JPH06138831A - Cathode-ray tube - Google Patents
Cathode-ray tubeInfo
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- JPH06138831A JPH06138831A JP14837992A JP14837992A JPH06138831A JP H06138831 A JPH06138831 A JP H06138831A JP 14837992 A JP14837992 A JP 14837992A JP 14837992 A JP14837992 A JP 14837992A JP H06138831 A JPH06138831 A JP H06138831A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管、特に、高周
波数偏向装置を含む陰極線管に関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a cathode ray tube, and more particularly to a cathode ray tube including a high frequency deflection device.
【0002】[0002]
【従来の技術】幾つかの表示システムでは、表示画像
は、ターゲット表面上をラスタ走査パターン状に電子ビ
ームを走査して形成される。このパターンは、垂直軸に
沿って並んで配置された約200〜2000本の水平ラ
インから成る。ライン数が異なると、解像度が異なり、
ライン数が多い程解像度が高くなる。In some display systems, the display image is formed by scanning an electron beam over a target surface in a raster scan pattern. The pattern consists of about 200-2000 horizontal lines arranged side by side along the vertical axis. If the number of lines is different, the resolution is different,
The higher the number of lines, the higher the resolution.
【0003】ラスタ走査表示システムには、複数フォー
マットの表示機能を持ったものがある。これらのシステ
ムは、異なる解像度に対応する複数の異なるフォーマッ
トで、選択的に表示画像を形成できる。種々の解像度を
有するコンピュータ・グラフィック発生器と同様に、数
種のビデオ・フォーマットで使用可能であるので、複数
フォーマット表示システムが望ましい。複数フォーマッ
ト表示機能は、例えば、直視型CRT表示器、及び投影
表示装置に使用される電子ビーム・アドレス光変調器に
組み込まれている。Some raster scan display systems have multiple format display capabilities. These systems are capable of selectively forming display images in a number of different formats corresponding to different resolutions. A multi-format display system is desirable because it can be used with several video formats as well as computer graphics generators with different resolutions. The multi-format display function is incorporated in, for example, direct-view CRT displays and electron beam addressed light modulators used in projection displays.
【0004】電子ビームが陰極線管(以下CRTとい
う)のターゲット面に衝突するとき、電子ビームは、独
自のスポット・サイズの画像スポットを形成する。従来
の複数フォーマット表示システムでは、全ての表示フォ
ーマットについて、電子ビームのスポット・サイズは単
一で固定であった。通常、電子ビームがラスタ走査によ
る水平ラインの垂直方向の幅が、最高解像度の表示フォ
ーマットでも使用可能なように、固定スポット・サイズ
は比較的に小さくされている。しかし、単一で固定のス
ポット・サイズによる水平ラインは、他の全ての表示フ
ォーマットに対して、同一の固定幅になる。When the electron beam impinges on the target surface of a cathode ray tube (hereinafter CRT), the electron beam forms an image spot of unique spot size. In conventional multi-format display systems, the electron beam spot size is single and fixed for all display formats. Usually, the fixed spot size is relatively small so that the vertical width of the horizontal line of the electron beam in the raster scan can be used in the highest resolution display format. However, a single fixed spot size horizontal line will have the same fixed width for all other display formats.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】図5A及び5Bは、従
来のラスタ走査表示フォーマットを示すターゲット面1
0の正面図であり、略水平なライン12は、垂直軸14
に沿って離間されている。ライン12の垂直軸14に沿
った幅15は、実質的に固定であり、比較的に狭い。5A and 5B show a target plane 1 showing a conventional raster scan display format.
0 is a front view of FIG. 0, and a substantially horizontal line 12 has a vertical axis 14
Are spaced along. The width 15 of the line 12 along the vertical axis 14 is substantially fixed and relatively narrow.
【0006】図5Aは、隣接するライン12が比較的小
さな間隙16(図中では、明確化のために拡大されてい
る。)で離間された、高解像度フォーマット状態を示し
ている。図5Bは、隣接するライン12が、比較的に大
きな間隙18で離間された低解像度フォーマット状態を
示している。間隙18は、全ての表示フォーマットに対
して幅15のライン12を使用したことによる生じる望
ましくない結果である。FIG. 5A illustrates a high resolution format condition in which adjacent lines 12 are separated by a relatively small gap 16 (larger for clarity in the figure). FIG. 5B shows the low resolution format with adjacent lines 12 separated by a relatively large gap 18. Gaps 18 are an undesired result of using lines 12 of width 15 for all display formats.
