JPH06147864A - Biaxial photoelectric autocollimator - Google Patents

Biaxial photoelectric autocollimator

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Publication number
JPH06147864A
JPH06147864A JP4327361A JP32736192A JPH06147864A JP H06147864 A JPH06147864 A JP H06147864A JP 4327361 A JP4327361 A JP 4327361A JP 32736192 A JP32736192 A JP 32736192A JP H06147864 A JPH06147864 A JP H06147864A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slit
detection
axis
objective lens
light
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4327361A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiko Matsumoto
孝彦 松本
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP4327361A priority Critical patent/JPH06147864A/en
Publication of JPH06147864A publication Critical patent/JPH06147864A/en
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PURPOSE:To ensure a wide measuring range and a large working distance through simple structure at low cost by selecting any one of Y-direction slit for yawing detection or X-direction slit for pitching detection and displaying the selected one. CONSTITUTION:A liquid display 4, which can display a Y-direction slit 12 for yawing detection and an X-direction slit 13 for pitching detection, is employed as a slit forming unit. A slit selecting unit 9 selects any one of the Y-direction slit 12 or the X-direction slit 13 and a selected slit is displayed on the liquid display 4. Since the visual field is not required to be divided into yawing measuring region and pitching measuring region, a wide measuring range can be ensured and since both slits are not remote from the center of visual field, a large working distance can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は2軸光電式オ−トコリ
メ−タに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a biaxial photoelectric autocollimator.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は従来の2軸光電式オ−トコリメ−
タの全体構成図、図8(a)は焦点板のスリットを示す
図、同図(b)はスリット像とCCDラインセンサの受
光面との関係を説明するための図である。従来の2軸光
電式オ−トコリメ−タは、対物レンズ106の後側焦点
位置に配置された焦点板104と、この焦点板104に
光を照射する照明系と、対物レンズ106の後側光路中
で焦点板104と共役な位置に配置されたCCDライン
センサ108と、このCCDラインセンサ108からの
出力信号を処理するコントロ−ラ111とを備えてい
る。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a conventional two-axis photoelectric autocollimator.
FIG. 8A is a diagram showing the slits of the focusing screen, and FIG. 8B is a diagram for explaining the relationship between the slit image and the light receiving surface of the CCD line sensor. The conventional two-axis photoelectric autocollimator includes a focusing plate 104 arranged at a rear focal position of the objective lens 106, an illumination system for irradiating the focusing plate 104 with light, and a rear optical path of the objective lens 106. A CCD line sensor 108 arranged in a position conjugate with the focusing screen 104 and a controller 111 for processing an output signal from the CCD line sensor 108 are provided.

【0003】光源102及びコンデンサレンズ103は
照明系を構成し、焦点板104を照明する。焦点板10
4には、図8(a)に示すように、バ−チカル用のX方
向スリット113とこのX方向スリット113に対して
直角なホリゾンタル用のY方向スリット112とが形成
されている。焦点板104を通過した光は、ハ−フプリ
ズム105で反射され、対物レンズ106で平行光束に
なってオ−トコリメ−タのハウジング101から射出す
る。ハウジング101から射出された平行光束は測定対
称物の外部ミラ−107で反射され、再び対物レンズ1
06に入射して収束光になり、ハ−フプリズム105を
透過した後、図8(b)に示すように、CCDラインセ
ンサ108の受光面上にスリット像112a,113a
を結ぶ。スリット像112a,113aの結像位置は外
部ミラ−107の傾きにしたがってCCDラインセンサ
108の受光面上を移動する。その移動量Δは対物レン
ズ106の焦点距離をf、外部ミラ−107の傾斜角を
θとしたとき、Δ=2fθの関係が成立する。
The light source 102 and the condenser lens 103 form an illumination system and illuminate the focusing screen 104. Focusing screen 10
As shown in FIG. 8A, an X-direction slit 113 for vertical and a Y-direction slit 112 for horizontal which is perpendicular to the X-direction slit 113 are formed on the surface 4. The light that has passed through the focusing screen 104 is reflected by the half prism 105, becomes a parallel light flux by the objective lens 106, and exits from the housing 101 of the autocollimator. The parallel light flux emitted from the housing 101 is reflected by the external mirror 107 of the object to be measured and again the objective lens 1
After being incident on 06, it becomes convergent light, and after passing through the half prism 105, slit images 112a and 113a are formed on the light receiving surface of the CCD line sensor 108 as shown in FIG. 8B.
Tie The image forming positions of the slit images 112a and 113a move on the light receiving surface of the CCD line sensor 108 according to the inclination of the external mirror 107. The movement amount Δ has a relationship of Δ = 2fθ, where f is the focal length of the objective lens 106 and θ is the inclination angle of the external mirror 107.

【0004】いま外部ミラ−107に水平面内での角変
位すなわちヨ−イング量θを与えた場合について考え
る。図8(b)は外部ミラ−107にヨ−イング量を与
える前のスリット像112b,113b,並びに外部ミ
ラ−107にヨ−イング量を与えた後のスリット像11
2a,113aを示し、各スリット像の移動量Δは2f
θである。ここでピッチング検出用のスリット像11
3a,113bに注目すると、スリット像は移動してい
るにも拘らずCCDラインセンサ108の受光位置は変
わらない。これに対し、ヨ−イング検出用のスリット像
112a,112bに対するCCDラインセンサ108
の受光位置は変化する。
Now, consider a case where the external mirror 107 is given an angular displacement in the horizontal plane, that is, a yawing amount θ H. FIG. 8B shows slit images 112b and 113b before giving a yawing amount to the external mirror 107, and a slit image 11 after giving a yawing amount to the external mirror 107.
2a and 113a, and the movement amount Δ of each slit image is 2f
θ H. Here, the slit image 11 for pitching detection
Focusing on 3a and 113b, the light receiving position of the CCD line sensor 108 does not change despite the movement of the slit image. On the other hand, the CCD line sensor 108 for the slit images 112a and 112b for yawing detection is used.
The light receiving position of changes.

