JPH06151094A - プラズマ生成加速装置 - Google Patents

プラズマ生成加速装置

Info

Publication number
JPH06151094A
JPH06151094A JP4300862A JP30086292A JPH06151094A JP H06151094 A JPH06151094 A JP H06151094A JP 4300862 A JP4300862 A JP 4300862A JP 30086292 A JP30086292 A JP 30086292A JP H06151094 A JPH06151094 A JP H06151094A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
magnetic field
electrode
current
plasma generating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP4300862A
Other languages
English (en)
Inventor
Kingo Azuma
欣吾 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP4300862A priority Critical patent/JPH06151094A/ja
Publication of JPH06151094A publication Critical patent/JPH06151094A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】電極表面の損傷が著しく少ないプラズマ生成加
速装置を提供する。 【構成】プラズマPを生成・加速する如く、プラズマ誘
導用の同軸電極1a,1bと、同軸電極1a,1b内に
ガスを供給するガス供給手段4と、同軸電極1a,1b
にパルス電圧を印加するパルス電源3とを備えてなるプ
ラズマ生成加速装置において、同軸電極1a,1bの方
位角方向に磁場を与える磁気コイルを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気閉じ込め型
各融合炉内のプラズマに反応用燃料を供給するために用
いられるプラズマ生成加速装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図2の(a)(b)は従来のこの種のプ
ラズマ生成加速装置の構成を示す図である。図2の
(a)(b)において、1aは内部電極、1bは外部電
極、2はインシュレータ、3はパルス電源、4は電磁
弁、5はガス供給源である。
【0003】上記構成の装置によれば、生成されたプラ
ズマPは、このプラズマPに流れる電流Iと、この電流
Iにより生じる自己磁場Bs との相互作用で発生する電
磁力により、加速されて射出される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一般にプラズマ生成加
速装置におけるプラズマPの加速力Fは、(1)式に示
す電磁力として表される。
【0005】
【数1】 ここで、jはプラズマに流れる電流の電流密度、Bはプ
ラズマに印加される磁場、vはプラズマの体積である。
ところで図2に示した従来のプラズマ生成加速装置で
は、
【0006】
【数2】 であるため、上記加速力Fは(3)式のようになる。 F=Lz ・I2 /2 …(3) ここで、Lz は同軸電極の単位長さ当りのインダクタン
スである。
【0007】このため、プラズマPの初期加速時におい
ては、プラズマPの速度が極めて遅いものとなる。この
結果、プラズマPの生成部付近は電流の通過量が大きく
なってしまい、この付近の電極の損傷が激しくなるとい
う問題があった。本発明の目的は、電極表面の損傷が著
しく少ないプラズマ生成加速装置を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
し目的を達成するために、
【0009】プラズマを生成・加速する如く、プラズマ
誘導用の同軸電極と、この同軸電極内にガスを供給する
ガス供給手段と、前記同軸電極にパルス電圧を印加する
パルス電源とを備えてなるプラズマ生成加速装置におい
て、前記同軸電極の方位角方向に磁場を与える磁気コイ
ルを設けるようにした。
【0010】
【作用】上記手段を講じた結果、次のような作用が生じ
る。プラズマの生成部には定常的に磁場Be が与えられ
ることになるので、加速力Fは(4)式のようになる。 F=Lz ・I2 /2+Be Ih …(4) ただしhは同軸電極のギャップ長である。このため加速
初期のプラズマの速度が速められ、単位面積当りの電流
の通過量を少なくすることが可能になる。
【0011】
【実施例】図1の(a)(b)は本発明の一実施例に係
るプラズマ生成加速装置の構成を要部を切断して示す側
面図および正面図である。図1の(a)(b)に示すよ
うに本装置は内部電極1aと外部電極1bとの間を、イ
ンシュレータ2で絶縁した同軸電極に、電磁弁4を開い
てガスを流入させ、同様にパルス電極3により内部電極
1aと1bとの間にパルス電圧を印加してプラズマPを
生成し、このプラズマPに流れる電流Iとその電流Iに
より生じる自己磁場Bs との相互作用で発生する電磁力
により、プラズマPを加速するものとなっている。内部
電極1aと外部電極1bとからなる同軸電極には、方位
角方向に磁場を発生するための磁気形成ユニット6が付
設されている。磁場形成ユニット6は磁場を生成するコ
イル7と、このコイル7を励磁するための電流源8と、
プラズマPがコイル7に接触することを防ぐための石英
ガラス等の絶縁材料でできた防護材9と、コイル7に電
流を導入するための電流導入端子10a,10bで構成
されている。
【0012】磁場形成ユニット6は、生成する磁場Be
がプラズマに流れる電流Iにより発生する自己磁場Bs
と同じ方向(同一方位角方向)に発生するように、外部
電極1bと内部電極1aとの間に複数個(8〜16個程
度)を均等に配置する。磁場形成ユニット6同士は、電
流導入端子を10a−10b−10a′−…−10b″
と接いで直列接続にし、10aと10b″とに電流源8
を接続して複数の磁場形成ユニット6に電流を流し、磁
場Be を生成する。電流源8として大きな容量を持つ電
流源を使用して各磁場形成ユニットを並列に接続しても
よい。
【0013】本装置は上記の如く構成されたものである
から、磁場形成ユニット6により磁場Be を形成した状
態でプラズマPを生成すると、プラズマPにはBe +B
s (Bs は自己磁場)なる磁場が与えられることにな
る。このため加速力として(4)式で表される加速力が
プラズマPに加わるようになる。プラズマPの運動は
(5)式で表される。 M(dv/dt)=F=Lz ・I2 /2+Be Ih …(5)
【0014】ここでMはプラズマPの質量、vはプラズ
マPの速度である。電流Iが小さい加速初期には(5)
式の右辺第2項が第1項に比べて大きくなるため初期加
速時においても大きな加速度が得られ、速度を急激に速
くすることが可能になる。速度が速くなると、ある位置
での電流の滞在時間が短くなるため単位面積当りの電極
表面通過電流量を小さくすることができる。なお、本発
明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の要
旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるのは勿論
である。
【0015】
【発明の効果】本発明によれば、磁場形成ユニットによ
り形成される磁場によってプラズマの初期加速時におけ
る速度を速め得るので、電極表面の損傷が著しく少ない
プラズマ生成加速装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の一実施例に係るプラズマ生成
加速装置の構成を要部を切断して示す側面図、(b)は
同正面図。
【図2】(a)は従来のプラズマ生成加速装置の構成を
要部を切断して示す側面図、(b)は同正面図。
【符号の説明】
1a…内部電極 1b…外部電極 2…インシュレータ 3…パルス電極 4…電磁弁 6…磁気形成ユニ
ット 10a,10b…電流導入端子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プラズマを生成・加速する如く、プラズマ
    誘導用の同軸電極と、この同軸電極内にガスを供給する
    ガス供給手段と、前記同軸電極にパルス電圧を印加する
    パルス電源とを備えてなるプラズマ生成加速装置におい
    て、 前記同軸電極の方位角方向に磁場を与える磁気コイルを
    設けたことを特徴とするプラズマ生成加速装置。
JP4300862A 1992-11-11 1992-11-11 プラズマ生成加速装置 Withdrawn JPH06151094A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4300862A JPH06151094A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 プラズマ生成加速装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4300862A JPH06151094A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 プラズマ生成加速装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06151094A true JPH06151094A (ja) 1994-05-31

