JPH0616680A - Production of carbapenem compound - Google Patents
Production of carbapenem compoundInfo
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- JPH0616680A JPH0616680A JP4081459A JP8145992A JPH0616680A JP H0616680 A JPH0616680 A JP H0616680A JP 4081459 A JP4081459 A JP 4081459A JP 8145992 A JP8145992 A JP 8145992A JP H0616680 A JPH0616680 A JP H0616680A
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Abstract
Description
【0001】本発明は、新規なカルバペネム化合物の製
造法に関し、さらに詳しくは、次式The present invention relates to a method for producing a novel carbapenem compound, more specifically, the following formula
【0002】[0002]
【化13】 [Chemical 13]
【0003】式中、R1はカルボキシル基の保護基を表
わし、X-は陰イオン残基を表わす、で示されるカルバ
ペネム化合物の簡便で収率のよい製造法に関する。In the formula, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group and X − represents an anion residue, and relates to a simple and high-yield production method of a carbapenem compound.
【0004】上記式(I)のカルバペネム化合物は、そ
のR1のカルボキシル保護基を除去せしめることにより
本発明者らが先に提案した(特開昭64−25779号
参照)優れた抗菌活性を有し抗菌剤として有用な、次式
(A)The carbapenem compound of the above formula (I) has excellent antibacterial activity previously proposed by the present inventors by removing the carboxyl protecting group of R 1 (see Japanese Patent Laid-Open No. 64-25779). Formula (A) useful as an antibacterial agent
【0005】[0005]
【化14】 [Chemical 14]
【0006】で示される化合物へ誘導することができ、
したがって式(A)の化合物の合成中間体として有用で
ある。Can be induced to a compound represented by
Therefore, it is useful as a synthetic intermediate for the compound of formula (A).
【0007】本発明によれば、 (a)式According to the present invention, the equation (a) is
【0008】[0008]
【化15】 [Chemical 15]
【0009】式中、R1はカルボキシル基の保護基を表
わし、R2は水酸基の保護基を表わす、で示される化合
物のR2の水酸基の保護基を脱離し、 (b)得られる式In the formula, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group and R 2 represents a protecting group for a hydroxyl group, and the protecting group for a hydroxyl group of R 2 in the compound represented by the formula (b) is obtained.
【0010】[0010]
【化16】 [Chemical 16]
【0011】式中、R1は上記の意味を有する、で示さ
れる化合物を環化せしめ、さらに (c)得られる式In the formula, R 1 has the above-mentioned meaning, and a compound represented by the formula (c)
【0012】[0012]
【化17】 [Chemical 17]
【0013】式中、R1は上記の意味を有する、で示さ
れる化合物をアシル化して当該化合物のオキソ基におけ
る反応性誘導体に変えた後、式Wherein R 1 has the above meaning, after acylation of the compound represented by the formula to convert it into a reactive derivative at the oxo group of the compound,
【0014】[0014]
【化18】 [Chemical 18]
【0015】式中、X-は陰イオン残基を表わす、で示
されるメルカプト化合物と反応せしめることによる式In the formula, X − represents an anion residue, and the formula is obtained by reacting with a mercapto compound represented by
【0016】[0016]
【化19】 [Chemical 19]
【0017】式中、R1およびX-は上記の意味を有す
る、で示されるカルバペネム化合物の製造法が提供され
る。There is provided a process for preparing a carbapenem compound represented by the formula: wherein R 1 and X - have the above meanings.
【0018】本発明の上記方法は、上記反応の各工程
(a)、(b)および(c)を、中間生成物を特に単離
・精製することなく連続して行なうことができ、したが
って、式(I)の化合物を大量に製造する工業的製造に
おいて特に有利である。The above-mentioned method of the present invention allows the steps (a), (b) and (c) of the above-mentioned reaction to be continuously carried out without particularly isolating and purifying the intermediate product. It is particularly advantageous in industrial production, in which the compound of formula (I) is produced in large quantities.
【0019】また、本発明の別の利点は、上記反応の各
工程(a)〜(c)を同一反応容器内で(すなわちワン
・ポットで)行ない得ることである。Another advantage of the present invention is that the steps (a) to (c) of the above reaction can be carried out in the same reaction vessel (that is, in one pot).
【0020】なお、本明細書において、「低級」なる語
は、この語が付された基または化合物の炭素原子数が1
〜7個、好ましくは1〜4個であることを意味する。In the present specification, the term "lower" means that the group or compound to which the term is attached has 1 carbon atom.
It means that it is ~ 7, preferably 1-4.
【0021】また、「カルボキシル基の保護基」はペプ
チド化学の分野においてカルボキシル基の保護基として
それ自体既知の任意のカルボキシル保護基であることが
でき、例えばカルボン酸のエステル残基を例示すること
ができる。かかるエステル残基の代表例としては、以下
のものが挙げられる: (a)低級アルキルエステル残基:例えばメチルエステ
ル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、te
rt−ブチルエステル、ペンチルエステル、ヘキシルエ
ステルなど。The "carboxyl-protecting group" may be any carboxyl-protecting group known per se as a carboxyl-protecting group in the field of peptide chemistry, for example, an ester residue of a carboxylic acid is exemplified. You can Representative examples of such ester residues include: (a) lower alkyl ester residues: eg methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, te.
rt-butyl ester, pentyl ester, hexyl ester and the like.
【0022】(b)適当な置換基を少なくとも1個を有
していてもよい低級アルキルエステル残基:例えばアセ
トキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエス
テル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシ
メチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘ
キサノイルオキシメチルエステル、1−(または2−)
アセトキシエチルエステル、1−(または2−または3
−)アセトキシプロピルエステル、1−(または2−ま
たは3−または4−)アセトキシブチルエステル、1−
(または2−)プロピオニルオキシエチルエステル、1
−(または2−または3−)プロピオニルオキシプロピ
ルエステル、1−(または2−)ブチリルオキシエチル
エステル、1−(または2−)イソブチリルオキシエチ
ルエステル、1−(または2−)ピバロイルオキシエチ
ルエステル、1−(または2−)ヘキサノイルオキシエ
チルエステル、イソブチリルオキシメチルエステル、2
−エチルブチリルオキシメチルエステル、3,3−ジメ
チルブチリルオキシメチルエステル、1−(または2
−)ペンタノイルオキシエチルエステル等の低級アルカ
ノイルオキシ(低級)アルキルエステル残基;2−メシ
ルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)
アルキルエステル残基;2−ヨードエチルエステル、
2,2,2−トリクロロエチルエステル等のモノ(また
はジまたはトリ)ハロ(低級)アルキルエステル残基;
メトキシカルボニルオキシメチルエステル、エトキシカ
ルボニルオキシメチルエステル、プロポキシカルボニル
オキシメチルエステル、tert−ブトキシカルボニル
オキシメチルエステル、2−メトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、1−エトキシカルボニルオキシエチル
エステル、1−イソプロポキシカルボニルオキシエチル
エステル等の低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)
アルキルエステル残基;フタリジリデン(低級)アルキ
ルエステル残基;(5−メチル−2−オキソ−1,3−
ジオキソール−4−イル)メチルエステル、(5−エチ
ル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル)メ
チルエステル、(5−プロピル−2−オキソ−1,3−
ジオキソール−4−イル)エチルエステル等の(5−低
級アルキル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−
イル)(低級)アルキルエステルなど。(B) Lower alkyl ester residue which may have at least one suitable substituent: eg acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pi Valoyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1- (or 2-)
Acetoxyethyl ester, 1- (or 2- or 3
-) Acetoxypropyl ester, 1- (or 2- or 3- or 4-) acetoxybutyl ester, 1-
(Or 2-) propionyloxyethyl ester, 1
-(Or 2- or 3-) propionyloxypropyl ester, 1- (or 2-) butyryloxyethyl ester, 1- (or 2-) isobutyryloxyethyl ester, 1- (or 2-) pivalo Yloxyethyl ester, 1- (or 2-) hexanoyloxyethyl ester, isobutyryloxymethyl ester, 2
-Ethyl butyryloxymethyl ester, 3,3-dimethylbutyryloxymethyl ester, 1- (or 2
-) Lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester residue such as pentanoyloxyethyl ester; Lower alkanesulfonyl (lower) such as 2-mesylethyl ester
Alkyl ester residue; 2-iodoethyl ester,
Mono (or di or tri) halo (lower) alkyl ester residues such as 2,2,2-trichloroethyl ester;
Methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, propoxycarbonyloxymethyl ester, tert-butoxycarbonyloxymethyl ester, 2-methoxycarbonyloxyethyl ester, 1-ethoxycarbonyloxyethyl ester, 1-isopropoxycarbonyloxyethyl ester Lower alkoxycarbonyloxy (lower) such as
Alkyl ester residue; phthalidylidene (lower) alkyl ester residue; (5-methyl-2-oxo-1,3-
Dioxole-4-yl) methyl ester, (5-ethyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-yl) methyl ester, (5-propyl-2-oxo-1,3-
(5-lower alkyl-2-oxo-1,3-dioxol-4-, such as dioxol-4-yl) ethyl ester
(Yl) (lower) alkyl ester and the like.