【0005】これとは逆に、外部ミラ−107に垂直面
内での角変位すなわちピッチング量θを与えた場合に
は、ピッチング検出用のスリット像113aに対するC
CDラインセンサ108の受光位置は変化するが、ヨ−
イング検出用のスリット像112aに対するCCDライ
ンセンサ108の受光位置は変化しない。
On the contrary, when the external mirror 107 is given an angular displacement in the vertical plane, that is, a pitching amount θ V , C for the slit image 113a for pitching detection is given.
Although the light receiving position of the CD line sensor 108 changes,
The light receiving position of the CCD line sensor 108 with respect to the slit image 112a for detecting the ing does not change.

【0006】したがって、CCDラインセンサ108か
らの出力信号からそれぞれ独立にヨ−イング量θ及び
ピッチング量θの情報が得られる。
Therefore, information on the yawing amount θ H and the pitching amount θ V can be independently obtained from the output signal from the CCD line sensor 108.

【0007】CCDラインセンサ108からの出力信号
はケ−ブル110を介してコントロ−ラ111に送出さ
れ、コントロ−ラ111で演算処理され、ヨ−イング量
θ及びピッチング量θがコントロ−ラ111の図示
しない表示部に表示される。
An output signal from the CCD line sensor 108 is sent to a controller 111 via a cable 110 and processed by the controller 111, and a yawing amount θ H and a pitching amount θ V are calculated. It is displayed on the display unit (not shown) of the printer 111.

【0008】図9は従来の2軸光電式オ−トコリメ−タ
の全体構成図、図10(a)は焦点板125のスリット
を示す図、同図(b)は焦点板124のスリットを示す
図、図11(a)はCCDラインセンサ108の受光面
とヨ−イング検出用のスリット像212aとの関係を説
明するための図、同図(b)はCCDラインセンサ11
9とピッチング検出用のスリット像213aとの関係を
説明するための図である。
FIG. 9 is an overall configuration diagram of a conventional biaxial photoelectric autocollimator, FIG. 10A shows the slit of the focusing screen 125, and FIG. 10B shows the slit of the focusing screen 124. 11A is a diagram for explaining the relationship between the light receiving surface of the CCD line sensor 108 and the slit image 212a for yawing detection, and FIG. 11B is the CCD line sensor 11
9 is a diagram for explaining a relationship between 9 and a slit image 213a for pitching detection. FIG.

【0009】この2軸光電式オ−トコリメ−タは、図7
の2軸光電式オ−トコリメ−タと異なり、ヨ−イング検
出用及びピッチング検出用の2個の焦点板125,12
4と、両焦点板125,124に対応する2つの照明系
と、各スリット212,213に対応する2個のCCD
ラインセンサ108,119とを備えている。一方の焦
点板125には図10(a)に示すようにヨ−イング検
出用のスリット212が形成され、他方の焦点板124
には図10(b)に示すようにピッチング検出用のスリ
ット213が形成されている。焦点板125は光源10
2とコンデンサレンズ103とで構成される照明系によ
って照明され、焦点板124は光源122とコンデンサ
レンズ123とで構成される照明系によって照明され
る。焦点板125,124の各スリット212,213
から射出した光はダイクロイックプリズム117により
それぞれ別の波長域λ,λに分けられた上で合成さ
れ、ハ−フプリズム105へ向かう。ダイクロイックプ
リズム117を出た光はハ−フプリズム105で反射さ
れ、対物レンズ106で平行光束になってオ−トコリメ
−タのハウジング101から射出する。ハウジング10
1から射出された平行光束は測定対象物の外部ミラ−1
07で反射され、再び対物レンズ107に入射して収束
光になり、ハ−フプリズム105を透過する。ハ−フプ
リズム105を透過した光は、ダイクロイックプリズム
118により前記波長域λ,λに分けられる。ダイ
クロイックプリズム118を透過した波長域λの光は
CCDラインセンサ108に到達し、ダイクロイックプ
リズム118で反射した波長域λの光はCCDライン
センサ119に到達する。
This biaxial photoelectric autocollimator is shown in FIG.
Unlike the two-axis photoelectric autocollimator of No. 2, two focusing plates 125, 12 for yaw detection and pitching detection.
4, two illumination systems corresponding to both focusing plates 125 and 124, and two CCDs corresponding to the slits 212 and 213, respectively.
The line sensors 108 and 119 are provided. As shown in FIG. 10A, a slit 212 for yawing detection is formed on one focusing screen 125, and the other focusing screen 124 is formed.
As shown in FIG. 10B, a slit 213 for pitching detection is formed in the groove. The focusing screen 125 is the light source 10.
2 and the condenser lens 103, and the focusing screen 124 is illuminated by the illumination system composed of the light source 122 and the condenser lens 123. Each slit 212, 213 of the focusing screen 125, 124
The light emitted from the light source is divided into different wavelength regions λ 1 and λ 2 by the dichroic prism 117, and then combined and travels to the half prism 105. The light emitted from the dichroic prism 117 is reflected by the half prism 105, becomes a parallel light flux by the objective lens 106, and is emitted from the housing 101 of the autocollimator. Housing 10
The parallel luminous flux emitted from the external mirror 1 is the external mirror-1 of the measuring object.
The light is reflected by 07, enters the objective lens 107 again, becomes convergent light, and passes through the half prism 105. The light transmitted through the half prism 105 is divided by the dichroic prism 118 into the wavelength ranges λ 1 and λ 2 . The light in the wavelength range λ 1 transmitted through the dichroic prism 118 reaches the CCD line sensor 108, and the light in the wavelength range λ 2 reflected by the dichroic prism 118 reaches the CCD line sensor 119.

