JPH06138446A - Optical modulator and projection type display device using the same - Google Patents

Optical modulator and projection type display device using the same

Info

Publication number
JPH06138446A
JPH06138446A JP4289066A JP28906692A JPH06138446A JP H06138446 A JPH06138446 A JP H06138446A JP 4289066 A JP4289066 A JP 4289066A JP 28906692 A JP28906692 A JP 28906692A JP H06138446 A JPH06138446 A JP H06138446A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
liquid crystal
transparent substrate
transparent
crystal layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4289066A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takahara
博司 高原
Hideki Omae
秀樹 大前
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4289066A priority Critical patent/JPH06138446A/en
Publication of JPH06138446A publication Critical patent/JPH06138446A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Video Image Reproduction Devices For Color Tv Systems (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the optical modulator having a good image contrast and the projection type display device using it. CONSTITUTION:A liquid crystal layer 94 is inserted and held between a transparent substrate 14 and a dielectric multi-layered film 93 and a light absorbing film 11 is formed on the flank of the transparent substrate 14, and a reflection preventive film 15 is formed by a V-coating system on the surface of the transparent substrate 14 and a counter electrode 13 which has a reflection preventing function is formed between the transparent substrate 11 and liquid crystal layer 94. An image is written from the reverse surface through a photoconductive layer 95. Light which is made incident from the side of the reflection preventive film 15 is scattered by the liquid crystal layer 94 and part of the scattered light is reflected by the border surface between the transparent substrate 14 and reflection preventive film 15 to return to the liquid crystal layer 94 again, but the transparent substrate 14 is thicker than specified, so the light is made incident on and absorbed by the light absorbing film 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、反射型の空間光変調
器、あるいは書き込み光を用いて画像やデータパターン
のような2次元情報を入力し、読出した光を用いてこの
情報を2次元的に表示する機能を持つ光書き込み型の空
間光変調器(以後、光変調器と呼ぶ)及びそれを用いた
投写型表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a reflective spatial light modulator or writing light to input two-dimensional information such as an image or a data pattern, and uses the read light to input this two-dimensional information. The present invention relates to an optical writing type spatial light modulator (hereinafter, referred to as an optical modulator) having a function of displaying images and a projection type display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光変調器としては特開平2−93
519号公報が例示される。以下、従来の光変調器につ
いて図面を参照しながら説明をする。
2. Description of the Related Art A conventional optical modulator is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-93.
519 publication is illustrated. Hereinafter, a conventional optical modulator will be described with reference to the drawings.

【0003】図9は、従来の光書き込み型の光変調器の
斜視図である。光変調器は透明電極92bを付着したガ
ラス等の透明な基板96、液晶層(液晶複合体)94、
全反射用誘電体多層膜93および透明電極92aを付着
した光伝導層95から構成されている。2つの透明電極
92a,92bは交流電源91に接続される。交流電源
91が発生する交流電圧は、液晶層94中のネマティッ
ク液晶分子の長軸を印加電圧の方向とほぼ一致させるの
に必要な交流電圧の実効値よりも大きな実効値V0 を印
加する。具体的には5〜100V程度である。書き込み
光97は光伝導層95に入射する。一方、読出し光98
は、透明な基板96側から入射し、誘電体多層膜93に
おいて全反射され、表示光99となり、基板96側に出
射される。ここで、液晶層94は、例えば図10(a)
に示すように、ネマティック液晶101とその液晶10
1の常光屈折率no、異常光屈折率neまたは液晶101
がランダムに配向した際の屈折率nx のいずれかと同程
度の屈折率を持つポリマー102からなり、ポリマー1
02に液晶101が閉じこめられている。あるいは又液
晶101がポリマー102中にマイクロカプセル状に閉
じこめられたものもある。
FIG. 9 is a perspective view of a conventional optical writing type optical modulator. The light modulator includes a transparent substrate 96 such as glass with a transparent electrode 92b attached, a liquid crystal layer (liquid crystal composite) 94,
It is composed of a dielectric multilayer film 93 for total reflection and a photoconductive layer 95 to which a transparent electrode 92a is attached. The two transparent electrodes 92a and 92b are connected to the AC power supply 91. As the AC voltage generated by the AC power supply 91, an effective value V 0 larger than the effective value of the AC voltage required to make the major axis of the nematic liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 94 substantially coincide with the direction of the applied voltage is applied. Specifically, it is about 5 to 100V. The writing light 97 is incident on the photoconductive layer 95. On the other hand, the reading light 98
Enters from the transparent substrate 96 side, is totally reflected by the dielectric multilayer film 93, becomes display light 99, and is emitted to the substrate 96 side. Here, the liquid crystal layer 94 is, for example, as shown in FIG.
As shown in, the nematic liquid crystal 101 and its liquid crystal 10
1 of the ordinary refractive index n o, the extraordinary refractive index n e or LCD 101
Is composed of a polymer 102 having a refractive index approximately equal to any of the refractive indices n x when randomly oriented, the polymer 1
The liquid crystal 101 is enclosed in 02. Alternatively, the liquid crystal 101 may be enclosed in a polymer 102 in the form of microcapsules.

【0004】この液晶層94は、液晶101の常光屈折
率noまたは異常光屈折率neとポリマー102の屈折率
とがほぼ一致しているときには、電極間に液晶複合体を
直接はさんだ場合、電極間に電圧が印加されていない状
態で液晶101とポリマー102の屈折率がくい違って
いることから散乱状態となり、電極間に電圧が印加され
た状態で両者の屈折率が一致し、光が透過する透過状態
となる。
In the liquid crystal layer 94, when the ordinary refractive index n o of the liquid crystal 101 or the extraordinary refractive index n e and the refractive index of the polymer 102 are substantially the same, the liquid crystal composite is directly sandwiched between the electrodes. , The refractive index of the liquid crystal 101 and the polymer 102 are different from each other when no voltage is applied between the electrodes, resulting in a scattering state. Is in a transparent state.

【0005】また、光伝導層95は、CdS,CdS
e,Se,SeTe,GaAs,Bi12SiO20,Bi
12GeO20,アモルファスシリコン膜など光照射により
インピーダンスが大幅に変化する材料からなる。
The photoconductive layer 95 is made of CdS, CdS.
e, Se, SeTe, GaAs, Bi 12 SiO 20 , Bi
It is made of 12 GeO 20 , amorphous silicon film, or other material whose impedance changes drastically when exposed to light.

【0006】書き込み光照射時及び同光非照射時の光伝
導層95のインピーダンスをそれぞれZoN、ZOFF
し、液晶層94および全反射用誘電体多層膜93のイン
ピーダンスをそれぞれZLC、ZMとすると、光変調器は
次の関係を持つ。
[0006] writing light irradiation time and the light non-irradiation of Z the impedance of the photoconductive layer 95, respectively oN, and Z OFF, the impedance of the liquid crystal layer 94 and the total reflection dielectric multilayer film 93, respectively Z LC, Z M Then, the optical modulator has the following relationship.

【0007】[0007]

【数2】 [Equation 2]

【0008】また、光伝導層95の厚さ及び誘電率をt
1及びε1に、液晶層94の厚さ及び誘電率をt2及びε2
に、さらに全反射用誘電体多層膜93の厚さ及び誘電率
をt3及びε3に、それぞれ定めると、光変調器は
Further, the thickness and the dielectric constant of the photoconductive layer 95 are t
1 and ε 1 , the thickness and the dielectric constant of the liquid crystal layer 94 are t 2 and ε 2, respectively.
And the thickness and the dielectric constant of the total reflection dielectric multilayer film 93 are set to t 3 and ε 3 , respectively, the optical modulator

【0009】[0009]

【数3】 [Equation 3]

【0010】の関係を持つ。Have a relationship of

【0011】次に、液晶101の常光屈折率no とポリ
マー102の屈折率ne とがほぼ一致しているタイプの
液晶複合体の例に基づいて、従来の光変調器の動作を説
明する。
Next, the operation of the conventional optical modulator will be described based on an example of a liquid crystal composite in which the ordinary refractive index n o of the liquid crystal 101 and the refractive index n e of the polymer 102 are substantially the same. .

【0012】書き込み光がない場合には、(数2)より
大部分の電圧は光伝導層95に印加され、液晶層94の
印加電圧は小さい。従って、ネマティック液晶分子10
1は、ポリマー102の不規則な壁面に応じて、図10
(a)に示すようにさまざまな方向を向く。このときネ
マティック液晶101は、液晶101を囲むポリマー1
02の屈折率npと異なる屈折率(2no+ne)/3を
持つ。
In the absence of writing light, most of the voltage above (Equation 2) is applied to the photoconductive layer 95, and the applied voltage to the liquid crystal layer 94 is small. Therefore, the nematic liquid crystal molecule 10
1 corresponds to the irregular wall surface of the polymer 102, as shown in FIG.
Face in various directions as shown in (a). At this time, the nematic liquid crystal 101 is the polymer 1 surrounding the liquid crystal 101.
It has a refractive index (2n o + n e ) / 3 different from the refractive index n p of 02.

【0013】従って、読出し光98は液晶層94中で散
乱され、その出力光強度は最小になる。次に書き込み光
97が増大すると、その強度に応じて光伝導層95のイ
ンピーダンスが減少し、液晶層94に印加される電圧が
増大する。書き込み光97の強度が充分大きい場合、液
晶分子101の長軸は図10(b)に示すように電界の
方向を向き、液晶層94に垂直に入射した読出し光98
に対して、ネマティック液晶は常光屈折率no とみなさ
れる。noはnpに極めて近い値を持つため、この場合読
出し光98は散乱せずに透過し、素子透過後の読出し光
98は散乱せずに透過し、素子透過後の読出し光、即ち
表示光99の光強度は最大になる。以上のように変調さ
れた光をスクリーンに投映すれば投写表示装置となる。
Therefore, the read light 98 is scattered in the liquid crystal layer 94, and its output light intensity is minimized. Next, when the writing light 97 increases, the impedance of the photoconductive layer 95 decreases according to the intensity thereof, and the voltage applied to the liquid crystal layer 94 increases. When the intensity of the writing light 97 is sufficiently high, the long axis of the liquid crystal molecule 101 is directed to the direction of the electric field as shown in FIG. 10B, and the reading light 98 perpendicularly incident on the liquid crystal layer 94.
Respect, the nematic liquid crystal is considered ordinary refractive index n o. Since n o is with very close to the n p, in this case the reading light 98 passes through without scattering, the reading light 98 after the element transmission is transmitted without scattering, reading light after element transmission, that is, the display The light intensity of the light 99 becomes maximum. When the light modulated as described above is projected on the screen, a projection display device is obtained.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】光散乱状態の変化とし
て形成された光変調層つまり図10(a)にあっては液
晶層94上の光学像を輝度の変化に変換するには、光変
調器の出射光の内、一定の立体角の光だけを取り出す
と、その立体角に入る光量が光散乱状態により変化する
ことを利用する。この方法には、中心遮蔽型とアパーチ
ャ型の2種類がある。一方の中心遮蔽型は透明状態の場
合に光が遮蔽されスクリーン上に到達しないようにする
方法であり、光変調器が光散乱状態の場合に遮蔽板に遮
光されない光がスクリーン上に到達する。他方アパーチ
ャ型は指向性の中心方向に進む光を利用するもので、散
乱度が大きくなると光変調器から投写レンズに入射する
光量が低下する。前述の中心遮蔽型はコントラストは有
利であるが、構成が複雑であり、投写画像が暗いという
問題がある。
The light modulation layer formed as a change in the light scattering state, that is, in FIG. 10A, in order to convert an optical image on the liquid crystal layer 94 into a change in luminance, the light modulation is required. It is utilized that, when only light with a certain solid angle is extracted from the light emitted from the container, the amount of light entering the solid angle changes depending on the light scattering state. There are two types of this method, a center shield type and an aperture type. On the other hand, the center shield type is a method of blocking light from reaching the screen in the transparent state, and light not shielded by the shield plate reaches the screen when the light modulator is in the light scattering state. On the other hand, the aperture type utilizes light traveling in the direction of the directivity, and when the degree of scattering increases, the amount of light entering the projection lens from the light modulator decreases. The above-mentioned center-shielded type is advantageous in contrast, but has a problem that the configuration is complicated and the projected image is dark.