【0023】(c)低級アルケニルエステル残基:例え
ばビニルエステル、アリルエステルなど。(C) Lower alkenyl ester residue: For example, vinyl ester, allyl ester and the like.
【0024】(d)低級アルキニルエステル残基:例え
ばエチニルエステル、プロピニルエステルなど。(D) Lower alkynyl ester residue: For example, ethynyl ester, propynyl ester and the like.
【0025】(e)適当な置換基を少なくとも1個有し
ていてもよいアラルキルエステル残基:例えばベンジル
エステル、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロ
ベンジルエステル、フエネチルエステル、トリチルエス
テル、ベンズヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニ
ル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベンジルエス
テル、4−ヒドロキシ−3,5−ジtert−ブチルベ
ンジルエステルなど。 (f)適当な置換基を少なくとも1個有していてもよい
アリールエステル残基:例えばフェニルエステル、4−
クロロフェニルエステル、トリルエステル、tert−
ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチル
エステル、クメニルエステルなど。(E) Aralkyl ester residue which may have at least one suitable substituent: for example, benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, trityl ester, benzhydrid. Ester, bis (methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-ditert-butylbenzyl ester and the like. (F) Aryl ester residue which may have at least one suitable substituent: for example, phenyl ester, 4-
Chlorophenyl ester, tolyl ester, tert-
Butyl phenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, etc.
【0026】(g)その他:フタリジルエステルなど。(G) Others: phthalidyl ester, etc.
【0027】かかるカルボキシル基の保護基のうち好ま
しいものとしては、ニトロ基で置換されていてもよいフ
ェニル−低級アルキル基、および低級アルケニル基が挙
げられ、さらに好ましくは4−ニトロベンジル基が挙げ
られる。Among the protecting groups for the carboxyl group, preferred examples include a phenyl-lower alkyl group which may be substituted with a nitro group, and a lower alkenyl group, more preferred is the 4-nitrobenzyl group. .
【0028】さらに、「アミノ基の保護基」は、ペプチ
ド化学の分野においてアミノ基の保護基としてそれ自体
既知の任意のアミノ保護基であることができ、「水酸基
の保護基」としては例えばトリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、ジフェニ
ル−tert−ブチルシリル等のシリル基、ベンジルオ
キシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル等の置換また
は未置換のベンジルオキシカルボニル基、その他通常使
用される水酸基の保護基が包含される。Further, the “amino-protecting group” may be any amino-protecting group known per se as an amino-protecting group in the field of peptide chemistry, and examples of the “hydroxyl-protecting group” include trimethylsilyl. , Silyl groups such as triethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, diphenyl-tert-butylsilyl, etc., substituted or unsubstituted benzyloxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 2-nitrobenzyloxycarbonyl, etc. Included are commonly used hydroxyl protecting groups.
【0029】本発明により提供される式(I)で示され
る化合物の製造法を反応式で示せば以下の通りである。The method for producing the compound represented by the formula (I) provided by the present invention is shown in the following reaction scheme.
【0030】[0030]
【化20】 [Chemical 20]
【0031】式中、R1、R2およびX-は上記と同一の
意味を有する。In the formula, R 1 , R 2 and X − have the same meaning as described above.
【0032】以下に、上記製造工程をさらに詳しく説明
する。The above manufacturing process will be described in more detail below.
【0033】工程(a):工程(a)は、式(II)の
化合物においてR2で示される水酸基の保護基を脱離さ
せる工程である。 Step (a) : Step (a) is a step of eliminating the hydroxyl-protecting group represented by R 2 in the compound of formula (II).
【0034】例えば、R2がt−ブチルジメチルシリル
基のようなトリオルガノシリル基である保護基の除去
は、式(II)の化合物をメタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのような溶媒中で、
塩酸、硫酸、酢酸などのような酸の存在下に、0〜10
0℃の温度で0.5〜18時間酸性加水分解することに
より実施することができる。(上記「トリオルガノシリ
ル基」は、より好ましくは低級アルキル基、フェニル基
及びフェニルアルキル基から独立に選ばれる有機基で置
換されたシリル基を包含する。)なお、式(II)中に
おいてR1が4−ニトロベンジル基であり、R2がt−ブ
チルジメチルシリル基である次式(II−a)For example, removal of a protecting group in which R 2 is a triorganosilyl group such as a t-butyldimethylsilyl group is accomplished by removing the compound of formula (II) in a solvent such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran, dioxane and the like. ,
0-10 in the presence of acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, etc.
It can be carried out by acid hydrolysis at a temperature of 0 ° C. for 0.5 to 18 hours. (The above "triorganosilyl group" more preferably includes a silyl group substituted with an organic group independently selected from a lower alkyl group, a phenyl group and a phenylalkyl group.) In the formula (II), R The following formula (II-a), wherein 1 is a 4-nitrobenzyl group and R 2 is a t-butyldimethylsilyl group
【0035】[0035]
【化21】 [Chemical 21]
【0036】ならびに式(II−a)のt−ブチルジメ
チルシリル基を工程(a)の操作により脱離して得た次
式(III−a)In addition, the t-butyldimethylsilyl group of the formula (II-a) is eliminated by the operation of the step (a) to obtain the following formula (III-a).
【0037】[0037]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0038】の属化合物は、特に形晶形態で得ることが
できるものである。The genus compounds of the above are those which can be obtained especially in the form of morphology.
【0039】従来これら化合物はいずれも無晶形の粉末
でしか得られておらず、特に工業的な規模での製造を考
えた場合には化合物の純度が高く、取扱い易い結晶で単
離・精製されることは特に好ましいものであるといえ
る。Conventionally, all of these compounds have been obtained only as an amorphous powder, and when the production on an industrial scale is considered, the compound has a high purity and is isolated and purified by crystals which are easy to handle. This can be said to be particularly preferable.
【0040】したがって、本発明の別の目的は上記式
(II−a)および(III−a)で示される結晶形態
の化合物を提供することでもある。Therefore, another object of the present invention is also to provide a compound in the crystalline form represented by the above formulas (II-a) and (III-a).
【0041】工程(b):工程(b)は、式(III)
の化合物に金属触媒を作用させることによって環化せし
め、式(IV)で示されるオキソ化合物を得る工程であ
る。 Step (b) : The step (b) is represented by the formula (III)
This is a step of cyclizing the compound of formula (1) by reacting it with a metal catalyst to obtain an oxo compound of formula (IV).
【0042】該環化は、例えば式(III)の化合物を
不活性有機溶媒、たとえばメタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等
のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル等のエステ
ル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の
ハロゲン化炭化水素類;アセトン、ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンアセトニトリル等の中から適当に選択され
た溶媒、好適にはジクロロメタン、アセトンまたは酢酸
エチル中で、金属触媒、例えば、ビス(アセチルアセト
ナト)Cu(II)、硫酸銅、銅粉末、酢酸ロジウム
(II)、オクタン酸ロジウム(II)、または四酢酸
鉛等、好適にはオクタン酸ロジウム(II)の存在下
に、室温ないし溶媒の還流温度で1〜7時間撹拌するこ
とによって実施することができる。The cyclization is carried out, for example, by reacting the compound of formula (III) with an inert organic solvent such as methanol, ethanol, n.
-Alcohols such as propanol, isopropanol, n-butanol; Ethers such as tetrahydrofuran, diethyl ether, dioxane; Esters such as ethyl acetate; Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride; Acetone, dimethylformamide , Pyridineacetonitrile and the like, in a solvent appropriately selected, preferably dichloromethane, acetone or ethyl acetate, a metal catalyst such as bis (acetylacetonato) Cu (II), copper sulfate, copper powder, rhodium acetate (II), rhodium (II) octoate, lead tetraacetate or the like, preferably in the presence of rhodium (II) octoate, at room temperature to the reflux temperature of the solvent by stirring for 1 to 7 hours. it can.
