JPH06163882A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH06163882A
JPH06163882A JP30714092A JP30714092A JPH06163882A JP H06163882 A JPH06163882 A JP H06163882A JP 30714092 A JP30714092 A JP 30714092A JP 30714092 A JP30714092 A JP 30714092A JP H06163882 A JPH06163882 A JP H06163882A
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JP
Japan
Prior art keywords
electrode
hole
electrode block
lead wire
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP30714092A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Ito
武志 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH06163882A publication Critical patent/JPH06163882A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor device in which an O-ring can be surely positioned and the intrusion of unhardened Si rubber from the outside can be prevented and which has stable electric characteristics. CONSTITUTION:A step section 30 used for positioning an O-ring 26 which is used for sealing the clearance between a hole 29 and gate lead wire 25 is formed in the hole 29.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、電極ブロックに形成
された穴から制御電極リード線が外部に引き出されるよ
うになっている半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device in which a control electrode lead wire is drawn out from a hole formed in an electrode block.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は例えば特公昭63−34625号
公報に示された半導体装置を示す斜視図であり、(a)
は部分断面図、(b)はその組立部品の構成を示す図で
ある。図において、1は半導体エレメントであるGTO
サイリスタエレメント、2はダイオードエレメント、3
a,3b,3cは上記のエレメント1,2に面接触し外
部に電流を取り出すための電極ブロック、4は六角ボル
ト5の取付けを容易にするためのターミナルポストで、
電極ブロック3a,3b,3cに挿入して使用する。6
は皿ばね、7はエンドプレートであり、これらはGTO
サイリスタエレメント1及びダイオードエレメント2を
加圧保持するための圧接機構部品であり、アルミニウム
を素材とした、ボトムハウジング8とトップハウジング
9に設けられたハウジング溝部10にエンドプレート7
のフランジ部11がはめ込まれることによってGTOサ
イリスタエレメント1及びダイオードエレメント2を加
圧保持することができるようになっている。12はハウ
ジング8,9と、エレメント1,2または電極ブロック
3a,3b,3cとを電気的に絶縁するためのSiゴム
を素材とした絶縁シート、13,14は皿ばね6及び鉄
を素材としたエンドプレート11とを電気的に絶縁する
ための絶縁板である。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is a perspective view showing a semiconductor device disclosed in Japanese Patent Publication No. 63-34625, for example.
Is a partial cross-sectional view, and (b) is a diagram showing a configuration of an assembly part thereof. In the figure, 1 is a GTO which is a semiconductor element.
Thyristor element, 2 is a diode element, 3
a, 3b and 3c are electrode blocks for making surface contact with the above-mentioned elements 1 and 2 and extracting electric current to the outside, and 4 is a terminal post for facilitating attachment of the hexagon bolt 5.
It is used by inserting it into the electrode blocks 3a, 3b, 3c. 6
Is a disc spring and 7 is an end plate. These are GTOs.
It is a pressure contact mechanism component for pressurizing and holding the thyristor element 1 and the diode element 2, and is made of aluminum, and the end plate 7 is provided in the housing groove portion 10 provided in the bottom housing 8 and the top housing 9.
The GTO thyristor element 1 and the diode element 2 can be pressure-held by fitting the flange portion 11 of the. 12 is an insulating sheet made of Si rubber for electrically insulating the housings 8 and 9 from the elements 1 or 2 or the electrode blocks 3a, 3b and 3c, and 13 and 14 are made of disc springs 6 and iron. It is an insulating plate for electrically insulating the end plate 11 described above.

【0003】図3は図2に示す電極ブロック3aの構造
を示す図であり、(a)は平面図、(b)は断面図であ
る。図において、15はステンレスを素材とした平座
金、16は皿ばねで、この平座金15、皿ばね16でモ
リブデンを素材とした環状ゲート電極17とGTOサイ
リスタエレメント1のゲート電極(図示せず)を加圧接
触保持するようになっている。18はマイカ板、19は
テフロンシートで、環状ゲート電極17と電極ブロック
3a間を電気的に絶縁するための絶縁機構部品である。
20は陰極モリブデン板、21は陰極銅板、22は陰極
モリブデン板で、GTOサイリスタエレメント1の陰極
電極(図示せず)と加圧面接触し、電極ブロック3aに
も面接触し、導電路を形成するための挿入板である。
3A and 3B are views showing the structure of the electrode block 3a shown in FIG. 2. FIG. 3A is a plan view and FIG. 3B is a sectional view. In the figure, 15 is a flat washer made of stainless steel, 16 is a disc spring, and the flat washer 15 and the disc spring 16 are made of molybdenum as an annular gate electrode 17 and a gate electrode of the GTO thyristor element 1 (not shown). Is held under pressure. Reference numeral 18 is a mica plate, and 19 is a Teflon sheet, which is an insulation mechanism component for electrically insulating the annular gate electrode 17 and the electrode block 3a.
Reference numeral 20 is a cathode molybdenum plate, 21 is a cathode copper plate, and 22 is a cathode molybdenum plate, which makes pressure contact with the cathode electrode (not shown) of the GTO thyristor element 1 and also makes surface contact with the electrode block 3a to form a conductive path. It is an insertion plate for.