【0010】ダイクロイックプリズム117,118の
分光特性を同一にしたとき、ダイクロイックプリズム1
17を透過した波長域をλ、ダイクロイックプリズム
117で反射した波長域をλとすると、焦点板125
のヨ−イング検出用のスリット212を出た波長域λ
の光は図11(a)に示すようにCCDラインセンサ1
08の受光面上にヨ−イング検出用のスリット像212
aを形成し、焦点板124のピッチング検出用のスリッ
ト213を出た波長域λの光は図11(b)に示すよ
うにCCDラインセンサ119の受光面上にピッチング
検出用のスリット像213aを形成する。
When the spectral characteristics of the dichroic prisms 117 and 118 are the same, the dichroic prism 1
Assuming that the wavelength range transmitted through 17 is λ 1 and the wavelength range reflected by the dichroic prism 117 is λ 2 , the focusing screen 125
Wavelength range λ 1 exiting slit 212 for detecting yawing of
The light of the CCD line sensor 1 as shown in FIG.
Slit image 212 for yaw detection on the light receiving surface of 08
The light in the wavelength region λ 1 which has formed a and has exited the slit 213 for pitching detection of the focusing screen 124 has a slit image 213a for pitching detection on the light receiving surface of the CCD line sensor 119 as shown in FIG. 11B. To form.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】図7の2軸光電式オ−
トコリメ−タでは、前述のようにヨ−イング検出用のス
リット112とピッチング検出用のスリット113を有
する1個の焦点板104と、1個のCCDラインセンサ
1108とを用いてヨ−イング測定及びピッチング測定
を行なうので、視野をヨ−イング測定領域とピッチング
測定領域とに割り振らなければならず、必然的にヨ−イ
ング及びピッチングのそれぞれの測定範囲が1/2以下
に制限されるという問題があった。
SUMMARY OF THE INVENTION The biaxial photoelectric type of FIG.
In the tocollimator, as described above, one focusing screen 104 having the slit 112 for yaw detection and the slit 113 for pitch detection and one CCD line sensor 1108 are used for yaw measurement and measurement. Since the pitching measurement is performed, the field of view must be allocated to the yawing measurement area and the pitching measurement area, which inevitably limits the measurement ranges of yawing and pitching to ½ or less. there were.

【0012】また、一般に対物レンズ106と外部ミラ
−107との距離いわゆるワ−キングディスタンスが長
くなるにつれて、視野中心から離れた位置から発した光
ほど対物レンズ106に戻り難くなるという現象が知ら
れているが、図7の2軸光電式オ−トコリメ−タの焦点
板104においてはヨ−イング検出用のスリット112
及びピッチング検出用のスリット113がそれぞれ視野
中心から離れた位置にあるため、大きなワ−キングディ
スタンスを得難いという問題があった。
Further, it is generally known that as the distance between the objective lens 106 and the external mirror 107, the so-called working distance, becomes longer, the light emitted from a position farther from the center of the visual field is less likely to return to the objective lens 106. However, in the focusing screen 104 of the two-axis photoelectric autocollimator of FIG. 7, a slit 112 for yawing detection is used.
Also, since the slits 113 for pitching detection are located away from the center of the visual field, it is difficult to obtain a large working distance.

【0013】これに対し、図9の2軸光電式オ−トコリ
メ−タでは、測定範囲やワ−キングデイスタンスは十分
得られるが、構造が複雑になり、製作コストの増大をも
たらすとともに、広い波長域にわたって光学的収差を押
さえなければ高い精度が得られず、高い精度を得るには
光学的収差を押さえるための煩雑な作業を強いられると
いう問題があった。
On the other hand, in the biaxial photoelectric autocollimator shown in FIG. 9, the measuring range and the working distance are sufficiently obtained, but the structure is complicated, the manufacturing cost is increased, and the width is wide. There is a problem that high accuracy cannot be obtained unless optical aberration is suppressed over the wavelength range, and complicated operation for suppressing optical aberration is required to obtain high accuracy.

【0014】この発明はこのような事情に鑑みてなされ
たもので、その課題は広い測定範囲と大きなワ−キング
ディスタンスを確保するとともに、簡単な構造で安価な
2軸光電式オ−トコリメ−タを提供することである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to secure a wide measuring range and a large working distance, and to have a simple structure and an inexpensive biaxial photoelectric autocollimator. Is to provide.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
め請求項1記載の発明の2軸光電式オ−トコリメ−タ
は、対物レンズの前方に配置された反射部材の傾きを測
定する2軸光電式オートコリメータにおいて、前記対物
レンズの焦点位置に配置可能であり、前記焦点位置に配
置されたときに前記対物レンズを介して前記反射部材に
X軸光線を発する第1ターゲットと、前記対物レンズの
焦点位置に配置可能であり、前記焦点位置に配置された
ときに前記対物レンズを介して前記反射部材にY軸光線
を発する第2ターゲットと、前記第1ターゲットと前記
第2ターゲットとの一方を前記焦点位置に択一的に選択
する選択手段と、前記反射部材で反射した前記X軸光線
又は前記Y軸光線を前記対物レンズを介して受光する受
光手段と、このスリット形成装置に前記X方向スリット
及び前記Y方向スリットのいずれか一方のスリットを形
成させるスリット選択手段とを備えている。
In order to solve the above-mentioned problems, a biaxial photoelectric autocollimator according to the invention described in claim 1 measures the inclination of a reflecting member arranged in front of the objective lens. In the axial photoelectric autocollimator, a first target that can be arranged at a focal position of the objective lens and emits an X-axis ray to the reflecting member via the objective lens when arranged at the focal position; A second target that can be arranged at the focal position of the lens and emits a Y-axis ray to the reflecting member via the objective lens when arranged at the focal position; and a first target and a second target. Selecting means for selectively selecting one of the focal points; light receiving means for receiving the X-axis ray or the Y-axis ray reflected by the reflecting member via the objective lens; And a slit selection means for forming either one of the slits of the X-direction slit and the Y-direction slit in preparative forming apparatus.

【0016】請求項2記載の発明の2軸光電式オ−トコ
リメ−タは、対物レンズの前方に配置された反射部材の
傾きを測定する2軸光電式オートコリメータにおいて、
X軸用スリットとY軸用スリットとを択一的に形成する
スリット形成手段と、このスリット形成手段に光を照射
する照明手段と、前記X軸用スリットと前記Y軸用スリ
ットとの一方を択一的に選択する選択手段とを備えてい
る。
The biaxial photoelectric autocollimator of the second aspect of the invention is a biaxial photoelectric autocollimator for measuring the inclination of a reflecting member arranged in front of an objective lens.
A slit forming means for selectively forming an X-axis slit and a Y-axis slit, an illuminating means for irradiating the slit forming means with light, and one of the X-axis slit and the Y-axis slit. And a selecting means for selectively selecting.

