JPH06139950A - Aperture grill mask for cathode-ray tube - Google Patents

Aperture grill mask for cathode-ray tube

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JPH06139950A
JPH06139950A JP31149492A JP31149492A JPH06139950A JP H06139950 A JPH06139950 A JP H06139950A JP 31149492 A JP31149492 A JP 31149492A JP 31149492 A JP31149492 A JP 31149492A JP H06139950 A JPH06139950 A JP H06139950A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slit
mask
outermost
ray tube
aperture grill
Prior art date
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Pending
Application number
JP31149492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuhiro Kawase
光弘 川瀬
Shigeo Ando
重男 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH06139950A publication Critical patent/JPH06139950A/en
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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the twist of an extreme end tape section around the extension direction of an extreme end slit, even when a mask is laid on a frame under high tension. CONSTITUTION:Regarding the extreme tape section 17a of a mask 12, the side end 17b thereof opposite to an extreme end slit 16a has a curved form, so that the breadth of the section 17a becomes not uniform but larger at a center than at both ends in the extension direction of the slit 16a. As a result, the section 17a in the extension direction of the slit 16a becomes less twisted, and the breadth of the slit 16a is not reduced, thereby ensuring proper color screening.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本願の発明は、カラー陰極線管に
おける色選別機構であるアパーチャグリルを構成するマ
スクに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask which constitutes an aperture grill which is a color selection mechanism in a color cathode ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、カラー陰極線管における色選別
機構としてのアパーチャグリルを示している。このアパ
ーチャグリル11は、マスク12と、フレーム13と、
このアパーチャグリル11を陰極線管のパネルに支持す
るためのスプリング14と、ホルダ15等とから構成さ
れている。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows an aperture grill as a color selection mechanism in a color cathode ray tube. The aperture grill 11 includes a mask 12, a frame 13,
A spring 14 for supporting the aperture grill 11 on the panel of the cathode ray tube, a holder 15 and the like are included.

【0003】図5は、マスク12の要部を示している。
このマスク12には、電子ビームを透過させるためのス
リット16と、これらのスリット16同士の間のテープ
部17とが有効画面に設けられている。最端スリット1
6aの外側方には直線状で一様な幅の最端テープ部17
aが隣接しており、更にその外側には、トリミング等に
用いるためのスリット18が設けられている。なお、作
成当初のマスク12にはペリフェリ部12aが設けられ
ている。
FIG. 5 shows a main part of the mask 12.
The mask 12 is provided with a slit 16 for transmitting an electron beam and a tape portion 17 between these slits 16 on the effective screen. Edge slit 1
The outermost tape portion 17 having a linear and uniform width is provided on the outer side of 6a.
a are adjacent to each other, and a slit 18 for trimming or the like is provided outside thereof. The mask 12 is initially provided with a peripheral portion 12a.

【0004】図4に示したアパーチャグリル11を製造
するには、図6にフローチャートを示す様に、フレーム
13を洗浄した後、このフレーム13にホルダ15を取
り付ける。そして、マスク12を溶接する部分のフレー
ム13同士を接近させる様にフレーム13に圧力を加
え、この状態でマスク12をフレーム13に溶接する。
To manufacture the aperture grille 11 shown in FIG. 4, the frame 13 is cleaned and then the holder 15 is attached to the frame 13 as shown in the flow chart of FIG. Then, pressure is applied to the frame 13 so that the frames 13 at the portions where the mask 12 is welded are brought close to each other, and the mask 12 is welded to the frame 13 in this state.

【0005】その後、フレーム13に対する加圧を解除
してマスク12をフレーム13に高い張力で架張する。
これは、陰極線管の動作時にマスク12の熱膨張によっ
て色ズレが生じるのを軽減させるためである。そして、
マスク12のうちでフレーム13から突出している部分
を切断するというペリフェリ部12aのトリミングを行
う。そして更に、マスク12を黒化し、スプリング14
の取り付け等を行う。
Thereafter, the pressure applied to the frame 13 is released and the mask 12 is stretched over the frame 13 with high tension.
This is to reduce color misregistration caused by thermal expansion of the mask 12 during operation of the cathode ray tube. And
Trimming of the peripheral portion 12a is performed by cutting the portion of the mask 12 protruding from the frame 13. Further, the mask 12 is blackened, and the spring 14
Install the.