【0043】上記金属触媒の使用量は特に臨界的ではな
く、適宜変更することができるが通常式(III)の化
合物に対して0.2〜2.0重量%、より好ましくは
0.5〜1.0重量%用いられる。これにより式(I
V)の化合物がほぼ定量的に生成する。The amount of the above-mentioned metal catalyst used is not particularly critical and can be appropriately changed, but is usually 0.2 to 2.0% by weight, more preferably 0.5 to 2.0% by weight based on the compound of the formula (III). 1.0% by weight is used. This gives the formula (I
The compound of V) is produced almost quantitatively.
【0044】反応終了後、反応混合物から溶媒を減圧下
に留去すれば、残渣として式(IV)の化合物を得るこ
ともできるが、該反応混合物を何ら処理することなく、
同じ反応容器内でそのまま次の工程に供する。After completion of the reaction, the solvent can be distilled off from the reaction mixture under reduced pressure to obtain the compound of formula (IV) as a residue, but without treating the reaction mixture,
It is directly used for the next step in the same reaction vessel.
【0045】工程(c):工程(c)において、式(I
V)の化合物のアシル化は、上記工程(b)で得られる
式(IV)の化合物を含む反応混合物あるいは濃縮残渣
として得られる式(IV)の化合物に、適当なアシル化
剤を作用させることにより行なうことができる。 Step (c) : In the step (c), the formula (I
Acylation of a compound of V) is carried out by reacting a reaction mixture containing the compound of formula (IV) obtained in the above step (b) or a compound of formula (IV) obtained as a concentrated residue with a suitable acylating agent. Can be done by.
【0046】このアシル化により上記式(IV)の化合
物のオキソ基における反応性誘導体である次式By this acylation, the following formula which is a reactive derivative at the oxo group of the compound of the above formula (IV)
【0047】[0047]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0048】式中、Raはアシル基を表わし、R1は前記
と同一の意味を有する、で示される化合物が生成する。In the formula, a compound represented by R a represents an acyl group and R 1 has the same meaning as described above is produced.
【0049】しかして、上記アシル化反応に使用しうる
アシル化剤としては次式Therefore, as an acylating agent that can be used in the above acylation reaction, the following formula
【0050】[0050]
【化24】 RaOH (VII) 式中、Raは上記と同一の意味を有する、で示される酸
もしくはその塩、又はその反応性誘導体、例えば次式Embedded image R a OH (VII) wherein R a has the same meaning as described above, or an acid or salt thereof represented by or a reactive derivative thereof, for example,
【0051】[0051]
【化25】 RaHal (VII‐1) 式中、Halはハロゲン原子を表わし、Raは上記と同
一の意味を有する、で示される酸ハロゲン化物や次式Embedded image R a Hal (VII-1) In the formula, Hal represents a halogen atom, and R a has the same meaning as described above, and an acid halide represented by
【0052】[0052]
【化26】 Ra 2O (VII‐2) 式中、Raは上記と同一の意味を有する、で示される酸
無水物等が挙げられる。Embedded image R a 2 O (VII-2) In the formula, R a has the same meaning as described above, and an acid anhydride represented by
【0053】ここで、Raによって示される「アシル
基」としては、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、複素
環アシル基および芳香族基または複素環基で置換された
脂肪族アシル基のようなカルボン酸、炭酸、スルホン
酸、燐酸およびカルバミン酸から誘導されるアシル基が
挙げられる。かかるアシル基の代表例を以下に掲げる
と、 (a)脂肪族アシル基:例えばホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソ
バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカノ
イル基のようなアルカノイル基;例えばメシル、エチル
スルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホ
ニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ペン
チルスルホニル、ヘキシルスルホニル等の低級アルキル
スルホニル基のようなアルキルスルホニル基;例えばメ
チルカルバモイル、エチルカルバモイル等のN−アルキ
ルカルバモイル基;例えばメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、第三級ブトキシカルボニル等の低級アルコキシカ
ルボニル基のようなアルコキシカルボニル基;例えばビ
ニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル等の低
級アルケニルオキシカルボニル基のようなアルケニルオ
キシカルボニル基;例えばアクリロイル、メタクリロイ
ル、クロトノイル等の低級アルケノイル基のようなアル
ケノイル基;例えばシクロプロパンカルボニル、シクロ
ペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル等のシ
クロ(低級)アルカンカルボニル基のようなシクロアル
カンカルボニル基;燐酸ジエチルのような燐酸ジ(低
級)アルキル基など。Here, the "acyl group" represented by R a is, for example, an aliphatic acyl group, an aromatic acyl group, a heterocyclic acyl group and an aliphatic acyl group substituted with an aromatic group or a heterocyclic group. Acyl groups derived from various carboxylic acids, carbonic acids, sulfonic acids, phosphoric acids and carbamic acids. Representative examples of such acyl groups are listed below: (a) Aliphatic acyl groups: alkanoyl groups such as lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, hexanoyl; Alkylsulfonyl groups such as lower alkylsulfonyl groups such as mesyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, pentylsulfonyl, hexylsulfonyl; N-alkylcarbamoyl groups such as methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl; Alkoxy groups such as lower alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, etc. Sicarbonyl group; alkenyloxycarbonyl group such as lower alkenyloxycarbonyl group such as vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl; alkenoyl group such as lower alkenoyl group such as acryloyl, methacryloyl, crotonoyl; eg cyclopropanecarbonyl, cyclo Cycloalkanecarbonyl groups such as cyclo (lower) alkanecarbonyl groups such as pentanecarbonyl and cyclohexanecarbonyl; di (lower) alkyl groups such as diethyl phosphate.
【0054】(b)芳香族アシル基:例えばベンゾイ
ル、トルオイル、キシロイル等のアロイル基;例えばN
−フェニルカルバモイル、N−トリルカルバモイル、N
−ナフチルカルバモイル等のN−アリールカルバモイル
基;例えばベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンス
ルホニル基;燐酸ジフェニル等の燐酸ジアリール基な
ど。(B) Aromatic acyl group: an aroyl group such as benzoyl, toluoyl, xyloyl;
-Phenylcarbamoyl, N-tolylcarbamoyl, N
-N-arylcarbamoyl groups such as naphthylcarbamoyl; arenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl and tosyl; diaryl phosphate groups such as diphenyl phosphate.
【0055】(c)複素環アシル基:例えばフロイル、
テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、チアゾリ
ルカルボニル、チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリ
ルカルボニル等の複素環カルボニル基など。(C) Heterocyclic acyl group: for example, furoyl,
Heterocyclic carbonyl groups such as thenoyl, nicotinoyl, isonicotinoyl, thiazolylcarbonyl, thiadiazolylcarbonyl and tetrazolylcarbonyl.
【0056】(d)芳香族基で置換された脂肪族アシル
基:例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル、
フェニルヘキサノイル等のフェニル(低級)アルカノイ
ル基のようなアラルカノイル基;例えばベンジルオキシ
カルボニル、フエネチルオキシカルボニル等のフェニル
(低級)アルコキシカルボニル基のようなアラルコキシ
カルボニル基;例えばフエノキシアセチル、フエノキシ
プロピオニル等のフエノキシ(低級)アルカノイル基の
ようなアリールオキシアルカノイル基など。(D) Aliphatic acyl group substituted with an aromatic group: for example, phenylacetyl, phenylpropionyl,
Aralkanoyl groups such as phenyl (lower) alkanoyl groups such as phenylhexanoyl; Aralkoxycarbonyl groups such as phenyl (lower) alkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc .; For example, phenoxyacetyl Aryloxyalkanoyl groups such as phenoxy (lower) alkanoyl groups such as phenoxypropionyl and the like.
【0057】(e)複素環基で置換された脂肪族アシル
基:例えばチエニルアセチル、イミダゾリルアセチル、
フリルアセチル、テトラゾリルアセチル、チアゾリルア
セチル、チアジアゾリルアセチル、チエニルプロピオニ
ル、チアジアゾリルプロピオニル等の複素環(低級)ア
ルカノイル基のような複素環アルカノイル基など。(E) Aliphatic acyl group substituted with a heterocyclic group: for example, thienylacetyl, imidazolylacetyl,
Heterocyclic alkanoyl groups such as heterocyclic (lower) alkanoyl groups such as furylacetyl, tetrazolylacetyl, thiazolylacetyl, thiadiazolylacetyl, thienylpropionyl and thiadiazolylpropionyl.
