JPH06145175A - Production of 3-alkoxymethyl-cephalosporin derivative - Google Patents

Production of 3-alkoxymethyl-cephalosporin derivative

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JPH06145175A
JPH06145175A JP30107092A JP30107092A JPH06145175A JP H06145175 A JPH06145175 A JP H06145175A JP 30107092 A JP30107092 A JP 30107092A JP 30107092 A JP30107092 A JP 30107092A JP H06145175 A JPH06145175 A JP H06145175A
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acid
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formula
salt
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Masao Hirayama
征男 平山
Shuji Sayama
修二 佐山
Setsuo Watanabe
節雄 渡辺
Kiyomi Yamaguchi
清実 山口
Shigeru Miyamoto
茂 宮本
Keisuke Kato
圭介 加藤
Tomio Sasao
富夫 笹尾
Seishi Iijima
清史 飯島
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Sankyo Organic Chemicals Co Ltd
Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To efficiently produce the subject derivative of high purity, useful, e.g. as a raw material of cephalosporin-based antibiotics in a high yield without environmental pollution by reacting aminoacetoxymethylcephemcarboxylic acid (salt) under a specified condition. CONSTITUTION:With 7-amino-3-acetoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (salt) of formula I, an alkoxylane of formula (R<3>)xSi(OR<2>)4-x (R<3> is R<1>; x is 0 to 3) or this alkoxylane and a lower alcohol of formula R<2>OH are reacted in the presence of an organic sulfonic acid of formula R<1>SO3H (R<1> is a lower alkyl or an aryl) or a lower alkoxysulfonic acid of formula R<2>OSO3H (R<2> is a lower alkyl). Thereby, the objective 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (salt) of formula II is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は7−アミノ−3−アルコ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸またはその
塩の製造法に関するものである。本化合物は優れた抗菌
作用を有するセファロスポリン系抗生物質の原料物質と
して重要なものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or a salt thereof. This compound is important as a raw material for cephalosporin antibiotics having excellent antibacterial activity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、7−アミノ−3−アルコキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸の製法としては、7
−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(以下7−ACAという)を、(a)三フツ
化ホウ素または三フツ化ホウ素錯体の存在下で低級アル
コールと反応させる方法(特開昭61−289093
号)、(b)7−ACAをプロトン酸、ルイス酸または
その錯化合物とホウ酸エステル類、オルソ有機酸エステ
ル類またはアセタール類と反応させる方法(特開平2−
49790号)、(c)7−ACAと低級アルコキシス
ルフォン酸を含む低級アルコール溶液並びにホウ酸トリ
低級アルキル及び/又はメチラール類を存在させ、反応
させる方法(EP485204号)が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a method for producing 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid is 7
-Amino-3-acetoxymethyl-3-cephem-4-
A method of reacting a carboxylic acid (hereinafter referred to as 7-ACA) with a lower alcohol in the presence of (a) boron trifluoride or a boron trifluoride complex (JP-A-61-289093).
No.), (b) 7-ACA is reacted with a protonic acid, a Lewis acid or a complex compound thereof with boric acid esters, ortho organic acid esters or acetals (JP-A-2-
49790), (c) a lower alcohol solution containing 7-ACA and lower alkoxysulfonic acid, and a method of reacting in the presence of a tri-lower alkyl borate and / or methylals (EP485204).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これらの方法の中、
(a)法はラクトン体が多量に副生したり、目的化合物
の単離工程が複雑である。又、(b)法は、反応後、触
媒として使用した金属化合物の除去等が容易ではなく、
工業的製法としては必ずしも好ましい方法とはいえなか
った。本出願人等による(c)法は、収率は良いが、製
造に際して発生する廃水中にホウ素化合物が含まれ、環
境保全上問題があった。
Among these methods,
In the method (a), a large amount of lactone is produced as a by-product, and the isolation process of the target compound is complicated. Further, in the method (b), it is not easy to remove the metal compound used as a catalyst after the reaction,
It cannot be said that the method is industrially preferable. Although the yield of the method (c) by the present applicants is good, the boron compound is contained in the waste water generated during the production, which is a problem in terms of environmental protection.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上述の問題
点を考慮しつつ鋭意研究を重ねた結果、7−ACAまた
はその塩に、有機スルフォン酸または低級アルコキシス
ルフォン酸の存在下、アルコキシシラン類または該アル
コキシシラン類と低級アルコールとを反応させることに
より、目的化合物が高純度及び高収率で得られ、廃水中
に珪素化合物を殆ど含有せず、環境保全上有益な、7−
アミノ−3−アルコキシメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸またはその塩の製造方法を見出し、本発明を完
成した。即ち
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies conducted by the present inventors in view of the above problems, 7-ACA or a salt thereof was treated with an alkoxy compound in the presence of an organic sulfonic acid or a lower alkoxysulfonic acid. By reacting silanes or the alkoxysilanes with a lower alcohol, the target compound can be obtained with high purity and high yield, and the waste water contains almost no silicon compound, which is beneficial for environmental protection.
The present invention has been completed by finding a method for producing amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or a salt thereof. I.e.

【0005】[0005]

【発明の構成】一般式(1)DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION General Formula (1)

【0006】[0006]

【化3】 [Chemical 3]

【0007】で示される7−アミノ−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸またはその塩に、
一般式(2) R1 SO3 H (2) [式中R1 は、低級アルキル基及びアリール基]で示さ
れる有機スルフォン酸または一般式(3) R2 OSO3 H (3) [式中R2 は、低級アルキル基]で示される低級アルコ
キシスルフォン酸の存在下、一般式(4) (R3x Si(OR24-x (4) [式中R3 は低級アルキル基及びアリール基、R2 は前
記の基、xは0〜3の整数]で示されるアルコキシシラ
ン類または該アルコキシシラン類と一般式(5) R2 OH (5) [R2 は前記の基]で示される低級アルコールとを反応
させることを特徴とする一般式(6)
7-amino-3-acetoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or salt thereof represented by
General formula (2) R 1 SO 3 H (2) [wherein R 1 is a lower alkyl group and aryl group] or an organic sulfonic acid represented by the general formula (3) R 2 OSO 3 H (3) [wherein R 2 is a lower alkyl group] in the presence of a lower alkoxysulfonic acid represented by the general formula (4) (R 3 ) x Si (OR 2 ) 4-x (4) [wherein R 3 is a lower alkyl group and An aryl group, R 2 is the above group, x is an integer of 0 to 3] or alkoxysilanes represented by the formula (5) R 2 OH (5) [R 2 is the above group] General formula (6) characterized by reacting with a lower alcohol shown

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】[式中のR2 は前記の基]で示される7−
アミノ−3−アルコキシメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸またはその塩の製造法。
[In the formula, R 2 is the above-mentioned group] 7-
A process for producing amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or a salt thereof.