【0015】一方、アパーチャ型は構成が簡単であり、
明るい投写画像を得ることができるが、中心遮蔽型に比
較して、投写画像のコントラストが良くないという課題
がある。この課題は、光散乱状態の変化として光学像を
形成する光変調器及びそれを用いた投写型表示装置では
共通の課題である。この課題を解決する方法として、投
写レンズの集光する立体角を小さくすることが考えられ
るが、これは投写画像の明るさの低下を招くので、投写
画像が明るいという特徴が薄れてしまう。
On the other hand, the aperture type has a simple structure,
Although a bright projected image can be obtained, there is a problem that the contrast of the projected image is not good as compared with the center-shielded type. This problem is common to an optical modulator that forms an optical image as a change in the light scattering state and a projection display device using the optical modulator. As a method for solving this problem, it is conceivable to reduce the solid angle of the projection lens, but this causes a decrease in the brightness of the projected image, and the feature that the projected image is bright is diminished.

【0016】コントラストを低下させる原因として透明
電極での反射率がある。媒質1の屈折率をn1、媒質2
の屈折率をn2とすると、媒質1と2間での光の反射率
Rは次式で表される。
The reflectance of the transparent electrode is a cause of lowering the contrast. The refractive index of medium 1 is n 1 , medium 2
The reflectance R of light between the media 1 and 2 is expressed by the following equation, where n 2 is the refractive index of

【0017】[0017]

【数4】 [Equation 4]

【0018】透明電極は通常ITOで形成されるから屈
折率は約2.0、基板はガラスであるから屈折率は約
1.52である。また、液晶層94が散乱状態の屈折率
x は常光屈折率no を1.52、異常光屈折率ne
1.75とするとnx≒1.6である。したがって、基
板96とITO96b間の反射率R1 は(数4)より
1.9%、ITO96bと液晶層94との反射率R2
1.2%、また、空気とガラス基板96との反射率R3
は4.2%となることから、全体の反射率Rは R=R1+R2+R3=7.3% となる。反射率Rは光変調層94に入射せず反射する光
であるから、不要光となりコントラストを低下させる。
つまり、コントラストCRは100/7.3≒15弱と
なる。
Since the transparent electrode is usually made of ITO, the refractive index is about 2.0, and the substrate is glass, so the refractive index is about 1.52. The refractive indices n x of the liquid crystal layer 94 is a scattering state is n x ≒ 1.6 and the refractive index n o of 1.52, 1.75 and extraordinary refractive index n e ordinary. Therefore, the reflectance R 1 between the substrate 96 and the ITO 96b is 1.9% from (Equation 4), the reflectance R 2 between the ITO 96b and the liquid crystal layer 94 is 1.2%, and the reflection between the air and the glass substrate 96 is Rate R 3
Is 4.2%, the total reflectance R is R = R 1 + R 2 + R 3 = 7.3%. Since the reflectance R is light that does not enter the light modulation layer 94 and is reflected, it becomes unnecessary light and lowers the contrast.
That is, the contrast CR becomes 100 / 7.3≈15.

【0019】以上のように従来の光変調器では十分なコ
ントラスト得ることはできなかった。したがって、従来
の光変調器を用いて投写型表示装置を構成しても高コン
トラストの画像表示を望むことはできなかった。
As described above, the conventional optical modulator cannot obtain a sufficient contrast. Therefore, even if a projection display device is configured using a conventional light modulator, it is not possible to expect high-contrast image display.

【0020】本発明は、従来のこのような課題を考慮
し、画像のコントラストがよい光変調器及びそれを用い
た投写表示装置を提供することを目的とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a light modulator having a good image contrast and a projection display device using the light modulator.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】請求項1の本発明は、光
を透過させる透明基板と、その透明基板の面上に形成さ
れ、導電性及び光の反射防止機能を有する透明薄膜と、
その透明薄膜と光反射層を有する光反射基板との間に配
置された液晶層とを備えた光変調器である。
According to the present invention of claim 1, there is provided a transparent substrate which transmits light, and a transparent thin film which is formed on the surface of the transparent substrate and has conductivity and a light reflection preventing function.
An optical modulator including the transparent thin film and a liquid crystal layer disposed between a light reflecting substrate having a light reflecting layer.

【0022】請求項16の本発明は、読み出し用の光を
透過させる透明基板と、その透明基板の面上に形成さ
れ、導電性及び光の反射防止機能を有する透明薄膜と、
その透明薄膜と光反射層を有する光反射基板との間に配
置された液晶層と、透明基板を通じてその液晶層に読み
出し用の光を出射する光源手段と、液晶層により変調さ
れ、光反射層から反射された光をスクリーンに投写する
投写光学手段とを備えた投写型表示装置である。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a transparent substrate which transmits reading light, and a transparent thin film which is formed on the surface of the transparent substrate and has conductivity and a light reflection preventing function.
A liquid crystal layer arranged between the transparent thin film and a light reflecting substrate having a light reflecting layer, a light source means for emitting reading light to the liquid crystal layer through the transparent substrate, and a light reflecting layer modulated by the liquid crystal layer. And a projection optical means for projecting the light reflected from the screen onto a screen.

【0023】[0023]

【作用】請求項1の本発明は、光が透明基板から液晶層
へ通過する際と、光反射基板により反射された光が液晶
層から透明基板へ通過する際に、透明薄膜が光の反射を
抑制して、コントラストを向上させる。
According to the present invention of claim 1, the transparent thin film reflects light when light passes from the transparent substrate to the liquid crystal layer and when light reflected by the light reflecting substrate passes from the liquid crystal layer to the transparent substrate. To improve the contrast.

【0024】請求項16の本発明は、光源手段から出射
された読み出し用の光が透明基板から液晶層へ通過する
際と、光反射基板により反射され、液晶層で変調された
光が液晶層から透明基板へ通過する際に、透明薄膜が光
の反射を抑制し、投写光学手段によりスクリーンに投写
された画像のコントラストを向上させる。
In the sixteenth aspect of the present invention, when the reading light emitted from the light source means passes from the transparent substrate to the liquid crystal layer, the light reflected by the light reflecting substrate and modulated by the liquid crystal layer is modulated by the liquid crystal layer. The transparent thin film suppresses the reflection of light when passing from the transparent substrate to the transparent substrate, and improves the contrast of the image projected on the screen by the projection optical means.

【0025】[0025]

【実施例】以下に、本発明をその実施例を示す図面に基
づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings showing its embodiments.

【0026】図1は、本発明にかかる一実施例の光変調
器の断面図である。なお、以下の各図面はモデル的に描
いており、物理的な膜厚あるいは形状とは一致しない。
また、説明に不要な箇所は省略している。なお、説明は
従来例との差異点を中心に説明する。
FIG. 1 is a sectional view of an optical modulator of an embodiment according to the present invention. Note that the following drawings are drawn as models and do not match the physical film thickness or shape.
In addition, parts unnecessary for explanation are omitted. The description will be focused on the differences from the conventional example.

【0027】図1において、透明基板14はガラス基板
であり、光変調層である液晶層94と接する面には反射
防止構造をかねた対向電極(透明薄膜)13が形成され
ている。また、対向電極13と誘電体多層膜93間はス
ペーサ(図示せず)等により所定間隔あけて保持され、
周辺部は封止樹脂12により液晶層94が封止されてい
る。誘電体多層膜93上には光伝導層95が形成され、
その光伝導層95の上には透明電極92aが形成され、
それら誘電体多層膜93、光伝導層95、透明電極92
aが光反射基板を構成している。ここで、透明基板14
の屈折率は1.52であり、透明基板14の厚みtは液
晶層94の有効表示領域の最大径をd、透明基板14の
屈折率をnとしたとき次式で表される。
In FIG. 1, the transparent substrate 14 is a glass substrate, and a counter electrode (transparent thin film) 13 also serving as an antireflection structure is formed on the surface in contact with the liquid crystal layer 94 which is a light modulation layer. Further, a space (not shown) or the like is provided between the counter electrode 13 and the dielectric multilayer film 93 so as to be held at a predetermined interval.
The liquid crystal layer 94 is sealed in the peripheral portion by the sealing resin 12. A photoconductive layer 95 is formed on the dielectric multilayer film 93,
A transparent electrode 92a is formed on the photoconductive layer 95,
The dielectric multilayer film 93, the photoconductive layer 95, the transparent electrode 92
a constitutes a light reflecting substrate. Here, the transparent substrate 14
Has a refractive index of 1.52, and the thickness t of the transparent substrate 14 is represented by the following equation, where d is the maximum diameter of the effective display area of the liquid crystal layer 94 and n is the refractive index of the transparent substrate 14.

【0028】[0028]

【数5】 [Equation 5]

【0029】また、透明基板14の側面には光吸収膜1
1として黒色塗料が塗布されている。この光吸収膜11
により透明基板14の出射面で反射した光を吸収し、2
次散乱光を防止する。
The light absorbing film 1 is formed on the side surface of the transparent substrate 14.
Black paint is applied as No. 1. This light absorbing film 11
Absorbs the light reflected on the exit surface of the transparent substrate 14 by 2
Prevents secondary scattered light.

【0030】液晶層94を構成する液晶複合体の液晶材
料としてはネマティック液晶、スメクティック液晶、コ
レステリック液晶が好ましく、単一もしくは2種類以上
の液晶性化合物や液晶性化合物以外の物質も含んだ混合
物であってもよい。なお、先に述べた液晶材料のうち異
常光屈折率neと常光屈折率noの差の比較的大きいシア
ノビフェニル系のネマティック液晶が好ましい。もしく
は耐光性、耐熱性が良好なフッ素系のネマティック液晶
が好ましい。
As the liquid crystal material of the liquid crystal composite forming the liquid crystal layer 94, nematic liquid crystal, smectic liquid crystal and cholesteric liquid crystal are preferable, and a single or a mixture of two or more kinds of liquid crystal compounds or a substance other than the liquid crystal compounds is used. It may be. Among the above-mentioned liquid crystal materials, a cyanobiphenyl nematic liquid crystal having a relatively large difference between the extraordinary light refractive index n e and the ordinary light refractive index n o is preferable. Alternatively, a fluorine-based nematic liquid crystal having good light resistance and heat resistance is preferable.

【0031】ポリマーとしては透明な物質が好ましく、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂のい
ずれであっても良いが、製造工程の容易さ、液晶相との
分離等の点より紫外線硬化タイプの樹脂を用いるのが好
ましい。具体的な例として紫外線硬化性アクリル系樹脂
が例示され、特に紫外線照射によって重合硬化するアク
リルモノマー、アクリルオリゴマーを含有するものが好
ましい。
A transparent substance is preferable as the polymer,
Further, although it may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photocurable resin, it is preferable to use an ultraviolet curable resin from the viewpoint of ease of manufacturing process, separation from a liquid crystal phase, and the like. As a specific example, an ultraviolet curable acrylic resin is exemplified, and a resin containing an acrylic monomer or an acrylic oligomer which is polymerized and cured by ultraviolet irradiation is particularly preferable.

【0032】このような高分子形成モノマーとしては、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、ネオペンチルグリコールドアクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールアクリレート等々である。
As such a polymer-forming monomer,
2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, neopentyl glycol acrylate, hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol acrylate and the like.

【0033】オリゴマーもしくはプレポリマーとして
は、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート等が挙げられる。
Examples of the oligomer or prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate and polyurethane acrylate.

【0034】また重合を速やかに行なう為に重合開始剤
を用いても良く、この例として、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(メルク社製
「ダロキュア1173」)、1−(4−イソプロピルフ
ェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−
オン(メルク社製「ダロキュア1116」)、1−ビド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイキー社
製「イルガキュア184」)、ベンジルメチルケタール
(チバガイギー社製「イルガキュア651」)等が掲げ
られる。その他に任意成分として連鎖移動剤、光増感
剤、染料、架橋剤等を適宜併用することができる。
A polymerization initiator may be used to accelerate the polymerization, and as an example, 2-hydroxy-2-
Methyl-1-phenylpropan-1-one (“Darocur 1173” manufactured by Merck), 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-
On (Merck "Darocur 1116"), 1-vidroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba-Gaiki "Irgacure 184"), benzyl methyl ketal (Ciba-Geigy "Irgacure 651") and the like. In addition, a chain transfer agent, a photosensitizer, a dye, a cross-linking agent and the like can be appropriately used in combination as optional components.

