JPH06137993A - Lens eccentricity measuring device - Google Patents

Lens eccentricity measuring device

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Publication number
JPH06137993A
JPH06137993A JP18627992A JP18627992A JPH06137993A JP H06137993 A JPH06137993 A JP H06137993A JP 18627992 A JP18627992 A JP 18627992A JP 18627992 A JP18627992 A JP 18627992A JP H06137993 A JPH06137993 A JP H06137993A
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JP
Japan
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lens
axis
inspected
displacement
outer diameter
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP18627992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Haruo Ogawa
治男 小川
Kaneyasu Ookawa
金保 大川
Yasushi Nakamura
泰 中村
Shigeya Sugata
茂也 菅田
Nobuyoshi Iwasaki
暢喜 岩崎
Mitsuo Goto
光夫 後藤
Ryusuke Nozawa
龍介 野澤
Takeshi Kawamata
健 川俣
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP18627992A priority Critical patent/JPH06137993A/en
Publication of JPH06137993A publication Critical patent/JPH06137993A/en
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Abstract

PURPOSE:To measure the eccentricity of a lens to be inspected accurately CONSTITUTION:This device is provided with a master mold support bunch 11 which can be rotated around the Z axis which is the light axis of the flux of light which is projected from a laser light source 1 to a master mold 10, can travel in X and Y axes crossing the Z axis, and can be inclined within XZ surface and the YZ surface and a first displacement measuring machine 12 which can travel in Z-axis direction and can measure the displacement in X direction at the master mold outer diameter part. Then, it is also provided with a bench 13 for supporting a lens to be inspected which rotate around the Z' axis which is the light axis of the flux of light which is projected to the lens 30 to be inspected and at the same time can be inclined within the X'Z' surface and the Y'Z' surface and a second displacement measuring machine 14 which can travel in Z' axis direction and can measure the displacement in X' direction of the outer diameter part of the lens to be inspected. Further, it is also provided with machines 15a and 15b for measuring the amount of travel which measures the amount of travel in X' direction and Y' direction of the 13 for supporting the lens to be inspected and an inclination angle measuring machine 16 for measuring the inclination angle of the X'Z' surface and the Y'Z' surface of the bench 13 for supporting the lens to be inspected, thus achieving an accurate measurement.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は被検レンズの偏心量、す
なわちレンズの光軸とレンズ外径の中心軸とのずれ量お
よびレンズの光軸とレンズ外径の中心軸との傾斜角を測
定するレンズ偏心測定装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention determines the amount of eccentricity of a lens to be measured, that is, the amount of deviation between the optical axis of the lens and the central axis of the lens outer diameter, and the tilt angle between the optical axis of the lens and the central axis of the lens outer diameter. The present invention relates to a lens eccentricity measuring device for measuring.

【0002】[0002]

【従来の技術】レンズ面の偏心量を測定する場合、干渉
計を利用したレンズ偏心測定装置が使用されている。図
6は特開昭61−144541号公報に記載された従来
の測定装置を示す。この測定装置は被測定物である被検
レンズ102のレンズ面102aに照射したレーザ光の
反射像をレーザ干渉装置101で捕捉し、表示装置10
3で表示するものである。被検レンズ102は試料搭載
台104に搭載されており、この試料搭載台104がレ
ーザ干渉装置101の光軸回りに回動可能、その光軸と
直交する面内で移動可能、且つ傾斜可能となっている。
また、被検レンズ102の変位を測定する変位測定器1
05が被検レンズ102の側面に接触するように設けら
れている。
2. Description of the Related Art When measuring the amount of eccentricity of a lens surface, a lens eccentricity measuring device using an interferometer is used. FIG. 6 shows a conventional measuring device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-144541. This measuring device captures a reflected image of the laser beam applied to the lens surface 102a of the lens 102 to be measured, which is the object to be measured, with the laser interferometer 101, and the display device 10
3 is displayed. The lens 102 to be inspected is mounted on a sample mounting base 104. The sample mounting base 104 is rotatable about the optical axis of the laser interference device 101, movable in a plane orthogonal to the optical axis, and tiltable. Has become.
Further, a displacement measuring device 1 for measuring the displacement of the lens 102 to be inspected
05 is provided so as to contact the side surface of the lens 102 to be inspected.

