JPH06173004A - 連続真空蒸着めっきにおけるめっき原料供給装置 - Google Patents

連続真空蒸着めっきにおけるめっき原料供給装置

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JPH06173004A
JPH06173004A JP32437192A JP32437192A JPH06173004A JP H06173004 A JPH06173004 A JP H06173004A JP 32437192 A JP32437192 A JP 32437192A JP 32437192 A JP32437192 A JP 32437192A JP H06173004 A JPH06173004 A JP H06173004A
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JP
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plating
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plating raw
chamber
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JP32437192A
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Hiromi Miyamoto
博美 宮本
Shoji Miyake
昭二 三宅
Masatoshi Iwai
正敏 岩井
Jiyunji Kawafuku
純司 川福
Koji Irie
広司 入江
Touta Ayabe
東太 綾部
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空蒸着めっきの実施を連続操業化するに際
して問題となるめっき原料の補給に関し、粒状めっき原
料を補給するときに真空破壊を生じず、且つ連続めっき
における真空室内機器に対する蒸気付着のトラブルを回
避できる様な装置を提供する。 【構成】 真空蒸着めっき室の外側に、粒状めっき原料
供給装置を真空下に配備し、該供給装置と真空蒸着めっ
き室を固定型の移送装置と可動型の装入装置を介して連
結し、可動型の装入装置はめっき原料槽の上方を臨むめ
っき原料装入ポジションと、めっき原料槽の上方から退
避する退避ポジションをとる様に構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空蒸着めっき操業を連
続化する為に必須のめっき原料補給機構の改良に関する
ものであり、詳細にはめっき原料をバッチ的に補給しつ
つ蒸着めっき操業を連続的に行う様な連続真空蒸着めっ
き設備において、蒸着めっきを行う真空室内の真空を破
らずにバッチ的にめっき原料の補給を行うことができる
様に構成されためっき原料供給装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】鋼板で代表される様な帯状もしくは線状
の被めっき基材に対する連続真空蒸着めっきは、近年特
に注目を集めている表面処理技術の1つである。この様
な蒸着めっきは、単一金属めっきを希望する場合、ある
いは合金めっきを希望する場合のいずれにも適用でき、
また単層・複数層の如何を問わず、更にセラミックスの
蒸着めっき技術としても研究されている。
【0003】前記した様にめっき原料としては非常に広
範囲な材料が用いられるが、工業的には、帯状もしくは
線状の被めっき基材を、めっき原料の蒸気が発生してい
る真空室内に導いてこれを走行させつつ連続的に前記蒸
気を基材表面に付着させていく方法、すなわち連続真空
蒸着めっき法を実用化させることが、生産コスト面から
見て必須である。
【0004】この様な連続生産設備においては、めっき
の進行に伴うめっき原料の消費を補い、あるいは付着量
の経時変化が発生しない様にめっき原料の補給技術を確
立することが必要である。この際例えばAlの様な高延性
金属の場合はこれをワイヤ状に加工することが簡単であ
るため、真空室内の真空を破ることなく連続的にワイヤ
を繰り出してめっき原料浴中に補給していくこと(従っ
てめっきの中断を伴うことなく連続蒸着めっきを行うこ
と)が可能である。しかしCrやMg等の低延性金属或
はSiO2 やAl23 等のセラミックスではワイヤ状
に加工することができないため、これらを粒状原料とし
て補給せざるを得ず、蒸着めっきをいったん中断して真
空室内を大気圧に解放してめっき原料を補給した後、真
空室内を密閉再吸引して減圧し、次いでめっき原料の再
加熱を行い蒸気発生状況が安定してから被めっき基材の
走行を再開して蒸着めっきを再開するという方式が採用
される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記した様に粒状(ま
たは塊状乃至棒状:以下粒状で代表する)原料のバッチ
供給方式にあっては蒸着めっき操業の中断は不可避であ
り、生産性の低下並びに生産コストの上昇を招く。そこ
で真空室内の蒸発槽を少しでも大きく(めっき原料の収
納量を多く)してバッチ的補給の時間々隔を長くし、生
産性の低下を多少とも抑制することが考えられる。しか
しこの場合はめっき原料の補給間隔が長くなる分、浴面
高さが低くなった状態での蒸着めっき操業が継続される