【0058】これらのアシル基はさらに、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等の低級アルキル基;例えば塩素、臭素、
沃素、フッ素のようなハロゲン;例えばメトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコキシ基;例え
ばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピ
ルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の
低級アルキルチオ基;ニトロ基等のような適当な置換基
1個以上で置換されていてもよく、そのような置換基を
有する好ましいアシル基としては、例えばクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、トリフルオロ
アセチル等のモノ(またはジまたはトリ)ハロアルカノ
イル基;例えばクロロメトキシカルボニル、ジクロロメ
トキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカ
ルボニル等のモノ(またはジまたはトリ)ハロアルコキ
シカルボニル基;例えばニトロベンジルオキシカルボニ
ル、クロロベンジルオキシカルボニル、メトキシベンジ
ルオキシカルボニル等のニトロ(またはハロまたは低級
アルコキシ)アラルコキシカルボニル基;例えばフルオ
ロメチルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル、ト
リフルオロメチルスルホニル、トリクロロメチルスルホ
ニル等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)アル
キルスルホニル基等が挙げられる。These acyl groups further include lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl; chlorine, bromine, and the like.
Halogen such as iodine and fluorine; lower alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy; lower alkylthio such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio Group; may be substituted with one or more suitable substituents such as nitro group, and preferable acyl groups having such a substituent include, for example, chloroacetyl, bromoacetyl, dichloroacetyl, trifluoroacetyl, etc. A mono (or di or tri) haloalkanoyl group; a mono (or di or tri) haloalkoxycarbonyl group such as chloromethoxycarbonyl, dichloromethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl; Nitro (or halo or lower alkoxy) aralkoxycarbonyl groups such as nitrobenzyloxycarbonyl, chlorobenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl and the like; such as fluoromethylsulfonyl, difluoromethylsulfonyl, trifluoromethylsulfonyl, trichloromethylsulfonyl, etc. A mono (or di or tri) halo (lower) alkylsulfonyl group and the like can be mentioned.
【0059】アシル化剤としては、上記アシル基を式
(IV)の化合物に導入しうるものが用いられるが、一
般に、上記した式(VII−1)で示される酸ハロゲン
化物、または式(VII−2)で示される酸無水物が好
ましく用いられる。かかる酸ハロゲン化物の代表例とし
ては、例えば塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−トルエ
ンスルホニル、塩化4−ニトロベンゼンスルホニル、塩
化4−ブロモベンゼンスルホニル等のアレーンスルホニ
ルハロゲン化物:例えば塩化メタンスルホニル、塩化エ
タンスルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル等
のさらにハロゲンを有していてもよい低級アルカンスル
ホニルハロゲン化物;例えばクロロ燐酸ジエチル等のハ
ロ燐酸ジ(低級)アルキル;例えばクロロ燐酸ジフェニ
ル等のハロ燐酸ジアリールなどが挙げられる。As the acylating agent, those which can introduce the above acyl group into the compound of the formula (IV) are used. Generally, the acid halide represented by the above formula (VII-1) or the formula (VII) is used. An acid anhydride represented by -2) is preferably used. Typical examples of such acid halides include arenesulfonyl halides such as benzenesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, 4-nitrobenzenesulfonyl chloride, 4-bromobenzenesulfonyl chloride: methanesulfonyl chloride, ethanesulfonyl chloride, chloride. Examples thereof include lower alkanesulfonyl halides which may further have halogen such as trifluoromethanesulfonyl; di (lower) alkyl halophosphates such as diethyl chlorophosphate; diaryl halophosphates such as diphenyl chlorophosphate.
【0060】また、酸無水物の代表例としては、例え
ば、無水ベンゼンスルホン酸、無水p−トルエンスルホ
ン酸、無水4−ニトロベンゼンスルホン酸等のアレーン
スルホン酸無水物;例えば無水メタンスルホン酸、無水
エタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸
等のハロゲンを有していてもよい低級アルカンスルホン
酸無水物などが挙げられる。Typical examples of the acid anhydrides are arenesulfonic acid anhydrides such as anhydrous benzenesulfonic acid, anhydrous p-toluenesulfonic acid, and anhydrous 4-nitrobenzenesulfonic acid; for example, anhydrous methanesulfonic acid and anhydrous ethane. Examples thereof include lower alkane sulfonic acid anhydrides which may have a halogen such as sulfonic acid and trifluoromethanesulfonic anhydride.
【0061】かかるアシル化剤の中で、より好ましいも
のとしては、クロロ燐酸ジエチルおよびクロロ燐酸ジフ
ェニル等が挙げられる。Among such acylating agents, more preferable ones include diethyl chlorophosphate and diphenyl chlorophosphate.
【0062】式(IV)の化合物のアシル化反応におい
て、アシル化剤として式(VI)で示される遊離の酸ま
たはその塩を使用する場合には、常用の縮合剤の存在下
に反応を行うのが好ましい。かかる縮合剤の代表例とし
ては以下のものが挙げられる: (a)カルボジイミド化合物:例えばN,N′−ジエチ
ルカルボジイミド、N、N′−ジイソプロピルカルボジ
イミド、N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、
N−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジ
イミド、N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルア
ミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N−エチル−
N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
など。In the acylation reaction of the compound of formula (IV), when a free acid represented by formula (VI) or a salt thereof is used as an acylating agent, the reaction is carried out in the presence of a conventional condensing agent. Is preferred. Representative examples of such condensing agents include: (a) carbodiimide compounds: for example, N, N'-diethylcarbodiimide, N, N'-diisopropylcarbodiimide, N, N'-dicyclohexylcarbodiimide,
N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N '-(4-diethylaminocyclohexyl) carbodiimide, N-ethyl-
N '-(3-dimethylaminopropyl) carbodiimide and the like.
【0063】(b)カルボニルジイミダゾール化合物:
例えばN,N′−カルボニルジイミダゾール、N,N′
−カルボニルビス(2−メチルイミダゾール)など。(B) Carbonyldiimidazole compound:
For example, N, N'-carbonyldiimidazole, N, N '
-Carbonylbis (2-methylimidazole) and the like.
【0064】(c)ケテンイミン化合物:例えばペンタ
メチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン、ジフェニ
ルケテン−N−シクロヘキシルイミンなど。(C) Ketenimine compound: For example, pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine, diphenylketene-N-cyclohexylimine and the like.
【0065】(d)その他:例えばエトキシアセチレ
ン、1−アルコキシ−1−クロロエチレン、ポリ燐酸エ
チル、ポリ燐酸イソプロピル、オキシ塩化燐、三塩化
燐、塩化チオニル、塩化オキザリル、2−エチル−7−
ヒドロキシベンズイソキサゾリウム塩、2−エチル−5
−(m−スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒドロキ
シド分子内塩、1−(p−クロロベンゼンスルホニルオ
キシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール、およ
びN,N−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホス
ゲンあるいはオキシ塩化燐等との反応によって調製した
所謂ビルスマイヤー試薬など。(D) Others: For example, ethoxyacetylene, 1-alkoxy-1-chloroethylene, ethyl polyphosphate, isopropyl polyphosphate, phosphorus oxychloride, phosphorus trichloride, thionyl chloride, oxalyl chloride, 2-ethyl-7-.
Hydroxybenzisoxazolium salt, 2-ethyl-5
-(M-sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt, 1- (p-chlorobenzenesulfonyloxy) -6-chloro-1H-benzotriazole, and N, N-dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene or oxy. So-called Vilsmeier reagent prepared by reaction with phosphorus chloride and the like.
【0066】また、式(IV)の化合物のアシル化反応
は、好適には、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属;例えばカルシウム等のアルカリ土類
金属;例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化
物;例えば水素化カルシウム等のアルカリ土類金属水素
化物;例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物;例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩;例えば炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;例
えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム第三級ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシ
ド;例えば酢酸ナトリウム等のアルカン酸アルカリ金属
塩;例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩;例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、N,N−ジイソプロピル−N−エチルアミ
ン等のトリ(低級)アルキルアミン;例えばピリジン、
ピコリン、ルチジン、N,N−ジメチルアミノピリジン
のようなN,N−ジ(低級)アルキルアミノピリジン等
のピリジン化合物;キノリン;例えばN−メチルモルホ
リン等のN−低級アルキルモルホリン;例えばN,N−
ジメチルベンジルアミン等のN,N−ジ(低級)アルキ
ルベンジルアミン等のような有機塩基または無機塩基の
存在下の行うことができる。Further, the acylation reaction of the compound of the formula (IV) is preferably carried out by an alkali metal such as lithium, sodium or potassium; an alkaline earth metal such as calcium; an alkali metal hydrogen such as sodium hydride. Alkaline earth metal hydrides such as calcium hydride; Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; Alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; Alkali metal hydrogen carbonate such as potassium hydrogen; Alkali metal alkoxide such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tertiary butoxide; Alkali acid alkali metal salt such as sodium acetate; Alkali such as magnesium carbonate and calcium carbonate Earth metal carbonate Such as trimethylamine, triethylamine, N, N-diisopropyl -N- tri ethylamine and the like (lower) alkylamine; for example pyridine,
Pyridine compounds such as picoline, lutidine, N, N-di (lower) alkylaminopyridines such as N, N-dimethylaminopyridine; quinoline; N-lower alkylmorpholines such as N-methylmorpholine; eg N, N-
It can be carried out in the presence of an organic or inorganic base such as N, N-di (lower) alkylbenzylamine such as dimethylbenzylamine.