【0010】本発明において、前記一般式(1)及び一
般式(6)で示される化合物の塩とは、それらにおいて
遊離に存在するカルボキシル基における塩またはアミノ
基における酸付加塩を意味し、カルボキシル基における
塩としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属
との塩、アンモニウム塩、含窒素有機塩基との塩等が挙
げられ、またアミノ基における塩としては、塩酸、硫酸
等の鉱酸との酸付加塩、シュウ酸、ギ酸、トリクロル酢
酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸との酸付加塩、メ
タンスルフォン酸、トルエンスルフォン酸、ナフタレン
スルフォン酸、メトキシスルフォン酸等のスルフォン酸
との酸付加塩等が挙げられる。
In the present invention, the salt of the compound represented by the general formula (1) or the general formula (6) means a salt in the carboxyl group or an acid addition salt in the amino group which is present in the free state thereof. Examples of the salt in the group include salts with alkali metals and alkaline earth metals, ammonium salts, salts with nitrogen-containing organic bases, and the like in the amino group, mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid. Acid addition salts with carboxylic acids such as oxalic acid, formic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc., acid addition salts with sulfonic acids such as methanesulfonic acid, toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, methoxysulfonic acid, etc. Etc.

【0011】本発明において用いられる一般式(2)の
1 SO3 Hで示される有機スルフォン酸のR1 は、低
級アルキル基及びアリール基であり、該有機スルフォン
酸の例としては、低級アルキルスルフォン酸及びアリー
ルスルフォン酸を挙げることが出来る。R1 が低級アル
キル基である例としては、メチル、エチル、プロピル及
びブチル等の基を挙げることが出来、その低級アルキル
スルフォン酸の例としては、メタンスルフォン酸、エタ
ンスルフォン酸、プロパンスルフォン酸及びブタンスル
フォン酸等が挙げられる。R1 がアリール基である例と
しては、フェニル基及びトリル基等を挙げることが出
来、そのアリールスルフォン酸の例としては、ベンゼン
スルフォン酸及びp−トルエンスルフォン酸等を挙げる
ことが出来る。
[0011] R 1 of the organic sulfonic acid represented by R 1 SO 3 H in the general formula for use in the present invention (2) is a lower alkyl group and aryl group, examples of the organic sulfonic acid, lower alkyl Mention may be made of sulphonic acid and arylsulphonic acid. Examples of R 1 being a lower alkyl group include groups such as methyl, ethyl, propyl and butyl, and examples of the lower alkyl sulfonic acid include methane sulfonic acid, ethane sulfonic acid, propane sulfonic acid and Butane sulfonic acid etc. are mentioned. Examples of R 1 being an aryl group include phenyl group and tolyl group, and examples of the aryl sulfonic acid thereof include benzene sulfonic acid and p-toluene sulfonic acid.

【0012】本発明において用いられる一般式(3)の
2 OSO3 Hで示される低級アルコキシスルフォン酸
のR2 が低級アルキル基である例としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル及びイソブチル
等を挙げることが出来、その低級アルコキシスルフォン
酸の例としては、メトキシスルフォン酸、エトキシスル
フォン酸、プロポキシスルフォン酸、イソプロポキシス
ルフォン酸、ブトキシスルフォン酸及びイソブトキシス
ルフォン酸等を挙げることが出来る。
Examples in which R 2 of the lower alkoxy sulfonic acid represented by R 2 OSO 3 H of the general formula (3) used in the present invention is a lower alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and isobutyl. Examples of the lower alkoxy sulfonic acid include methoxy sulfonic acid, ethoxy sulfonic acid, propoxy sulfonic acid, isopropoxy sulfonic acid, butoxy sulfonic acid and isobutoxy sulfonic acid.

【0013】本発明において用いられる低級アルコキシ
スルフォン酸の製法は、クロルスルフォン酸または無水
硫酸に対して、低級アルコールを等モル以上を反応させ
ることにより得られるが、クロルスルフォン酸を用いた
場合は、塩化水素を窒素ガスなどによって系外に十分に
排出除去するのが望ましい。また、無水硫酸を用いた場
合は、クロルスルフォン酸を用いる場合よりも、より低
温で反応させることにより製造される。いずれの場合
も、必要ならば反応に悪影響を及ぼさないような溶剤、
例えば、ジクロルメタン及びジクロルエタンのような有
機塩素系溶剤を使用することも出来る。
The method for producing the lower alkoxy sulfonic acid used in the present invention can be obtained by reacting chlorosulfonic acid or sulfuric anhydride with an equimolar amount or more of a lower alcohol. When chlorosulfonic acid is used, It is desirable to sufficiently discharge and remove hydrogen chloride from the system by using nitrogen gas or the like. In addition, when sulfuric acid anhydride is used, it can be produced by reacting at a lower temperature than when chlorosulfonic acid is used. In any case, if necessary, a solvent that does not adversely affect the reaction,
For example, an organic chlorine-based solvent such as dichloromethane and dichloroethane can be used.

【0014】本発明において、低級アルコキシスルフォ
ン酸を使用した場合には、その低級アルコキシル基は、
一般式(1)中のアセトキシル基と置換する効果がある
ので、低級アルコキシスルフォン酸のR2 は一般式
(6)のR2 と同一である。本発明において、有機スル
フォン酸及び低級アルコキシスルフォン酸を混合して用
いることも出来る。
In the present invention, when a lower alkoxy sulfonic acid is used, the lower alkoxy group is
Since the effect of replacing the acetoxyl group in the general formula (1), R 2 a lower alkoxy sulfonic acid is the same as R 2 in the general formula (6). In the present invention, an organic sulfonic acid and a lower alkoxy sulfonic acid may be mixed and used.

