バコ−トすることを防ぐことができる。
A metal strip 1 whose width direction is vertical
When plating the metal strip 1, the lower end of the metal strip 1 is aligned with the lower ends of the anodes 3a, 3b, and the nozzles 12a, 12b of the jet header 4 are positioned.
Depending on the width of the metal strip 1, the height of the plating solution is changed so that the plating solution is adjusted to the width of the metal strip 1. By adjusting the positions of the nozzles 12a and 12b of the jet header 4 in this manner, the anodes 3a and 3b act as anodes only in the portions where the plating solution is present. Therefore, current does not flow from the portions of the anodes 3a and 3b outside the plate width of the metal strip 1 to prevent the current from concentrating on the edge of the metal strip 1, and the metal strip 1 is substantially evenly distributed over the entire surface. Current flows. Therefore, it is possible to prevent the plating from overcoating on the edge portion of the metal strip 1 without using the edge mask.

【0015】また、アノ−ド3a,3bと金属ストリッ
プ1との間の空間に供給されためっき液の一部は金属ス
トリップ1に沿ってアノ−ド3a,3bの前後に設けら
れた遮蔽部10a,10bから流出するが、金属ストリ
ップ1は幅方向が垂直になっているから、金属ストリッ
プ1に付着しためっき液は重力により直ちに落下するた
め液切れが良く、金属ストリップ1とコンダクタロ−ル
2の接触部までめっき液が流れることを防ぐことができ
る。したがってコンダクタロ−ル2の表面がめっきされ
たり腐食することを防ぐことができる。
Further, a part of the plating solution supplied to the space between the anodes 3a and 3b and the metal strip 1 is a shielding portion provided along the metal strip 1 before and after the anodes 3a and 3b. Although the metal strip 1 flows out from 10a and 10b, since the width direction of the metal strip 1 is vertical, the plating solution adhering to the metal strip 1 immediately drops due to gravity, so that the liquid is well drained and the metal strip 1 and the conductor roll 2 It is possible to prevent the plating solution from flowing to the contact portion. Therefore, the surface of the conductor roll 2 can be prevented from being plated or corroded.

【0016】さらに垂直な金属ストリップ1に沿ってめ
っき液を流すから、60〜200cm程度の広幅の金属スト
リップであっても、めっき液のあわ抜けが良くなるとと
もに、カソ−ドである金属ストリップ1への金属イオン
の補給が円滑になり緻密なめっきをすることができる。
Further, since the plating solution is flowed along the vertical metal strip 1, even if the metal strip has a wide width of about 60 to 200 cm, the bubbling of the plating solution is improved and the metal strip 1 which is a cathode. The metal ions can be replenished smoothly and precise plating can be performed.

【0017】[0017]

【発明の効果】この発明は以上説明したように、金属ス
トリップの幅方向を垂直にして水平方向に通板し、金属
ストリップと電極との間に上部からめっき液を流してめ
っきするようにしたから、通板している金属ストリップ
の表面にめっき液が残留することを防ぎ、かつ液切れ効
果を高めることができ、めっき液がコンダクタロ−ルと
金属ストリップの接触部に流れることを防ぐことができ
る。したがってコンタクトロ−ルのめっきや腐食をダム
ロ−ラ等を必要とせずに防止することができる。
As described above, according to the present invention, the metal strip is passed through in the horizontal direction with the width direction being vertical, and the plating solution is flowed from the upper portion between the metal strip and the electrode for plating. Therefore, it is possible to prevent the plating solution from remaining on the surface of the metal strip that is running through, and to enhance the effect of draining the solution, and prevent the plating solution from flowing to the contact portion between the conductor roll and the metal strip. it can. Therefore, plating or corrosion of the contact roll can be prevented without the need for a dam roller or the like.

【0018】また、めっき液を供給する噴流ヘッダを通
板する金属ストリップの幅に応じて昇降させて、金属ス
トリップ1の両端エッジ部に電流が集中することを防ぐ
ことができるから、エッジマスクを使用しなくても金属
ストリップのエッジ部にめっきがオ−バコ−トすること
を防止することができ、均一なめっきをすることができ
る。
Further, since the jet header for supplying the plating solution can be moved up and down according to the width of the metal strip passing through it, it is possible to prevent the electric current from concentrating on the edge portions at both ends of the metal strip 1. Even if it is not used, it is possible to prevent the plating from overcoating on the edge portion of the metal strip, and it is possible to perform uniform plating.