【0067】上記アシル化は通常約−20℃ないし約4
0℃の比較的低温で実施することができる。The above acylation is usually from about -20 ° C to about 4 ° C.
It can be carried out at a relatively low temperature of 0 ° C.
【0068】上記反応におけるアシル化剤および塩基の
使用量は特に臨界的なものではなく、反応条件等に応じ
て適宜変えることができるが、アシル化剤も塩基も通
常、出発原料である式(III)の化合物1モルに対し
て各々1〜2モル、好ましくは1〜1.5モルの割合で
用いることができる。これにより式(VI)の化合物が
ほぼ定量的に生成する。The amounts of the acylating agent and the base used in the above reaction are not particularly critical and can be appropriately changed depending on the reaction conditions and the like, but the acylating agent and the base are usually the starting materials of the formula ( It can be used in a proportion of 1 to 2 mol, preferably 1 to 1.5 mol, per 1 mol of the compound of III). This produces a compound of formula (VI) almost quantitatively.
【0069】このアシル化反応によって得られる式(V
I)の化合物は反応混合物から単離することなく、同一
反応容器内で次式The formula (V
The compound of I) was prepared in the same reaction vessel without isolation from the reaction mixture.
【0070】[0070]
【化27】 [Chemical 27]
【0071】式中、X-は前記と同一の意味を有する、
で示されるメルカプトピラゾロトリアゾリウム又はその
反応性誘導体を反応させることにより、目的化合物であ
る式(I)で示されるカルバペネム化合物を得ることが
できる。Wherein X − has the same meaning as defined above,
By reacting the mercaptopyrazolotriazolium represented by or the reactive derivative thereof, the carbapenem compound represented by the formula (I) as the target compound can be obtained.
【0072】上記式(VI)の化合物と式(V)のメル
カプト化合物又はその反応性誘導体との反応は、一般
に、前記アシル化反応において述べたと同様の有機塩基
または無機塩基の存在下に、約−40℃ないし室温程度
の温度で行なうことができる。式(V)のメルカプト化
合物又はその反応性誘導体および上記塩基の使用量は臨
界的なものではないが、通常、式(III)の化合物1
モルに対して1〜2モル、好ましくは1.0〜1.5モ
ルの割合で用いることができる。The reaction of a compound of formula (VI) above with a mercapto compound of formula (V) or a reactive derivative thereof is generally carried out in the presence of an organic or inorganic base similar to those mentioned above in the acylation reaction. It can be carried out at a temperature of about -40 ° C to room temperature. The amount of the mercapto compound of the formula (V) or its reactive derivative and the above-mentioned base used is not critical, but usually the compound 1 of the formula (III) 1
It can be used in a proportion of 1 to 2 mol, preferably 1.0 to 1.5 mol, based on mol.
【0073】かくして得られる式(I)の化合物は、そ
れ自体既知の分離、精製法により単離することができ
る。The compound of formula (I) thus obtained can be isolated by separation and purification methods known per se.
【0074】次に、化合物(I)の合成原料となり得る
化合物(II−a)および(III−a)の結晶につい
て詳細に説明する。Next, the crystals of the compounds (II-a) and (III-a) which can be the starting materials for the synthesis of the compound (I) will be described in detail.
【0075】本発明で提供される式(II−a)および
(III−a)で示される化合物は、例えば次式The compounds represented by the formulas (II-a) and (III-a) provided in the present invention are represented by the following formula
【0076】[0076]
【化28】 [Chemical 28]
【0077】式中、Where:
【0078】[0078]
【化29】 [Chemical 29]
【0079】はt−ブチルジメチルシリル基を表わす、
で示される化合物から例えば後述の実施例3および4の
ような方法で製造することができる。製造された化合物
(II−a)は例えば酢酸エチルとn−ヘキサンの混液
から、化合物(III−a)は例えば酢酸エチルをn−
ヘキサンの混液、あるいは酢酸エチルとイソプロピルエ
ーテルの混液から再結晶させることができる。Represents a t-butyldimethylsilyl group,
It can be produced from the compound shown by the following methods, for example, in Examples 3 and 4. The produced compound (II-a) is, for example, a mixed solution of ethyl acetate and n-hexane, and the compound (III-a) is, for example, ethyl acetate
It can be recrystallized from a mixed solution of hexane or a mixed solution of ethyl acetate and isopropyl ether.
【0080】以上の如く製造されうる本発明の化合物
(II−a)および(III−a)は偏光顕微鏡による
観察、および粉末X線回折分析によって結晶であること
が確認されており、特に粉末X線回折分析において特徴
的ピークを有することによって同定される。そのピーク
パターンを下表(I)および(II)に示す。The compounds (II-a) and (III-a) of the present invention which can be produced as described above have been confirmed to be crystals by observation with a polarization microscope and powder X-ray diffraction analysis. It is identified by having a characteristic peak in the line diffraction analysis. The peak patterns are shown in Tables (I) and (II) below.
【0081】[0081]
【表1】 [Table 1]
【0082】[0082]
【表2】 本発明で提供される式(II−a)および式(III−
a)で示される化合物の結晶は、固体安定性において無
晶形物に比較しはるかに優れている。したがって、化合
物(I)の工業的合成に際しては保存性・輸送性の高い
有利な原料として利用することができる。[Table 2] The formula (II-a) and the formula (III-
The crystals of the compound represented by a) are far superior in solid stability to the amorphous form. Therefore, it can be used as an advantageous raw material having high storage stability and transportability in the industrial synthesis of compound (I).
【0083】また、本発明の方法により合成された化合
物(I)は、式中R1で表わされるカルボキシル基の保
護基を脱離させることにより、抗菌剤として有用な下式
(A)Further, the compound (I) synthesized by the method of the present invention has the following formula (A) useful as an antibacterial agent by removing the protective group of the carboxyl group represented by R 1 in the formula.
【0084】[0084]
【化30】 [Chemical 30]
【0085】で示される化合物に導くことができる。It is possible to obtain a compound represented by:
【0086】以下に、本発明を実施例により具体的に説
明するが、本発明はこれらの記載により何ら限定される
ものではない。Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these descriptions.
【0087】なお、本明細書の以下の記載においては次
の略号を使用する。In the following description of this specification, the following abbreviations are used.
【0088】[0088]
【化31】 [Chemical 31]
【0089】: t−ブチルジメチルシリル基 PNB: 4−ニトロベンジル基T-butyldimethylsilyl group PNB: 4-nitrobenzyl group
【0090】[0090]
【実施例】実施例1 [Example] Example 1
【0091】[0091]
【化32】 [Chemical 32]
【0092】濃塩酸3.02ml(29.7mmol)
とメタノール50mlの混液に、25℃下化合物(II
−a)5.0g(9.9mmol)を加え撹拌した。2
時間後炭酸水素ナトリウム5.00g(59.5mmo
l)、ジクロロメタン50ml及び飽和食塩水50ml
で抽出した。得られた有機層全てを混合し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後溶媒を留去した。3.02 ml (29.7 mmol) of concentrated hydrochloric acid
And 50 ml of methanol in a mixed solution at 25 ° C.
-A) 5.0 g (9.9 mmol) was added and stirred. Two
After hours, sodium hydrogencarbonate 5.00 g (59.5 mmo
l), dichloromethane 50 ml and saturated saline 50 ml
It was extracted with. All the obtained organic layers were mixed, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off.