【0015】本発明において用いられる一般式(2)の
1 SO3 Hで示される有機スルフォン酸または一般式
(3)のR2 OSO3 Hで示される低級アルコキシスル
フォン酸の、7−ACAに対する使用量は特に限定され
ないが、一般には当倍モル乃至100倍モル使用され、
3倍モル乃至50倍モル使用するのが好ましい。当該酸
の使用量が当倍モルより少ない場合には反応速度が遅く
なり、また100倍モルより多い場合には、添加した程
の収率向上が見られない。
7-ACA of the organic sulfonic acid represented by R 1 SO 3 H of the general formula (2) or the lower alkoxy sulfonic acid represented by R 2 OSO 3 H of the general formula (3) used in the present invention. The amount used is not particularly limited, but is generally used in equimolar to 100-fold molar amounts,
It is preferable to use 3 to 50 times mol. When the amount of the acid used is less than this mole, the reaction rate becomes slow, and when it is more than 100 mole, the yield improvement as much as the addition is not observed.

【0016】本発明において用いられる一般式(4)の
(R3x Si(OR24-x で示されるアルコキシシ
ラン類の中で好ましい例としては、Si(OR24
たは(R3 )Si(OR23 を挙げることが出来る。
Among the alkoxysilanes represented by (R 3 ) x Si (OR 2 ) 4-x of the general formula (4) used in the present invention, preferable examples include Si (OR 2 ) 4 or (R 3 ) Si (OR 2 ) 3 can be mentioned.

【0017】一般式(4)のR3 は、低級アルキル基及
びアリール基であり、その低級アルキル基の例として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
及びイソブチル等の基を挙げることが出来、R3 のアリ
ール基の例としては、フェニル基及びトリル基等を挙げ
ることが出来る。一般式(4)中のR2 は低級アルキル
基であって、一般式(3)のR2 と同一の基である。
R 3 in the general formula (4) is a lower alkyl group or an aryl group, and examples of the lower alkyl group include groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and isobutyl. Examples of the aryl group of R 3 and R 3 include a phenyl group and a tolyl group. R 2 in the general formula (4) is a lower alkyl group and is the same group as R 2 in the general formula (3).

【0018】該アルコキシシラン類の例としては、Si
(OCH34 ,Si(OC254 ,Si(OC3
74 ,Si(O-isoC374 ,Si(OC4
94 ,Si(O-isoC494 CH3 Si(OCH
33 ,CH3 Si(OC253 ,CH3 Si(O
373 ,CH3 Si(O-isoC373 ,CH
3 Si(OC493 ,CH3 Si(O-isoC4
93 ,(CH32 Si(OCH32 ,(CH3
2 Si(OC492 ,(CH33 Si(OCH
3 ),(CH33 Si(OC49 ),C25 Si
(OCH33 ,C25 Si(OC253 ,(C
252 Si(OCH32 ,(C252 Si
(OC252 ,(C253 Si(OC2
5 ),C37 Si(OCH33 ,iso-C37 Si
(OCH33 ,C49 Si(OCH33 ,iso-C
49 Si(OCH33 ,C65 Si(OCH3
3 ,C65 Si(OC253 ,C65 Si(O
373 ,C65 Si(O-isoC373 ,C
65 Si(OC493 ,C65 Si(O-isoC
493 ,(C652 Si(OCH32 及び
(C653 Si(OCH3 )等が挙げられる。
Examples of the alkoxysilanes include Si
(OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3
H 7 ) 4 , Si (O-isoC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H
9 ) 4 , Si (O-isoC 4 H 9 ) 4 CH 3 Si (OCH
3 ) 3 , CH 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , CH 3 Si (O
C 3 H 7) 3, CH 3 Si (O-isoC 3 H 7) 3, CH
3 Si (OC 4 H 9 ) 3 , CH 3 Si (O-isoC 4 H
9 ) 3 , (CH 3 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (CH 3 )
2 Si (OC 4 H 9 ) 2 , (CH 3 ) 3 Si (OCH
3), (CH 3) 3 Si (OC 4 H 9), C 2 H 5 Si
(OCH 3 ) 3 , C 2 H 5 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (C
2 H 5 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (C 2 H 5 ) 2 Si
(OC 2 H 5 ) 2 , (C 2 H 5 ) 3 Si (OC 2 H
5), C 3 H 7 Si (OCH 3) 3, iso-C 3 H 7 Si
(OCH 3 ) 3 , C 4 H 9 Si (OCH 3 ) 3 , iso-C
4 H 9 Si (OCH 3) 3, C 6 H 5 Si (OCH 3)
3 , C 6 H 5 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 6 H 5 Si (O
C 3 H 7) 3, C 6 H 5 Si (O-isoC 3 H 7) 3, C
6 H 5 Si (OC 4 H 9 ) 3 , C 6 H 5 Si (O-isoC
4 H 9) 3, and the like (C 6 H 5) 2 Si (OCH 3) 2 and (C 6 H 5) 3 Si (OCH 3).

【0019】本発明において、アルコキシシラン類は、
アルコキシル基の種類が同一である場合、x が0〜3の
アルコキシシラン類を混合して使用することが出来る。
In the present invention, the alkoxysilanes are
When the types of alkoxyl groups are the same, alkoxysilanes in which x is 0 to 3 can be mixed and used.

【0020】本発明において用いられるアルコキシシラ
ン類の使用量は、一般には7−ACAに対して0. 25
倍モル乃至20倍モル使用され、0. 5倍モル乃至10
倍モル使用するのが好ましい。
The amount of the alkoxysilanes used in the present invention is generally 0.25 with respect to 7-ACA.
Used in a molar amount of 20 to 20 times, and 0.5 to 10 times.
It is preferable to use a double molar amount.

【0021】本発明において用いられるアルコキシシラ
ン類のR2 は、一般式(6)のR2と同一である。
[0021] R 2 alkoxysilanes used in the present invention is the same as R 2 in the general formula (6).

【0022】本発明において、アルコキシシラン類と併
用される一般式(5)で示されるR2 OHの低級アルコ
ールのR2 が低級アルキル基である例としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル及びイソ
ブチル等を挙げることが出来、低級アルコールの例とし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピル
アルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコー
ル及びイソブチルアルコール等を挙げることが出来る。
[0022] In the present invention, examples R 2 is a lower alkyl group of lower alcohols R 2 OH represented by the general formula (5) used in combination with alkoxysilanes, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl And isobutyl and the like, and examples of the lower alcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, isobutyl alcohol and the like.

【0023】本発明において、用いられる低級アルコー
ルの7−ACAに対する総計使用量は特に限定されない
が、一般には10倍モル以下使用される。
In the present invention, the total amount of lower alcohol used relative to 7-ACA is not particularly limited, but is generally 10 times or less the molar amount.

【0024】本発明において用いられる低級アルコール
のR2 は、一般式(6)のR2 と同一である。
[0024] R 2 lower alcohol used in the present invention is the same as R 2 in the general formula (6).