【0019】また、ダムロ−ラやエッジマスクを必要と
せずに良質なめっきを均一にすることができるから、め
っき設備の構成を簡単にすることができる。
Further, since good quality plating can be made uniform without the need for a dam roller or an edge mask, the structure of plating equipment can be simplified.

【0020】さらに、金属ストリップの幅方向を垂直に
して水平方向に通板するから、めっき設備の設置面積を
小さくすることもできる。
Further, since the metal strips are passed horizontally with the width direction vertical, it is possible to reduce the installation area of the plating equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の実施例のライン構成図を示す正面図
である。
FIG. 1 is a front view showing a line configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】上記実施例の上面断面図である。FIG. 2 is a top sectional view of the above embodiment.

【図3】上記実施例の側面断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of the above embodiment.

【図4】従来の水平型めっき装置のライン構成図を示す
正面図である。
FIG. 4 is a front view showing a line configuration diagram of a conventional horizontal plating apparatus.

【図5】従来の竪型連続めっき装置を示す断面図であ
る。
FIG. 5 is a sectional view showing a conventional vertical continuous plating apparatus.

【図6】従来の他の竪型連続めっき装置を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view showing another conventional vertical continuous plating apparatus.

【図7】従来の垂直型めっき装置を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a conventional vertical plating apparatus.

【符号の説明】 1 金属ストリップ 2 コンダクタロ−ル 3a,3b アノ−ド 4 噴流ヘッダ 11 昇降装置 12a,12b ノズル[Explanation of reference numerals] 1 metal strip 2 conductor rolls 3a, 3b anode 4 jet header 11 lifting device 12a, 12b nozzle

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属ストリップの幅方向を垂直にして水
平方向に通板する搬送路と、上記金属ストリップのそれ
ぞれの面に対向して設けられたアノ−ドと、上記搬送路
の上部に設けられ、通板する金属ストリップの幅に応じ
て電極間を昇降する噴流ヘッダとを備えたことを特徴と
する連続めっき装置。
1. A conveying path for vertically passing the width direction of a metal strip in a horizontal direction, an anode provided to face each surface of the metal strip, and an upper portion of the conveying path. And a jet header that moves up and down between the electrodes according to the width of the metal strip to be passed.
JP34100192A 1992-11-30 1992-11-30 Continuous plating device Pending JPH06173082A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34100192A JPH06173082A (en) 1992-11-30 1992-11-30 Continuous plating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34100192A JPH06173082A (en) 1992-11-30 1992-11-30 Continuous plating device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06173082A true JPH06173082A (en) 1994-06-21

Family

ID=18342290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34100192A Pending JPH06173082A (en) 1992-11-30 1992-11-30 Continuous plating device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06173082A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100352620B1 (en) * 1998-12-29 2002-12-26 주식회사 에스아이테크 Drain pipe connection structure of lead frame plating tank

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100352620B1 (en) * 1998-12-29 2002-12-26 주식회사 에스아이테크 Drain pipe connection structure of lead frame plating tank

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4310403A (en) Apparatus for electrolytically treating a metal strip
US4367125A (en) Apparatus and method for plating metallic strip
US4401523A (en) Apparatus and method for plating metallic strip
US3803013A (en) Electrolytic plating apparatus and method
US4102772A (en) Apparatus for continuously electroplating on only a single surface of running metal strip
JPH06173082A (en) Continuous plating device
CA1165271A (en) Apparatus and method for plating one or both sides of metallic strip
JP4759834B2 (en) Electroplating equipment for film carriers
US7449089B2 (en) Conveyorized plating line and method for electrolytically metal plating a workpiece
JPS592115Y2 (en) Continuous single-sided electroplating equipment for metal strips
JPH06212492A (en) Continuous electroplating device
JPH036394A (en) Horizontal plating bath
JP3015651B2 (en) Continuous electroplating method
JPS59185797A (en) Continuous electroplating device provided with soluble electrode
JPS5985890A (en) Method and device for horizontal electrolytic treatment of metallic strip supported by fluid
JPH03191090A (en) Horizontal electroplating device
JPS61190093A (en) Electroplating installation
KR100418404B1 (en) Vertical type electro plating apparatus using insoluble anode
JPH073496A (en) Electroplating device
JPS61190095A (en) Electroplating installation
JPS63171897A (en) Electroplating device
JPS63111196A (en) Horizontal continuous electroplating method for steel sheet
JPH01287295A (en) Horizontal type control method for shape and position of electroplated metallic strip
JPS6116433B2 (en)
JP2545849B2 (en) Electric plating device