【0093】次いで、得られた残渣をジクロロメタン5
1mlに溶解させ、オクタン酸ロジウム(II)31m
g(0.0398mmol)を加え加熱還流した。7時
間後、反応液を−15℃に冷却し、クロロ燐酸ジフェニ
ル2.95g(10.8mmol)を加え、ジイソプロ
ピルエチルアミン2.32ml(13.0mmol)及
び4−ジメチルアミノピリジン24mg(0.193m
mol)のジクロロメタン溶液(ジクロロメタン20m
l)を0.5時間かけて滴下し、さらに0.5時間撹拌
した。Then, the obtained residue was mixed with dichloromethane 5
Dissolve in 1 ml, rhodium (II) octanoate 31m
g (0.0398 mmol) was added and the mixture was heated to reflux. After 7 hours, the reaction solution was cooled to −15 ° C., 2.95 g (10.8 mmol) of diphenyl chlorophosphate was added, and 2.32 ml (13.0 mmol) of diisopropylethylamine and 24 mg (0.193 m) of 4-dimethylaminopyridine.
mol) in dichloromethane (20m dichloromethane)
1) was added dropwise over 0.5 hour, and the mixture was further stirred for 0.5 hour.
【0094】反応終了後溶媒を留去し、アセトン12m
l、アセトニトリル12ml及びジメチルホルムアミド
1.2mlを加え溶解させた。次いで、この混液に、7
℃にて6,7−ジヒドロ−6−メルカプト−5H−ピラ
ゾロ[1,2−a][1.2.4]トリアゾリウムクロ
ライド1.84g(10.44mmol)、ジイソプロ
ピルエチルアミン2.32ml(13.04mmo
l)、および種晶として化合物(I)48mgを順次加
え、4〜7℃で2時間撹拌し、さらにジクロロメタン3
0mlを加え1時間撹拌した。反応終了後、析出結晶を
素早くろ取し、ジクロロメタン2mlとアセトン2ml
の混液で2回、ジクロロメタン4mlで1回洗浄後、真
空乾燥した。After completion of the reaction, the solvent was distilled off, and acetone 12m was added.
1, 12 ml of acetonitrile and 1.2 ml of dimethylformamide were added and dissolved. Then add 7 to this mixture.
1.84 g (10.44 mmol) of 6,7-dihydro-6-mercapto-5H-pyrazolo [1,2-a] [1.2.4] triazolium chloride, 2.32 ml of diisopropylethylamine (13 .04 mmo
l) and 48 mg of the compound (I) as seed crystals were sequentially added, and the mixture was stirred at 4 to 7 ° C. for 2 hours, and dichloromethane 3
0 ml was added and stirred for 1 hour. After the reaction was completed, the precipitated crystals were quickly collected by filtration, 2 ml of dichloromethane and 2 ml of acetone.
The mixture was washed twice with a mixed solution of 4 times and once with 4 ml of dichloromethane, and then dried under vacuum.
【0095】結果、化合物(I)を5.88g(収率7
0.0%)得た。As a result, 5.88 g of compound (I) (yield 7
0.0%) was obtained.
【0096】1H−NMR(CDCl3)δ: 1.32
(d,6H,J=6.0Hz)、3.35(m,1
H)、3.65(m,1H)、4.20(m,1H)、
4.42(m,1H)、4.60〜4.90(m,2
H)、5.1〜5.3(m,3H)、5.36(AB
q,2H,J=13.7Hz)、7.67(d,2H,
J=8.5Hz)、8.21(d,2H,J=8.5H
z)、9.07(s,1H)、9.08(s,1H)実施例2 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.32
(D, 6H, J = 6.0 Hz), 3.35 (m, 1
H), 3.65 (m, 1H), 4.20 (m, 1H),
4.42 (m, 1H), 4.60-4.90 (m, 2)
H), 5.1 to 5.3 (m, 3H), 5.36 (AB
q, 2H, J = 13.7 Hz), 7.67 (d, 2H,
J = 8.5 Hz), 8.21 (d, 2H, J = 8.5H)
z), 9.07 (s, 1H), 9.08 (s, 1H) Example 2
【0097】[0097]
【化33】 [Chemical 33]
【0098】化合物(III−a)585mg(1.5
mmol)をジクロロメタン14mlに溶解し、オクタ
ン酸ロジウム(II)3.5mg(0.0398mmo
l)を加え、3時間還流した。反応液を−15℃に冷却
し、クロロ燐酸ジフェニル443mg(1.65mmo
l)を加え、続いてジイソプロピルエチルアミン256
mg(1.98mmol)及び4−ジメチルアミノピリ
ジン3.7mg(0.03mmol)のジクロロメタン
溶液(ジクロロメタン3ml)を30分間かけて滴下し
た。この反応液をさらに、30分撹拌後溶媒を留去し、
残渣にアセトニトリル1.9ml、アセトン1.9m
l、ジメチルホルムアミド0.2mlを加えて溶解し
た。次にこの溶液に、氷冷下6,7−ジヒドロ−6−メ
ルカプト−5H−ピラゾロ[1,2−a][1.2.
4]トリアゾリウムクロライド373mg(2.1mm
ol)、ジイソプロピルエチルアミン340mg(2.
63mmol)および種晶として化合物(I)5mgを
添加した。2時間撹拌後、ジクロロメタン4.8mlを
加えさらに1時間撹拌した。析出した結晶を集め、少量
のジクロロメタン/アセトン=1/1混液とジクロロメ
タンで順次洗浄した後、真空乾燥を行ない化合物(I)
598mg(収率76.5%)を得た。ここで得られた
化合物のNMRデーターは実施例1で得られたものと完
全に一致した。585 mg (1.5) of compound (III-a)
mmol) was dissolved in 14 ml of dichloromethane, and rhodium (II) octanoate (3.5 mg) (0.0398 mmo)
1) was added and the mixture was refluxed for 3 hours. The reaction solution was cooled to −15 ° C., and diphenyl chlorophosphate 443 mg (1.65 mmo
l) was added, followed by diisopropylethylamine 256
A dichloromethane solution (dichloromethane 3 ml) of mg (1.98 mmol) and 4-dimethylaminopyridine 3.7 mg (0.03 mmol) was added dropwise over 30 minutes. The reaction solution was further stirred for 30 minutes and then the solvent was distilled off,
1.9 ml of acetonitrile and 1.9 m of acetone are added to the residue.
1 and 0.2 ml of dimethylformamide were added and dissolved. Next, to this solution, under ice cooling, 6,7-dihydro-6-mercapto-5H-pyrazolo [1,2-a] [1.2.
4] Triazolium chloride 373 mg (2.1 mm
ol), 340 mg of diisopropylethylamine (2.
63 mmol) and 5 mg of compound (I) as seed crystals were added. After stirring for 2 hours, 4.8 ml of dichloromethane was added and the mixture was further stirred for 1 hour. The precipitated crystals were collected, washed successively with a small amount of a mixed solution of dichloromethane / acetone = 1/1 and dichloromethane, and then vacuum dried to give compound (I).
598 mg (76.5% yield) was obtained. The NMR data of the compound obtained here were completely in agreement with those obtained in Example 1.
【0099】実施例3 (化合物(II‐a)の合成と
結晶化) Example 3 (Synthesis and Crystallization of Compound (II-a))
【0100】[0100]
【化34】 [Chemical 34]
【0101】クロル炭酸エチル156.2g(1.44
mol)を乾燥ジクロロメタン2740mlに溶解し、
約−20℃に冷却した。化合物(VII)361.8g
(1.20mol)とトリエチルアミン157.9g
(1.56mol)のジクロロメタン溶液(ジクロロメ
タン915ml)を前記の溶液中に、反応液の温度を約
−15℃に保ちながら滴加し、反応液を0°〜5℃にて
30分間撹拌した。続いてイミダゾール114.4g
(1.68mol)を乾燥ジクロロメタン730mlに
加えた溶液を、0°〜10℃にて前記反応液に添加し、
0°〜5℃にてさらに30分間撹拌して化合物(VII
I)の溶液を得た。156.2 g of ethyl chlorocarbonate (1.44
mol) in 2740 ml of dry dichloromethane,
Cooled to about -20 ° C. 361.8 g of compound (VII)
(1.20 mol) and triethylamine 157.9 g
A solution of (1.56 mol) in dichloromethane (915 ml of dichloromethane) was added dropwise to the above solution while maintaining the temperature of the reaction solution at about -15 ° C, and the reaction solution was stirred at 0 ° to 5 ° C for 30 minutes. Then 114.4 g of imidazole
A solution of (1.68 mol) in 730 ml of dry dichloromethane was added to the reaction solution at 0 ° to 10 ° C,
The compound (VII
A solution of I) was obtained.