【0025】アルコキシシラン類に更に低級アルコール
を併用することによって、本発明における反応が促進さ
れる。
The use of a lower alcohol in combination with the alkoxysilanes accelerates the reaction in the present invention.

【0026】本発明においては、適当な有機溶剤を用い
ることが出来、その例としては、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル等のニトリル類、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸及びトリフルオロ酢酸等のカルボン酸類、ニトロメタ
ン、ニトロエタン及びニトロプロパン等のニトロアルカ
ン類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン
及び四塩化炭素等のハロゲン化アルカン類、ジクロルエ
チレン及びトリクロルエチレン等のハロゲン化アルケン
類、n−ヘキサン及びヘプタン等のアルカン類、シクロ
ヘキサン等の脂環式アルカン類、硫酸ジメチル及び硫酸
ジエチル等の硫酸エステル類、炭酸ジメチル、炭酸ジエ
チル、炭酸ジプロピル及び炭酸ジブチル等の炭酸エステ
ル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル及びエチレングリコール
ジメチルエーテル等のエーテル類、ギ酸メチル、ギ酸エ
チル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、アジピン酸ジメチル及びアジピン
酸ジエチル等の有機酸エステル類及びスルフォラン等が
挙げられ、必要に応じてそれぞれの有機溶剤を併用する
ことも出来る。好ましい有機溶剤としては、炭酸エステ
ル類、有機酸エステル類及びスルフォラン等を挙げるこ
とが出来、最も好ましくはスルフォランを挙げることが
出来る。
In the present invention, a suitable organic solvent can be used, and examples thereof include nitriles such as acetonitrile and propionitrile, carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and trifluoroacetic acid, nitromethane, Nitroalkanes such as nitroethane and nitropropane, halogenated alkanes such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane and carbon tetrachloride, halogenated alkenes such as dichloroethylene and trichloroethylene, alkanes such as n-hexane and heptane, cyclohexane Alicyclic alkanes such as dimethyl sulfate, diethyl sulfate, and other sulfuric acid esters, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, carbonic acid esters such as dipropyl carbonate and dibutyl carbonate, dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, diisopro Ethers such as ether ether and ethylene glycol dimethyl ether, organic acid esters such as methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, dimethyl adipate and diethyl adipate, and sulfolane. If necessary, each organic solvent can be used together. Preferred organic solvents include carbonic acid esters, organic acid esters, sulfolane and the like, and most preferably sulfolane.

【0027】本発明の実施に際しては、用いられる原
料、有機溶剤及び反応系中の水分は無水乃至出来るだけ
無水に近い状態で行うのが好ましい。
In carrying out the present invention, it is preferable that the raw materials used, the organic solvent and the water content in the reaction system are anhydrous or as close to anhydrous as possible.

【0028】本発明における原料の添加順序は任意であ
るが、通常、7−ACAまたはその塩を、有機溶剤、低
級アルキルスルフォン酸、有機スルフォン酸並びにアル
コキシシラン類またはアルコキシシラン類とアルコール
との混合溶液に添加したり、或は7−ACAまたはその
塩を有機溶剤に懸濁または溶解させたものを、有機スル
フォン酸、低級アルコキシスルフォン酸並びにアルコキ
シシラン類またはアルコキシシラン類とアルコールとの
混合溶液に添加するかまたはその逆に添加する等の方法
がある。
The order of addition of the raw materials in the present invention is arbitrary, but usually 7-ACA or a salt thereof is mixed with an organic solvent, a lower alkyl sulfonic acid, an organic sulfonic acid and alkoxysilanes or a mixture of alkoxysilanes and an alcohol. Addition to a solution, or suspension or dissolution of 7-ACA or a salt thereof in an organic solvent is used as an organic sulfonic acid, a lower alkoxy sulfonic acid, and alkoxysilanes or a mixed solution of an alkoxysilane and an alcohol. There is a method of adding or vice versa.

【0029】本発明における反応温度に特に限定はない
が、通常、−30℃乃至80℃で行われ、−10℃乃至
60℃が好ましい。
The reaction temperature in the present invention is not particularly limited, but is usually -30 ° C to 80 ° C, preferably -10 ° C to 60 ° C.

【0030】本発明の反応に要する時間は主として、使
用する原料の種類、量及び反応温度によっても異なり、
数分乃至数十時間である。
The time required for the reaction of the present invention mainly depends on the kind and amount of raw materials used and the reaction temperature,
It is several minutes to several tens of hours.

【0031】本発明において、珪素化合物を除去する方
法としては、反応終了後、反応混合物を水または氷に加
えた後、反応混合物のpHを8前後に調整し、析出した
珪素化合物を濾別する方法と、反応終了後、反応混合物
を水または氷に加えた後、珪素化合物を、ジクロルメタ
ン、ベンゼン、トルエン及びキシレン等のハロゲン化ア
ルカン類及び芳香族アルケン類等で抽出して除去する方
法等があり、珪素化合物を除去後、濾液または水層のp
Hを3〜4に調整して、析出する結晶を濾取し、減圧乾
燥等の方法により目的化合物を得ることが出来る。これ
を更に精製する必要がある場合は、アンモニア水やアル
カリ水溶液または塩酸や硫酸に溶解した後、吸着剤(例
えば活性炭並びに合成吸着剤、例えば、スチレン系ハイ
ポーラスポリマー等)で処理し、その処理液をpH調整
して、析出する目的化合物の結晶を濾取、乾燥すること
によって達成することが出来る。
In the present invention, as a method for removing the silicon compound, after the reaction is completed, the reaction mixture is added to water or ice, the pH of the reaction mixture is adjusted to around 8, and the precipitated silicon compound is filtered off. After the reaction, the reaction mixture is added to water or ice, and then the silicon compound is removed by extraction with halogenated alkanes such as dichloromethane, benzene, toluene and xylene, and aromatic alkenes. Yes, after removing the silicon compound, p in the filtrate or aqueous layer
The target compound can be obtained by adjusting H to 3 to 4, collecting the precipitated crystals by filtration, and drying under reduced pressure. If it is necessary to further purify it, dissolve it in aqueous ammonia, alkaline solution or hydrochloric acid or sulfuric acid, and then treat with an adsorbent (such as activated carbon and synthetic adsorbents such as styrene-based high-porous polymer) and treat it. This can be achieved by adjusting the pH of the liquid and collecting the precipitated crystals of the target compound by filtration and drying.