【0004】23はゲート端子で、環状ゲート電極17
に銀ロー付されており、テフロン及びシリコンゴム系素
材からなる絶縁チューブ24によって電極ブロック3a
に設けられた取り出し用の穴29と絶縁をはかりながら
外部に引き出される。ゲート端子23と銀を素材とした
制御電極リード線であるゲートリード線25とはカシメ
用部品(図示せず)で接合されている。26はOリング
で、たとえばシリコン系の材料で形成されており、ゲー
ト端子23と電極ブロック3aの穴29との間のすき間
を埋めるために用いられる。
Reference numeral 23 is a gate terminal, which is an annular gate electrode 17.
Is attached to the electrode block 3a by an insulating tube 24 made of Teflon and silicone rubber.
It is pulled out to the outside while being insulated from the take-out hole 29 provided in the. The gate terminal 23 and the gate lead wire 25, which is a control electrode lead wire made of silver, are joined by a caulking component (not shown). An O-ring 26 is formed of, for example, a silicon-based material, and is used to fill a gap between the gate terminal 23 and the hole 29 of the electrode block 3a.

【0005】次に上記構成の半導体装置の動作について
説明する。電極ブロック3a、GTOサイリスタエレメ
ント1、電極ブロック3b、ダイオードエレメント2、
電極ブロック3cを順次直列に接触された状態で、絶縁
板13、絶縁板14、皿ばね16およびエンドプレート
7を両側面にセットし、外部加圧機構(図示せず)を用
いて通常2000kgの荷重で加圧する。その後、加圧
された状態で、絶縁シート12を電極ブロック3a,3
b,3cの周囲に巻きつけ、その後ハウジング溝部10
とエンドプレート7のフランジ部11がはめ合うように
ボトムハウジング8とトップハウジング9とをセットす
る。ボトムハウジング8とトップハウジング9とはボル
ト27により計8個所等間隔に固定される。その後、絶
縁板28とトップハウジング9との間にSiゴムを塗布
し絶縁板28を固定する。さらに、ハウジング8,9内
部と外気とをしゃ断するために、シリコンゴムを六角ボ
ルト5の周囲部であるA,B,C部及びエンドプレート
7の表面部であるD部に充填する。D部については図示
していない反対側の面にもシリコンゴムを充填する。シ
リコンゴムは通常室温硬化形の二液性シリコンゴムを用
いる。
Next, the operation of the semiconductor device having the above structure will be described. Electrode block 3a, GTO thyristor element 1, electrode block 3b, diode element 2,
In the state where the electrode blocks 3c are sequentially contacted in series, the insulating plate 13, the insulating plate 14, the disc spring 16 and the end plate 7 are set on both side surfaces, and an external pressurizing mechanism (not shown) is normally used to weigh 2000 kg. Pressurize with load. Then, in a pressurized state, the insulating sheet 12 is attached to the electrode blocks 3a, 3
Wrap around b and 3c, then the housing groove 10
Then, the bottom housing 8 and the top housing 9 are set so that the flange portions 11 of the end plate 7 are fitted to each other. The bottom housing 8 and the top housing 9 are fixed by bolts 27 at a total of eight locations at equal intervals. Then, Si rubber is applied between the insulating plate 28 and the top housing 9 to fix the insulating plate 28. Further, in order to isolate the inside of the housings 8 and 9 from the outside air, silicone rubber is filled in the A, B and C portions which are the peripheral portions of the hexagon bolt 5 and the D portion which is the surface portion of the end plate 7. Silicon rubber is also filled in the surface D on the opposite side (not shown). As the silicone rubber, a room temperature curing type two-component silicone rubber is usually used.