【0035】液晶複合体の液晶材料の割合はここで規定
していないが、一般には20重量%〜90重量%程度が
よく、好ましくは50重量%〜85重量%程度がよい。
20重量%以下であると液晶滴の量が少なく、散乱の効
果が乏しい。また90重量%以上となると高分子と液晶
が上下2層に相分離する傾向が強まり、界面の割合は小
さくなり散乱特性は低下する。高分子分散液晶層の構造
は液晶分率によって変わり、だいたい50重量%以下で
は液晶滴は独立したドロップレト状として存在し、50
重量%以上となると高分子と液晶が互いに入り組んだ連
続層となる。
Although the ratio of the liquid crystal material of the liquid crystal composite is not specified here, it is generally about 20 to 90% by weight, preferably about 50 to 85% by weight.
If it is 20% by weight or less, the amount of liquid crystal droplets is small and the scattering effect is poor. On the other hand, when it is 90% by weight or more, the polymer and the liquid crystal tend to be phase-separated into upper and lower two layers, the ratio of the interface becomes small, and the scattering property is deteriorated. The structure of the polymer-dispersed liquid crystal layer changes depending on the liquid crystal fraction. When the content is about 50% by weight or less, the liquid crystal droplets exist as independent droplets.
When it is more than weight%, a continuous layer in which the polymer and the liquid crystal are intricately mixed with each other is formed.

【0036】液晶層94の膜厚は5〜25μmの範囲が
好ましく、さらには8〜15μmの範囲が好ましい。膜
厚が薄いと散乱特性が悪くコントラストを良好にするこ
とができない。
The thickness of the liquid crystal layer 94 is preferably in the range of 5 to 25 μm, more preferably 8 to 15 μm. If the film thickness is thin, the scattering characteristics are poor and the contrast cannot be improved.

【0037】透明基板14の表面には空気との界面での
反射を防止する反射防止膜15が形成されている。反射
防止膜15には、比較的広い可視光の波長帯域で反射率
を低減させるマルチコート方式と、特定の波長帯域で反
射率を低減させるVコート方式がある。投写型表示装置
に用いる光変調器の場合はVコート方式を採用する。こ
れは投写型表示装置で用いる光変調器は赤(R),緑
(G),青(B)光のそれぞれの波長の光を変調する3
枚の光変調器を用いるためである。つまり、各光変調器
がうけもつ波長帯域は狭いので、極力反射光を防止する
のにVコート方式が適する。したがって、R,G,B光
のそれぞれの光を変調する光変調器はそれぞれに入射光
のピーク波長に対応して最適なVコートを施すことが好
ましい。なお、白色光を変調する場合はマルチコート方
式を施すことが好ましい。
An antireflection film 15 for preventing reflection at the interface with air is formed on the surface of the transparent substrate 14. The antireflection film 15 includes a multi-coat method that reduces the reflectance in a relatively wide wavelength band of visible light and a V-coat method that reduces the reflectance in a specific wavelength band. In the case of an optical modulator used for a projection display device, the V coat method is adopted. This is because the light modulator used in the projection display device modulates light of each wavelength of red (R), green (G), and blue (B) light.
This is because a single optical modulator is used. That is, since the wavelength band received by each optical modulator is narrow, the V coat method is suitable for preventing reflected light as much as possible. Therefore, it is preferable that the optical modulator that modulates each of the R, G, and B lights be provided with an optimum V coat corresponding to the peak wavelength of the incident light. When white light is modulated, it is preferable to apply a multi-coat method.

【0038】マルチコート方式ではAl23を光学的膜
厚がλ/4、ZrO2 を光学的膜厚がλ/2、MgF2
を光学的膜厚がλ/4の3層の薄膜を蒸着して形成す
る。Vコート方式の場合はY23を光学的膜厚がλ/
4、MgF2 を光学的膜厚がλ/4の2層の薄膜を蒸着
して形成する。なお、Y22のかわりにSiOを用いて
もよいがSiOは青色光で吸収帯域があるため、B光を
変調する光変調器の反射防止膜としてはY23を用いる
方がよい。また、一般的にはY23の方が安定で良好な
膜質が得られるためY23の方が好ましい。
In the multi-coat method, Al 2 O 3 has an optical film thickness of λ / 4, ZrO 2 has an optical film thickness of λ / 2, and MgF 2
Is formed by depositing a three-layer thin film having an optical film thickness of λ / 4. In the case of the V coat method, Y 2 O 3 has an optical film thickness of λ /
4. MgF 2 is formed by vapor deposition of a two-layer thin film having an optical film thickness of λ / 4. It should be noted that SiO may be used instead of Y 2 O 2 , but since SiO has an absorption band for blue light, it is better to use Y 2 O 3 as the antireflection film of the optical modulator that modulates B light. . Also, who generally Y 2 for direction of O 3 is obtained a stable and good quality Y 2 O 3 is preferred.

【0039】次に上記実施例の動作原理について説明す
る。
Next, the operating principle of the above embodiment will be described.

【0040】図4は、本発明の光変調器のモデルを示す
図である。透明基板14と誘電体多層膜93の間に液晶
層94が狭持されているものとし、透明基板14の厚さ
は表示領域の大きさに比べて十分大きいとする。液晶層
94に電圧を印加しないで、表示領域内の点Aを中心と
する微小領域41だけに細い平行光を照射する場合につ
いて考える。
FIG. 4 is a diagram showing a model of the optical modulator of the present invention. It is assumed that the liquid crystal layer 94 is sandwiched between the transparent substrate 14 and the dielectric multilayer film 93, and the thickness of the transparent substrate 14 is sufficiently larger than the size of the display area. Consider a case where thin parallel light is applied only to the minute area 41 centered on the point A in the display area without applying a voltage to the liquid crystal layer 94.

【0041】微小領域41に入射した光は散乱光42と
なり散乱し、出射面46に達する。出射面46と散乱光
42との角度θ0 が臨界角以下の時は透過光線43とな
り、それ以上の時は反射光線44となる。反射光線44
は再び液晶層94に入射し、再び散乱光45が前方に出
射する。これは液晶層94に2次光源が形成されたこと
に相当する。
The light incident on the minute region 41 becomes scattered light 42 and is scattered, and reaches the emission surface 46. When the angle θ 0 between the exit surface 46 and the scattered light 42 is less than or equal to the critical angle, it becomes the transmitted light ray 43, and when it is more than that, it becomes the reflected light ray 44. Reflected ray 44
Is again incident on the liquid crystal layer 94, and the scattered light 45 is emitted again forward. This corresponds to the formation of the secondary light source in the liquid crystal layer 94.

【0042】液晶層94からの再出射光の輝度分布は細
い入射平行光を中心として回転対称となる。再出射光の
輝度分布はリング状となる。
The luminance distribution of the re-emitted light from the liquid crystal layer 94 is rotationally symmetrical with respect to the thin incident parallel light. The brightness distribution of the re-emitted light has a ring shape.

【0043】ある画素からでた散乱光が本来黒表示とな
るべき画素にも他の画素に入射すると、そこに拡散反射
による2次光源が形成されるので、本来黒表示となるべ
き画素の輝度が高くなってしまう。
When the scattered light emitted from a certain pixel enters another pixel even if it should originally be black-displayed, a secondary light source due to diffuse reflection is formed there, so that the brightness of the pixel originally supposed to be black-displayed. Will be higher.

【0044】以上から、液晶層を用いた投写型表示装置
の投写画像のコントラストが良くないという問題点は、
光変調器の電圧無印加時の散乱ゲインが大きいことも原
因の1つであるが、上記メカニズムが原因となってい
る。透明基板14の厚さtが厚くなるほど、再出射光の
輝度は小さくなる。従って、透明基板14の厚さを厚く
すれば、表示画像のコントラストが向上する。
From the above, the problem that the contrast of the projected image of the projection type display device using the liquid crystal layer is not good is
One of the causes is that the scattering gain of the optical modulator when no voltage is applied is large, but it is caused by the above mechanism. As the thickness t of the transparent substrate 14 increases, the brightness of the re-emitted light decreases. Therefore, increasing the thickness of the transparent substrate 14 improves the contrast of the displayed image.

【0045】図5に示すように、液晶層の有効表示領域
51の最大径を与える2点をP,Qとし、点Pを中心と
する微小領域52だけに平行光を照射する場合を考え
る。点Pから出て出射面46で反射する光により、液晶
層94上に再出射光によるリング53が現れる。このと
き、有効表示領域51全体で再出射光の輝度を抑制する
には、点Qがリング53の内側に存在する必要がある。
つまり、点Pから点Qまでの長さをdとして、
As shown in FIG. 5, consider a case where two points giving the maximum diameter of the effective display area 51 of the liquid crystal layer are P and Q, and parallel light is irradiated only to a minute area 52 centered on the point P. The light emitted from the point P and reflected by the emission surface 46 causes the ring 53 by the re-emitted light to appear on the liquid crystal layer 94. At this time, in order to suppress the brightness of the re-emitted light in the entire effective display area 51, the point Q needs to exist inside the ring 53.
In other words, letting the length from point P to point Q be d,

【0046】[0046]

【数6】 [Equation 6]

【0047】の条件が満足されれば、有効表示領域51
の全体で不要光による輝度上昇は抑制されコントラスト
が向上する。このリング53の直径を大きくすること
が、本発明のコントラスト向上に関する第2の作用であ
る。なお、本発明者らは種々の実験を繰り返し、有効表
示領域51の最大径がリング53の直径より小さけれ
ば、実用上十分なコントラスト向上の効果が得られるこ
とを確認している。この場合、
If the condition of is satisfied, the effective display area 51
As a whole, the increase in brightness due to unnecessary light is suppressed and the contrast is improved. Increasing the diameter of the ring 53 is the second action for improving the contrast of the present invention. Note that the present inventors have repeated various experiments and confirmed that if the maximum diameter of the effective display area 51 is smaller than the diameter of the ring 53, a practically sufficient effect of improving contrast can be obtained. in this case,

【0048】[0048]

【数7】 [Equation 7]

【0049】となる。従って、透明基板14の厚さt
は、(数7)を満足するように選ぶとよい(詳細は特願
平4−145277号参照)。
It becomes Therefore, the thickness t of the transparent substrate 14
Should be selected so as to satisfy (Equation 7) (see Japanese Patent Application No. 4-145277 for details).

【0050】また、透明基板14の表面が凹面に形成さ
れている例について説明する。図6に示すように、透明
基板14の材質と中心厚を同一として、出射面46だけ
を凹面に変え、液晶層94に電圧を印加しないで表示領
域内の点Aを中心とする微小領域41だけに入射側から
細い平行光を照射する。液晶層94上の点Aから出て凹
面46上の点Bで反射し液晶層94上の点Cに入射する
光線を考えると、出射面46が平面から凹面に変わるこ
とにより、点Cで見る微小領域41の虚像から点Cまで
の距離が長くなり、また、点Bで反射して点Cに入射す
る光線の入射角が大きくなるから、点Cからの再出射光
の輝度が低下する。また、点Aから点Cまでの距離が長
くなるから、リングの直径は大きくなる。従って、透明
基板14の出射面46を平面から凹面に変えることによ
り、再出射光の輝度を低減することができ、表示画像の
コントラストを向上させることができる。このことは、
透明基板14の出射面が凹面の場合、出射面が平面の場
合と比較して、中心厚が薄くてもコントラスト向上の効
果が大きいことを意味する。したがって、(数7)には
制約されない。
An example in which the surface of the transparent substrate 14 is concave will be described. As shown in FIG. 6, the transparent substrate 14 is made of the same material and has the same center thickness, only the emitting surface 46 is changed to a concave surface, and a minute area 41 centered on a point A in the display area without applying a voltage to the liquid crystal layer 94. Only thin parallel light is emitted from the incident side. Considering a ray that emerges from the point A on the liquid crystal layer 94, is reflected at the point B on the concave surface 46, and is incident on the point C on the liquid crystal layer 94, the exit surface 46 changes from a flat surface to a concave surface, so Since the distance from the virtual image of the minute region 41 to the point C becomes long, and the incident angle of the ray reflected at the point B and incident on the point C becomes large, the brightness of the re-emitted light from the point C decreases. Further, since the distance from the point A to the point C becomes long, the diameter of the ring becomes large. Therefore, by changing the emission surface 46 of the transparent substrate 14 from a flat surface to a concave surface, the brightness of the re-emitted light can be reduced and the contrast of the display image can be improved. This is
When the emitting surface of the transparent substrate 14 is concave, it means that the effect of improving the contrast is great even when the emitting surface is flat, even if the center thickness is thin. Therefore, it is not limited to (Equation 7).