【0032】更に、目的化合物が遊離の形で採取された
場合は、必要に応じて常法により塩の形に変換すること
ができる。また、目的化合物が塩の形で採取された場合
は、必要に応じて常法により遊離の形に変換することも
でき、更に得られた遊離の形を別の所望の塩に変換する
こともできる。これらの変換はそれぞれの生成物を単離
することなく、続けて行なうこともできる。
Further, when the target compound is collected in a free form, it can be converted into a salt form by a conventional method, if necessary. Further, when the target compound is collected in the form of a salt, it can be converted into a free form by a conventional method if necessary, and the obtained free form can be converted into another desired salt. it can. These conversions can also be carried out subsequently without isolation of the respective products.

【0033】以下に本発明で用いられる低級アルコキシ
スルフォン酸の合成方法を例を挙げて具体的に説明す
る。
The method for synthesizing the lower alkoxy sulfonic acid used in the present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0034】合成例1 メチルアルコール96g(3モル)に15〜20℃でク
ロルスルフォン酸349. 5g(3モル)を加えた後、
40℃に加熱して窒素ガスを4時間通じて、生成する塩
化水素を除去し、メトキシスルフォン酸336gを得
た。
Synthesis Example 1 349.5 g (3 mol) of chlorosulfonic acid was added to 96 g (3 mol) of methyl alcohol at 15 to 20 ° C.
The mixture was heated to 40 ° C. and nitrogen gas was passed through for 4 hours to remove hydrogen chloride produced, to obtain 336 g of methoxysulfonic acid.

【0035】合成例2 メチルアルコール38. 4g(1. 2モル)に15〜2
0℃でクロルスルフォン酸116. 5g(1モル)を加
えた後、40℃に加熱して窒素ガスを4時間通じて、生
成する塩化水素を除去し、メトキシスルフォン酸のメチ
ルアルコール溶液118gを得た。
Synthesis Example 2 Methyl alcohol 38.4 g (1.2 mol) 15-2
After adding 116.5 g (1 mol) of chlorosulfonic acid at 0 ° C., the mixture was heated to 40 ° C. and nitrogen gas was passed for 4 hours to remove hydrogen chloride produced, thereby obtaining 118 g of a methyl alcohol solution of methoxysulfonic acid. It was

【0036】合成例3 メチルアルコール32g(1モル)に−5〜0℃で無水
硫酸80g(1モル)を加えて反応させ、メトキシスル
フォン酸112gを得た。
Synthetic Example 3 80 g (1 mol) of anhydrous sulfuric acid was added to 32 g (1 mol) of methyl alcohol at -5 to 0 ° C. for reaction to obtain 112 g of methoxysulfonic acid.

【0037】[0037]

【実施例】次に本発明方法を実施例を挙げて具体的に説
明するが、本発明方法はこれらによって限定されるもの
ではない。
EXAMPLES The method of the present invention will now be specifically described with reference to examples, but the method of the present invention is not limited thereto.

【0038】7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸の製法 実施例1 スルフォラン50mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸25g及びテトラメトキシシラン6. 8gを
加えて0℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを加え
て10℃で3時間20分撹拌した。反応経過をHPLC
で追跡し、反応終了後、反応混合物を砕氷中に投入し、
次いでアンモニア水を加えてpH8に調整し、析出した
珪素化合物を濾別、除去する。この濾液中の珪素は30
ppm であった。次いでこの濾液のpHを3. 5に調整
し、析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥すると粗7−ア
ミノ−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸2. 29gが得られた。この粗結晶に水を添加し、
次いでアンモニア水でpH8に調整し溶解した。この溶
解液を活性炭で処理し、濾過水洗して、その濾洗液に塩
酸を添加しpH3. 5に調整し、目的化合物を析出させ
た。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥し高純度の目的
化合物1. 95g(収率80%)を得た。
7-amino-3-methoxymethyl-3-se
Preparation method of fem-4-carboxylic acid Example 1 To 50 ml of sulfolane, 25 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 6.8 g of tetramethoxysilane were added and cooled to 0 ° C., and then 2.74 g of 7-ACA was added. The mixture was stirred at 10 ° C for 3 hours and 20 minutes. HPLC of reaction progress
After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into crushed ice,
Next, ammonia water is added to adjust the pH to 8, and the precipitated silicon compound is filtered and removed. Silicon in this filtrate is 30
It was ppm. Next, the pH of this filtrate was adjusted to 3.5, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and dried to obtain 2.29 g of crude 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid. . Add water to the crude crystals,
Then, the solution was adjusted to pH 8 with aqueous ammonia and dissolved. The solution was treated with activated carbon, filtered, washed with water, and hydrochloric acid was added to the filtered solution to adjust the pH to 3.5 to precipitate the target compound. The precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and dried to obtain 1.95 g (yield 80%) of the highly pure target compound.

【0039】実施例2 実施例1と同様に、反応を行い、粗7−アミノ−3−メ
トキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸を得た。
この粗結晶をアンモニア水に溶解した後pH8に調整
し、この液を吸着カラム(ポリスチレン系ハイポーラス
ポリマー)にかけ、溶出液を塩酸によりpH3. 5に調
整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥し高純度の
目的化合物1. 83g(収率75%)を得た。
Example 2 Reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain crude 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid.
The crude crystals were dissolved in aqueous ammonia and then adjusted to pH 8, the solution was applied to an adsorption column (polystyrene high-porous polymer), and the eluate was adjusted to pH 3.5 with hydrochloric acid. The precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and dried to obtain 1.83 g (yield 75%) of a highly pure target compound.

【0040】実施例3 スルフォラン35mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸25g及びトリメトキシメチルシラン6. 1
gを加えて−5℃に冷却した後、スルフォラン15ml
と7−ACA2. 74gの混合液を加えて10℃で3時
間20分撹拌した。反応経過をHPLCで追跡し、反応
終了後、反応混合物を砕氷中に投入し、これに更にジク
ロルメタンを添加し、珪素化合物をジクロルメタン層に
抽出し、分液除去する。尚、水層中の珪素は5ppm であ
った。次いで水層にアンモニア水を加えてpHを3. 5
に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥し、粗
7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸2. 29gを得た。この粗結晶を実施例1と
同様の処理し、高純度の目的化合物1. 95g(収率8
0%)を得た。
Example 3 25 g of sulfolane, 25 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and trimethoxymethylsilane 6.1
After adding g and cooling to -5 ° C, 15 ml of sulfolane
And 7-ACA (2.74 g) were added, and the mixture was stirred at 10 ° C for 3 hours and 20 minutes. The progress of the reaction is followed by HPLC, and after the reaction is completed, the reaction mixture is put into crushed ice, dichloromethane is further added thereto, and the silicon compound is extracted into the dichloromethane layer, and liquid separation is removed. The silicon content in the water layer was 5 ppm. Next, add ammonia water to the aqueous layer to adjust the pH to 3.5.
Adjusted to. The precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and dried to give crude 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-
2.29 g of carboxylic acid was obtained. The crude crystals were treated in the same manner as in Example 1 to obtain 1.95 g of the highly pure target compound (yield 8
0%).