【0003】上記構成において、被検レンズ102の側
面に接触した状態の変位測定器105をレーザ干渉装置
101の光軸方向に沿って上下方向に移動させて、その
変位量がほとんど変化しなくなるまで試料搭載台104
の傾きを修正する。これにより、被検レンズ102の外
径の中心軸とレーザ干渉装置101の光軸とが平行にな
る。次に、試料搭載台104を回動させて、変位測定器
105の目盛り変化が最も小さくなるまで試料搭載台1
04をその面内で移動させる。これにより、被検レンズ
102の外径の中心軸とレーザ干渉装置101の光軸と
が一致する。
In the above structure, the displacement measuring device 105 in contact with the side surface of the lens 102 to be inspected is moved vertically along the optical axis direction of the laser interference device 101 until the displacement amount hardly changes. Sample mount 104
Correct the inclination of. As a result, the central axis of the outer diameter of the lens 102 to be inspected and the optical axis of the laser interference device 101 become parallel. Next, the sample mounting base 104 is rotated, and the sample mounting base 1 is rotated until the scale change of the displacement measuring instrument 105 is minimized.
04 is moved within the plane. As a result, the center axis of the outer diameter of the lens 102 to be inspected and the optical axis of the laser interference device 101 coincide with each other.

【0004】この状態で表示装置103を観察するが、
被検レンズ102のレンズ面102aに偏心がある場
合、レンズ面102aへ照射したレーザ光の反射像は、
表示装置103の中心位置と一致せず、一方、たおれが
ある場合は反射像の中心近傍の干渉縞が同心円にならな
い。従って、表示装置103に映った反射像が表示装置
103の中心位置と一致するように試料搭載台104を
移動させたとき、その移動量がレンズ面の偏心量であ
り、また、反射像の中心近傍の干渉縞が同心円になるよ
うに、試料搭載台104を傾斜させたとき、その傾斜角
がたおれとなって測定できる。
Observing the display device 103 in this state,
When the lens surface 102a of the lens 102 to be inspected is decentered, the reflected image of the laser beam applied to the lens surface 102a is
If the center position of the display device 103 does not match, and on the other hand, there is deflection, the interference fringes near the center of the reflected image do not form concentric circles. Therefore, when the sample mounting table 104 is moved so that the reflection image reflected on the display device 103 coincides with the center position of the display device 103, the amount of movement is the amount of eccentricity of the lens surface and the center of the reflection image. When the sample mounting table 104 is tilted so that the interference fringes in the vicinity are concentric circles, the tilt angle can be measured as tilt.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の測定装置では、
レーザ干渉装置から投射され、被検レンズの表面で収束
する収束レーザ光の反射像のずれ量を検知することによ
り、偏心量・たおれを測定しているが、被検レンズの表
面に収束させる場合の反射像のずれは極めて微小な量で
あり、従って偏心に対する感度が悪く高精度な偏心測定
ができないという問題があった。
In the conventional measuring device,
The amount of eccentricity and deflection is measured by detecting the amount of deviation of the reflected image of the converged laser light projected from the laser interference device and converging on the surface of the lens to be inspected. The deviation of the reflection image is extremely small, so that there is a problem that sensitivity to eccentricity is poor and highly accurate eccentricity measurement cannot be performed.

【0006】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、被検レンズのレンズ面の偏心量を精度良く測
定することのできるレンズ偏心測定装置を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a lens eccentricity measuring device capable of accurately measuring the amount of eccentricity of the lens surface of the lens under test.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するため本発明のレンズ偏心測定装置は、図1に示す
ように構成される。本発明においては、被検レンズから
の反射光と、測定基準となるマスター金型からの反射光
との干渉に基づいて、偏心量を測定しており、この干渉
にトワイマングリーン型干渉装置が使用されている。図
1において、31はトワイマングリーン型干渉装置を示
し、レーザ光源1と、レーザ光源1の光束を拡大するビ
ームエキスパンダ2と、ビームエキスパンダ2からの光
束を2分するビームスプリッタ3と、ビームスプリッタ
3で2分された一方の光束をマスター金型10に投射す
る第1の対物レンズ4と、前記ビームスプリッタ3で2
分された他方の光束を被検レンズ30に投射する第2の
対物レンズ5と、マスター金型10および被検レンズ3
0からの反射光を第1の対物レンズ4または第2の対物
レンズ5ならびにビームスプリッタ3を介して集光して
干渉させる集光レンズ6と、この集光レンズ6の焦点面
に位置し干渉縞を形成するスクリーン7と、このスクリ
ーン7上に形成された干渉縞を撮影するTVカメラ8
と、このTVカメラ8で撮影された干渉縞を表示する表
示装置9とからなる。
To achieve the above object, the lens eccentricity measuring device of the present invention is constructed as shown in FIG. In the present invention, the amount of eccentricity is measured based on the interference between the reflected light from the lens under test and the reflected light from the master mold that serves as the measurement reference. It is used. In FIG. 1, reference numeral 31 denotes a Twyman-Green type interference device, which includes a laser light source 1, a beam expander 2 that expands the light flux of the laser light source 1, a beam splitter 3 that divides the light flux from the beam expander 2 into two. A first objective lens 4 for projecting one of the two light beams split by the beam splitter 3 onto the master mold 10 and the beam splitter 3
The second objective lens 5 for projecting the other divided light flux onto the lens 30 to be inspected, the master mold 10 and the lens 3 to be inspected
A condenser lens 6 for converging the reflected light from 0 through the first objective lens 4 or the second objective lens 5 and the beam splitter 3 to cause interference, and an interference located at the focal plane of the condenser lens 6 A screen 7 for forming stripes and a TV camera 8 for photographing the interference fringes formed on the screen 7.
And a display device 9 for displaying interference fringes photographed by the TV camera 8.