【0007】特に、間隙18は、表示画像を分離し、即
ち不連続にするので、表示画像の質が低下する。投影表
示システムでは、ターゲット面10上のライン12間の
許容範囲を超えた大きな間隙18は、投影表示像に大き
な黒いストライプを生じさせ、表示の光出力が減少す
る。ある低解像度フォーマットでは、投影されたライン
12は、黒いストライプより狭いので、認識可能な表示
を形成するには、投影像内の光は不十分である。In particular, the gap 18 separates the displayed image, that is, makes it discontinuous, thus degrading the quality of the displayed image. In a projection display system, a large gap 18 between the lines 12 on the target surface 10 that is unacceptable causes a large black stripe in the projected display image, reducing the light output of the display. In some low resolution formats, the projected line 12 is narrower than the black stripe, so there is insufficient light in the projected image to form a discernible display.
【0008】表示画像の隣接ライン12間の許容範囲を
超えた大きな間隙18は、解像度の範囲が比較的に広い
ときに起きる。例えば、許容範囲を超えた大きな間隙1
8は、最高解像度の表示フォーマットが、最低解像度の
表示フォーマットの約1.5倍以上のライン数から成る
場合に生じる。許容範囲を超えた大きな間隙18が生じ
るのを防止するためには、最高解像度の表示フォーマッ
トを最低解像度の表示フォーマットの約1.5倍より小
さくなるように、複数フォーマット表示器の解像度の範
囲を制限する。A large gap 18 that exceeds the allowable range between adjacent lines 12 of the displayed image occurs when the range of resolution is relatively wide. For example, a large gap 1 that exceeds the allowable range
8 occurs when the highest resolution display format consists of about 1.5 times more lines than the lowest resolution display format. In order to prevent the occurrence of a large gap 18 that exceeds the allowable range, the resolution range of the multi-format display is set so that the highest resolution display format is smaller than about 1.5 times the lowest resolution display format. Restrict.
【0009】したがって、本発明の目的は、水平ライン
数が広範囲に異なる複数表示フォーマットのいずれのフ
ォーマットでも良好な表示が得られる複数フォーマット
表示CRTの提供にある。Therefore, an object of the present invention is to provide a multi-format display CRT which can obtain a good display in any of the multi-display formats in which the number of horizontal lines is widely varied.
【0010】本発明の他の目的は、スポット・サイズが
小さい電子ビームでも、低解像度時に表示画像を不連続
にする黒いストライプが生じないCRTの提供にある。Another object of the present invention is to provide a CRT which does not produce black stripes which discontinue a displayed image at low resolution even with an electron beam having a small spot size.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、広い
範囲の解像度で高品質の表示画像を得ることができる複
数フォーマット・ラスタ走査表示装置である。好適な実
施例では、この表示装置は、ビーム軸に沿ってターゲッ
ト面に向かって電子ビームを放出するCRTを含む。C
RTは、水平及び垂直方向に電子ビームを偏向して、タ
ーゲット面にラスタ走査パターンを形成する電磁偏向ヨ
ークを含む。ラスタ走査パターンは、垂直軸に沿って配
置された200〜2000本の略平行な水平ラインを選
択的に含んで形成される。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a multiple format raster scan display capable of providing high quality display images in a wide range of resolutions. In the preferred embodiment, the display includes a CRT that emits an electron beam along a beam axis toward a target surface. C
The RT includes an electromagnetic deflection yoke that deflects the electron beam in the horizontal and vertical directions to form a raster scan pattern on the target surface. The raster scan pattern is formed by selectively including 200 to 2000 substantially parallel horizontal lines arranged along the vertical axis.
【0012】静電偏向器は、電子銃及び電磁ヨーク間に
配置され、垂直方向に電子ビームを偏向するように方向
が定められる。偏向信号発生器は、表示装置が低解像度
で動作するときに、高周波、低振幅偏向信号を静電偏向
器に供給する。静電偏向器は、電子ビームが水平ライン
に沿ってジグザグに進むように、高周波数、低振幅の偏
向を与え、従来の細いラインに代わって幅が広い帯が形
成される。The electrostatic deflector is located between the electron gun and the electromagnetic yoke and is oriented so as to deflect the electron beam in the vertical direction. The deflection signal generator supplies a high frequency, low amplitude deflection signal to the electrostatic deflector when the display device operates at a low resolution. The electrostatic deflector imparts high frequency and low amplitude deflection so that the electron beam travels in a zigzag manner along a horizontal line, and a wide band is formed instead of the conventional thin line.