【0041】実施例4 スルフォラン50mlにメタンスルフォン酸21g及び
テトラメトキシシラン6. 8gを加えて10℃に冷却し
た後、7−ACA2. 74gを加えて20℃で3時間撹
拌した。以後、実施例1と同様に処理し、高純度の目的
化合物1. 78g(収率73%)を得た。
Example 4 To 50 ml of sulfolane, 21 g of methanesulfonic acid and 6.8 g of tetramethoxysilane were added, cooled to 10 ° C., 2.74 g of 7-ACA was added, and the mixture was stirred at 20 ° C. for 3 hours. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 1.78 g (yield 73%) of a highly pure target compound.

【0042】実施例5 スルフォラン50mlにメタンスルフォン酸21g及び
トリメトキシメチルシラン6. 1gを加えて10℃に冷
却した後、7−ACA2. 74gを加えて20℃で3時
間撹拌した。以後実施例3と同様の処理し、高純度の目
的化合物1.68g(収率69%)を得た。
Example 5 To 50 ml of sulfolane, 21 g of methanesulfonic acid and 6.1 g of trimethoxymethylsilane were added, cooled to 10 ° C., 2.74 g of 7-ACA was added, and the mixture was stirred at 20 ° C. for 3 hours. Thereafter, the same treatment as in Example 3 was carried out to obtain 1.68 g (yield 69%) of a highly pure target compound.

【0043】実施例6 スルフォラン50mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸25g、テトラメトキシシラン6. 8g及び
メチルアルコール1. 5mlを加えて0℃に冷却した
後、7−ACA2. 74gを加えて10℃で3時間撹拌
した。反応混合物を以下、実施例1と同様に処理し高純
度の高純度の目的化合物1. 95g(収率80%)を得
た。
Example 6 To 50 ml of sulfolane, 25 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1, 6.8 g of tetramethoxysilane and 1.5 ml of methyl alcohol were added, cooled to 0 ° C., and then 2.74 g of 7-ACA was added. And stirred at 10 ° C. for 3 hours. The reaction mixture was then treated in the same manner as in Example 1 to obtain 1.95 g (yield 80%) of the highly pure target compound of high purity.

【0044】実施例7 スルフォラン50mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸25g、トリメトキシメチルシラン6. 1g
及びメチルアルコール1. 5mlを加えて0℃に冷却し
た後、7−ACA2. 74gを加えて10℃で3時間撹
拌した。以後、実施例3と同様に処理し、高純度の目的
化合物1. 93g(収率79%)を得た。
Example 7 25 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 6.1 g of trimethoxymethylsilane were added to 50 ml of sulfolane.
After adding 1.5 ml of methyl alcohol and cooling to 0 ° C., 2.74 g of 7-ACA was added and the mixture was stirred at 10 ° C. for 3 hours. Thereafter, the same treatment as in Example 3 was carried out to obtain 1.93 g (yield 79%) of a highly pure target compound.

【0045】実施例8 スルフォラン50mlにメタンスルフォン酸21g、テ
トラメトキシシラン6. 8g及びメチルアルコール1.
5mlを加えて10℃に冷却した後、7−ACA2. 7
4gを加えて20℃で2時間20分撹拌した。以後、実
施例1と同様に処理し、高純度の目的化合物1. 71g
(収率70%)を得た。
Example 8 To 50 ml of sulfolane, 21 g of methanesulfonic acid, 6.8 g of tetramethoxysilane and 1.
After adding 5 ml and cooling to 10 ° C, 7-ACA2.7
4 g was added and the mixture was stirred at 20 ° C. for 2 hours and 20 minutes. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 1.71 g of the highly pure target compound.
(Yield 70%) was obtained.

【0046】実施例9 スルフォラン20mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸10g、ジメトキシジメチルシラン4. 4g
を加えて20℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを
加えて30℃で1時間15分撹拌した。以後、実施例3
と同様に処理し、高純度の目的化合物1. 59g(収率
65%)を得た。
Example 9 20 g of sulfolane was added with 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 4.4 g of dimethoxydimethylsilane.
After adding and cooling to 20 degreeC, 7-ACA2.74g was added and it stirred at 30 degreeC for 1 hour and 15 minutes. Hereinafter, Example 3
The same treatment as in (1) gave 1.59 g (yield 65%) of the highly pure target compound.

【0047】実施例10 スルフォラン20mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸10g、メトキシトリメチルシラン7. 6g
を加えて20℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを
加えて30℃で1時間15分撹拌した。以後、実施例3
と同様に処理し、高純度の目的化合物1. 27g(収率
52%)を得た。
Example 10 To 20 ml of sulfolane, 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 7.6 g of methoxytrimethylsilane were obtained.
After adding and cooling to 20 degreeC, 7-ACA2.74g was added and it stirred at 30 degreeC for 1 hour and 15 minutes. Hereinafter, Example 3
The same treatment as in (1) was performed to obtain 1.27 g (yield: 52%) of a highly pure target compound.

【0048】実施例11 スルフォラン20mlに合成例2で得られたメトキシス
ルフォン酸10g及びテトラメトキシシラン2. 7gを
加えて0℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを加え
て10℃で4時間30分撹拌した。以後、実施例1と同
様に処理し、高純度の目的化合物1. 83g(収率75
%)を得た。
Example 11 To 20 ml of sulfolane, 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 2 and 2.7 g of tetramethoxysilane were added and cooled to 0 ° C., and then 2.74 g of 7-ACA was added and the mixture was kept at 10 ° C. for 4 hours. Stir for 30 minutes. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 1.83 g of the highly pure target compound (yield: 75
%) Was obtained.