【0017】[0017]

【作用】 視野をピッチング測定領域とヨ−イング測定
領域とに割り振る必要がなく、広い測定範囲を確保する
ことができ、またピッチング検出用のX方向スリット及
びヨ−イング検出用のY方向スリットはいずれも視野中
心から離れていないので、大きなワ−キングディスタン
スが得られる。更に、スリット検出手段は1個で足り、
構造が簡単である。
It is not necessary to allocate the visual field to the pitching measurement area and the yawing measurement area, and a wide measurement range can be secured, and the X-direction slit for pitching detection and the Y-direction slit for yawing detection are Since they are not far from the center of the visual field, a large working distance can be obtained. Furthermore, one slit detection means is enough,
The structure is simple.

【0018】また、焦点板として発光素子を利用した自
己発光装置を用いるようにすれば、焦点板に光を照射す
るための照明系が不要になり、構造の簡素化を促進でき
る。
If a self-luminous device using a light emitting element is used as the focusing screen, an illumination system for irradiating the focusing plate with light is not required, and the simplification of the structure can be promoted.

【0019】[0019]

【実施例】以下この発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】図1はこの発明の第1実施例に係る2軸光
電式オ−トコリメ−タの全体構成図である。この2軸光
電式オ−トコリメ−タは、対物レンズ6の後側焦点位置
に配置された焦点板として機能するスリット形成装置と
しての液晶表示装置4と、この液晶表示装置4に光を照
射する照明系と、対物レンズ6の後側光路中で液晶表示
装置4と共役な位置に配置されたスリット検出手段とし
てのCCDラインセンサ8と、液晶表示装置4に接続さ
れたスリット選択装置9と、このスリット選択装置9及
びCCDラインセンサ8にケ−ブル10を介して接続さ
れ、スリット選択装置9に駆動信号を送出するととも
に、CCDラインセンサ8からの出力信号を処理するコ
ントロ−ラ11とを備えている。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a biaxial photoelectric autocollimator according to a first embodiment of the present invention. The biaxial photoelectric autocollimator irradiates the liquid crystal display device 4 as a slit forming device which functions as a focusing screen arranged at the back focal position of the objective lens 6 and the liquid crystal display device 4. An illumination system, a CCD line sensor 8 as slit detection means arranged at a position conjugate with the liquid crystal display device 4 in the rear optical path of the objective lens 6, and a slit selection device 9 connected to the liquid crystal display device 4, The slit selection device 9 and the CCD line sensor 8 are connected via a cable 10, and a controller 11 for sending a drive signal to the slit selection device 9 and processing an output signal from the CCD line sensor 8 is provided. I have it.

【0021】光源2及びコンデンサレンズ3は照明系を
構成し、液晶表示装置4を照明する。液晶表示装置4
は、図2(a)及び(b)に示すように、ヨ−イング検
出用のY方向スリット12とピッチング検出用のX方向
スリット13とを表示できる。液晶表示装置4は図4
(a)及び(b)に示すようにスリットパタ−ン4a,
4c,4d,4e、センタ−パタ−ン4b及びバックグ
ランドパタ−ン4fにより構成されている。ヨ−イング
検出をするときはスリット選択装置9により図4(a)
に示すスリットパタ−ン4a,4c及びセンタ−パタ−
ン4bをアクティブにして図2(a)に示すヨ−イング
検出用のY方向スリット12を形成し、ピッチング検出
をするときは図4(b)に示すスリットパタ−ン4d,
4e及びセンタ−パタ−ン4bをアクティブにして図2
(b)に示すピッチング検出用のX方向スリット13を
形成する。すなわち、光源2と、コンデンサレンズ3
と、X方向スリットとで第1ターゲットを構成し、光源
2と、コンデンサレンズ3と、Y方向スリットとで第2
ターゲットを構成している。
The light source 2 and the condenser lens 3 constitute an illumination system and illuminate the liquid crystal display device 4. Liquid crystal display device 4
2 can display a Y-direction slit 12 for yawing detection and an X-direction slit 13 for pitching detection, as shown in FIGS. The liquid crystal display device 4 is shown in FIG.
As shown in (a) and (b), slit patterns 4a,
4c, 4d, 4e, a center pattern 4b and a background pattern 4f. When yawing is detected, the slit selection device 9 is used to perform the operation shown in FIG.
Slit patterns 4a and 4c and center pattern shown in FIG.
2b is activated to form the Y-direction slit 12 for yawing detection shown in FIG. 2A, and when pitching detection is performed, the slit pattern 4d shown in FIG.
4e and the center pattern 4b are activated, as shown in FIG.
The X-direction slit 13 for pitching detection shown in (b) is formed. That is, the light source 2 and the condenser lens 3
And a slit in the X direction constitute a first target, and a light source 2, a condenser lens 3, and a slit in the Y direction form a second target.
You are configuring the target.

【0022】前記CCDラインセンサ8は、図3(a)
及び(b)に示すように、結像面においてY方向スリッ
ト像12a及びX方向スリット像13aに対してそれぞ
れ45度傾くように配置されている。
The CCD line sensor 8 is shown in FIG.
And (b), they are arranged so as to be inclined by 45 degrees with respect to the Y-direction slit image 12a and the X-direction slit image 13a on the image plane.

【0023】前記コントロ−ラ11は、スリット選択装
置9に駆動信号を送出する制御部11aと、CCDライ
ンセンサ8からの出力信号に基づいてヨ−イング量及び
ピッチング量を演算する演算部11bと、ヨ−イング量
及びピッチング量を表示する表示部11cとで構成され
ている。
The controller 11 includes a control section 11a for sending a drive signal to the slit selection device 9, and a calculation section 11b for calculating a yawing amount and a pitching amount based on the output signal from the CCD line sensor 8. , A yawing amount and a pitching amount are displayed on the display unit 11c.

【0024】次に、この実施例の2軸光電式オ−トコリ
メ−タの動作について説明する。
Next, the operation of the biaxial photoelectric autocollimator of this embodiment will be described.