【0051】次に、無効面(側面)で光が反射される
と、その光は液晶層94に戻り黒表示部の輝度上昇を招
く。この問題は、図4および図6に示すように、透明基
板14の無効面47に光吸収手段11を施し、不要光を
吸収するようにすれば解決できる。さらに、透明基板1
4の出射面46の有効領域に反射防止膜を付ければ、小
さな角度で液晶層94から出射する光の出射面46にお
ける反射率が減少するので、黒表示部の輝度上昇を低減
できる。光吸収手段11とは黒色塗料などが該当する。
Next, when the light is reflected by the ineffective surface (side surface), the light returns to the liquid crystal layer 94 and causes an increase in the brightness of the black display portion. This problem can be solved by providing the light absorbing means 11 on the ineffective surface 47 of the transparent substrate 14 to absorb unnecessary light, as shown in FIGS. 4 and 6. Furthermore, the transparent substrate 1
If an antireflection film is attached to the effective area of the exit surface 46 of No. 4, the reflectance of the exit surface 46 of the light emitted from the liquid crystal layer 94 at a small angle is reduced, so that the increase in brightness of the black display portion can be suppressed. The light absorbing means 11 corresponds to black paint or the like.

【0052】一方、透明基板14の片面(液晶層側)に
は、反射防止機能を持つ対向電極13が形成される。正
確には対向電極13となる透明導電性薄膜であるITO
膜の前後等に反射防止膜を形成する。以後、この反射防
止構造の対向電極を反射防止電極13と呼ぶ。
On the other hand, a counter electrode 13 having an antireflection function is formed on one surface (on the liquid crystal layer side) of the transparent substrate 14. Strictly speaking, ITO which is a transparent conductive thin film which becomes the counter electrode 13
An antireflection film is formed before and after the film. Hereinafter, the counter electrode having this antireflection structure is referred to as an antireflection electrode 13.

【0053】図2(a)、(b)は、反射防止電極13
の構成の例を示す断面図である。図2(a)の例は3層
構成の反射防止電極13であり、22は対向電極となる
ITO膜である。ITO膜22の膜厚dは光学的膜厚が
略λ/2となるようにする。入射する光のピーク波長λ
が550nmであればd=1375Å(屈折率n≒2)
前後である。ITO膜22の膜厚はλに対応して形成さ
れる。21および23は透明基板14の屈折率とITO
膜22の屈折率との間の屈折率の物質からなる薄膜であ
る。薄膜21,23は同一の物質で同一の膜厚に形成す
ることが好ましい。薄膜21,23の膜厚は光学的膜厚
nd=λ/4とする。ITO膜22の膜厚の変化はピー
ク波長の反射率の変化にかなり影響するが、薄膜21,
23の膜厚の変化は比較的影響を与えない。なお、nは
屈折率である。
2A and 2B show the antireflection electrode 13
3 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of FIG. The example of FIG. 2A is an antireflection electrode 13 having a three-layer structure, and 22 is an ITO film serving as a counter electrode. The film thickness d of the ITO film 22 is set so that the optical film thickness is approximately λ / 2. Peak wavelength of incident light λ
Is 550 nm, d = 1375Å (refractive index n≈2)
Before and after. The film thickness of the ITO film 22 is formed corresponding to λ. 21 and 23 are the refractive index of the transparent substrate 14 and ITO.
It is a thin film made of a material having a refractive index between that of the film 22. The thin films 21 and 23 are preferably formed of the same material and have the same film thickness. The film thickness of the thin films 21 and 23 is an optical film thickness nd = λ / 4. Although the change of the film thickness of the ITO film 22 has a great influence on the change of the reflectance of the peak wavelength, the thin film 21,
The change in the film thickness of 23 has relatively no effect. Note that n is a refractive index.

【0054】薄膜21、23の材料としては酸化アルミ
ニウム(Al23)、酸化イットリウム(Y23)、一
酸化シリコン(SiO)、酸化マグネシウム(Mg
O)、酸化タングステン(WO3)、弗化セリウム(C
eF3)、フッ化鉛(PbF2) が例示される。中で
も、Al23、Y23、CeF3 は物質の安定性、光透
過性、膜の均一性等の点から好ましい。また、SiO
(n=1.7)は広い可視光の範囲で反射率を極めて小
さくできる。
Materials for the thin films 21 and 23 include aluminum oxide (Al 2 O 3 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), silicon monoxide (SiO), and magnesium oxide (Mg).
O), tungsten oxide (WO 3 ), cerium fluoride (C
Examples include eF 3 ), and lead fluoride (PbF 2 ). Among them, Al 2 O 3 , Y 2 O 3 and CeF 3 are preferable from the viewpoints of the stability of the substance, the light transmittance and the uniformity of the film. Also, SiO
With (n = 1.7), the reflectance can be made extremely small in a wide visible light range.

【0055】λを550nmとすると、薄膜21、23
にAl23(n=1.63)を用いたときに形成する膜
厚はd=700Å〜1000Åの範囲、ITO膜(n≒
2.0)22の膜厚は1150Å〜1600Åの範囲と
すればよい。薄膜23はITO膜22に印加した電圧を
降下させることになるがd=1000Å以下であればほ
とんど影響しない。逆に透明基板14から不要な物質が
溶出することを防止し液晶層94の保持率を長期間保つ
効果がでる。また、ITO膜22は1000Å以上であ
れば200度以上で蒸着もしくはスパッタで形成するこ
とにより必要十分な抵抗値が得られる。なお、薄膜21
がY23(n=1.78)の場合はd=650Å〜90
0Åとすればよい。
When λ is 550 nm, the thin films 21 and 23
When Al 2 O 3 (n = 1.63) is used for the film, the film thickness formed is in the range of d = 700Å to 1000Å, the ITO film (n≈
The film thickness of 2.0) 22 may be in the range of 1150Å to 1600Å. The thin film 23 lowers the voltage applied to the ITO film 22, but has almost no effect if d = 1000 Å or less. On the contrary, it is possible to prevent unnecessary substances from being eluted from the transparent substrate 14 and maintain the retention rate of the liquid crystal layer 94 for a long time. If the ITO film 22 is 1000 Å or more, the necessary and sufficient resistance value can be obtained by forming it by vapor deposition or sputtering at 200 ° or more. The thin film 21
Is Y 2 O 3 (n = 1.78), d = 650Å∼90
You can set it to 0Å.

【0056】検討した結果では、ITO膜22の屈折率
nが2.0前後の場合は薄膜21、23としてY23
用いる方が可視光のほぼ全域にわたり反射率を極めて小
さくでき、ITO膜22の屈折率nが1.9よりも小さ
いとき、Al23を用いる方が可視光の範囲で反射率を
極めて小さくできる。ただし、液晶層94の散乱時での
屈折率が透明基板14の屈折率よりも大きい場合であ
る。ITO膜22の屈折率は液晶層94に入射した光が
散乱し、その光が再びITO膜22を透過するときにも
影響を与える。屈折率が高いと反射され再び液晶層94
に戻り2次散乱をひきおこす割合が増加する。したがっ
て、ITO膜22の屈折率は極力低く形成することが好
ましい。以上のことから、本実施例の反射防止電極13
ではITO膜22の屈折率を1.8強に形成し、薄膜2
1、23はAl23(n≒1.63)を用いて形成し
た。
From the examination result, when the refractive index n of the ITO film 22 is around 2.0, the use of Y 2 O 3 as the thin films 21 and 23 can make the reflectance extremely small over almost the entire visible light range. When the refractive index n of the film 22 is smaller than 1.9, the reflectance can be made extremely small in the visible light range by using Al 2 O 3 . However, this is the case where the refractive index of the liquid crystal layer 94 at the time of scattering is higher than the refractive index of the transparent substrate 14. The refractive index of the ITO film 22 also affects when the light incident on the liquid crystal layer 94 is scattered and the light again passes through the ITO film 22. When the refractive index is high, it is reflected and the liquid crystal layer 94 is reflected again.
Returning to, the rate of causing secondary scattering increases. Therefore, it is preferable to form the ITO film 22 with a refractive index as low as possible. From the above, the antireflection electrode 13 of this example
Then, the refractive index of the ITO film 22 is formed to be a little over 1.8, and the thin film 2
1, 23 were formed by using Al 2 O 3 (n≈1.63).

【0057】以上のように反射防止電極13を形成する
ことにより光の反射率を大幅に低減でき、変調する光の
帯域が比較的狭い場合は反射率はピーク波長で0.1%
以下を実現できる。当然のことながらITO膜22は交
流電圧91が印加ができるように構成もしくは形成す
る。なお、ITO膜22を用いずとも、酸化インジウ
ム、酸化スズ等の膜を用いてもよい。その場合も光学的
干渉効果により、反射率を低減させる光学的薄膜で薄膜
21および薄膜23を積層すれば良い。なお、本発明で
いうITO膜とは透明性の導電性薄膜と理解するべきで
ある。
By forming the antireflection electrode 13 as described above, the reflectance of light can be greatly reduced, and when the band of modulated light is relatively narrow, the reflectance is 0.1% at the peak wavelength.
The following can be realized. As a matter of course, the ITO film 22 is configured or formed so that the AC voltage 91 can be applied. Instead of using the ITO film 22, a film of indium oxide, tin oxide or the like may be used. Also in that case, the thin films 21 and 23 may be laminated with an optical thin film that reduces the reflectance due to the optical interference effect. The ITO film in the present invention should be understood as a transparent conductive thin film.

【0058】液晶層94の散乱時の屈折率つまり材料選
定は以下の理由で制約を受ける。散乱時の液晶の屈折率
x は液晶の常光屈折率をno、異常光屈折率をne(た
だしno<ne)としたとき、nx =(2no+ne)/3
で示される。また、ポリマーの屈折率npとすると液晶
とポリマーの含有比率によりnxは変化する。透明基板
14の屈折率nt とするとnt≒nxとすることが好まし
い。反射防止電極13が理想的に反射防止特性となるの
は前後の媒質の屈折率が等しいときであるからである。
通常光変調器の透明基板14に用いられるガラス基板の
屈折率は1.50〜1.55であり、ほとんどのものが
1.52前後である。したがって、理想的にはnx′は
1.52前後とすべきである。
The refractive index at the time of scattering of the liquid crystal layer 94, that is, the material selection is restricted for the following reason. Refractive indices n x of the liquid crystal at the time of scattering the ordinary refractive index of the liquid crystal n o, when the extraordinary refractive index was n e (provided that n o <n e), n x = (2n o + n e) / 3
Indicated by. Further, when the refractive index of the polymer is n p , n x changes depending on the content ratio of the liquid crystal and the polymer. It is preferable that the n t ≒ n x and the refractive index n t of the transparent substrate 14. The antireflection electrode 13 ideally has the antireflection characteristic when the refractive indices of the front and rear media are equal.
Usually, the refractive index of the glass substrate used as the transparent substrate 14 of the optical modulator is 1.50 to 1.55, and most of them are around 1.52. Therefore, ideally n x ′ should be around 1.52.

【0059】反射型の光変調器を構成する場合、液晶層
94に入射せず反射する光(以後、不要界面反射光と呼
ぶ)はコントラストを低下させる要因となる。特に液晶
層近傍箇所で反射した光は、そのままスクリーンに投映
されるためコントラスト低下となる割合が大きい。実験
およびシミュレーションの結果より、nxとntの屈折率
差は0.15以内に、さらに好ましくは0.08以内に
しなければならないことを見いだした。液晶層94の液
晶としてフッ素系を用いる場合はnx≒ntにできるた
め、その意味から好ましい。なぜならばフッ素系液晶の
o は1.43〜1.5でありシアンビフェニール系に
比較して低く、nx が1.47〜1.57を実現できる
からである。また、耐熱性も良好であり、光変調器に用
いることは適している。しかし、neとnoとの屈折率差
△nが0.1以下と小さいため、散乱特性があまり良好
ではない。この欠点に対しては液晶層94の膜厚を厚く
する等してカバーをすれば良い。
When a reflection type optical modulator is constructed, the light that does not enter the liquid crystal layer 94 and is reflected (hereinafter referred to as unnecessary interface reflected light) becomes a factor of lowering the contrast. In particular, the light reflected in the vicinity of the liquid crystal layer is projected on the screen as it is, so that the contrast is largely reduced. From the results of experiments and simulations, it was found that the refractive index difference between n x and n t must be within 0.15, and more preferably within 0.08. When a fluorine-based liquid crystal is used as the liquid crystal of the liquid crystal layer 94, n x ≈n t can be satisfied, which is preferable in that sense. Because the fluorine-based liquid crystal n o is lower than the cyan biphenyl system is from 1.43 to 1.5, n x is because can be realized from 1.47 to 1.57. Also, it has good heat resistance and is suitable for use in an optical modulator. However, since the difference Δn in refractive index between n e and n o is as small as 0.1 or less, the scattering characteristics are not very good. For this drawback, the cover may be covered by increasing the thickness of the liquid crystal layer 94.