【0013】低解像度のラスタ走査パターンの各々で
は、偏向信号発生器は、対応する信号振幅の高周波数偏
向信号を発生する。したがって、静電偏向器は、高品質
表示画像を得るのに十分な幅の水平帯を形成するように
働く。For each of the low resolution raster scan patterns, the deflection signal generator produces a high frequency deflection signal of a corresponding signal amplitude. Therefore, the electrostatic deflector acts to form a horizontal band of sufficient width to obtain a high quality displayed image.
【0014】[0014]
【実施例】図1は、本発明のCRT20の断面図であ
る。CRT20は、高周波数偏向器24を含む排気され
た管球22を有する。管球22は、管状ガラス・ネック
部26、ガラス・ファネル部28及び光透過性即ち透明
のガラス・フェースプレート30を含む。蛍光材料層3
2は、フェースプレート30の内面に被着され、ターゲ
ット面34が形成される。従来の直視型表示システムで
は、ターゲット面34は、表示スクリーンとして働く。1 is a sectional view of a CRT 20 of the present invention. The CRT 20 has an evacuated bulb 22 containing a high frequency deflector 24. The bulb 22 includes a tubular glass neck 26, a glass funnel 28 and a light transmissive or transparent glass faceplate 30. Fluorescent material layer 3
2 is attached to the inner surface of the face plate 30 to form a target surface 34. In conventional direct view display systems, the target surface 34 acts as a display screen.
【0015】電磁偏向ヨーク36は、ネック部26と結
合するファネル部28の端部に配置され、ターゲット面
34上をラスタ走査パターン(図示せず)に電子ビーム
を走査する。偏向ヨーク36は、電子ビームを水平方向
38a及び垂直方向38bに夫々偏向する水平及び垂直
偏向コイル(図示せず)を含む。The electromagnetic deflection yoke 36 is arranged at the end of the funnel portion 28 that is connected to the neck portion 26, and scans the target surface 34 with an electron beam in a raster scanning pattern (not shown). The deflection yoke 36 includes horizontal and vertical deflection coils (not shown) that deflect the electron beam in the horizontal direction 38a and the vertical direction 38b, respectively.
【0016】電子銃40は、ガラス・ネック部16内に
配置され、ターゲット面34と反対側のCRT20の端
部に取り付けられたカソード42を含む。カソード42
には、約0Vの電位が供給される。電子銃40には、数
10Vの振幅を有する適当なビデオ制御信号が供給さ
れ、ビデオ信号に応じて電子ビームを変調する。加速素
子46には、通常、約500Vの電位が供給される。The electron gun 40 is disposed within the glass neck 16 and includes a cathode 42 mounted at the end of the CRT 20 opposite the target surface 34. Cathode 42
Is supplied with a potential of about 0V. An appropriate video control signal having an amplitude of several tens of volts is supplied to the electron gun 40, and the electron beam is modulated according to the video signal. The acceleration element 46 is normally supplied with a potential of about 500V.
【0017】図2は、本発明のCRTに使用する静電偏
向素子の斜視図である。電子銃40は、ターゲット面3
4に向かう方向50の管軸48に沿って伝達する電子ビ
ームを発生する。ビームは、1対の管状偏向素子52及
び54を含む高周波数偏向器24を通過する。偏向器5
2は、図1の側面図に示す様に、管軸48と直角な上流
側端部56a及び管軸48と鋭角をなす下流側端部56
bを有する。同様に、偏向素子54は、図1の断面図に
示す様に、管軸48と鋭角をなす上流側端部58a及び
管軸と直角をなす下流側端部58bを有する。断面図の
端部56b及び58aは、互いに略平行で、軸48と好
適には角度45°で交わる。FIG. 2 is a perspective view of an electrostatic deflection element used in the CRT of the present invention. The electron gun 40 has a target surface 3
An electron beam is generated which propagates along the tube axis 48 in a direction 50 towards 4. The beam passes through a high frequency deflector 24 that includes a pair of tubular deflection elements 52 and 54. Deflector 5
As shown in the side view of FIG. 1, reference numeral 2 denotes an upstream end 56a perpendicular to the pipe shaft 48 and a downstream end 56 forming an acute angle with the pipe shaft 48.
b. Similarly, as shown in the cross-sectional view of FIG. 1, the deflection element 54 has an upstream end 58a forming an acute angle with the tube axis 48 and a downstream end 58b forming a right angle with the tube axis. The ends 56b and 58a of the cross-section are substantially parallel to each other and intersect the axis 48, preferably at an angle of 45 °.