Family

ID=17890014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4300862A Withdrawn JPH06151094A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 プラズマ生成加速装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06151094A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004026008A1 (ja) * 2002-09-13 2004-03-25 Pearl Kogyo Co., Ltd. プラズマ表面処理方法及びその装置
GB2408132A (en) * 2003-11-08 2005-05-18 Highlight Parking Systems Ltd Parking Control System

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004026008A1 (ja) * 2002-09-13 2004-03-25 Pearl Kogyo Co., Ltd. プラズマ表面処理方法及びその装置
GB2408132A (en) * 2003-11-08 2005-05-18 Highlight Parking Systems Ltd Parking Control System
GB2408132B (en) * 2003-11-08 2006-04-26 Highlight Parking Systems Ltd Parking indicator and/or control system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5525805A (en) Pulsed ion beam source
US4282436A (en) Intense ion beam generation with an inverse reflex tetrode (IRT)
US3075115A (en) Ion source with space charge neutralization
US4422013A (en) MPD Intense beam pulser
JPS60175351A (ja) X線発生装置およびx線露光法
KR20090071610A (ko) 의료 치료를 위한 콤팩트 가속기
US3059149A (en) Plasma accelerator
US3151259A (en) Plasma accelerator system
US20150271907A1 (en) Plasma Generator
JPS6132508B2 (ja)
JPS62265779A (ja) 高圧ガス媒体のイオン化装置および方法
JP2774326B2 (ja) パルスパワー線形加速器
JPH06151094A (ja) プラズマ生成加速装置
US3319106A (en) Plasmoid generator and accelerator utilizing an annular magnetic core
US2953718A (en) Apparatus and method for generating high temperatures
US3279175A (en) Apparatus for generating and accelerating charged particles
JPS6094725A (ja) ドライエツチング装置
JPH06151093A (ja) プラズマ生成加速装置
JPS5635768A (en) Vapor depositing apparatus
USRE37100E1 (en) Pulsed ion beam source
JPH06242273A (ja) 中性粒子入射装置
JPS61104074A (ja) スパッタリング方法及びその装置
US5773787A (en) Plasma-gun voltage generator
JPS6187867A (ja) スパツタリング装置
JPH0831443B2 (ja) プラズマ処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20000201