【0025】例えばコントロ−ラ11の制御部11aか
ら送出された駆動信号にしたがってスリット選択装置9
がヨ−イング検出用のY方向スリット12を選択する選
択信号を液晶表示装置4に送出すると、液晶表示装置4
はスリットパタ−ン4a,4c及びセンタ−パタ−ン4
bをアクティブにして図2(a)に示すヨ−イング検出
用のY方向スリット12を形成する。
For example, the slit selection device 9 according to the drive signal sent from the controller 11a of the controller 11.
Sends a selection signal for selecting the Y direction slit 12 for yaw detection to the liquid crystal display device 4,
Is a slit pattern 4a, 4c and a center pattern 4
b is activated to form the Y-direction slit 12 for yaw detection shown in FIG.

【0026】液晶表示装置4のY方向スリット12を透
過した光はハ−フプリズム5で反射され、対物レンズ6
で平行光束になってオ−トコリメ−タのハウジング1か
ら射出する。ハウジング1から射出された平行光束は反
射部材としての外部ミラ−7で反射され、再び対物レン
ズ6に入射して収束光になり、ハ−フプリズム5を透過
した後、CCDラインセンサ8の受光面上にヨ−イング
検出用のスリット像12aを結ぶ。
The light transmitted through the Y-direction slit 12 of the liquid crystal display device 4 is reflected by the half prism 5, and the objective lens 6
Then, it becomes a parallel light beam and is emitted from the housing 1 of the autocollimator. The parallel light flux emitted from the housing 1 is reflected by an external mirror 7 as a reflecting member, enters the objective lens 6 again, becomes convergent light, passes through the half prism 5, and then is received by the CCD line sensor 8. A slit image 12a for yawing detection is formed on the top.

【0027】いまこの状態を初期状態として外部ミラ−
7にヨ−イング量θを与えた場合、図3(a)に示す
ように、ヨ−イング検出用のスリット像12aは移動量
Δ=2fθだけ結像面上を移動する。
Now, with this state as the initial state, the external mirror
7 Yo - when given queued amount theta H, as shown in FIG. 3 (a), Yo - slit image 12a for queuing detection moves on only image plane movement amount Δ H = 2fθ H.

【0028】これとは逆に、前記初期状態から外部ミラ
−7にピッチング量θを与えた場合、ヨ−イング検出
用のスリット像12aは移動量Δ=2fθだけ結像
面上を移動する。ここでヨ−イング検出用のスリット像
12aとCCDラインセンサ8との交点すなわち受光位
置に着目すると、外部ミラ−7にヨ−イング量θを与
えた場合にはヨ−イング量θに比例した受光位置の変
化が生じ、外部ミラ−7にピッチング量θを与えた場
合には受光位置は変化しない。したがって、ヨ−イング
検出時にピッチングが重畳されるようなことはない。こ
のようにしてスリット選択装置9がヨ−イング検出用の
Y方向スリット12を選択している場合には、CCDラ
インセンサ8は外部ミラ−7のヨ−イングだけを検出す
る。
[0028] Conversely, when given the pitching amount theta V outside mirror -7 from the initial state, yo - the slit image 12a for queuing detection on only image plane moving amount delta V = f [theta] V Moving. Here Yo - Focusing on the intersection i.e. receiving position of the slit image 12a and a CCD line sensor 8 for queuing detection, the external mirror -7 Yo - if gave queuing amount theta H yo - the queuing amount theta H change occurs in proportion to the light receiving position, the light receiving position when given pitching amount theta V outside mirror -7 is not changed. Therefore, pitching does not occur when yawing is detected. In this way, when the slit selection device 9 selects the Y-direction slit 12 for yaw detection, the CCD line sensor 8 detects only the yawing of the external mirror 7.

【0029】また、コントロ−ラ11の演算部11bに
はスリット選択装置9に送られる駆動信号と同期した同
期信号が与えられるので、演算部11bはケ−ブル10
を介してCCDラインセンサ8から受け取った角変位情
報をヨ−イングとして認識し、演算する。演算部11b
での演算結果は表示部11cに送られ、表示部11cは
ヨ−イング量θを表示する。
Further, since the arithmetic unit 11b of the controller 11 is supplied with a synchronizing signal synchronized with the drive signal sent to the slit selecting device 9, the arithmetic unit 11b is connected to the cable 10.
The angular displacement information received from the CCD line sensor 8 via is recognized as yawing and is calculated. Computing unit 11b
The calculation result at is sent to the display unit 11c, and the display unit 11c displays the yawing amount θ H.

【0030】これに対し、コントロ−ラ11の制御部1
1aからの駆動信号にしたがってスリット選択装置9が
ピッチング検出用のX方向スリット13を選択した場
合、液晶表示装置4はスリットパタ−ン4d,4e及び
センタ−パタ−ン4bをアクティブにして図2(b)に
示すピッチング検出用のX方向スリット13を形成す
る。
On the other hand, the controller 1 of the controller 11
When the slit selection device 9 selects the X-direction slit 13 for pitching detection in accordance with the drive signal from 1a, the liquid crystal display device 4 activates the slit patterns 4d and 4e and the center pattern 4b, as shown in FIG. The X-direction slit 13 for pitching detection shown in b) is formed.

【0031】液晶表示装置4のX方向スリット13を透
過した光は図3(b)に示すようにCCDラインセンサ
8の受光面上にピッチング検出用のスリット像13aを
結ぶ。前述の場合と異なり、スリット選択装置9がピッ
チング検出用のX方向スリット13を選択している場合
には、CCDラインセンサ8は外部ミラ−7のピッチン
グだけを検出する。コントロ−ラ11の演算部11bに
はスリット選択装置9に送られる駆動信号と同期した同
期信号が与えられるので、演算部11bはCCDライン
センサ8から受け取った角変位情報をピッチングとして
認識し、演算する。その演算結果は表示部11cに送ら
れ、表示部11cはピッチング量θを表示する。
The light transmitted through the X-direction slit 13 of the liquid crystal display device 4 forms a slit image 13a for pitching detection on the light receiving surface of the CCD line sensor 8 as shown in FIG. 3 (b). Unlike the case described above, when the slit selection device 9 selects the X-direction slit 13 for pitching detection, the CCD line sensor 8 detects only the pitching of the external mirror 7. Since the synchronizing signal synchronized with the drive signal sent to the slit selecting device 9 is given to the computing unit 11b of the controller 11, the computing unit 11b recognizes the angular displacement information received from the CCD line sensor 8 as pitching, and performs the computation. To do. The calculation result is transmitted to the display unit 11c, the display unit 11c displays the pitching amount theta V.