【0018】偏向信号発生器60は、偏向信号入力端子
62a及び62bを夫々介して偏向素子52及び54の
各々に約800VのDCアノード電圧を供給する。更
に、偏向信号発生器60は、0〜約10V(ピーク・ピ
ーク電圧)の範囲の振幅を有する正弦波偏向信号を入力
端子62bを介して偏向素子54に供給する。偏向信号
は、所定の最高ビデオ信号の約2倍、好適には約3倍大
きい高周波数を有する。所定の最大ビデオ信号周波数
は、NTSCビデオ規格では約5MHz、高解像度グラ
フィック表示システムでは100MHzである。偏向信
号の振幅は、CRT20が動作する解像度に従って選択
される。The deflection signal generator 60 supplies a DC anode voltage of approximately 800V to each of the deflection elements 52 and 54 via deflection signal input terminals 62a and 62b, respectively. Further, the deflection signal generator 60 supplies a sinusoidal deflection signal having an amplitude in the range of 0 to about 10 V (peak-peak voltage) to the deflection element 54 via the input terminal 62b. The deflection signal has a high frequency which is about twice, and preferably about three times greater than the predetermined highest video signal. The predetermined maximum video signal frequency is about 5 MHz for the NTSC video standard and 100 MHz for high resolution graphic display systems. The amplitude of the deflection signal is selected according to the resolution with which the CRT 20 operates.
【0019】偏向素子54に供給される高周波数偏向信
号は、静電偏向器である偏向素子52と共に機能する。
特に、端部56b及び58aは、素子52及び54が軸
48の垂直方向で対向して配置された領域64を形成
し、この構成により素子52及び54は、静電偏向器2
4として機能する。管状素子52及び54は通常は円筒
状であり、製造の簡単のために従来の平行板静電偏向器
よりも望ましい。更に、十分な高周波数で偏向可能な電
磁偏向器は、比較的に高価であるので、電磁偏向器は望
ましくない。The high frequency deflection signal provided to deflection element 54 functions with deflection element 52, which is an electrostatic deflector.
In particular, the ends 56b and 58a form a region 64 in which the elements 52 and 54 are arranged facing each other in the direction perpendicular to the axis 48, and by this configuration the elements 52 and 54 are arranged so that the electrostatic deflector 2 is provided.
Function as 4. Tubular elements 52 and 54 are typically cylindrical in shape and are preferred over conventional parallel plate electrostatic deflectors for simplicity of manufacture. Moreover, electromagnetic deflectors that are deflectable at sufficiently high frequencies are relatively expensive, which makes them undesirable.
【0020】CRT20は、既知の方法で動作する1組
の収差補正板70及び2電位収束レンズ72を含む。補
正板70による収差補正及び焦点レンズ72による収束
は、互いに作用し合って、ターゲット面34上に、高解
像度表示フォーマットにも使用可能な比較的に小さな電
子ビーム・スポット・サイズを形成する。The CRT 20 includes a set of aberration correction plates 70 and a bipotential focusing lens 72 that operate in a known manner. Aberration correction by the corrector plate 70 and focusing by the focus lens 72 work together to form a relatively small electron beam spot size on the target surface 34 that can also be used in high resolution display formats.
【0021】図3A及び図3Bは、各帯74a及び74
bが本発明に従って形成されるターゲット面34の正面
図である。帯74a及び74bは、ターゲット面34上
で垂直方向に振動し、水平方向に延びる密集した正弦波
状の電子ビーム走査(図中では、明確に示すために帯
は、一番下を除いて水平方向で拡大されている。)で形
成される。帯74a及び74bの正弦波の形状は、偏向
信号の正弦波形態により生成される。正弦波信号は発生
が簡単であり、偏向信号発生器60を比較的に簡単且つ
安価に製造できるので、偏向信号は正弦波形態であるこ
とが望ましい。しかし、例えば、三角波又は他の複雑な
波形である他の周期的波形を使用してもよい。FIGS. 3A and 3B show bands 74a and 74, respectively.