【0006】ところが、上述の様にマスク12をフレー
ム13に高い張力で架張すると、図7に示す様に、x軸
の外側へ向かって高い応力が分布し、矢印で示す様にz
軸の回りでマスク12の内側へ向かう回転モーメントが
生じる。この結果、最端テープ部17aが内側へねじ
れ、最端スリット16aの幅が所定の幅よりも狭くなっ
て、良好な色選別を行うことができなかった。そこで、
従来は、図8に示す様に、最端テープ部17aにエキス
トラまたはダミーのスリット19を設けることが行われ
ていた。
However, when the mask 12 is stretched on the frame 13 with a high tension as described above, a high stress is distributed toward the outside of the x-axis as shown in FIG.
A rotational moment is generated about the axis toward the inside of the mask 12. As a result, the outermost tape portion 17a was twisted inward, and the width of the outermost slit 16a was narrower than a predetermined width, so that good color selection could not be performed. Therefore,
Conventionally, as shown in FIG. 8, an extra or dummy slit 19 is provided in the outermost tape portion 17a.

【0007】エキストラのスリット19とは、通常のス
リット16よりも幅の狭い余分なスリット19を設け、
マスク12をフレーム13に架張した後の上述の応力を
このスリット19で吸収し、このスリット19を変形さ
せてその実際の幅を無くしてしまうものである。また、
ダミーのスリット19とは、やはり上述の応力を吸収す
るために今度は通常の幅の余分なスリット19を設ける
が、蛍光面を作成する前にこのスリット19をステンレ
スリボン等で覆って、蛍光面が露光されない様にするも
のである。
The extra slit 19 is provided with an extra slit 19 which is narrower than the ordinary slit 16.
The above-mentioned stress after the mask 12 is stretched on the frame 13 is absorbed by the slit 19, and the slit 19 is deformed to eliminate its actual width. Also,
The dummy slit 19 is also provided with an extra slit 19 having a normal width in order to absorb the above-mentioned stress. However, before forming the fluorescent screen, the slit 19 is covered with a stainless ribbon or the like to remove the fluorescent screen. Is not exposed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、通常のスリッ
ト16よりも更に幅の狭いエキストラのスリット19を
形成することは容易ではない。このため、エキストラの
スリット19が所望通りに変形しなくてその実際の幅が
無くならなければ、余分なスリットが蛍光面に作成され
てしまう。また、余分な1本のダミーのスリット19の
みを覆うことも容易ではなく、更にそのための工程や部
品点数も増える。従って、従来の陰極線管のアパーチャ
グリル用マスクでは、簡単な構造等で良好な色選別を行
うということができなかった。
However, it is not easy to form the extra slit 19 which is narrower than the ordinary slit 16. For this reason, if the extra slit 19 is not deformed as desired and its actual width is eliminated, an extra slit is created on the phosphor screen. Further, it is not easy to cover only one extra dummy slit 19, and the number of steps and the number of parts for that purpose are increased. Therefore, with the conventional mask for aperture grilles of cathode ray tubes, it has been impossible to perform good color selection with a simple structure or the like.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1の陰極線管のア
パーチャグリル用マスク12では、アパーチャグリル用
マスク12の最端スリット16aの外側方に隣接してい
る最端テープ部17aの幅が、前記最端スリット16a
の延在方向における両端部よりも中央部において広い。
According to the aperture grill mask 12 of the cathode ray tube of claim 1, the width of the outermost tape portion 17a adjacent to the outermost side of the outermost slit 16a of the aperture grill mask 12 is: The most end slit 16a
Is wider at the central portion than at both ends in the extending direction of.

【0010】請求項2の陰極線管のアパーチャグリル用
マスク12では、アパーチャグリル用マスク12の最端
スリット16aの外側方に隣接している最端テープ部1
7bの前記最端スリット16aの延在方向とは直角な方
向における断面の厚さが、前記最端スリット16a側よ
りもこの最端スリット16aとは反対側において薄い。
In the aperture grill mask 12 for a cathode ray tube according to the second aspect, the end tape portion 1 adjacent to the outer side of the end slit 16a of the aperture grill mask 12 is provided.
The thickness of the cross section of 7b in the direction orthogonal to the extending direction of the outermost slit 16a is thinner on the side opposite to the outermost slit 16a than on the side of the outermost slit 16a.