こととなり、その間は蒸発量の不安定に伴うめっき付着
量の不均一が長く続く結果、製品品質の安定性が損なわ
れるという重大な欠陥が発生する。本発明はこの様な事
情に着目してなされたものであって、粒状原料のバッチ
的補給しか行なえない状況下であっても真空室内の真空
状況をできる限り破らずに連続的蒸着めっきを遂行する
ことが可能である様なめっき原料供給装置の提供を目的
とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すること
のできた本発明のめっき原料供給装置とは、真空蒸着め
っき室外に設けられ、かつそれ自身が真空下に保持され
ている粒状めっき原料供給装置と、該原料供給装置から
前記真空蒸着室内にめっき原料を導入する移送装置と、
該移送装置の真空蒸着室側排出端で前記めっき原料を受
け入れてこれを前記めっき原料槽に装入する装入装置を
備え、且つ該装入装置を、前記めっき原料槽の上方に臨
ませる装入ポジションと該めっき原料槽の上方から退避
させる退避ポジションの間を移動させるように構成し、
装入ポジションをとったときに前記移送装置と連結せし
めるように構成したものであることを要旨とするもので
ある。
【0007】
【作用】本発明の装置は、真空に保持された蒸着めっき
室と連通される粒状めっき原料供給装置を真空下に保持
することを第1の基本構成としている。そのため蒸着め
っき室内の真空度は、粒状めっき原料を蒸着めっき室内
に装入している間も所望の真空度に維持される。従って
粒状めっき原料を必要なときに必要量補給するというバ
ッチ供給方式を採用する場合においても、蒸着めっき室
内では安定した蒸気を発生し続けることが可能となり、
連続蒸着めっきを、安定な品質を保証しつつ継続して実
施できる様になった。
【0008】ところがこの様にして継続的な蒸着めっき
を行っていると、蒸発槽の上方開口を臨みその中へめっ
き原料を投入する投入口に蒸気が付着して種々のトラブ
ルが発生し、安定した蒸着めっきを連続して実施するこ
とはできなかった。そこで上記投入口への蒸気付着を防
止する為、めっき原料投入装置を次の2つに分けると共
に、 前記粒状めっき原料供給装置から前記真空蒸着室内に
めっき原料を導入する移送装置。 該移送装置の真空蒸着室側排出端でめっき原料を受け
入れてこれをめっき原料槽に装入する装入装置。
【0009】後者の装入装置は下記2つのポジションの
間を移動できる様に構成した。 (1) めっき原料槽の上方を臨む装入ポジション。 (2) めっき原料槽の上方から退避する退避ポジション。 この様に構成すれば、装入装置がめっき原料槽を臨む様
な、従ってめっき原料の蒸気が付着する危険がある装入
ポジションをとるのは、粒状めっき原料を真空蒸着室内
に供給するときだけであり、それ以外のときは前記退避
ポジションをとってめっき原料からの蒸気が付着しない
様になっていることが理解されるであろう。
【0010】
【実施例】図1,2は本発明の代表的実施例を示す説明
図であり、図1は側面要部説明図、図2は正面要部説明
図を示す。真空蒸着室1内に配置されためっき原料槽2
には、図示しない加熱手段(例えば抵抗加熱、高周波加
熱、電子線加熱等)によって加熱溶融した合金浴15が
形成されている。尚めっき原料がCrの様な昇華性材料
であるときは、合金浴ではなく固形材料のままで存在す
る。図1に示した3は上方を紙面貫通方向に走行する被
めっき材である。真空蒸着室1の外側に設けているのは
定量供給機能を備えためっき原料供給装置5であり、ホ
ッパー4の上蓋がシール機構を備えることによって装置
の内部全体が真空下に保持されているものとする。該供
給装置5において4はホッパー、6は振動フィーダ、7
は本発明の移送装置の要部をなす固定ガイドパイプであ
り、固定ガイドパイプ7は真空蒸着室1の壁を貫通し、
その先端11はめっき原料槽2の近傍に下向きに開口し
ている。一方可動ガイドパイプ8は本発明の装入装置の
要部をなすものであり、その上側端は固定ガイドパイプ
7の先端11に対面し、原料供給装置5からバッチ的に
定量供給されて固定ガイドパイプ7より排出されてくる
粒状めっき原料を受け入れる。受け入れられた粒状めっ
き原料は可動ガイドパイプ8を通ってその最下端部から
めっき原料槽2内の合金浴15中へ装入される。
【0011】図2は可動ガイドパイプ8が装入ポジショ
ン(実線)と退避ポジション(鎖線)の間を移動する様
子を示すもので、可動パイプ8は回動アーム16を介し
て回転軸10に連結される。また回転軸10には別の回
転アーム15を介して保護板9が取付けられ、固定ガイ
ドパイプ7の先端11を封鎖する封鎖ポジション(鎖
線)と、これを開放する開放ポジション(実線)の間を
往復回動する様に構成されている。図2に示した構成で
は回動アーム15,16が同一の回転軸10に取付けら
れているため、可動ガイドパイプ8と保護板9が連動
し、可動ガイドパイプ8が装入ポジション(実線)をと
るときは保護板9が開放ポジション(実線)をとり、可
動ガイドパイプ8が退避ポジション(鎖線)をとるとき
は保護板9が封鎖ポジション(鎖線)をとる様になって
いるが、これらの連動機構の詳細は本発明を利限するも
のではなく、他の種々の機構を採用することができる。
【0012】図3,4は本発明の他の実施例を示すもの
であり、図3は図1に対応し、図4は図2に対応する。
本実施例ではロータリーバルブ12が定量供給のための
機構であり、シリンダー13が可動ガイドパイプ8のポ