【0049】実施例12 スルフォラン20mlに合成例3で得られたメトキシス
ルフォン酸10g及びテトラメトキシシラン2. 7gを
加えて0℃に冷却した後、7−ACA2. 74gを加え
て10℃で6時間撹拌した。以後、実施例1と同様に処
理し、高純度の目的化合物1. 85g(収率76%)を
得た。
Example 12 To 20 ml of sulfolane, 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 3 and 2.7 g of tetramethoxysilane were added and cooled to 0 ° C., and then 2.74 g of 7-ACA was added and the mixture was kept at 10 ° C. for 6 hours. It was stirred. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 1.85 g (yield: 76%) of a highly pure target compound.

【0050】実施例13 ジクロルメタン20mlに合成例1で得られたメトキシ
スルフォン酸10g及びトリメトキシメチルシラン2.
5gを加えて10℃に冷却した後、7−ACA2. 74
gを加えて20℃で2時間30分撹拌した。反応終了
後、反応混合物を砕氷中に投入し、珪素化合物をジクロ
ルメタン層に抽出し、分液除去する。水層中の珪素は4
ppm であった。次いで水層にアンモニア水を加えてpH
を3. 5に調整した。析出した結晶を濾取し、水洗後乾
燥すると粗7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸1. 95gを得た。この粗結晶を
実施例1と同様の処理し、高純度の目的化合物1. 63
g(収率67%)を得た。実施例14 炭酸ジメチル20mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸10g及びテトラメトキシシラン2. 7gを
加えて10℃に冷却した後、7−ACA2.74gを加
えて20℃で2時間30分撹拌した。以後、実施例1と
同様に処理し、高純度の目的化合物1. 76g(収率7
2%)を得た。
Example 13 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 20 ml of trimethoxymethylsilane were added to 20 ml of dichloromethane.
After adding 5 g and cooling to 10 ° C, 7-ACA2.74
g was added and the mixture was stirred at 20 ° C. for 2 hours and 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction mixture is put into crushed ice, the silicon compound is extracted into a dichloromethane layer, and liquid separation is removed. 4 in the water layer
It was ppm. Then add ammonia water to the aqueous layer to adjust the pH.
Was adjusted to 3.5. The precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and dried to obtain 1.95 g of crude 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid. This crude crystal was treated in the same manner as in Example 1 to give a highly pure target compound 1.63.
g (yield 67%) was obtained. Example 14 To 20 ml of dimethyl carbonate, 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 2.7 g of tetramethoxysilane were added and cooled to 10 ° C., and then 2.74 g of 7-ACA was added and the mixture was heated at 20 ° C. for 2 hours and 30 minutes. It was stirred. Thereafter, the same treatment as in Example 1 was carried out to obtain 1.76 g of the highly pure target compound (yield 7
2%) was obtained.

【0051】実施例15 アジピン酸ジメチル20mlに合成例1で得られたメト
キシスルフォン酸10g及びトリメトキシメチルシラン
2. 5gを加えて10℃に冷却した後、7−ACA2.
74gを加えて20℃で3時間30分撹拌した。以後、
実施例3と同様に処理し、高純度の目的化合物1. 71
g(収率70%)を得た。
Example 15 To 20 ml of dimethyl adipate, 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and 2.5 g of trimethoxymethylsilane were added and cooled to 10 ° C., and then 7-ACA.2.
74 g was added and the mixture was stirred at 20 ° C. for 3 hours and 30 minutes. After that,
Treated in the same manner as in Example 3, to give highly purified target compound 1.71.
g (yield 70%) was obtained.

【0052】実施例16 スルフォラン20mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸10g及びトリメトキシフェニルシラン3.
6gを加えて0℃に冷却した後、7−ACA2. 74g
を加えて10℃で6時間撹拌した。以後、実施例3と同
様に処理し、高純度の目的化合物1. 86g(収率76
%)を得た。
Example 16 In 20 ml of sulfolane, 10 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 and trimethoxyphenylsilane 3.
After adding 6 g and cooling to 0 ° C, 7-ACA2.74 g
Was added and the mixture was stirred at 10 ° C. for 6 hours. Thereafter, the same treatment as in Example 3 was carried out to obtain 1.86 g of a highly pure target compound (yield: 76
%) Was obtained.

【0053】以下に比較例を示す。A comparative example will be shown below.

【0054】比較例 スルフォラン20mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸13. 5gホウ酸トリメチル4. 4g及びメ
タノール2. 4mlを加えて10℃に冷却した後、7−
ACA2. 74gを加えて20℃で1時間30分撹拌し
た。反応経過をHPLCで追跡し、反応終了後、反応混
合物を砕氷中に投入し、次いでアンモニア水を加えてp
H3. 5に調整し、析出した結晶を濾取し、水洗後乾燥
し、粗7−アミノ−3−メトキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸2. 24gを得た。この濾洗液中のホ
ウ素含有量は0. 6%であった。この粗結晶に水を添加
し、次いでアンモニア水でpH8に調整し溶解した。こ
の溶解液を活性炭で処理し、濾過して、その濾液に塩酸
を添加しpH3. 5に調整した。析出した結晶を濾取
し、更に再結晶を行い、水洗後乾燥し高純度の目的化合
物1. 90g(収率78%)を得た。
Comparative Example To 20 ml of sulfolane, 13.5 g of methoxysulfonic acid obtained in Synthesis Example 1 4.4 g of trimethyl borate and 2.4 ml of methanol were added and cooled to 10 ° C., and then 7-
2.74 g of ACA was added and the mixture was stirred at 20 ° C. for 1 hour and 30 minutes. The progress of the reaction was monitored by HPLC, and after the reaction was completed, the reaction mixture was put into crushed ice, and then aqueous ammonia was added to the reaction mixture to obtain p.
The mixture was adjusted to H3.5, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and dried to obtain 2.24 g of crude 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid. The boron content in this filter wash liquid was 0.6%. Water was added to the crude crystals, which was then adjusted to pH 8 with aqueous ammonia and dissolved. The solution was treated with activated carbon, filtered, and hydrochloric acid was added to the filtrate to adjust the pH to 3.5. The precipitated crystals were collected by filtration, recrystallized, washed with water and dried to obtain 1.90 g (yield 78%) of a highly pure target compound.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明によれば、7−ACAまたはその
塩から7−アミノ−3−アルコキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸またはその塩が、高純度及び高収率
で得られ、廃水の環境保全上有益な方法が提供される。
According to the present invention, 7-amino-3-alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or a salt thereof can be obtained from 7-ACA or a salt thereof in high purity and high yield, A method that is beneficial for environmental conservation of wastewater is provided.