【0011】[0011]

【作用】請求項1の陰極線管のアパーチャグリル用マス
ク12では、マスク12をフレーム13に高い張力で架
張しても、このマスク12の最端テープ部17aに生じ
る応力の分布がなだらかである。このため、マスク12
の最端スリット16aの延在方向の回りにおける最端テ
ープ部17aのねじれが少なく、最端スリット16aの
幅が狭くなることがない。
According to the mask 12 for the aperture grille of the cathode ray tube of claim 1, even when the mask 12 is stretched over the frame 13 with a high tension, the distribution of the stress generated in the endmost tape portion 17a of the mask 12 is gentle. . Therefore, the mask 12
The twist of the end tape part 17a around the extension direction of the end slit 16a is small, and the width of the end slit 16a does not become narrow.

【0012】請求項2の陰極線管のアパーチャグリル用
マスク12では、マスク12をフレーム13に高い張力
で架張しても、このマスク12の最端テープ部17aの
うちで最端スリット16a側に生じる応力が少なく、応
力の分布がなだらかである。このため、マスク12の最
端スリット16aの延在方向の回りにおける最端テープ
部17aのねじれが少なく、最端スリット16aの幅が
狭くなることがない。
According to the aperture grill mask 12 for a cathode ray tube of claim 2, even when the mask 12 is stretched over the frame 13 with a high tension, the mask 12 is placed on the side of the end slit 16a of the end tape portion 17a. The generated stress is small and the stress distribution is gentle. Therefore, the end tape portion 17a is less twisted around the extending direction of the end slit 16a of the mask 12, and the width of the end slit 16a is not narrowed.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本願の発明の第1〜第3実施例を、図
1〜3を参照しながら説明する。なお、図5、8に示し
た第1及び第2従来例と対応する構成部分には、同一の
符号を付してある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The first to third embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. The components corresponding to those of the first and second conventional examples shown in FIGS. 5 and 8 are designated by the same reference numerals.

【0014】図1が、第1実施例を示している。この第
1実施例では、マスク12の最端スリット16aの外側
方に隣接している最端テープ部17aの幅が、一様では
なく、最端スリット16aの延在方向における両端部よ
りも中央部において広くなる様に、最端テープ部17a
のうちの最端スリット16aとは反対側の側端縁17b
が曲線状になっている。また、最端テープ部17aの更
に外側に設けられておりトリミング等に用いるためのス
リット18も、最端テープ部17aの側端縁17bに沿
う曲線状になっている。
FIG. 1 shows a first embodiment. In the first embodiment, the width of the endmost tape portion 17a adjacent to the outermost side of the endmost slit 16a of the mask 12 is not uniform, and is more centered than both end portions in the extending direction of the endmost slit 16a. End tape portion 17a so that it becomes wider
Side edge 17b on the side opposite to the endmost slit 16a
Is curved. Further, the slit 18 provided further outside the outermost tape portion 17a and used for trimming or the like is also curved along the side edge 17b of the outermost tape portion 17a.

【0015】以上の点を除いて、この第1実施例は、図
5に示した第1従来例と実質的に同様の構成を有してい
る。この様な第1実施例では、図7に示した様にマスク
12をフレーム13に高い張力で架張しても、最端テー
プ部17aに生じる応力の分布がなだらかである。この
ため、z軸の回りでマスク12の内側へ向かって発生す
る回転モーメントが少なく、内側への最端テープ部17
aのねじれも少ない。従って、最端スリット16aの幅
が狭くなることがなく、良好な色選別を行うことができ
る。
Except for the above points, this first embodiment has substantially the same structure as the first conventional example shown in FIG. In the first embodiment as described above, even if the mask 12 is stretched on the frame 13 with a high tension as shown in FIG. 7, the distribution of the stress generated in the outermost tape portion 17a is gentle. Therefore, the rotational moment generated around the z-axis toward the inside of the mask 12 is small, and the innermost end tape portion 17 is inward.
Little twist of a. Therefore, the width of the outermost slit 16a does not become narrow, and good color selection can be performed.

【0016】図2は、第2実施例を示している。この第
2実施例は、スリット18が最端テープ部17aの側端
縁17bに沿う曲線状ではなく平凸レンズ状になってい
ることを除いて、図1に示した第1実施例と実質的に同
様の構成を有している。この様な第2実施例でも、第1
実施例と同様の作用効果を奏することができる。
FIG. 2 shows a second embodiment. This second embodiment is substantially the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except that the slit 18 has a plano-convex lens shape rather than a curved shape along the side edge 17b of the outermost tape portion 17a. Has the same configuration. Even in such a second embodiment, the first
The same effect as that of the embodiment can be obtained.