3b is a front view of target surface 34 formed in accordance with the present invention. FIG. Bands 74a and 74b oscillate vertically on the target surface 34 and extend horizontally in a dense sinusoidal electron beam scan (in the figure, the bands are horizontal except for the bottom). It has been enlarged in.). The sinusoidal shape of bands 74a and 74b is produced by the sinusoidal form of the deflection signal. The sinusoidal signal is desired to be sinusoidal in shape because it is simple to generate and the deflection signal generator 60 can be relatively simple and inexpensive to manufacture. However, other periodic waveforms may be used, for example triangular waves or other complex waveforms.
【0022】図3A及び図3Bは、帯74a及び74b
が、異なる幅76a及び76bで形成された異なる低解
像度のフォーマットを示す。幅76a及び76bは、偏
向信号発生器60が発生した偏向信号の振幅により決ま
る。図3A及び図3Bの夫々の隣接する帯74a及び帯
74bが、垂直軸14方向で接触するように、信号振幅
は調整される。高解像度フォーマットでは、CRT20
は、図5Aに示したCRTの形態でラスタ走査パターン
を描く。3A and 3B show bands 74a and 74b.
Shows different low resolution formats formed with different widths 76a and 76b. The widths 76a and 76b are determined by the amplitude of the deflection signal generated by the deflection signal generator 60. The signal amplitude is adjusted so that the adjacent bands 74a and 74b of FIGS. 3A and 3B contact in the direction of the vertical axis 14. CRT20 for high resolution formats
Draws a raster scan pattern in the form of a CRT shown in FIG. 5A.
【0023】図4は、本発明のCRTを使用した好適な
電子ビーム・アドレス投影表示システム110を示す。
表示システム110は、セラミック体114を有する排
気管球112を含み、その対向する側に光透過性の入力
ウィンドウ即ちフェースプレート116及び光透過性出
力ウィンドウ118が取り付けられている。FIG. 4 illustrates a preferred electron beam addressed projection display system 110 using the CRT of the present invention.
The display system 110 includes an exhaust bulb 112 having a ceramic body 114 having a light transmissive input window or faceplate 116 and a light transmissive output window 118 mounted on opposite sides thereof.
【0024】光源120は、投影ランプ122及び反射
器124を含み、順に入力レンズ・システム126、フ
ィールド・レンズ128及び直線偏光器130を介して
フェースプレート116に光線を送る。入力レンズ・シ
ステム126は、光源120により照明される面積の大
きさをフォーマット化し、フィールド・レンズ・システ
ム128は出力ウィンドウ118を伝達するように適切
な方向に光線を向ける。The light source 120 includes a projection lamp 122 and a reflector 124, which in turn directs light rays through an input lens system 126, a field lens 128 and a linear polarizer 130 to a faceplate 116. The input lens system 126 formats the size of the area illuminated by the light source 120, and the field lens system 128 directs the rays in the proper direction to propagate the output window 118.
【0025】出力ウィンドウ118を出た光は、直線偏
光器134を介して投影レンズ・システム132により
投影され、離れた表示面(図示せず)に向かう。偏光フ
ィルタ130及び直線偏光器134は、その光透過軸が
互いに平行になるように配置される。光バルブ110
が、偏光フィルタ128及び分析器132の光透過軸が
直角になるに動作するように構成することは、当業者に
は明かである。The light exiting the output window 118 is projected by the projection lens system 132 through the linear polarizer 134 towards a distant display surface (not shown). The polarization filter 130 and the linear polarizer 134 are arranged such that their light transmission axes are parallel to each other. Light valve 110
However, it will be apparent to those skilled in the art to configure the polarizing filter 128 and analyzer 132 to operate such that the light transmission axes are orthogonal.