【0032】この第1実施例の2軸光電式オ−トコリメ
−タによれば、ヨ−イング検出用のY方向スリット12
とピッチング検出用のX方向スリット13とを表示でき
る液晶表示装置4をスリット形成装置として採用し、そ
の液晶表示装置4にスリット選択装置9によってヨ−イ
ング検出用のY方向スリット12とピッチング検出用の
X方向スリット13とのいずれか一方だけを選択表示さ
せるようにしたので、視野をヨ−イング測定領域とピッ
チング測定領域とに割り振る必要がなく、広い測定範囲
を確保することができ、またヨ−イング検出用のY方向
スリット12及びピッチング検出用のX方向スリット1
3はいずれも視野中心から離れていないので(図2参
照)、大きなワ−キングディスタンスが得られる。更
に、焦点板として機能する液晶表示装置4と、スリット
検出手段としてのCCDラインセンサ8とはそれぞれ1
個で足りるので構造が簡単になり、またダイクロイック
プリズムを用いないので、光学的収差を押さえるための
煩雑な調整作業を要せずに高い精度を得ることができ
る。
According to the biaxial photoelectric autocollimator of the first embodiment, the Y-direction slit 12 for yaw detection is used.
And a liquid crystal display device 4 capable of displaying an X-direction slit 13 for pitching detection are adopted as a slit forming device, and the liquid crystal display device 4 is provided with a slit selection device 9 for Y-direction slit 12 for yawing detection and pitching detection. Since only one of the X-direction slits 13 is selectively displayed, it is not necessary to allocate the field of view to the yawing measurement area and the pitching measurement area, and a wide measurement range can be secured. -Y-direction slit 12 for ing detection and X-direction slit 1 for pitching detection
Since 3 is not far from the center of the visual field (see FIG. 2), a large working distance can be obtained. Further, the liquid crystal display device 4 functioning as a focusing screen and the CCD line sensor 8 as a slit detecting means are respectively 1
Since the number of pieces is sufficient, the structure is simple, and since no dichroic prism is used, high accuracy can be obtained without requiring a complicated adjustment work for suppressing optical aberrations.

【0033】前述の実施例ではスリット形成装置として
液晶表示装置4を用いた場合について述べたが、これに
代え、視野中心を通る1つの直線的なスリットを有する
焦点板と、この焦点板を視野中心を回転中心にして正逆
方向へ90度回転駆動させる回転駆動手段とで構成した
スリット形成装置を採用し、スリット選択装置で回転駆
動手段を駆動させることにより焦点板を回転させ、ヨ−
イング検出用のY方向スリットとピッチング検出用のX
方向スリットとのいずれか一方を選択するようにしても
よい。
Although the liquid crystal display device 4 is used as the slit forming device in the above-described embodiment, instead of this, a focusing screen having one linear slit passing through the center of the visual field and the focusing screen. A slit forming device constituted by a rotation driving means for rotating 90 degrees in the forward and reverse directions with the center as the rotation center is adopted, and the focusing plate is rotated by driving the rotation driving means by the slit selecting device, and the yaw is moved.
Y direction slit for ing detection and X for pitching detection
Either one of the directional slits may be selected.

【0034】また、前述の実施例では照明系として光源
2及びコンデンサレンズ3、焦点板として機能する液晶
表示装置4を用いた場合について述べたが、これらに代
え、焦点板として発光素子(例えばLED)を直交する
X方向とY方向とに沿って配列してなる自己発光装置を
採用し、スリット選択装置9に代わる発光素子選択手段
を用いて、自己発光装置のX方向沿いの発光素子とY方
向沿いの発光素子とのいずれか一方の発光素子を点灯さ
せるようにすれば、光源2及びコンデンサレンズ3が不
要になり、構造を更に簡素化することができる。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case where the light source 2 and the condenser lens 3 and the liquid crystal display device 4 functioning as a focusing plate are used as the illumination system has been described, but instead of these, a light emitting element (eg LED) is used as the focusing plate. ) Are arranged along an X direction and a Y direction which are orthogonal to each other, and a light emitting element selecting unit instead of the slit selecting device 9 is used to emit light emitting elements and Y along the X direction of the self light emitting apparatus. If one of the light emitting elements along the direction is turned on, the light source 2 and the condenser lens 3 are unnecessary, and the structure can be further simplified.

【0035】図5はこの発明の第2実施例に係る2軸光
電式オ−トコリメ−タの全体構成図である。前述の実施
例と共通する部分には同一符号を付して説明を省略す
る。この実施例では、対物レンズ6の後側光路はハ−フ
プリズム5,14によって3分岐され、各光路の対物レ
ンズ6の共役な焦点位置にはそれぞれ焦点板4,24及
びCCDラインセンサ8が配置されている。一方の焦点
板4にはヨ−イング検出用のY方向スリット、他方の焦
点板24にはピッチング検出用のX方向スリットがそれ
ぞれ形成されている。光源2と、コンデンサレンズ3
と、焦点板4とで第1ターゲットを構成し、光源22
と、コンデンサレンズ23と、焦点板24とで第2ター
ゲットを構成している。また、両照明系の光源2,22
はそれぞれ照明系選択装置29に接続されている。照明
系選択装置29はコントロ−ラ11の制御部11aから
の駆動信号にしたがっていずれか一方の光源2,22を
択一的に点灯させる。この実施例の2軸光電式オ−トコ
リメ−タによれば、図1の実施例と同様の効果を得るこ
とができる。
FIG. 5 is an overall block diagram of a biaxial photoelectric autocollimator according to the second embodiment of the present invention. The same parts as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In this embodiment, the rear optical path of the objective lens 6 is branched into three by the Hough prisms 5 and 14, and the focusing plates 4 and 24 and the CCD line sensor 8 are arranged at the conjugate focal positions of the objective lens 6 in each optical path. Has been done. One focusing screen 4 is formed with a Y-direction slit for yawing detection, and the other focusing screen 24 is formed with an X-direction slit for pitching detection. Light source 2 and condenser lens 3
And the focusing screen 4 constitute a first target, and the light source 22
The condenser lens 23 and the focusing screen 24 constitute a second target. In addition, the light sources 2 and 22 for both illumination systems
Are connected to the illumination system selection device 29, respectively. The illumination system selection device 29 selectively turns on one of the light sources 2 and 22 in accordance with a drive signal from the controller 11a of the controller 11. According to the biaxial photoelectric autocollimator of this embodiment, the same effect as that of the embodiment of FIG. 1 can be obtained.