【0060】反射防止電極13の反射率はピーク波長か
らずれると大きくなるが、光変調器を投写型表示装置に
用いる場合は問題がない。これはカラー表示を行う投写
型表示装置では各色の3個の光変調器を用い、各光変調
器の変調する光の帯域が狭いためである。光変調器に入
射する光の帯域はG光、B光用では入射光の半値幅はほ
ぼ50nm、R光用では90nmである。
The reflectance of the antireflection electrode 13 increases as it deviates from the peak wavelength, but there is no problem when the light modulator is used in a projection display device. This is because a projection display device that performs color display uses three light modulators of each color and the band of light modulated by each light modulator is narrow. The bandwidth of the light entering the optical modulator is G light, the half-width of the incident light for B light is about 50 nm, and the half width for R light is 90 nm.

【0061】図2(a)では反射防止電極13を3層構
造の反射防止膜としたが、図2(b)で示すように2層
構造の反射防止膜とすることもできる。ただし、2層構
造の場合は、光変調器の反射防止電極13のそれぞれの
薄膜の膜厚をR,G,B共通にすることは適さない。光
変調器が変調する光の波長に応じて形成することが好ま
しい。以下、2層構造の反射防止電極13について説明
する。
Although the antireflection electrode 13 is a three-layer antireflection film in FIG. 2A, it may be a two-layer antireflection film as shown in FIG. 2B. However, in the case of a two-layer structure, it is not suitable to make the thicknesses of the respective thin films of the antireflection electrode 13 of the optical modulator common to R, G, and B. It is preferably formed according to the wavelength of the light modulated by the optical modulator. The antireflection electrode 13 having a two-layer structure will be described below.

【0062】2層構造の反射防止電極13は、透明基板
14上に薄膜24を形成し、その上にITO膜22を形
成した構造である。ITO膜22の膜厚は光学的膜厚を
λ/2、薄膜24はλ/4となるようにする。λが55
0nmであればd=1375Å前後である。ITO膜2
2および薄膜24の膜厚は入射光のピーク波長λに対応
して形成される。
The antireflection electrode 13 having a two-layer structure has a structure in which the thin film 24 is formed on the transparent substrate 14 and the ITO film 22 is formed thereon. The optical thickness of the ITO film 22 is λ / 2, and the thickness of the thin film 24 is λ / 4. λ is 55
If it is 0 nm, it is around d = 1375Å. ITO film 2
The film thicknesses of 2 and the thin film 24 are formed corresponding to the peak wavelength λ of the incident light.

【0063】薄膜24の屈折率は1.50以上1.70
以下にすることが好ましい。さらには、透明基板14の
屈折率と液晶層94の屈折率nx との間の屈折率の物質
を用いることが好ましい。この意味からも屈折率は1.
52以上1.65以下が好ましい。この範囲の屈折率を
示す物質として酸化アルミニウムAl23(n≒1.6
3)、弗化セリウムCe3(n≒1.63)がある。
The refractive index of the thin film 24 is 1.50 or more and 1.70.
The following is preferable. Furthermore, it is preferable to use a substance having a refractive index between the refractive index of the transparent substrate 14 and the refractive index n x of the liquid crystal layer 94. For this reason, the refractive index is 1.
It is preferably 52 or more and 1.65 or less. Aluminum oxide Al 2 O 3 (n≈1.6) is used as a substance showing a refractive index in this range.
3) and cerium fluoride C e F 3 (n≈1.63).

【0064】また、反射防止薄膜としては、上記の他
に、一酸化シリコン(SiO)、酸化タングステン(W
3)、弗化ランタン(LaF3)、弗化ネオジム(Nd
3)を用いてもよい。
As the antireflection thin film, in addition to the above, silicon monoxide (SiO), tungsten oxide (W
O 3 ), lanthanum fluoride (LaF 3 ), neodymium fluoride (Nd)
F 3 ) may be used.

【0065】λを550nmとすると、薄膜24にAl
23(n≒1.63)を用いたとき形成する膜厚はd=
700Å〜1000Åの範囲、ITO膜(n≒2.0)
22の膜厚は1150Å〜1600Åの範囲とすればよ
い。ITO膜22は1000Å以上であれば200度以
上で蒸着もしくはスパッタで形成することにより必要十
分な抵抗値が得られる。2層構成の反射防止電極13は
V特性を示し、低反射率の波長帯域が3層構成と比較し
て多少狭いが、実用上は採用しうる。
When λ is 550 nm, the thin film 24 is made of Al.
When 2 O 3 (n≈1.63) is used, the film thickness formed is d =
In the range of 700Å to 1000Å, ITO film (n≈2.0)
The film thickness of 22 may be in the range of 1150Å to 1600Å. If the ITO film 22 is 1000 liters or more, a necessary and sufficient resistance value can be obtained by forming the ITO film 22 by vapor deposition or sputtering at 200 degrees or more. The antireflection electrode 13 having a two-layer structure exhibits V characteristics and the wavelength band of low reflectance is somewhat narrower than that of the three-layer structure, but it can be practically used.

【0066】図3は、他の実施例の光変調器の断面図で
ある。図1の実施例との差異は誘電体多層膜93と対向
基板32間に液晶層94を狭持させ、透明基板14を透
明接着剤31を介して対向基板32に光学的結合を行っ
た構成である。
FIG. 3 is a sectional view of an optical modulator of another embodiment. The difference from the embodiment of FIG. 1 is that the liquid crystal layer 94 is sandwiched between the dielectric multilayer film 93 and the counter substrate 32, and the transparent substrate 14 is optically coupled to the counter substrate 32 via the transparent adhesive 31. Is.

【0067】対向基板32は1mm前後のガラス基板で
あり、対向基板32と透明基板14を加えた厚みtは液
晶層94の有効表示領域の最大径をd、透明基板14の
屈折率をnとしたとき次式で表される。
The counter substrate 32 is a glass substrate of about 1 mm, and the total thickness t of the counter substrate 32 and the transparent substrate 14 is d, the maximum diameter of the effective display area of the liquid crystal layer 94 is n, and the refractive index of the transparent substrate 14 is n. Then, it is expressed by the following equation.

【0068】[0068]

【数8】 [Equation 8]

【0069】光吸収膜11は有効表示領域以外の部分に
施す。図3に示すように透明基板14と対向基板32の
側面に施すが、通常、対向基板32の厚みに比較して透
明基板14の厚みは十分厚いので透明基板14の側面の
みに施すことも多い。
The light absorption film 11 is applied to a portion other than the effective display area. As shown in FIG. 3, it is applied to the side surfaces of the transparent substrate 14 and the counter substrate 32, but since the thickness of the transparent substrate 14 is usually sufficiently thicker than the thickness of the counter substrate 32, it is often applied only to the side surface of the transparent substrate 14. .

【0070】対向基板32の片面には図2(a)、又は
(b)に示したような反射防止電極13が形成される。
その構成、特性等は上記実施例と同様である。
An antireflection electrode 13 as shown in FIG. 2A or 2B is formed on one surface of the counter substrate 32.
The configuration, characteristics, etc. are the same as those in the above embodiment.

【0071】透明接着剤31は紫外線硬化型の接着剤で
ある。接着剤の屈折率と対向基板32の屈折率との差は
0.1以内のものを選定する必要がある。これは、屈折
率が異なる物質間では光が反射するためである。屈折率
が異なる物質間での反射率Rは媒質Aの屈折率n1、媒
質Bの屈折率をn2とすれば次式で表される。
The transparent adhesive 31 is an ultraviolet curable adhesive. The difference between the refractive index of the adhesive and the refractive index of the counter substrate 32 needs to be selected within 0.1. This is because light is reflected between substances having different refractive indexes. The reflectance R between substances having different refractive indexes is expressed by the following equation, where n 1 is the refractive index of the medium A and n 2 is the refractive index of the medium B.

【0072】[0072]

【数9】 [Equation 9]

【0073】いま、対向基板32の屈折率をn1 =1.
52、接着剤31の屈折率をn2 =1.42とすると、
(数7)より反射率Rは0.12%となり、0.1%を
こえる。n2 =1.47であれば反射率Rは0.03%
となり極めて小さくなる。同様の反射光は透明基板14
と接着剤31間でも発生する。以上のような屈折率差は
入射光の不要界面反射光をひきおこし、コントラストを
低下させる。したがって、接着剤31と対向基板32と
の屈折率差は0.1以内、好ましくは0.05以内にす
る。紫外線硬化型の接着剤はガラスの屈折率に近いもの
も多く、この用途に十分である。また、紫外線硬化型接
着剤だけに限定されるものではなく、透明シリコーン樹
脂なども用いることができる。透明シリコーン樹脂の屈
折率は1.40〜1.47である。透明シリコーン樹脂
は耐熱性が良好である。他にエポキシ系透明接着剤、エ
チレングリコール等の液体等も用いることができる。留
意すべき点は、対向基板32に透明基板14を接着する
際、接着剤31に空気層が発生しないようにすることで
ある。空気層があると屈折率差により画質異常を生じ
る。
Now, let the refractive index of the counter substrate 32 be n 1 = 1.
52 and the refractive index of the adhesive 31 is n 2 = 1.42,
From (Equation 7), the reflectance R is 0.12%, which exceeds 0.1%. If n 2 = 1.47, the reflectance R is 0.03%
And becomes extremely small. The same reflected light causes the transparent substrate 14
Also occurs between the adhesive 31 and the adhesive 31. The difference in the refractive index as described above causes unnecessary interface reflected light of incident light and lowers the contrast. Therefore, the difference in refractive index between the adhesive 31 and the counter substrate 32 is within 0.1, preferably within 0.05. Many UV-curable adhesives have a refractive index close to that of glass, and are sufficient for this purpose. Further, it is not limited to the ultraviolet curable adhesive, and transparent silicone resin or the like can be used. The refractive index of the transparent silicone resin is 1.40 to 1.47. The transparent silicone resin has good heat resistance. In addition, a transparent epoxy adhesive, a liquid such as ethylene glycol, or the like can be used. A point to be noted is that an air layer is not generated in the adhesive 31 when the transparent substrate 14 is bonded to the counter substrate 32. If there is an air layer, the image quality becomes abnormal due to the difference in refractive index.

【0074】また、同様の理由で、透明基板14の屈折
率も対向基板32の屈折率と一致させるべきである。理
想的には、対向基板32と同一材質のガラス基板を用い
るのが好ましい。他にアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂等の透明樹脂なども用いることができる。これらは
ガラスの屈折率に近いものが得られ、比較的安価であ
り、また、プレス加工等により任意の形状を容易に形成
できる。
For the same reason, the refractive index of the transparent substrate 14 should be matched with that of the counter substrate 32. Ideally, it is preferable to use a glass substrate made of the same material as the counter substrate 32. Besides, a transparent resin such as an acrylic resin or a polycarbonate resin may be used. These have a refractive index close to that of glass, are relatively inexpensive, and can be easily formed into an arbitrary shape by pressing or the like.

【0075】本発明の光変調器では透明基板14を用い
ることにより、液晶層94での2次散乱光を防止するこ
とができコントラストが向上する。コントラストの向上
効果は液晶層94の散乱特性、材料、入射光の指向性に
大きく依存するが、一例として液晶層が10μm以上の
時コントラストは30%以上、液晶層が完全拡散特性に
近いときには70%以上向上する。
By using the transparent substrate 14 in the optical modulator of the present invention, the secondary scattered light in the liquid crystal layer 94 can be prevented and the contrast can be improved. The effect of improving the contrast largely depends on the scattering property of the liquid crystal layer 94, the material, and the directivity of the incident light. As an example, the contrast is 30% or more when the liquid crystal layer is 10 μm or more, and 70 when the liquid crystal layer is close to the perfect diffusion property. % Or more.