【0017】図3は、第3実施例を示している。この第
3実施例は、図3(b)に示す様に、最端スリット16
aの延在方向とは直角な方向における最端テープ部17
aの断面の厚さが、図5(b)に示した第1従来例の様
に一様ではなく、最端スリット16aとは反対側におい
て薄いことを除いて、図5に示した第1従来例と実質的
に同様の構成を有している。
FIG. 3 shows a third embodiment. In the third embodiment, as shown in FIG.
The endmost tape portion 17 in the direction perpendicular to the extending direction of a
5A except that the thickness of the cross section of a is not uniform as in the first conventional example shown in FIG. 5B and is thin on the side opposite to the endmost slit 16a. It has substantially the same configuration as the conventional example.

【0018】この様な第3実施例では、図7に示した様
にマスク12をフレーム13に高い張力で架張しても、
最端テープ部17aのうちで最端スリット16a側、つ
まり最端テープ部17aのうちで断面の厚い部分に生じ
る応力が少なく、応力の分布がなだらかで、第1実施例
と同様の作用効果を奏することができる。
In the third embodiment as described above, even if the mask 12 is stretched over the frame 13 with a high tension as shown in FIG.
The stress generated in the endmost slit 16a side of the endmost tape portion 17a, that is, in the thickest section of the endmost tape portion 17a is small, the stress distribution is gentle, and the same effect as the first embodiment is obtained. Can play.

【0019】[0019]

【発明の効果】本願の発明による陰極線管のアパーチャ
グリル用マスクでは、余分なスリットや工程や部品等が
不要で構造等が簡単であるにも拘らず、マスクをフレー
ムに高い張力で架張しても、このマスクの最端スリット
の延在方向の回りにおける最端テープ部のねじれが少な
く、最端スリットの幅が狭くなることがないので、良好
な色選別を行うことができる。
In the mask for the aperture grille of the cathode ray tube according to the present invention, the mask is stretched over the frame with a high tension even though the structure is simple without the need for extra slits, steps or parts. However, since the twist of the end tape portion around the extension direction of the end slit of this mask is small and the width of the end slit is not narrowed, good color selection can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本願の発明の第1実施例の要部の平面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view of an essential part of a first embodiment of the present invention.

【図2】本願の発明の第2実施例の要部の平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of an essential part of a second embodiment of the present invention.

【図3】本願の発明の第3実施例の要部を示しており、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線に沿う位置
における拡大側断面図である。
FIG. 3 shows an essential part of a third embodiment of the present invention,
(A) is a top view, (b) is an expanded side sectional view in the position which follows the BB line of (a).

【図4】本願の発明を適用し得るアパーチャグリルの斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view of an aperture grill to which the invention of the present application can be applied.

【図5】本願の発明の第1従来例の要部を示しており、
(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線に沿う位置
における拡大側断面図である。
FIG. 5 shows a main part of a first conventional example of the invention of the present application,
(A) is a top view, (b) is an expanded side sectional view in the position which follows the BB line of (a).

【図6】アパーチャグリルの製造工程を示すフローチャ
ートである。
FIG. 6 is a flowchart showing manufacturing steps of an aperture grill.

【図7】アパーチャグリルの要部の斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of a main part of an aperture grill.

【図8】本願の発明の第2従来例の要部の平面図であ
る。
FIG. 8 is a plan view of a main part of a second conventional example of the invention of the present application.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 マスク 16a 最端スリット 17a 最端テープ部 12 Mask 16a Edge slit 17a Edge tape part

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アパーチャグリル用マスクの最端スリッ
トの外側方に隣接している最端テープ部の幅が、前記最
端スリットの延在方向における両端部よりも中央部にお
いて広いことを特徴とする陰極線管のアパーチャグリル
用マスク。
1. The width of the outermost tape portion adjacent to the outermost side of the outermost slit of the aperture grill mask is wider in the central portion than in both end portions in the extending direction of the outermost slit. Mask for aperture grille of cathode ray tube.
【請求項2】 アパーチャグリル用マスクの最端スリッ
トの外側方に隣接している最端テープ部の前記最端スリ
ットの延在方向とは直角な方向における断面の厚さが、
前記最端スリット側よりもこの最端スリットとは反対側
において薄いことを特徴とする陰極線管のアパーチャグ
リル用マスク。
2. The thickness of the cross section of the outermost tape portion adjacent to the outermost slit of the aperture grill mask in a direction perpendicular to the extending direction of the outermost slit,
A mask for an aperture grill of a cathode ray tube, which is thinner on the side opposite to the end slit than on the end slit side.
JP31149492A 1992-10-27 1992-10-27 Aperture grill mask for cathode-ray tube Pending JPH06139950A (en)

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