ジション変更装置である。また固定ガイドパイプ7中に
設けた真空遮蔽弁は本実施例における封鎖機構である。
もちろん固定ガイドパイプ7の先端11を直接的に封鎖
する様な保護板を図1,2の例に倣って進退自在に設け
る様に設計変更すること等は全て本発明の技術的範囲に
含まれる。
【0013】上記した様に可動ガイドパイプを装入ポジ
ションを退避ポジションの間で可変としたので、めっき
原料の蒸気が可動ガイドパイプに付着することがなく、
まためっき原料の加熱に伴う輻射熱の影響(可動ガイド
パイプの歪や熱変形)も大幅に軽減できることとなっ
た。また保護板9による固定ガイドパイプ7の封鎖は、
無効蒸気の発生を防ぎ、且つ固定ガイドパイプ7の保全
においても頗る有用である。
【0014】
【発明の効果】発明は上記の様に構成されているので、
ワイヤ状に加工することができない様な低延性のめっき
原料であっても、連続蒸着めっき操業の継続・安定実施
に悪影響を与えずにバッチ的補給を行うことが可能とな
った。またこの様なバッチ的補給による真空蒸着室内の
真空破壊やめっき原料供給装置の汚染、さらにはめっき
原料供給装置方向へ逃散して無効蒸気となる様な不経済
性も回避できることとなった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置の側面要部説明図。
【図2】本発明装置の正面要部説明図。
【図3】本発明装置の側面要部説明図。
【図4】本発明装置の局面要部説明図。
【符号の説明】
1 真空蒸着室 2 めっき原料槽 3 被めっき材 5 めっき原料供給装置 6 振動フィーダ 7 固定ガイドパイプ 8 可動ガイドパイプ 9 保護板 10 回転軸 12 ロータリーバルブ 13 シリンダ 15 回転アーム 16 回転アーム 17 真空遮断弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川福 純司 兵庫県加古川市金沢町1番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内 (72)発明者 入江 広司 兵庫県加古川市金沢町1番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内 (72)発明者 綾部 東太 兵庫県加古川市金沢町1番地 株式会社神 戸製鋼所加古川製鉄所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空に保持された蒸着めっき室内に設置
    されためっき原料槽にめっき原料を補給すると共にこれ
    を加熱蒸発させて、被めっき材表面にめっき層を形成す
    るように構成してなる連続真空蒸着めっき設備におい
    て、前記真空蒸着めっき室外に設けられ、かつそれ自身
    が真空下に保持されている粒状めっき原料供給装置と、
    該原料供給装置から前記真空蒸着室内にめっき原料を導
    入する移送装置と、該移送装置の真空蒸着室側排出端で
    前記めっき原料を受け入れてこれを前記めっき原料槽に
    装入する装入装置を備え、且つ該装入装置を、前記めっ
    き原料槽の上方に臨ませる装入ポジションと該めっき原
    料槽の上方から退避させる退避ポジションの間を移動さ
    せるように構成し、装入ポジションをとったときに前記
    移送装置と連結せしめるように構成したものであること
    を特徴とするめっき原料供給装置。
  2. 【請求項2】 移送装置の排出端に可動式封鎖装置を備
    えたものである請求項1に記載のめっき原料供給装置。
  3. 【請求項3】 移送装置の任意箇所に真空遮蔽弁を備え
    たものである請求項1に記載のめっき原料供給装置。
JP32437192A 1992-12-03 1992-12-03 連続真空蒸着めっきにおけるめっき原料供給装置 Withdrawn JPH06173004A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101462592B1 (ko) * 2012-10-31 2014-11-20 주식회사 에스에프에이 크루시블의 안정성 향상을 위한 증발 물질 피딩 장치
KR101462593B1 (ko) * 2012-09-14 2014-11-20 주식회사 에스에프에이 공정성 향상을 위한 증발 물질 피딩 장치
DE102016121256A1 (de) 2016-11-07 2018-05-09 Carl Zeiss Vision International Gmbh Vakuumverdampfungseinrichtung und Vakuumbeschichtungsverfahren
WO2021203463A1 (zh) * 2020-04-09 2021-10-14 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 金属蒸镀设备
WO2022008224A1 (de) * 2020-07-08 2022-01-13 Thyssenkrupp Steel Europe Ag Beschichtungsvorrichtung zum ablagern eines beschichtungsmaterials auf einem substrat

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