【0006】次に、電極ブロック3aの組立方法につい
て詳細を説明する。まず、電極ブロック3aにターミナ
ルポスト4を挿入し、その後電極ブロック3aの環状ゲ
ート電極17が挿入される溝に平座金15、皿バネ16
及びマイカ板18を図3(b)に図示するごとく挿入
し、つづいてあらかじめ絶縁チューブ24及びゲートリ
ード線25を取り付けたゲート端子23を電極ブロック
3aに用いられた穴29に通して外部に引き出す。その
後ゲートリード線25の先端部からOリング26を穴2
9の所定位置に収まるように挿入する。これで電極ブロ
ック3aの組立は完了する。
Next, the method of assembling the electrode block 3a will be described in detail. First, the terminal post 4 is inserted into the electrode block 3a, and then the flat washer 15 and the disc spring 16 are inserted into the groove into which the annular gate electrode 17 of the electrode block 3a is inserted.
Then, the mica plate 18 is inserted as shown in FIG. 3B, and then the gate terminal 23 to which the insulating tube 24 and the gate lead wire 25 are previously attached is passed through the hole 29 used in the electrode block 3a and pulled out to the outside. . Then, from the tip of the gate lead wire 25, insert an O-ring 26 into the hole 2
Insert it so that it fits in the predetermined position of 9. This completes the assembly of the electrode block 3a.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置は以
上のように構成されており、Oリング26を電極ブロッ
ク3aに形成された穴29の所定位置に収まるように挿
入する際、穴29が筒状に形成されているので、たとえ
ばOリング26を外部から強く押し込んだ場合、電極ブ
ロック3aの穴29の奥に入ってしまい、ゲート端子2
3と穴29との間に隙間ができて、その隙間から硬化前
のSiゴムが侵入し、このSiゴムが環状ゲート電極1
7と、テフロンシート19との隙間を通じ、GTOサイ
リスタエレメント1の表面まで到達し、陰極モリブデン
板22とGTOサイリスタエレメント1との接触界面に
流れ込むことがあった。このように流れ込んだSiゴム
の影響によりGTOサイリスタエレメント1と陰極モリ
ブデン板22との間の接触抵抗が増大し、それによって
GTOサイリスタエレメント1の通電時の電力損失が増
大し、ひいてはGTOサイリスタエレメント1の破壊に
至らしめるなどの課題があった。
The conventional semiconductor device is constructed as described above, and when the O-ring 26 is inserted so that it fits into a predetermined position of the hole 29 formed in the electrode block 3a, the hole 29 is Since it is formed in a cylindrical shape, if the O-ring 26 is strongly pushed from the outside, for example, it will go deep into the hole 29 of the electrode block 3a and the gate terminal 2
3 is formed between the hole 3 and the hole 29, and the Si rubber before curing enters through the gap, and the Si rubber penetrates the annular gate electrode 1
7 and the Teflon sheet 19 may reach the surface of the GTO thyristor element 1 and flow into the contact interface between the cathode molybdenum plate 22 and the GTO thyristor element 1. The contact resistance between the GTO thyristor element 1 and the cathode molybdenum plate 22 increases due to the influence of the Si rubber that has flown in this way, which increases the power loss when the GTO thyristor element 1 is energized, and thus the GTO thyristor element 1 There were problems such as the destruction of the.

【0008】この発明は上記のような課題を解消するた
めになされたもので、Oリングの位置決めが確実にで
き、それによって外部より硬化前のSiゴムが内部に侵
入するのを防止するとともに、電気的特性の安定した半
導体装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and the O-ring can be reliably positioned, thereby preventing Si rubber before curing from entering from the outside. An object is to obtain a semiconductor device having stable electric characteristics.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、電極ブロックに形成された穴の内部に、穴と制御
電極リード線との間をシールするOリングを位置決めす
る段差部を形成したものである。
In the semiconductor device according to the present invention, a step portion for positioning an O-ring for sealing between the hole and the control electrode lead wire is formed inside the hole formed in the electrode block. It is a thing.

【0010】[0010]

【作用】この発明における半導体装置においては、Oリ
ングが段差部で位置決めされるので、Oリングと穴の内
壁面との間に隙間ができるようなことはない。
In the semiconductor device of the present invention, since the O-ring is positioned at the step portion, no gap is formed between the O-ring and the inner wall surface of the hole.

【0011】[0011]

【実施例】【Example】

実施例1.以下、この発明の実施例を図について説明す
る。図1はこの発明の実施例1を示す図であり、(a)
は電極ブロックの平面図、(b)はその断面図であり、
図において図2,図3と同一または相当部分は同一符号
を付し、その説明は省略する。30は電極ブロック3a
の穴29内部に形成されたOリング26を位置決めする
ための段差部である。
Example 1. Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention, in which (a)
Is a plan view of the electrode block, (b) is a sectional view thereof,
In the figure, parts that are the same as or correspond to those in FIGS. 2 and 3 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted. 30 is an electrode block 3a
It is a step portion for positioning the O-ring 26 formed inside the hole 29.