【0076】光変調器の構成は図1または図3の構造だ
けでなく、数々の変形が考えられる。その例を図7に示
す。
The structure of the optical modulator is not limited to the structure shown in FIG. 1 or 3, and various modifications can be considered. An example thereof is shown in FIG.

【0077】図7(a)の光変調器は光変調部71、平
凹レンズ14、透明接着剤31で構成される。平凹レン
ズ14の光入射面には反射防止膜15が形成され、平凹
レンズ14の側面には黒色塗料からなる光吸収膜11が
形成されている。平凹レンズ14はアクリル樹脂を用
い、成型加工により作製している。成型加工は金型があ
れば、同一のレンズを作製できるので、量産性がよい。
この光変調器を用いて投写型表示装置を構成する場合
は、平凹レンズ等を組み合わせた状態で、液晶層94上
の光学像がスクリーン上で結像するようにすればよい。
以上のことは以下の光変調器についても同様である。こ
こで、透明基板14を平凹レンズに構成することにより
透明基板14の厚みは(数6)によらず、薄い厚みで十
分に2次散乱光を防止することができる。
The optical modulator shown in FIG. 7A is composed of an optical modulator 71, a plano-concave lens 14, and a transparent adhesive 31. An antireflection film 15 is formed on the light incident surface of the plano-concave lens 14, and a light absorption film 11 made of black paint is formed on the side surface of the plano-concave lens 14. The plano-concave lens 14 is made of acrylic resin by molding. As for the molding process, the same lens can be produced if a mold is used, so mass productivity is good.
When a projection display device is configured using this light modulator, the optical image on the liquid crystal layer 94 may be formed on the screen in a state where a plano-concave lens or the like is combined.
The above also applies to the following optical modulators. Here, by forming the transparent substrate 14 into a plano-concave lens, the thickness of the transparent substrate 14 does not depend on (Equation 6), and the secondary scattered light can be sufficiently prevented with a thin thickness.

【0078】図7(b)は、平凹レンズ14、両凸レン
ズ72および透明接着剤31で構成されている。平凹レ
ンズ14には両凸レンズ72が近接して配置されてい
る。両凸レンズ72の一方の凸面の曲率半径は、平凹レ
ンズ14の凹面の曲率半径と等しい。凹面と凸面間に薄
い空気間隔を設けている。平凹レンズ14の側面には光
吸収膜11が形成され、平凹レンズ14の凹面および両
凸レンズ72の両凸面には反射防止膜が蒸着されてい
る。この光変調器を用いて投写型表示装置を構成する場
合は投写レンズを、平凹レンズ14、両凸レンズ72を
組み合わせた状態で、液晶層94上の光学像スクリーン
上に結像するようにする。投写画像のフォーカス調整は
投写レンズを光軸に沿って移動することにより行う。
FIG. 7B shows a plano-concave lens 14, a biconvex lens 72 and a transparent adhesive 31. A biconvex lens 72 is arranged close to the plano-concave lens 14. The radius of curvature of one convex surface of the biconvex lens 72 is equal to the radius of curvature of the concave surface of the plano-concave lens 14. A thin air gap is provided between the concave and convex surfaces. A light absorbing film 11 is formed on the side surface of the plano-concave lens 14, and an antireflection film is vapor-deposited on the concave surface of the plano-concave lens 14 and the biconvex surface of the biconvex lens 72. When a projection type display device is constructed using this light modulator, the projection lens is combined with the plano-concave lens 14 and the biconvex lens 72 to form an image on the optical image screen on the liquid crystal layer 94. Focus adjustment of the projected image is performed by moving the projection lens along the optical axis.

【0079】この場合も、光変調部71の出射側に平凹
レンズ14を結合し、平凹レンズ14の側面に光吸収膜
11を形成することにより、図7(a)に示した構成の
場合と同様に、コントラストの良好な投写画像を得るこ
とができる。
Also in this case, by connecting the plano-concave lens 14 to the exit side of the light modulator 71 and forming the light absorption film 11 on the side surface of the plano-concave lens 14, the case shown in FIG. 7A is obtained. Similarly, a projected image with good contrast can be obtained.

【0080】光変調器は入射角依存性があまり強くない
が、入射光の入射角が大きい場合には、液晶層94を通
過するときの光路長が長くなるために散乱特性が変化す
る。つまり、光変調部71に入射する光線の入射角が場
所により異なれば、投写画像の画質が不均一となる。一
方、図7(a)に示した構成の場合、凹面の曲率半径を
小さくしようとすると、光変調部71に収束角の大きな
収束光を入射させるか、または投写レンズの有効径を大
きくする必要がある。前者は光変調部71上の場所によ
り画質が均一でないために、投写画像の画質が不均一と
なり、後者は投写レンズが大型化しコスト高になるとい
う問題がある。光変調部71の散乱特性の入射角依存性
が比較的大きい場合、図7(b)に示したような構成に
すれば、投写レンズを大型化することなく、光変調部7
1に平行に近い光を入射させることができるので、投写
画像の均一性を確保しやすい。
The optical modulator does not have a strong dependency on the incident angle, but when the incident angle of the incident light is large, the optical path length when passing through the liquid crystal layer 94 becomes long, so that the scattering characteristic changes. That is, if the incident angle of the light beam incident on the light modulator 71 differs depending on the location, the image quality of the projected image becomes non-uniform. On the other hand, in the case of the configuration shown in FIG. 7A, in order to reduce the radius of curvature of the concave surface, it is necessary to make convergent light with a large converging angle incident on the light modulator 71 or to increase the effective diameter of the projection lens. There is. The former has a problem that the image quality of the projected image becomes non-uniform because the image quality is not uniform depending on the location on the light modulator 71, and the latter has a problem that the projection lens becomes large and the cost becomes high. When the incident angle dependency of the scattering characteristics of the light modulator 71 is relatively large, the configuration as shown in FIG. 7B allows the light modulator 7 without increasing the size of the projection lens.
Since light that is nearly parallel to 1 can be made incident, it is easy to ensure the uniformity of the projected image.

【0081】両凸レンズ72の光変調部71側の面の曲
率半径は、平凹レンズ14の凹面の曲率半径と同一また
は小さくするとよい。こうすると、両凸レンズ72が凹
面に入り込む形になるので、液晶層94から両凸レンズ
72の投写レンズ側の頂点までの長さを短くすることが
できる。
The radius of curvature of the surface of the biconvex lens 72 on the side of the light modulator 71 may be the same as or smaller than the radius of curvature of the concave surface of the plano-concave lens 14. By doing so, the biconvex lens 72 enters the concave surface, so that the length from the liquid crystal layer 94 to the apex of the biconvex lens 72 on the projection lens side can be shortened.

【0082】図7(c)は透明基板14が空気と接する
面を斜めにカットした構成であり、図7(d)は円錐状
にカットした構成である。また、図7(e)は円弧状に
カットした構成である。空気とガラスと接する面にはマ
ルチコートあるいはVコートの反射防止膜15を構成す
るが、反射率を完全に0にすることは困難である。反射
型の光変調器では不要界面反射光が投写画像に大きく影
響するため、極めて小さくなければならない。液晶層9
4に対して界面が斜めであれば、不要界面反射光がスク
リーンに投写されることはきわめて少なくなる。図7
(c)〜図7(e)のように、界面を曲面あるいは斜め
にすることにより不要反射光を大幅に低減させ、コント
ラストを向上できる。図7(f)は透明基板14を光変
調部71と接する面よりも空気と接する面の方を広くし
た短いラッパ形状である。透明基板14の非有効領域以
外の部分には光吸収膜11を形成する。図7(f)の構
成をとることにより、液晶層94で散乱し、透明基板1
4の空気と接する面で反射し再び液晶層94へ戻ろうと
する光は完全に光吸収膜11で吸収することができ、コ
ントラストが向上する。
FIG. 7C shows a configuration in which the surface of the transparent substrate 14 in contact with air is cut obliquely, and FIG. 7D shows a configuration in which it is cut into a conical shape. Further, FIG. 7E shows a configuration cut in an arc shape. A multi-coat or V-coat antireflection film 15 is formed on the surface in contact with air and glass, but it is difficult to completely set the reflectance to zero. In a reflection-type light modulator, unnecessary interface reflected light has a great influence on the projected image, and therefore must be extremely small. Liquid crystal layer 9
When the interface is oblique with respect to 4, the unnecessary interface reflected light is extremely rarely projected on the screen. Figure 7
As shown in (c) to (e) of FIG. 7, by making the interface curved or slanted, unnecessary reflected light can be significantly reduced and the contrast can be improved. FIG. 7F shows a short trumpet shape in which the surface of the transparent substrate 14 in contact with air is wider than the surface of the transparent substrate 14 in contact with the light modulator 71. The light absorption film 11 is formed on a portion other than the non-effective area of the transparent substrate 14. By adopting the configuration of FIG. 7F, the transparent substrate 1 is scattered by the liquid crystal layer 94.
The light reflected by the surface of No. 4 which contacts the air and returning to the liquid crystal layer 94 can be completely absorbed by the light absorbing film 11, and the contrast is improved.

【0083】以下、本発明の光変調器を用いた投写型表
示装置について説明する。図8はモノクロ表示の投写型
表示装置の構成図である。85は前述の本発明の光変調
器である。図8では光変調器85は図3で示した構成の
ものとして図示しているがこれに限定するものではな
く、たとえば図3又は図7に示すどの光変調器を用いて
もよい。このことは後に説明する他の投写型表示装置に
おいても同様である。
Hereinafter, a projection type display device using the optical modulator of the present invention will be described. FIG. 8 is a configuration diagram of a monochrome display projection display device. Reference numeral 85 is the above-described optical modulator of the present invention. Although the optical modulator 85 is shown in FIG. 8 as having the configuration shown in FIG. 3, the present invention is not limited to this, and any optical modulator shown in FIG. 3 or 7 may be used. This also applies to other projection display devices described later.

【0084】光源83はランプ83a、凹面鏡83b、
フィルタ83cで構成される。ランプ83aはメタルハ
ライドランプあるいはキセノンランプであり、R,G,
Bの3原色の色成分を含む光を出射する。前述のランプ
は短アークのものを用いなければ良好なコントラストが
得られない。キセノンランプはアーク長が2mm以下で
好ましい。メタルハライドランプを用いる場合はアーク
長が4mm以下のものを用いる。凹面鏡83bはガラス
製で、反射面に可視光を反射し赤外光を透過させる多層
膜を蒸着したものである。フィルタ83cはガラス基板
の上に可視光を透過し赤外光と紫外光を反射する多層膜
を蒸着したものである。また、必要に応じて平面ミラー
82とフィルタ83c間に色フィルタを挿入する。ラン
プ83aからの放射光に含まれる可視光は、凹面鏡83
bの反射面により反射する。凹面鏡83bから出射する
反射光は、フィルタ83cにより赤外線と紫外線とが除
去されて出射する。
The light source 83 is a lamp 83a, a concave mirror 83b,
It is composed of a filter 83c. The lamp 83a is a metal halide lamp or a xenon lamp.
The light including the color components of the three primary colors of B is emitted. Good contrast cannot be obtained without using a short arc lamp. A xenon lamp having an arc length of 2 mm or less is preferable. When using a metal halide lamp, one having an arc length of 4 mm or less is used. The concave mirror 83b is made of glass, and has a reflective surface on which a multilayer film that reflects visible light and transmits infrared light is deposited. The filter 83c is formed by depositing a multilayer film that transmits visible light and reflects infrared light and ultraviolet light on a glass substrate. Moreover, a color filter is inserted between the plane mirror 82 and the filter 83c as needed. The visible light included in the light emitted from the lamp 83a is reflected by the concave mirror 83.
It is reflected by the reflecting surface of b. The reflected light emitted from the concave mirror 83b is emitted after the infrared rays and ultraviolet rays are removed by the filter 83c.