【0026】光バルブ110は、フェースプレート11
6を介して管球112内に入る偏光された投射光の経路
に配置された内部液晶セル140(明確化のために図4
では拡大されている。)を有する。セル140は、フェ
ースプレート116と、ターゲット面145を有する薄
い光透過性のターゲット基板144との間に挟まれたネ
マチック液晶材料の層を含む。ターゲット基板144
は、ガラス、ポリイミド又はマイカの様な適当な誘電体
材料で形成される。The light valve 110 includes the face plate 11
An internal liquid crystal cell 140 (see FIG. 4 for clarity) arranged in the path of the polarized projected light entering the bulb 112 via
Has been expanded. ) Has. The cell 140 includes a layer of nematic liquid crystal material sandwiched between a faceplate 116 and a thin optically transparent target substrate 144 having a target surface 145. Target substrate 144
Is formed of a suitable dielectric material such as glass, polyimide or mica.
【0027】フェースプレート116及び基板144の
端部は、セラミック・フリット・シール材料150又は
他の適切な材料で本体140にシールされる。酸化イン
ジウム錫(ITO)の光透過性導電フィルム146は、
フェースプレート116の内面を覆い、セル用の背面電
極として働く。ターゲット基板144は、略均一な高さ
の複数のスペーサ148によりフィルム146から所定
距離だけ離間されている。好適には、多数のスペーサ
(ガラス・ビーズ、又は写真平版技術により製造された
スペーサ)は、フェースプレート116及びターゲット
基板144間の隙間にかなり均一に分布させる。The ends of the face plate 116 and substrate 144 are sealed to the body 140 with a ceramic frit seal material 150 or other suitable material. The transparent conductive film 146 of indium tin oxide (ITO) is
It covers the inner surface of the face plate 116 and acts as a back electrode for the cell. The target substrate 144 is separated from the film 146 by a predetermined distance by a plurality of spacers 148 having a substantially uniform height. Preferably, a large number of spacers (glass beads, or spacers made by photolithography) are fairly evenly distributed in the gap between the faceplate 116 and the target substrate 144.
【0028】ターゲット基板144及びITOフィルム
146の対向面は、その間にネマチック液晶材料を挟む
ためにホモジニアス即ち平行な面に処理される。2つの
面の配列方向は、90°のツイスト・セルを生成するた
めに、直角に処理され。所望の面オリエンテーション
は、角度約5°で面に対して一酸化シリコンを真空蒸着
する様な既知の方法で行われる。セル140内での使用
に適したネマチック液晶材料は、E.マーク社よりZL
I 2244商品名で市販されたネマチック液晶材料、
又は他の同様の材料でよい。The opposing surfaces of the target substrate 144 and the ITO film 146 are treated as homogenous or parallel surfaces to sandwich the nematic liquid crystal material therebetween. The alignment directions of the two faces are processed at right angles to produce a 90 ° twist cell. The desired surface orientation is performed by known methods such as vacuum deposition of silicon monoxide on the surface at an angle of about 5 °. Nematic liquid crystal materials suitable for use in cell 140 are available from E.I. ZL from Mark
I 2244 nematic liquid crystal material marketed under the trade name,
Or other similar material.
【0029】層142のネマチック液晶材料の分子は、
セルを透過する面偏光された光の偏光方向が、供給電界
がないとき即ちオフ状態で、約90°回転されるように
整列される。電位差が液晶材料の特定領域に与えられる
とき、その領域の液晶分子の長手軸は、生じた電界に対
して平行な方向に向く傾向があり、それにより、セル1
40の領域を通過する光の偏光方向の回転量が減少す
る。The molecules of the nematic liquid crystal material of layer 142 are
The polarization direction of the plane-polarized light transmitted through the cell is aligned such that it is rotated about 90 ° in the absence of the applied electric field or in the off state. When a potential difference is applied to a particular region of the liquid crystal material, the longitudinal axes of the liquid crystal molecules in that region tend to be oriented parallel to the generated electric field, thereby causing the cell 1
The amount of rotation in the polarization direction of light passing through the region of 40 is reduced.
【0030】セル140の両端の電位差が十分な大きさ
であれば、セルのその領域を通過する光の偏光方向は、
実質的に変化しない。偏光フィルタ128及び分析器1
32の光透過軸は、同一の方向に配列されるので、セル
がオン状態のときは、分析器132を通過し、セルがオ
フ状態のときに、分析器132により十分に遮断され
る。中間量の光透過は、中間振幅の電位差が供給される
セルの領域で起きる。If the potential difference across the cell 140 is large enough, the polarization direction of light passing through that region of the cell is
Substantially unchanged. Polarization filter 128 and analyzer 1
Since the light transmission axes of 32 are arranged in the same direction, they pass through the analyzer 132 when the cell is in the on state, and are sufficiently blocked by the analyzer 132 when the cell is in the off state. An intermediate amount of light transmission occurs in the area of the cell to which the intermediate amplitude potential difference is applied.