【0012】次に動作について説明する。まず、電極ブ
ロック3aにターミナルポスト4を挿入し、その後電極
ブロック3aの環状ゲート電極17が挿入される溝に平
座金15、皿ばね16及びマイカ板18を図1(b)に
図示するごとく挿入する。続いて、予め絶縁チューブ2
4で被覆されたゲートリード線25を取り付けたゲート
端子23を電極ブロック3aに形成された穴29に通し
て外部に引き出す。その後、ゲートリード線25の先端
部よりOリング26を穴29の内部にある段差部30に
当接するまで挿入する。
Next, the operation will be described. First, the terminal post 4 is inserted into the electrode block 3a, and then the flat washer 15, the disc spring 16 and the mica plate 18 are inserted into the groove into which the annular gate electrode 17 of the electrode block 3a is inserted as shown in FIG. 1 (b). To do. Insulation tube 2 in advance
The gate terminal 23 to which the gate lead wire 25 covered with 4 is attached is pulled out to the outside through the hole 29 formed in the electrode block 3a. Then, the O-ring 26 is inserted from the tip of the gate lead wire 25 until it abuts on the step portion 30 inside the hole 29.

【0013】実施例2.なお、上記実施例では半導体エ
レメントとしてのGTOサイリスタエレメント1に適用
された場合について説明したが、他のサイリスタエレメ
ントにもこの発明を適用することができるのは勿論であ
る。
Example 2. In the above embodiment, the case where the invention is applied to the GTO thyristor element 1 as a semiconductor element has been described, but it goes without saying that the invention can be applied to other thyristor elements.

【0014】[0014]

【発明の効果】以上説明したように、この発明の半導体
装置によれば、Oリングは段差部で穴の内部の所定の位
置に位置決めされるようになっているので、Oリングと
穴の内壁面との間に隙間ができるようなことはなく、外
部からたとえば未硬化のSiゴムが内部に侵入すること
は防止され、電気的特性が安定化し、信頼度が向上する
という効果がある。
As described above, according to the semiconductor device of the present invention, since the O-ring is positioned at the predetermined position inside the hole by the step portion, the O-ring and the inside of the hole are There is no gap between the wall surface and the outside, for example, uncured Si rubber is prevented from entering the inside, and the electrical characteristics are stabilized, and the reliability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)はこの発明の一実施例による半導体装置
の電極ブロックの平面図、(b)は(a)の側断面図で
ある。
FIG. 1A is a plan view of an electrode block of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a side sectional view of FIG.

【図2】(a)は電極ブロックが組立てられた半導体装
置を示す斜視図、(b)はその組立部品の構成を示す斜
視図である。
FIG. 2A is a perspective view showing a semiconductor device in which an electrode block is assembled, and FIG. 2B is a perspective view showing a configuration of an assembly part thereof.

【図3】(a)は従来の半導体装置の電極ブロックの一
例を示す平面図、(b)は(a)の側断面図である。
3A is a plan view showing an example of an electrode block of a conventional semiconductor device, and FIG. 3B is a side sectional view of FIG. 3A.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 GTOサイリスタエレメント(半導体エレメン
ト) 3a 電極ブロック 17 環状ゲート電極 23 ゲート端子 24 絶縁チューブ 25 ゲートリード線(制御電極リード線) 26 リング 29 穴 30 段差部
1 GTO thyristor element (semiconductor element) 3a electrode block 17 annular gate electrode 23 gate terminal 24 insulating tube 25 gate lead wire (control electrode lead wire) 26 ring 29 hole 30 stepped portion

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電極ブロックと、電極ブロック間に圧力
保持され電極ブロックと電気的接触及び熱伝導がなされ
た半導体エレメントと、前記電極ブロックの端子に先端
部が接続されているとともに絶縁チューブで被覆された
制御電極リード線とを備え、前記制御電極リード線は前
記電極ブロックに形成された穴から外部に引き出される
ようになっている半導体装置において、前記穴の内部に
は、穴と前記制御電極リード線との間をシールするOリ
ングを位置決めする段差部が形成されていることを特徴
とする半導体装置。
1. An electrode block, a semiconductor element in which pressure is held between the electrode blocks to make electrical contact and heat conduction with the electrode blocks, and a tip portion is connected to a terminal of the electrode block and is covered with an insulating tube. A control electrode lead wire, the control electrode lead wire being drawn out from a hole formed in the electrode block to the outside, wherein the hole and the control electrode are provided inside the hole. A semiconductor device having a stepped portion for positioning an O-ring for sealing the lead wire.
JP30714092A 1992-11-17 1992-11-17 Semiconductor device Pending JPH06163882A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995033607A1 (en) * 1994-06-02 1995-12-14 Diamant Boart, Inc. Cutting blade with an impact load prevention layer

Cited By (2)

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