【0085】投写レンズ81は光変調器85側の第1レ
ンズ群81bとスクリーン側の第2レンズ群81aとで
構成され、第1レンズ群81bと第2レンズ群81aと
の間には平面ミラー82が配置されている。光変調器8
5のの画面中心にある画素から出射する散乱光は、第1
レンズ群81bを透過した後、約半分が平面ミラー82
に入射し、残りが平面ミラー82に入射せずに第2レン
ズ群81aに入射する。平面ミラー82の反射面の法線
は投写レンズ81の光軸84に対して45°傾いてい
る。光源83からの光は平面ミラー82で反射されて第
1レンズ群81bを透過し、透明基板14を透過して液
晶層94に入射する。誘電体多層膜93からの反射光
は、透明基板14、第1レンズ群81b、第2レンズ群
81aの順に透過してスクリーン86に到達する。投写
レンズ81の絞りの中心から出て液晶層94に向かう光
線は、液晶層94にほぼ垂直に入射するように、つまり
テレセントリックとしている。実質的な投写レンズのF
値はF8.0以上、好ましくはF10.0以上にする。
これは良好なコントラストを得るために必要である。ま
た、透明基板14の表面にはマルチコートを施してい
る。なお、画像の書き込みは書き込み光97により光伝
導層を介して行う。その動作については従来例と同様で
あるので説明を省略する。
The projection lens 81 is composed of a first lens group 81b on the light modulator 85 side and a second lens group 81a on the screen side, and a plane mirror is provided between the first lens group 81b and the second lens group 81a. 82 are arranged. Light modulator 8
The scattered light emitted from the pixel at the center of the screen of 5 is
After passing through the lens group 81b, about half is a plane mirror 82.
To the second lens group 81a without entering the plane mirror 82. The normal line of the reflecting surface of the plane mirror 82 is inclined 45 ° with respect to the optical axis 84 of the projection lens 81. The light from the light source 83 is reflected by the plane mirror 82, passes through the first lens group 81b, passes through the transparent substrate 14, and enters the liquid crystal layer 94. The reflected light from the dielectric multilayer film 93 is transmitted through the transparent substrate 14, the first lens group 81b, and the second lens group 81a in this order and reaches the screen 86. A light ray that exits from the center of the diaphragm of the projection lens 81 and goes toward the liquid crystal layer 94 is made substantially vertical to the liquid crystal layer 94, that is, telecentric. Substantially F of the projection lens
The value is F8.0 or more, preferably F10.0 or more.
This is necessary to get good contrast. Further, the surface of the transparent substrate 14 is multi-coated. Note that writing of an image is performed by writing light 97 through the photoconductive layer. The operation is the same as that of the conventional example, and thus the description thereof is omitted.

【0086】ここで、長波長の光を変調する場合は、液
晶複合体の水滴状液晶の径を大きくした方が好ましい。
たとえば、緑光を変調する光変調器の水滴状液晶の平均
粒子径が1.7μmであれば赤光を変調する光変調器で
は、たとえば2.0μm前後にする。これは液晶複合体
の散乱特性は入射波長に依存するためである。変調する
波長が長くなるほど水滴状液晶の平均粒子径は大きくす
る方が散乱特性が良好になる。平均粒子径は液晶と樹脂
を相分離させる際の紫外線照射条件を操作することによ
り調整できる。またポリマーに対して液晶の含有比率が
高いときは水滴状液晶とはならず連続層となるが、この
際はポリマーネットワークの平均孔径を可変する。これ
も相分離さる際の紫外線照射条件を操作することにより
調整できる。
Here, in the case of modulating light having a long wavelength, it is preferable to increase the diameter of the water droplet liquid crystal of the liquid crystal composite.
For example, if the water-drop liquid crystal of the light modulator that modulates green light has an average particle diameter of 1.7 μm, the light modulator that modulates red light has a mean particle size of, for example, about 2.0 μm. This is because the scattering characteristics of the liquid crystal composite depend on the incident wavelength. The longer the wavelength to be modulated, the larger the average particle diameter of the water droplet liquid crystal, and the better the scattering characteristics. The average particle size can be adjusted by operating the ultraviolet irradiation conditions when the liquid crystal and the resin are phase-separated. Further, when the content ratio of the liquid crystal to the polymer is high, the liquid crystal does not become a water drop liquid crystal but a continuous layer is formed, but in this case, the average pore diameter of the polymer network is varied. This can also be adjusted by manipulating the ultraviolet irradiation conditions for phase separation.

【0087】図9はカラー表示を行える本発明の投写型
表示装置の構成図である。ここでは説明を容易にするた
めに85aは赤色光(R光)を変調する本発明の光変調
器、85bは青色光(B光)を変調する本発明の変調
器、85cは緑色光(G光)を変調する本発明の変調器
であるとして説明する。また、111aはRおよびB光
を透過させG光を反射するダイクロイックミラー、11
1bはR光を透過させB光を反射するダイクロイクミラ
ー、111cはG光の光純度を向上させるためのダイク
ロイックミラーである。
FIG. 9 is a block diagram of a projection type display device of the present invention capable of color display. Here, for ease of explanation, 85a is an optical modulator of the present invention that modulates red light (R light), 85b is a modulator of the present invention that modulates blue light (B light), and 85c is a green light (G light). It will be described as the modulator of the present invention that modulates (light). Reference numeral 111a denotes a dichroic mirror that transmits R and B light and reflects G light.
Reference numeral 1b is a dichroic mirror that transmits R light and reflects B light, and 111c is a dichroic mirror for improving the optical purity of G light.

【0088】ランプ83aから出射された光はミラー8
2により反射され、第1レンズ群81bに入射し、ダイ
クロイックミラー111aに入射する。ダイクロイック
ミラー111aはRおよびB光を透過させ、G光を反射
する。反射したG光はダイクロイックミラー111cで
さらに帯域制限され光変調器85cに入射する。このG
光の半値幅は50nmである。光変調器85cは入力さ
れる映像信号(画像の書き込み光97)に基づき入射光
を変調する。変調された光は再び透明基板14を透過
し、ダイクロイックミラー111cおよび111aで反
射されて、第1レンズ群81bに入射する。
The light emitted from the lamp 83a is reflected by the mirror 8
The light is reflected by 2, and enters the first lens group 81b and then enters the dichroic mirror 111a. The dichroic mirror 111a transmits R and B lights and reflects G light. The reflected G light is further band-limited by the dichroic mirror 111c and enters the optical modulator 85c. This G
The full width at half maximum of light is 50 nm. The optical modulator 85c modulates the incident light based on the input video signal (image writing light 97). The modulated light again passes through the transparent substrate 14, is reflected by the dichroic mirrors 111c and 111a, and enters the first lens group 81b.

【0089】光変調器85cで散乱状態となった光の一
部はミラー82で反射し、再び光源83にもどる。ま
た、他の一部は投写レンズ81で集光されず発散する。
光変調器85cで直進光となった光は第2レンズ群81
aに入射し、スクリーン86に投映される。以上のよう
にしてスクリーンにG光の変調像が表示される。
A part of the light scattered by the optical modulator 85c is reflected by the mirror 82 and returns to the light source 83 again. The other part is not condensed by the projection lens 81 and diverges.
The light straightened by the optical modulator 85c is the second lens group 81.
It is incident on a and projected on the screen 86. As described above, the G light modulation image is displayed on the screen.

【0090】一方、RおよびB光はダイクロイックミラ
ー111bに入射し、ダイクロイックミラー111bは
R光を透過、B光を反射する。光変調器85aはR光を
変調し、光変調器85bはB光を変調する。それぞれ変
調された光はG光と同様に散乱光は第2レンズ群81a
に入射せず、直進光81bは入射してスクリーン86に
投映される。スクリーンに投映されるR・G・B光は重
ね合わされカラー画像が表示される。
On the other hand, the R and B lights are incident on the dichroic mirror 111b, and the dichroic mirror 111b transmits the R light and reflects the B light. The optical modulator 85a modulates the R light, and the optical modulator 85b modulates the B light. The modulated light is the same as the G light, and the scattered light is the second lens group 81a.
The straight light 81b is incident on the screen 86 and is projected on the screen 86. The R, G, B lights projected on the screen are superimposed to display a color image.

【0091】ここで、投写レンズ81のレンズにはマル
チコート方式の反射防止膜を形成し、不要反射を極力低
減している。また、透明板14にはそれぞれの入射光に
適応したVコート方式の反射防止膜を形成し、不要光反
射を低減している。
Here, a multi-coat type antireflection film is formed on the lens of the projection lens 81 to reduce unnecessary reflection as much as possible. Further, a V-coat type antireflection film adapted to each incident light is formed on the transparent plate 14 to reduce unnecessary light reflection.

【0092】以上のように本発明によれば、光変調器の
対向基板もしくは透明基板の片面に形成する対向電極の
ITOの前後に透明薄膜を形成し3層構造あるいは2層
構造とすることにより、ITOと対向基板間およびIT
Oと液晶間の反射率を大幅に低減できる。形成もいたっ
て容易であり、投写型表示装置のように変調する入射光
の波長が狭帯域である場合に非常に良好な結果が得られ
る。また空気と接する面にも反射防止膜を形成してお
り、総合した反射率は0.2%以下と非常に良好であ
る。
As described above, according to the present invention, the transparent thin films are formed before and after the ITO of the counter electrode formed on one surface of the counter substrate or the transparent substrate of the optical modulator to form the three-layer structure or the two-layer structure. , ITO and counter substrate and IT
The reflectance between O and the liquid crystal can be significantly reduced. It is very easy to form, and very good results can be obtained when the wavelength of incident light to be modulated has a narrow band like a projection display device. An antireflection film is also formed on the surface in contact with air, and the total reflectance is 0.2% or less, which is very good.

【0093】なお、上記実施例では、光書き込み型の光
変調器に適用する例について説明したが、これに限ら
ず、反射型の光変調器であれば他の光変調器でもよい。
In the above embodiment, an example in which the invention is applied to an optical writing type optical modulator has been described, but the present invention is not limited to this, and another optical modulator may be used as long as it is a reflection type optical modulator.

【0094】また、上記実施例では、光反射基板の光反
射層を誘電体多層膜93によって構成したが、これに限
らず、金属などの他の光反射層を用いたタイプのもので
もよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the light reflecting layer of the light reflecting substrate is constituted by the dielectric multilayer film 93, but the invention is not limited to this, and a type using another light reflecting layer such as metal may be used.

【0095】また、図8および図9の投写型表示装置に
おいて、光変調器として図3に示す光変調器を用いたよ
うに図示したがこれに限定するものではなく、図1又は
図7に示す光変調器を用いてもよいことは言うまでもな
い。
Further, in the projection type display device of FIGS. 8 and 9, the optical modulator shown in FIG. 3 is used as the optical modulator, but the present invention is not limited to this. It goes without saying that the optical modulator shown may be used.

【0096】また、2層あるいは3層の薄膜で反射防止
電極13を形成するとしたが、これに限定するものでは
なく、たとえば、等価薄膜技術を用いても反射防止電極
13を構成できることは明かである。
Although it has been stated that the antireflection electrode 13 is formed of a two-layer or three-layer thin film, the present invention is not limited to this, and it is apparent that the antireflection electrode 13 can be formed by using an equivalent thin film technique. is there.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上述べたところから明らかなように本
発明は、導電性及び光の反射防止機能を有する透明薄膜
が透明基板の面上に形成されているので、光変調器のコ
ントラストがよくなるという長所を有する。
As is apparent from the above description, according to the present invention, since the transparent thin film having the conductivity and the antireflection function of light is formed on the surface of the transparent substrate, the contrast of the optical modulator is improved. It has the advantage.

【0098】また、本発明の光変調器を投写型表示装置
に用いた場合、投写画像のコントラストが向上するとい
う利点がある。
Further, when the light modulator of the present invention is used in a projection display device, there is an advantage that the contrast of a projected image is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる一実施例の光変調器の構成を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of an optical modulator of an embodiment according to the present invention.

【図2】同図(a)は、対向電極の構成の一例を示す断
面図、同図(b)は、対向電極の構成の他の例を示す断
面図である。
FIG. 2A is a sectional view showing an example of the structure of a counter electrode, and FIG. 2B is a sectional view showing another example of the structure of a counter electrode.

【図3】本発明にかかる別の実施例の光変調器の構成を
示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of an optical modulator of another embodiment according to the present invention.

【図4】本発明の光変調器の作用を説明する説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating an operation of the optical modulator of the present invention.

【図5】本発明の光変調器の作用を説明する説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating an operation of the optical modulator of the present invention.

【図6】本発明の光変調器の作用を説明する説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an operation of the optical modulator of the present invention.