【0031】管球112は、細長い第1及び第2管状ガ
ラス・ネック152a及び152bを含み、各ネックの
一端は、ウィンドウ118に隣接する本体114にフリ
ット封止される。書き込み電子銃154aは、ネック1
52a内に取り付けられる。電子銃154aは、図1の
電子銃40と略同様の構成であるが、電子銃154a
は、書き込み電子ビームを直視型ターゲット面34では
なく、ターゲット面145の方向に向かわせる。同様
に、消去電子銃(図示せず)は、ネック152b内に取
り付けられる。消去電子銃は、図1の電子銃40と略同
様の構成であるが、消去電子ビームをターゲット面14
5に向ける。Tube 112 includes elongated first and second tubular glass necks 152a and 152b, one end of each neck being frit sealed to body 114 adjacent window 118. The writing electron gun 154a has a neck 1
It is attached in 52a. The electron gun 154a has substantially the same configuration as the electron gun 40 of FIG.
Directs the writing electron beam toward the target surface 145 instead of the direct-view target surface 34. Similarly, an erase electron gun (not shown) is mounted within neck 152b. The erasing electron gun has substantially the same configuration as the electron gun 40 in FIG.
Turn to 5.
【0032】銃154aにより形成される書き込みビー
ムは、ビデオ信号に応じて変調され、偏向回路(図示せ
ず)からネック部152aに支持された電磁偏向ヨーク
162aに供給される適当な電気信号に応答して、ター
ゲット基板144のターゲット面145上をラスタ走査
される。書き込みビームは、ターゲット面145上の水
平ラインに沿って走査されるとき、コレクタ電極166
には正電位が供給される。この正電位により、書き込み
電子ビームがターゲット面に衝突したときに、収集電極
166は、ターゲット面145から放出された2次電子
を収集する。その結果、書き込み電子ビームにより書き
込まれ即ちアドレスされたターゲット面145の領域
は、液晶層142にビデオ情報を伝達する正の静電位に
よる画像をを有し、表示画像を形成する。The writing beam formed by the gun 154a is responsive to a video signal and is responsive to an appropriate electrical signal supplied from a deflection circuit (not shown) to an electromagnetic deflection yoke 162a supported on the neck portion 152a. Then, the target surface 145 of the target substrate 144 is raster-scanned. When the writing beam is scanned along a horizontal line on the target surface 145, the collector electrode 166.
Is supplied with a positive potential. Due to this positive potential, the collecting electrode 166 collects the secondary electrons emitted from the target surface 145 when the writing electron beam strikes the target surface. As a result, the areas of the target surface 145 that have been written or addressed by the writing electron beam have a positive electrostatic potential image that conveys video information to the liquid crystal layer 142, forming a display image.
【0033】消去電子銃で形成された消去ビームは、偏
向回路(図示せず)からネック部152bに支持された
電磁偏向ヨーク162bに供給された適当な信号に応答
して、ターゲット基板144のターゲット面145上を
ラスタ走査される。消去ビームが、ターゲット面145
の上の水平ラインに沿って走査されるとき、収集電極1
66には正電位が供給されない。その結果、ターゲット
面145から放射された2次電子はターゲット面に戻
り、消去ビームの衝突した点及びその近傍のターゲット
面145の領域は、書き込みビームにより以前に生成さ
れた正電位を失う。The erasing beam formed by the erasing electron gun responds to an appropriate signal supplied from a deflection circuit (not shown) to the electromagnetic deflection yoke 162b supported by the neck portion 152b. The surface 145 is raster-scanned. The erasing beam causes
Collecting electrode 1 when scanned along a horizontal line above the
No positive potential is supplied to 66. As a result, the secondary electrons emitted from the target surface 145 return to the target surface, and the area of the target surface 145 near and at the point of impact of the erase beam loses the positive potential previously generated by the writing beam.