【0102】別に、マグネシウムマロネート溶液を以下
の操作により調整した。p−ニトロベンジルマロネート
488.0g(2.04mol)を乾燥ジクロロメタン
2740mlに懸濁し、窒素雰囲気下、塩化マグネシウ
ム97.1g(1.02mol)を添加した。さらに、
トリエチルアミン206.4g(2.04mol)を乾
燥ジクロロメタン183mlで希釈した溶液を、反応液
の温度を0°〜10℃に保ちならが添加し、その温度を
保ったまま1時間、さらに室温にもどして30分撹拌し
た。Separately, a magnesium malonate solution was prepared by the following procedure. 488.0 g (2.04 mol) of p-nitrobenzyl malonate was suspended in 2740 ml of dry dichloromethane, and 97.1 g (1.02 mol) of magnesium chloride was added under a nitrogen atmosphere. further,
A solution prepared by diluting 206.4 g (2.04 mol) of triethylamine with 183 ml of dry dichloromethane was added while keeping the temperature of the reaction solution at 0 ° to 10 ° C, and the temperature was kept at that temperature for 1 hour and further returned to room temperature. Stir for 30 minutes.
【0103】この様にして合成したマグネシウムマロネ
ート溶液を、前記化合物(VIII)の溶液に加え、6
0°〜65℃で2.5時間反応させた。The magnesium malonate solution synthesized in this manner was added to the solution of the compound (VIII) to give 6
The reaction was carried out at 0 ° to 65 ° C for 2.5 hours.
【0104】反応終了後、反応液を室温まで冷却し、1
N HCl、水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液および
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥後ろ過し、化合物(IX)の溶液を得た。After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and
It was washed successively with NH Cl, water, 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then filtered to obtain a solution of compound (IX).
【0105】この溶液にp−ドデシルベンゼンスルホニ
ルアジド472.4g(1.34mol)のジクロロメ
タン溶液(ジクロロメタン890ml)を加え、続いて
窒素雰囲気下、15°〜25℃にて撹拌しながらトリエ
チルアミン31.4g(0.31mol)を加えた後、
その温度を保ったまま1.5時間撹拌した。To this solution was added 472.4 g (1.34 mol) of p-dodecylbenzenesulfonyl azide in dichloromethane (890 ml), and subsequently 31.4 g of triethylamine with stirring at 15 ° to 25 ° C. under a nitrogen atmosphere. After adding (0.31 mol),
The mixture was stirred for 1.5 hours while maintaining the temperature.
【0106】反応後、濃縮し、残渣にn−ヘキサンを加
えて結晶化させた。結晶をろ取後真空乾燥し、化合物
(II−a)の結晶455.6g(収率75.3%)を
得た。この結晶は偏光顕微鏡で観察した結果偏光性をも
ち、結晶であることが確認された。After the reaction, the reaction mixture was concentrated and n-hexane was added to the residue for crystallization. The crystals were collected by filtration and dried in vacuum to obtain 455.6 g (yield 75.3%) of crystals of compound (II-a). As a result of observing this crystal with a polarization microscope, it was confirmed that the crystal had a polarization property and was a crystal.
【0107】化合物(II−a)の再結晶は以下の方法
で行った。すなわち、前述の方法で得られた化合物(I
I−a)の結晶17.4gを酢酸エチル174mlに溶
解後約50mlまで濃縮し、残渣にn−ヘキサン200
mlを加えて晶出後ろ過した。結晶をn−ヘキサン20
ml×2で洗浄後真空乾燥し、化合物(II−a)の再
結々晶11.3g(収率64.9%)を得た。The compound (II-a) was recrystallized by the following method. That is, the compound (I
The crystals of Ia) (17.4 g) were dissolved in ethyl acetate (174 ml) and concentrated to about 50 ml.
After adding ml, the solution was crystallized and filtered. Crystals are n-hexane 20
After washing with ml × 2, vacuum drying was performed to obtain 11.3 g (yield 64.9%) of recrystallized crystals of compound (II-a).
【0108】又、再結々晶について粉末X線回折分析を
行い、前述の表(I)に記載した特徴的ピークを持つこ
とを確認した。Further, powder X-ray diffraction analysis was conducted on the recrystallized crystals, and it was confirmed that they had the characteristic peaks shown in Table (I) above.
【0109】実施例4(化合物(III−a)の合成と
結晶化) Example 4 (Synthesis and Crystallization of Compound (III-a))
【0110】[0110]
【化35】 [Chemical 35]
【0111】クロル炭酸エチル156.2g(1.44
mol)を乾燥ジクロロメタン2740mlに溶解し、
約−20℃に冷却した。化合物(VII)361.8g
(1.20mol)とトリエチルアミン157.9g
(1.56mol)のジクロロメタン溶液(ジクロロメ
タン915ml)を前記の溶液中に、反応液の温度を約
−15℃に保ちながら滴加し、反応液を0°〜5℃にて
30分間撹拌した。続いてイミダゾール114.4g
(1.68mol)を乾燥ジクロロメタン730mlに
加えた溶液を、0°〜10℃にて前記反応液に添加し、
0°〜5℃にてさらに30分間撹拌して化合物(VII
I)の溶液を得た。156.2 g of ethyl chlorocarbonate (1.44
mol) in 2740 ml of dry dichloromethane,
Cooled to about -20 ° C. 361.8 g of compound (VII)
(1.20 mol) and triethylamine 157.9 g
A solution of (1.56 mol) in dichloromethane (915 ml of dichloromethane) was added dropwise to the above solution while maintaining the temperature of the reaction solution at about -15 ° C, and the reaction solution was stirred at 0 ° to 5 ° C for 30 minutes. Then 114.4 g of imidazole
A solution of (1.68 mol) in 730 ml of dry dichloromethane was added to the reaction solution at 0 ° to 10 ° C,
The compound (VII
A solution of I) was obtained.
【0112】別に、マグネシウムマロネート溶液を以下
の操作により調整した。p−ニトロベンジルマロネート
488.0g(2.04mol)を乾燥ジクロロメタン
2740mlに懸濁し、窒素雰囲気下、塩化マグネシウ
ム97.1g(1.02mol)を添加した。さらに、
トリエチルアミン206.4g(2.04mol)を乾
燥ジクロロメタン183mlで希釈した溶液を、反応液
の温度を0°〜10℃に保ちながら添加し、その温度を
保ったまま1時間、さらに室温にもどして30分撹拌し
た。Separately, a magnesium malonate solution was prepared by the following procedure. 488.0 g (2.04 mol) of p-nitrobenzyl malonate was suspended in 2740 ml of dry dichloromethane, and 97.1 g (1.02 mol) of magnesium chloride was added under a nitrogen atmosphere. further,
A solution obtained by diluting 206.4 g (2.04 mol) of triethylamine with 183 ml of dry dichloromethane was added while maintaining the temperature of the reaction solution at 0 ° to 10 ° C, and the temperature was kept for 1 hour, and the temperature was further returned to room temperature. Stir for minutes.
【0113】この様にして合成したマグネシウムマロネ
ート溶液を、前記化合物(VIII)の溶液に加え、6
0°〜65℃で2.5時間反応させた。The magnesium malonate solution thus synthesized was added to the solution of the compound (VIII), and
The reaction was carried out at 0 ° to 65 ° C for 2.5 hours.
【0114】反応終了後、反応液を室温まで冷却し、1
N HCl、水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液および
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム
で乾燥後ろ過し、化合物(IX)の溶液を得た。After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature and
It was washed successively with NH Cl, water, 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The organic layer was dried over magnesium sulfate and then filtered to obtain a solution of compound (IX).
【0115】この溶液にp−ドデシルベンゼンスルホニ
ルアジド472.4g(1.34mol)のジクロロメ
タン溶液(ジクロロメタン890ml)を加え、窒素雰
囲気下、15°〜25℃にて撹拌しながらトリエチルア
ミン31.4g(0.31mol)を加えた後、その温
度を保ったまま1.5時間撹拌した。A dichloromethane solution (890 ml of dichloromethane) of 472.4 g (1.34 mol) of p-dodecylbenzenesulfonyl azide was added to this solution, and 31.4 g (0) of triethylamine was stirred with stirring at 15 ° to 25 ° C. under a nitrogen atmosphere. (.31 mol) was added, and the mixture was stirred for 1.5 hours while maintaining the temperature.