【0036】この実施例では光源2,22、コンデンサ
レンズ3,23及び焦点板4,24を用いた場合につい
て述べたが、これらに代え、焦点板4として発光素子
(例えばLED)をY方向に沿って配列してなる第1の
自己発光装置と、焦点板24として発光素子(例えばL
ED)をY方向と直交するX方向に沿って配列してなる
第2の自己発光装置とを採用し、照明系選択装置29に
代わる発光素子選択手段を用いて、第1の自己発光装置
の発光素子と第2の自己発光装置の発光素子とのいずれ
か一方の自己発光装置の発光素子だけを点灯させるよう
にすれば、光源2,22及びコンデンサレンズ3,23
が不要になり、構造を簡素化することができる。
In this embodiment, the case where the light sources 2 and 22, the condenser lenses 3 and 23, and the focusing screens 4 and 24 are used has been described. Instead of these, a light emitting element (for example, LED) is used as the focusing screen 4 in the Y direction. A first self-luminous device arranged along the light-emitting device, and a light-emitting element (for example, L
ED) is arranged along the X direction orthogonal to the Y direction, and the second self-luminous device is adopted. If only one of the light emitting element and the light emitting element of the second self light emitting device is turned on, the light sources 2 and 22 and the condenser lenses 3 and 23 are formed.
Is unnecessary, and the structure can be simplified.

【0037】図6はこの発明の第3実施例に係る2軸光
電式オ−トコリメ−タの全体構成図である。図5の実施
例と共通する部分には同一符号を付して説明を省略す
る。
FIG. 6 is an overall block diagram of a biaxial photoelectric autocollimator according to the third embodiment of the present invention. The same parts as those of the embodiment of FIG. 5 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0038】ヨ−イング検出用のY方向スリットを有す
る焦点板4と、ピッチング検出用のY方向スリットを有
する焦点板24と、両焦点板4,24のそれぞれに対応
する2つの照明系とを備えている点は図5の実施例と共
通するが、ハ−フプリズム15と焦点板4,24との間
に、2つの照明系のいずれか一方の照明系の光路を遮断
する光路遮断手段としてのチョッパ機構16を設け、こ
のチョッパ機構16を光路選択手段としての光路選択装
置39で作動させるようにした点が図5の実施例と異な
る。チョッパ機構16は軸受16bで回転可能に支持さ
れたシャフト16aと、シャフト16aに固定された回
転板16cと、シャフト16aを回転駆動する図示しな
い駆動部とで構成され、回転板16cに1個の孔16d
が設けられている。2つの照明系の光源2,22はいず
れも常時点灯しており、コントロ−ラ11の制御部11
aからの駆動信号に応じて光路選択装置39がシャフト
16aに駆動力を与えて回転板16cを回転させ、2つ
の照明系のいずれか一方の照明系の光路を選択し、他方
の照明系の光路を遮断するようにした。この実施例の2
軸光電式オ−トコリメ−タによれば、前述の実施例と同
様の効果を得ることができる。
A focusing screen 4 having a Y-direction slit for yawing detection, a focusing screen 24 having a Y-direction slit for pitching detection, and two illumination systems corresponding to the focusing screens 4 and 24 are provided. Although it is common to the embodiment of FIG. 5 in that it is provided, as an optical path blocking means for blocking the optical path of either one of the two illumination systems between the half prism 15 and the focusing plates 4 and 24. 5 is different from the embodiment of FIG. 5 in that the chopper mechanism 16 is provided and the chopper mechanism 16 is operated by an optical path selecting device 39 as an optical path selecting means. The chopper mechanism 16 includes a shaft 16a rotatably supported by a bearing 16b, a rotary plate 16c fixed to the shaft 16a, and a drive unit (not shown) that rotationally drives the shaft 16a. Hole 16d
Is provided. Both the light sources 2 and 22 of the two illumination systems are constantly lit, and the control unit 11 of the controller 11
The optical path selection device 39 applies a driving force to the shaft 16a to rotate the rotary plate 16c in response to the drive signal from a to select the optical path of one of the two illumination systems and select the other of the illumination systems. The light path is blocked. 2 of this embodiment
According to the axial photoelectric autocollimator, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained.

【0039】この実施例では光源2,22、コンデンサ
レンズ3,23及び焦点板4,24を用いた場合につい
て述べたが、これらに代え、焦点板4として発光素子
(例えばLED)をY方向に沿って配列してなる第1の
自己発光装置と、焦点板24として発光素子(例えばL
ED)をY方向と直交するX方向に沿って配列してなる
第2の自己発光装置とを採用し、光路選択装置39によ
り第1の自己発光装置の発光素子と第2の自己発光装置
の発光素子とのいずれか一方の自己発光装置の発光素子
の光路を遮断するようにすれば、光源2,22及びコン
デンサレンズ3,23が不要になり、構造を簡素化する
ことができる。この場合も両自己発光装置の発光素子は
常時発光させておく。
In this embodiment, the case where the light sources 2 and 22, the condenser lenses 3 and 23, and the focusing screens 4 and 24 are used has been described. Instead of these, a light emitting element (for example, LED) is used as the focusing screen 4 in the Y direction. A first self-luminous device arranged along the light-emitting device, and a light-emitting element (for example, L
ED) is arranged along the X direction orthogonal to the Y direction, and a second self-luminous device of the first self-luminous device and the second self-luminous device is adopted by the optical path selection device 39. If the optical path of the light emitting element of one of the light emitting elements and the light emitting element is blocked, the light sources 2 and 22 and the condenser lenses 3 and 23 are unnecessary, and the structure can be simplified. Also in this case, the light emitting elements of both self light emitting devices are always made to emit light.