【図7】同図(a)、(b)、(c)、(d)、
(e)、(f)は、各種断面形状を有する透明基板を用
いた光変調器の構成図である。
7 (a), (b), (c), (d), FIG.
(E), (f) is a block diagram of an optical modulator using a transparent substrate having various cross-sectional shapes.

【図8】本発明にかかる一実施例の投写型表示装置の構
成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram of a projection display apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明にかかる別の実施例の投写型表示装置の
構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram of a projection display device according to another embodiment of the present invention.

【図10】従来の光変調器の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a conventional optical modulator.

【図11】同図(a)、(b)は、従来の光変調器の説
明図である。
11A and 11B are explanatory views of a conventional optical modulator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 光吸収膜 12 封止樹脂 13 対向電極 14 透明基板 15 反射防止膜 21、23、24 Al23膜 22 ITO膜 31 透明接着剤 32 対向基板 41、52 微小領域 42、45 散乱光 43 透過光線 44 反射光線 46 出射面 51 有効表示領域 81 投写レンズ 82 平面ミラー 83 光源 85 光変調器11 Light Absorption Film 12 Sealing Resin 13 Counter Electrode 14 Transparent Substrate 15 Antireflection Film 21, 23, 24 Al 2 O 3 Film 22 ITO Film 31 Transparent Adhesive 32 Counter Substrate 41, 52 Minute Area 42, 45 Scattered Light 43 Transmission Light ray 44 Reflected light ray 46 Emission surface 51 Effective display area 81 Projection lens 82 Planar mirror 83 Light source 85 Optical modulator

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光を透過させる透明基板と、その透明基
板の面上に形成され、導電性及び光の反射防止機能を有
する透明薄膜と、その透明薄膜と光反射層を有する光反
射基板との間に配置された液晶層とを備えたことを特徴
とする光変調器。
1. A transparent substrate which transmits light, a transparent thin film formed on the surface of the transparent substrate and having conductivity and a light reflection preventing function, and a light reflecting substrate having the transparent thin film and a light reflecting layer. And a liquid crystal layer disposed between the light modulators.
【請求項2】 透明薄膜は、前記液晶層側に透明な導電
性薄膜を有し、前記透明基板側に、前記透明基板の屈折
率と前記導電性薄膜の屈折率との間の屈折率である反射
防止薄膜を有し、その反射防止薄膜の厚さは、実質上λ
/4(λは前記透明基板に入射する光のピーク波長)で
あり、前記導電性薄膜の厚さは、実質上λ/2であるこ
とを特徴とする請求項1記載の光変調器。
2. The transparent thin film has a transparent conductive thin film on the liquid crystal layer side, and has a refractive index between the refractive index of the transparent substrate and the refractive index of the conductive thin film on the transparent substrate side. It has an antireflective film whose thickness is substantially equal to λ.
The optical modulator according to claim 1, wherein / 4 (λ is a peak wavelength of light incident on the transparent substrate) and the thickness of the conductive thin film is substantially λ / 2.
【請求項3】 反射防止薄膜の屈折率は、1.50以上
1.70以下であることを特徴とする請求項2記載の光
変調器。
3. The optical modulator according to claim 2, wherein the antireflection thin film has a refractive index of 1.50 or more and 1.70 or less.
【請求項4】 透明薄膜は、透明な導電性薄膜と、その
導電性薄膜の両面に形成され、前記透明基板の屈折率と
前記導電性薄膜の屈折率との間の屈折率である反射防止
薄膜とを有し、その反射防止薄膜の厚さは、実質上λ/
4(λは前記透明基板に入射する光のピーク波長)であ
り、前記導電性薄膜の厚さは、実質上λ/2であること
を特徴とする請求項1記載の光変調器。
4. The transparent thin film is formed on both surfaces of the transparent conductive thin film and the conductive thin film, and has a refractive index between the refractive index of the transparent substrate and the refractive index of the conductive thin film. A thin film, and the thickness of the antireflection thin film is substantially λ /
4. The optical modulator according to claim 1, wherein 4 (λ is a peak wavelength of light incident on the transparent substrate), and the thickness of the conductive thin film is substantially λ / 2.
【請求項5】 反射防止薄膜の屈折率は、1.60以上
1.80以下であることを特徴とする請求項4記載の光
変調器。
5. The optical modulator according to claim 4, wherein the antireflection thin film has a refractive index of 1.60 or more and 1.80 or less.
【請求項6】 光反射基板は、前記光反射層の前記液晶
層の反対面に、光伝導層及び透明導電層が形成されてい
ることを特徴とする請求項1記載の光変調器。
6. The light modulator according to claim 1, wherein the light reflection substrate has a photoconductive layer and a transparent conductive layer formed on a surface of the light reflection layer opposite to the liquid crystal layer.
【請求項7】 透明基板は、第1透明板と第2透明板が
透明結合体により光学的に結合されたものであることを
特徴とする請求項1記載の光変調器。
7. The optical modulator according to claim 1, wherein the transparent substrate is one in which the first transparent plate and the second transparent plate are optically coupled by a transparent coupling member.
【請求項8】 透明結合体の屈折率と前記透明基板の屈
折率との差が0.1以内であることを特徴とする請求項
7記載の光変調器。
8. The optical modulator according to claim 7, wherein the difference between the refractive index of the transparent combination and the refractive index of the transparent substrate is within 0.1.
【請求項9】 透明基板の表面は、凹面であることを特
徴とする請求項1、又は7記載の光変調器。
9. The optical modulator according to claim 1, wherein a surface of the transparent substrate is a concave surface.
【請求項10】 透明基板は、その中心厚をt、屈折率
をn、前記液晶層の有効表示領域の最大径をdとしたと
き、次式を満足することを特徴とする請求項1、又は7
記載の光変調器。 【数1】
10. The transparent substrate satisfies the following equation, where t is the center thickness, n is the refractive index, and d is the maximum diameter of the effective display area of the liquid crystal layer. Or 7
The described light modulator. [Equation 1]
【請求項11】 透明基板は、その表面に反射防止膜が
形成されていることを特徴とする請求項1記載の光変調
器。
11. The optical modulator according to claim 1, wherein an antireflection film is formed on the surface of the transparent substrate.
【請求項12】 液晶層の光散乱状態での屈折率と前記
透明基板の屈折率との差が0.15以内であることを特
徴とする請求項1記載の光変調器。
12. The optical modulator according to claim 1, wherein the difference between the refractive index of the liquid crystal layer in the light scattering state and the refractive index of the transparent substrate is 0.15 or less.
【請求項13】 液晶層は、高分子分散液晶層であるこ
とを特徴とする請求項1記載の光変調器。
13. The light modulator according to claim 1, wherein the liquid crystal layer is a polymer-dispersed liquid crystal layer.
【請求項14】 高分子分散液晶層の水滴状液晶の平均
粒子径もしくはポリマーネットワークの平均孔径が0.
5μm以上3μm以下であることを特徴とする請求項1
3記載の光変調器。
14. A polymer-dispersed liquid crystal layer having a water-droplet-shaped liquid crystal having an average particle diameter of 0.
5. The thickness is 5 μm or more and 3 μm or less.
3. The optical modulator according to item 3.
【請求項15】 透明基板の側面には、光吸収手段が設
けられていることを特徴とする請求項1記載の光変調
器。
15. The optical modulator according to claim 1, wherein a light absorbing means is provided on a side surface of the transparent substrate.
【請求項16】 読み出し用の光を透過させる透明基板
と、その透明基板の面上に形成され、導電性及び光の反
射防止機能を有する透明薄膜と、その透明薄膜と光反射
層を有する光反射基板との間に配置された液晶層と、前
記透明基板を通じてその液晶層に読み出し用の光を出射
する光源手段と、前記液晶層により変調され、前記光反
射層から反射された光をスクリーンに投写する投写光学
手段とを備えたことを特徴とする投写型表示装置。
16. A transparent substrate which transmits light for reading, a transparent thin film formed on the surface of the transparent substrate and having conductivity and a light reflection preventing function, and a light having the transparent thin film and a light reflection layer. A liquid crystal layer disposed between the reflective substrate, a light source means for emitting the reading light to the liquid crystal layer through the transparent substrate, and a light modulated by the liquid crystal layer and reflected from the light reflective layer. A projection-type display device, comprising:
【請求項17】 光反射基板は、前記光反射層の前記液
晶層の反対面に、光伝導層及び透明導電層が形成されお
り、更に、前記光伝導層に光を照射することにより画像
を書き込む光書き込み手段を備えたことを特徴とする請
求項16記載の投写型表示装置。
17. The light reflecting substrate has a photoconductive layer and a transparent conductive layer formed on a surface of the light reflecting layer opposite to the liquid crystal layer, and an image is formed by irradiating the photoconductive layer with light. 17. The projection display device according to claim 16, further comprising an optical writing unit for writing.
【請求項18】 投写光学手段は、前記光源手段からの
出射光を複数の光路に分離する光路分離系と前記液晶層
で変調された光を一光路に合成する光路合成系を有する
ことを特徴とする請求項16、又は17記載の投写型表
示装置。
18. The projection optical means has an optical path separation system for separating the light emitted from the light source means into a plurality of optical paths, and an optical path combination system for combining the light modulated by the liquid crystal layer into one optical path. The projection display device according to claim 16 or 17.
【請求項19】 透明薄膜の膜厚が、変調される光のピ
ーク波長に対応して形成されていることを特徴とする請
求項16、17、又は18記載の投写型表示装置。
19. The projection display device according to claim 16, wherein the film thickness of the transparent thin film is formed so as to correspond to the peak wavelength of modulated light.
JP4289066A 1992-10-27 1992-10-27 Optical modulator and projection type display device using the same Pending JPH06138446A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4289066A JPH06138446A (en) 1992-10-27 1992-10-27 Optical modulator and projection type display device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4289066A JPH06138446A (en) 1992-10-27 1992-10-27 Optical modulator and projection type display device using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06138446A true JPH06138446A (en) 1994-05-20

Family

ID=17738389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4289066A Pending JPH06138446A (en) 1992-10-27 1992-10-27 Optical modulator and projection type display device using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06138446A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07162373A (en) * 1993-12-07 1995-06-23 Nec Corp Semiconductor optical modulator
CN112805622A (en) * 2018-10-01 2021-05-14 富士胶片株式会社 Display device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07162373A (en) * 1993-12-07 1995-06-23 Nec Corp Semiconductor optical modulator
CN112805622A (en) * 2018-10-01 2021-05-14 富士胶片株式会社 Display device
US11275271B2 (en) 2018-10-01 2022-03-15 Fujifilm Corporation Display comprising a transparent screen having a cholesteric liquid crystal layer exhibiting selective reflectivity attached to a light guide plate
CN112805622B (en) * 2018-10-01 2022-08-19 富士胶片株式会社 Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5754260A (en) Projection type color liquid crystal optical apparatus
US5875008A (en) Liquid crystal panel and projection display with use of liquid crystal panel
US5963283A (en) Liquid crystal panel with reducing means, manufacturing method therefor and projection display apparatus using the same
US5477351A (en) Polymer dispersed liquid crystal panel with diffraction grating and reflective counter electrode
JP2002107519A (en) Reflection type display unit, retroreflector
JP2006221070A (en) Reflection type screen
JP3506978B2 (en) Reflective liquid crystal display
KR0143761B1 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal projection tv receiver set
JP3269294B2 (en) Liquid crystal display panel, projection display device, and viewfinder
JP3104479B2 (en) Display panel and projection display device using the display panel
JPH075419A (en) Projection type color liquid crystal optical device
JPH10227906A (en) Projection type optical device
JP3257311B2 (en) Liquid crystal display panel and projection display
JPH06214252A (en) Light valve device and projection type display device constituted by using the same
JPH06138446A (en) Optical modulator and projection type display device using the same
JPH10228063A (en) Projection type optical device
JP3137435B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal projection television using the same
JPH06160822A (en) Liquid crystal panel and liquid crystal projector using the same
JP3231396B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal projection television using the same
JPH116999A (en) Manufacture of liquid crystal substrate, liquid crystal display element and projection type liquid crystal display device
JPH0627456A (en) Display panel and projective display device using the same
JPH10228064A (en) Projection type optical device
JP3152041B2 (en) Liquid crystal panel, method of manufacturing the same, and liquid crystal projection television using the same
JP3412626B2 (en) Liquid crystal display panel, viewfinder and projection display
JPH05241133A (en) Liquid crystal panel and liquid crystal projection type television using this panel