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年10月27日[Submission date] October 27, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0018】該アルコキシシラン類の例としては、Si
(OCH34 ,Si(OC254 ,Si(OC3
74 ,Si(O-isoC374 ,Si(OC4
94 ,Si(O-isoC494 CH3 Si(OC
33,CH3 Si(OC253 ,CH3 Si
(OC373 ,CH3 Si(O-isoC373
CH3 Si(OC493 ,CH3 Si(O-isoC4
93 ,(CH32 Si(OCH32 ,(CH
32 Si(OC492 ,(CH33 Si(OC
3 ),(CH33 Si(OC49 ),C25
i(OCH33 ,C25 Si(OC253
(C252 Si(OCH32 ,(C252
i(OC252 ,(C253 Si(OC2
5 ),C37 Si(OCH33 ,iso-C37 Si
(OCH33 ,C49 Si(OCH33 ,iso-C
49 Si(OCH33 ,C65 Si(OCH3
3 ,C65 Si(OC253 ,C65 Si(O
373 ,C65 Si(O-isoC373 ,C
65 Si(OC493 ,C65 Si(O-isoC
493 ,(C652 Si(OCH32 及び
(C653 Si(OCH3 )等が挙げられる。
Examples of the alkoxysilanes include Si
(OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3
H 7 ) 4 , Si (O-isoC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H
9 ) 4 , Si (O-isoC 4 H 9 ) 4 , CH 3 Si (OC
H 3) 3, CH 3 Si (OC 2 H 5) 3, CH 3 Si
(OC 3 H 7 ) 3 , CH 3 Si (O-isoC 3 H 7 ) 3 ,
CH 3 Si (OC 4 H 9 ) 3 , CH 3 Si (O-isoC 4
H 9 ) 3 , (CH 3 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (CH
3 ) 2 Si (OC 4 H 9 ) 2 , (CH 3 ) 3 Si (OC
H 3), (CH 3) 3 Si (OC 4 H 9), C 2 H 5 S
i (OCH 3 ) 3 , C 2 H 5 Si (OC 2 H 5 ) 3 ,
(C 2 H 5 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (C 2 H 5 ) 2 S
i (OC 2 H 5 ) 2 , (C 2 H 5 ) 3 Si (OC 2 H
5), C 3 H 7 Si (OCH 3) 3, iso-C 3 H 7 Si
(OCH 3 ) 3 , C 4 H 9 Si (OCH 3 ) 3 , iso-C
4 H 9 Si (OCH 3) 3, C 6 H 5 Si (OCH 3)
3 , C 6 H 5 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 6 H 5 Si (O
C 3 H 7) 3, C 6 H 5 Si (O-isoC 3 H 7) 3, C
6 H 5 Si (OC 4 H 9 ) 3 , C 6 H 5 Si (O-isoC
4 H 9) 3, and the like (C 6 H 5) 2 Si (OCH 3) 2 and (C 6 H 5) 3 Si (OCH 3).

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0053】実施例17 スルフォラン20mlに合成例1で得られたメトキシス
ルフォン酸10g及びトリメトキシブチルシラン3.2
gを加えて0℃に冷却した後、7−ACA2.74gを
加えて10℃で5時間攪拌した。以後、実施例3と同様
に処理し、高純度の目的化合物1.88g(収率77
%)を得た。 以下に比較例を示す。
Example 17 The methoxyx obtained in Synthesis Example 1 was added to 20 ml of sulfolane.
Rufonic acid 10 g and trimethoxybutylsilane 3.2
After adding g and cooling to 0 ° C., 2.74 g of 7-ACA
In addition, the mixture was stirred at 10 ° C for 5 hours. After that, the same as in Example 3
To give 1.88 g of high-purity target compound (yield 77
%) Was obtained. A comparative example is shown below.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 節雄 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三共 有機合成株式会社内 (72)発明者 山口 清実 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三共 有機合成株式会社内 (72)発明者 宮本 茂 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三共 有機合成株式会社内 (72)発明者 加藤 圭介 神奈川県川崎市高津区久地788番地 三共 有機合成株式会社内 (72)発明者 笹尾 富夫 神奈川県平塚市中原上宿173 三共株式会 社内 (72)発明者 飯島 清史 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Setsuo Watanabe 788 Kuchi, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Sankyo Organic Synthesis Co., Ltd. (72) Kiyomi Yamaguchi 788 Hisa, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Sankyo Organic Synthesis Co., Ltd. (72) Inventor Shigeru Miyamoto Sankyo Organic Synthesis Co., Ltd. 788 Kuchi, Takatsu-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture (72) Inventor Keisuke Kato 788 Hisachi Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa Sankyo Organic Synthesis Co., Ltd. (72) Inventor Tomio Sasao 173 Nakahara Uejuku, Hiratsuka-shi, Kanagawa Sankyo Stock Association In-house (72) Inventor Kiyofumi Iijima 1-2-2 Hiromachi, Shinagawa-ku, Tokyo Sankyo Stock Company

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 で示される7−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸またはその塩に、一般式R1
3 H[式中R1 は、低級アルキル基及びアリール基]
で示される有機スルフォン酸または一般式R2 OSO3
H[式中R2 は、低級アルキル基]で示される低級アル
コキシスルフォン酸の存在下、一般式(R3x Si
(OR24-x [式中R2 は前記の基、R3 は低級アル
キル基及びアリール基、xは0〜3の整数]で示される
アルコキシシラン類または該アルコキシシラン類と一般
式R2 OH[R2 は前記の基]で示される低級アルコー
ルとを反応させることを特徴とする一般式 【化2】 [式中のR2 は前記の基]で示される7−アミノ−3−
アルコキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸また
はその塩の製造法。
1. A general formula: 7-amino-3-acetoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or a salt thereof represented by the general formula R 1 S
O 3 H [wherein R 1 is a lower alkyl group or an aryl group]
Or an organic sulfonic acid represented by the general formula R 2 OSO 3
H [wherein R 2 is a lower alkyl group] in the presence of a lower alkoxy sulfonic acid represented by the general formula (R 3 ) x Si
(OR 2 ) 4-x [wherein R 2 is the above-mentioned group, R 3 is a lower alkyl group and an aryl group, and x is an integer of 0 to 3] or the alkoxysilanes and the general formula R 2 OH [R 2 is the above group] is reacted with a lower alcohol represented by the general formula: 7-amino-3-indicated by [in the formula, R 2 is the above group]
A process for producing an alkoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or a salt thereof.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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