【0040】なお、前述の各実施例に接眼レンズによる
観察系を設けるようにすれば、ピッング、ヨ−イングの
スイッチング周波数あるいはピッチング、ヨーイングを
切換える周波数を数10Hz以上にすることにより目の
残像効果によって十字形のスリット像が得られ、アライ
メント作業が容易になる。
If an observation system using an eyepiece lens is provided in each of the above-described embodiments, the afterimage effect of the eye can be obtained by setting the switching frequency for picking and yawing or the frequency for switching pitching and yawing to several tens Hz or more. By this, a cross-shaped slit image is obtained, which facilitates alignment work.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明の2軸光電
式オ−トコリメ−タによれば、広い測定範囲と大きなワ
−キングディスタンスとを確保するとともに、構造の簡
素化とコスト低減を図ることができる。
As described above, according to the biaxial photoelectric autocollimator of the present invention, a wide measuring range and a large working distance are secured, and the structure is simplified and the cost is reduced. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1はこの発明の第1実施例に係る2軸光電式
オ−トコリメ−タの全体構成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a biaxial photoelectric autocollimator according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2は焦点板のスリットを示す図である。FIG. 2 is a diagram showing slits in a focusing screen.

【図3】図3はスリット像とCCDラインセンサの受光
面との関係を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a relationship between a slit image and a light receiving surface of a CCD line sensor.

【図4】図4は焦点板の正面図である。FIG. 4 is a front view of a focusing screen.

【図5】図5はこの発明の第2実施例に係る2軸光電式
オ−トコリメ−タの全体構成図である。
FIG. 5 is an overall configuration diagram of a biaxial photoelectric autocollimator according to a second embodiment of the present invention.

【図6】図6はこの発明の第3の実施例に係る2軸光電
式オ−トコリメ−タの全体構成図である。
FIG. 6 is an overall configuration diagram of a biaxial photoelectric autocollimator according to a third embodiment of the present invention.

【図7】図7は従来の2軸光電式オ−トコリメ−タの全
体構成図である。
FIG. 7 is an overall configuration diagram of a conventional biaxial photoelectric autocollimator.

【図8】図8は焦点板のスリットを示す図及びスリット
像とCCDラインセンサの受光面との関係を説明するた
めの図である。
FIG. 8 is a diagram showing a slit of a focusing screen and a diagram for explaining a relationship between a slit image and a light receiving surface of a CCD line sensor.

【図9】図9は従来の他の2軸光電式オ−トコリメ−タ
の全体構成図である。
FIG. 9 is an overall configuration diagram of another conventional two-axis photoelectric type autocollimator.

【図10】図10は焦点板のスリットを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing slits in a focusing screen.

【図11】図11はスリット像とCCDラインセンサの
受光面との関係を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a relationship between a slit image and a light receiving surface of a CCD line sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 光源 3 コンデンサレンズ 4 液晶表示装置 6 対物レンズ 7 外部ミラ− 8 CCDラインセンサ 9 スリット選択装置 11 コントロ−ラ 2 Light source 3 Condenser lens 4 Liquid crystal display device 6 Objective lens 7 External mirror 8 CCD line sensor 9 Slit selection device 11 Controller

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対物レンズの前方に配置された反射部材
の傾きを測定する2軸光電式オートコリメータにおい
て、 前記対物レンズの焦点位置に配置可能であり、前記焦点
位置に配置されたときに前記対物レンズを介して前記反
射部材にX軸光線を発する第1ターゲットと、 前記対物レンズの焦点位置に配置可能であり、前記焦点
位置に配置されたときに前記対物レンズを介して前記反
射部材にY軸光線を発する第2ターゲットと、 前記第1ターゲットと前記第2ターゲットとの一方を前
記焦点位置に択一的に選択する選択手段と、 前記反射部材で反射した前記X軸光線又は前記Y軸光線
を前記対物レンズを介して受光する受光手段と、 から構成されることを特徴とする2軸光電式オ−トコリ
メ−タ。
1. A two-axis photoelectric autocollimator for measuring the inclination of a reflecting member arranged in front of an objective lens, wherein the two-axis photoelectric autocollimator can be arranged at a focal position of the objective lens, and when arranged at the focal position. A first target that emits an X-axis light beam to the reflection member via an objective lens, and a first target that can be arranged at a focal position of the objective lens, and is arranged at the reflection member via the objective lens when arranged at the focal position. A second target that emits a Y-axis ray; a selection unit that selectively selects one of the first target and the second target at the focal position; the X-axis ray or the Y-axis reflected by the reflecting member. A two-axis photoelectric autocollimator, comprising: a light receiving means for receiving an axial light beam through the objective lens.
【請求項2】 対物レンズの前方に配置された反射部材
の傾きを測定する2軸光電式オートコリメータにおい
て、 X軸用スリットとY軸用スリットとを択一的に形成する
スリット形成手段と、 このスリット形成手段に光を照射する照明手段と、 前記X軸用スリットと前記Y軸用スリットとの一方を択
一的に選択する選択手段と、 から構成されることを特徴とする2軸光電式オートコリ
メータ。
2. A two-axis photoelectric autocollimator for measuring the inclination of a reflecting member arranged in front of an objective lens, comprising slit forming means for selectively forming an X-axis slit and a Y-axis slit, A biaxial photoelectric device, comprising: an illuminating means for irradiating the slit forming means with light; and a selecting means for selectively selecting one of the X-axis slit and the Y-axis slit. Type auto collimator.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113639677A (en) * 2021-07-30 2021-11-12 哈尔滨工业大学 High-frequency-response two-dimensional photoelectric auto-collimation method and device based on wavefront correction

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113639677A (en) * 2021-07-30 2021-11-12 哈尔滨工业大学 High-frequency-response two-dimensional photoelectric auto-collimation method and device based on wavefront correction
CN113639677B (en) * 2021-07-30 2024-02-09 哈尔滨工业大学 High-frequency response two-dimensional photoelectric auto-collimation method and device based on wavefront correction

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