【0034】消去ビームは、書き込みビームの水平帰線
期間の間に水平ラインに沿って走査され、逆に、書き込
みビームは、消去ビームの水平帰線期間に水平ラインに
沿って走査される。消去ビームのラスタ走査は、書き込
みビームのラスタ走査より、約1/2画像フィールド分
だけ遅れる。よって、書き込みビームにより描かれた水
平ラインは、1/2画像フィールド周期分後に消去され
る。The erase beam is scanned along a horizontal line during the horizontal blanking period of the write beam, and conversely, the write beam is scanned along the horizontal line during the horizontal blanking period of the erase beam. The erase beam raster scan lags the write beam raster scan by about one-half image field. Thus, the horizontal line drawn by the writing beam is erased after 1/2 image field period.
【0035】以上、本発明の好適な実施例について説明
したが、本発明の要旨を逸脱することなく種々の変更が
可能であることは、当業者には明かである。例えば、C
RT10は、ラスタ走査パターンを形成するために、静
電偏向器を使用してもよい。Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, C
RT10 may use electrostatic deflectors to form the raster scan pattern.
【0036】[0036]
【発明の効果】本発明によれば、電子銃及び電磁ヨーク
間に電子ビームを垂直方向に偏向する静電偏向器を配置
し、表示装置が低解像度で動作するときに、偏向信号発
生器により、高周波、低振幅偏向信号を静電偏向器に供
給する。これにより、電子ビームが水平ラインに沿って
ジグザグに進み帯状になって、低解像度時に画像を分離
する黒いストライプが生じるのを防止し、高品質表示画
像を得ることができる。According to the present invention, an electrostatic deflector for vertically deflecting an electron beam is arranged between the electron gun and the electromagnetic yoke, and when the display device operates at a low resolution, the deflection signal generator is used. , High frequency, low amplitude deflection signals are supplied to the electrostatic deflector. This prevents the electron beam from advancing in a zigzag pattern along the horizontal line to form a strip, and black stripes that separate the images at low resolution can be prevented, and a high-quality display image can be obtained.
【図1】本発明のCRTを示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a CRT of the present invention.
【図2】本発明のCRTの一部である静電偏向器を示す
斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an electrostatic deflector which is a part of the CRT of the present invention.
【図3】本発明のCRTによるラスタ走査パターンを示
すためのターゲット面の正面図である。FIG. 3 is a front view of a target surface for showing a raster scanning pattern according to the CRT of the present invention.
【図4】本発明のCRTを使用した電子ビーム・アドレ
ス液晶光変調器を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing an electron beam addressed liquid crystal light modulator using the CRT of the present invention.
【図5】従来のラスタ走査パターンを示すためのターゲ
ット面の正面図である。FIG. 5 is a front view of a target surface for showing a conventional raster scanning pattern.
24 静電偏向手段 34 ターゲット面 36 主偏向手段 60 偏向信号発生器 24 Electrostatic Deflection Means 34 Target Surface 36 Main Deflection Means 60 Deflection Signal Generator
Claims (1)
る第1方向及び上記複数のラインが所定間隔で並べられ
る第2方向にラスタ走査パターンを描いて電子ビームを
偏向する主偏向手段と、 上記第2方向で上記電子ビームを偏向する静電偏向手段
と、 上記複数のラインの所定間隔より小さい距離だけ上記第
2方向で、上記電子ビームを振動させる偏向信号を上記
静電偏向手段に供給する偏向信号発生手段とを具えるこ
とを特徴とする陰極線管。1. A main deflection means for deflecting an electron beam by drawing a raster scanning pattern on a target surface in a first direction in which a plurality of lines extend and in a second direction in which the plurality of lines are arranged at predetermined intervals, An electrostatic deflection unit that deflects the electron beam in a second direction, and a deflection signal that oscillates the electron beam in the second direction by a distance smaller than a predetermined interval between the plurality of lines are supplied to the electrostatic deflection unit. A cathode ray tube comprising a deflection signal generating means.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US70171991A | 1991-05-17 | 1991-05-17 | |
US701719 | 1991-05-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06138831A true JPH06138831A (en) | 1994-05-20 |
Family
ID=24818400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14837992A Pending JPH06138831A (en) | 1991-05-17 | 1992-05-15 | Cathode-ray tube |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06138831A (en) |
-
1992
- 1992-05-15 JP JP14837992A patent/JPH06138831A/en active Pending
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