【0116】反応液を濃縮後、得られた残基(化合物
(II−a))にメタノール5180mlを加えて溶解
し、濃塩酸267ml(3.25mol)を加えて室温
(20〜25℃)で1.5〜2.5時間撹拌した。反応
終了後、炭酸水素ナトリウムの粉末を加えて中和し、ジ
クロロメタン5180mlおよび飽和食塩水5180m
lを加えて撹拌した。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後ろ過し、濃縮した。酢酸エチルを加えてさらに減
圧濃縮し、得られた残留物に酢酸エチル675mlを加
えて溶解させた。この溶液を室温で1時間撹拌後、n−
ヘキサンを加えて結晶化させ、化合物(III−a)の
結晶339g(収率72%)を得た。After concentrating the reaction solution, 5180 ml of methanol was added to the obtained residue (compound (II-a)) to dissolve it, 267 ml (3.25 mol) of concentrated hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at room temperature (20 to 25 ° C.). Stir for 1.5-2.5 hours. After completion of the reaction, sodium hydrogencarbonate powder was added to neutralize, and 5180 ml of dichloromethane and 5180 m of saturated saline solution were added.
1 was added and stirred. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and concentrated. Ethyl acetate was added and the mixture was concentrated under reduced pressure, and 675 ml of ethyl acetate was added to the obtained residue to dissolve it. After stirring this solution at room temperature for 1 hour, n-
Hexane was added for crystallization to obtain 339 g of a crystal of compound (III-a) (yield 72%).
【0117】この結晶は偏光顕微鏡で観察した結果偏光
性をもち、結晶であることが確認された。又、X線回折
分析を行い、前述の表(II)に記載した特徴的ピーク
を持つことを確認した。なお、X線回折分析には以下の
操作で精製・再結晶された試料を用いた。すなわち、前
述の方法で得られた化合物(III−a)の結晶20.
3gをシリカゲルカラムおよび活性炭を用いて精製した
後、酢酸エチル40mlに溶解し、撹拌しながらヘキサ
ン160mlを加えて結晶させた。真空乾燥後、化合物
(III−a)の再結々晶17.9g(収率88.3
%)を得た。As a result of observing this crystal with a polarizing microscope, it was confirmed that the crystal had a polarizing property and was a crystal. Further, an X-ray diffraction analysis was carried out, and it was confirmed that it had the characteristic peaks described in the above-mentioned Table (II). A sample purified and recrystallized by the following procedure was used for X-ray diffraction analysis. That is, the crystals of compound (III-a) 20.
After 3 g was purified using a silica gel column and activated carbon, it was dissolved in 40 ml of ethyl acetate, and 160 ml of hexane was added with stirring to crystallize. After drying in vacuum, 17.9 g of recrystallized crystals of compound (III-a) (yield 88.3).
%) Was obtained.
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成4年6月18日[Submission date] June 18, 1992
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0037[Name of item to be corrected] 0037
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0037】 の両化合物は、特に形晶形態で得ることができるもので
ある。[0037] Both compounds are particularly obtainable in the form of crystals.
【手続補正2】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0081[Correction target item name] 0081
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0081】[0081]
【表1】 [Table 1]
【手続補正3】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0082[Correction target item name] 0082
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0082】[0082]
【表2】 本発明で提供される式(II−a)および式(III−
a)で示される化合物の結晶は、固体安定性において無
晶形物に比較しはるかに優れている。したがって、化合
物(I)の工業的合成に際しては保存性・輸送性の高い
有利な原料として利用することができる。[Table 2] The formula (II-a) and the formula (III-
The crystals of the compound represented by a) are far superior in solid stability to the amorphous form. Therefore, it can be used as an advantageous raw material having high storage stability and transportability in the industrial synthesis of compound (I).
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0091[Correction target item name] 0091
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0091】[0091]
【化32】 [Chemical 32]
【手続補正5】[Procedure Amendment 5]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0097[Correction target item name] 0097
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0097】[0097]
【化33】 [Chemical 33]
Claims (6)
酸基の保護基を表わす、で示される化合物のR2の水酸
基の保護基を脱離し、 (b)得られる式 【化2】 式中、R1は上記の意味を有する、で示される化合物を
環化せしめ、さらに (c)得られる式 【化3】 式中、R1は上記の意味を有する、で示される化合物を
アシル化して当該化合物のオキソ基における反応性誘導
体に変えた後、式 【化4】 式中、X-は陰イオン残基を表わす、で示されるメルカ
プト化合物と反応せしめることによる式 【化5】 式中、R1およびX-は上記の意味を有する、で示される
カルバペネム化合物の製造法において、工程(a)で得
られる化合物(III)および工程(b)で得られる化
合物(IV)を単離することなく、工程(a)、(b)
および(c)を連続的に行なうことを特徴とする製造
法。1. A formula (a): In the formula, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, R 2 represents a protecting group for a hydroxyl group, and the protecting group for a hydroxyl group of R 2 in the compound represented by In the formula, R 1 has the above-mentioned meaning, and a compound represented by Wherein R 1 has the above meaning, after being acylated to convert it to a reactive derivative at the oxo group of the compound, In the formula, X − represents an anion residue, and is represented by the formula: In the method for producing a carbapenem compound represented by the formula, wherein R 1 and X − have the above meanings, the compound (III) obtained in the step (a) and the compound (IV) obtained in the step (b) are simply used. Steps (a) and (b) without separation
And (c) are continuously carried out.
れる化合物を環化せしめ、 (c)得られる式 【化7】 式中、R1は上記の意味を有する、で示される化合物を
アシル化して当該化合物のオキソ基における反応性誘導
体に変えた後、 式 【化8】 式中、X-は陰イオン残基を表わす、で示されるメルカ
プト化合物と反応せしめることによる式 【化9】 式中、R1およびX-は上記の意味を有する、で示される
カルバペネム化合物の製造法において、工程(b)で得
られる化合物(IV)を単離することなく、工程(b)
および(c)を連続的に行なうことを特徴とする製造
法。2. The formula (b): In the formula, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and a compound represented by the formula (c) is obtained. Wherein R 1 has the above meaning, after being acylated to convert it to a reactive derivative at the oxo group of the compound, In the formula, X − represents an anion residue, and is represented by the formula: In the method for producing a carbapenem compound represented by the formula, wherein R 1 and X − have the above meanings, the compound (IV) obtained in the step (b) can be obtained by isolating the step (b) without isolation.
And (c) are continuously carried out.
ニトロベンジル基を表わす、で示される結晶形態の化合
物。3. The following formula (II-a): In the formula, Represents a t-butyldimethylsilyl group, and PNB represents 4-
A compound having a crystal form represented by: representing a nitrobenzyl group.
(d)6.79、6.63、5.46、5.34、5.
12、4.97、4.66、4.41、4.37、3.
94、3.80、3.70、3.59、3.42および
2.96Åに特徴的ピークを有する請求項3記載の化合
物。4. In the powder X-ray diffraction pattern, the plane spacing (d) is 6.79, 6.63, 5.46, 5.34, 5.
12, 4.97, 4.66, 4.41, 4.37, 3.
The compound according to claim 3, which has characteristic peaks at 94, 3.80, 3.70, 3.59, 3.42 and 2.96Å.
れる結晶形態の化合物。5. The following formula (III-a): In the formula, PNB represents a 4-nitrobenzyl group.
(d)8.11、6.19、5.56、5.22、4.
82、4.43、4.06、3.94、3.83、3.
74、3.65、3.59、3.49、3.40、3.
31、3.22、3.13、3.03、2.88、2.
78、2.71、2.62、2.57、2.50、2.
46および2.22Åに特徴的ピークを有する請求項5
記載の化合物。6. In the powder X-ray diffraction pattern, the plane spacing (d) is 8.11, 6.19, 5.56, 5.22, 4.
82, 4.43, 4.06, 3.94, 3.83, 3.
74, 3.65, 3.59, 3.49, 3.40, 3.
31, 3.22, 3.13, 3.03, 2.88, 2.
78, 2.71, 2.62, 2.57, 2.50, 2.
6. The characteristic peaks at 46 and 2.22Å.
The described compound.
Priority Applications (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004035539A1 (en) * | 2002-10-18 | 2004-04-29 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Process for producing carbapenem derivative and intermediate for use in the production |
CN102690282A (en) * | 2011-07-07 | 2012-09-26 | 深圳市海滨制药有限公司 | Crystal-form 1beta methylcarbapenem antibiotic intermediate and preparation method thereof |
-
1992
- 1992-03-04 JP JP08145992A patent/JP3614175B2/en not_active Expired - Lifetime
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WO2004035539A1 (en) * | 2002-10-18 | 2004-04-29 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Process for producing carbapenem derivative and intermediate for use in the production |
CN102690282A (en) * | 2011-07-07 | 2012-09-26 | 深圳市海滨制药有限公司 | Crystal-form 1beta methylcarbapenem antibiotic intermediate and preparation method thereof |
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