【0008】このようなトワイマングリーン型干渉装置
に対し、本発明は以下の要素を組み合わせている。すな
わちマスター金型10を保持すると共に、マスター金型
10に投射する光束の光軸方向すなわち第1の対物レン
ズ4の光軸をZ軸としたとき、そのZ軸回りに回動可能
で、その光軸方向の直交2軸をX軸・Y軸としたとき、
これらの軸方向に移動可能であり、かつXZ面、YZ面
内で傾斜可能なマスター金型支持台11と、Z軸方向に
移動可能でマスター金型10の外径部10bのX方向の
変位を測定する第1の変位測定機12と、被検レンズ3
0を支持すると共に、被検レンズ30に投射する光束の
光軸をZ′軸としたとき、そのZ′軸回りに回動可能
で、その光軸方向の直交2軸をX′軸・Y′軸としたと
き、X′軸・Y軸方向に移動可能であり、かつX′Z′
面、Y′Z′面内で傾斜可能な被検レンズ支持台13
と、Z′軸方向に移動可能で被検レンズ30の外径部3
0bのX′方向の変位を測定する第2の変位測定機14
と、被検レンズ支持台13のX′方向・Y′方向の移動
量を測定する移動量測定機15aおよび15bと、被検
レンズ支持台13のX′Z′面、Y′Z′面の傾斜角を
測定する傾斜角測定機16aおよび16bとが配置され
ている。ここで、マスター金型10は被検レンズ30の
測定面30aの測定基準とするため、球面または非球面
形状からなる基準面10aを有している。
The present invention combines the following elements with respect to such a Twyman-Green type interference device. That is, while holding the master mold 10, when the optical axis direction of the light beam projected on the master mold 10, that is, the optical axis of the first objective lens 4 is the Z axis, the master mold 10 is rotatable about the Z axis. When the two orthogonal axes of the optical axis are the X and Y axes,
A master die support 11 that is movable in these axial directions and that can be tilted in the XZ plane and the YZ plane, and a displacement in the X direction of the outer diameter portion 10b of the master die 10 that is movable in the Z axis direction. Displacement measuring machine 12 for measuring the
0 is supported, and when the optical axis of the light beam projected onto the lens 30 to be inspected is the Z'axis, it can be rotated around the Z'axis, and the two axes orthogonal to the optical axis direction are the X'axis and the Y'axis. When used as the'axis, it can move in the X'axis and Y axis directions, and X'Z '
Lens support base 13 that can be tilted in the plane Y'Z '
And the outer diameter portion 3 of the lens 30 to be inspected that is movable in the Z′-axis direction.
Second displacement measuring machine 14 for measuring the displacement of 0b in the X'direction
And movement amount measuring machines 15a and 15b for measuring the movement amounts of the lens support base 13 in the X'and Y'directions, and the X'Z 'surface and the Y'Z' surface of the lens support base 13. Tilt angle measuring machines 16a and 16b for measuring the tilt angle are arranged. Here, the master mold 10 has a reference surface 10a having a spherical surface or an aspherical surface, which serves as a measurement reference for the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected.

【0009】このような構成において、第1の変位測定
機12をZ方向に沿って上下移動させたとき、その変位
量がほとんど変位しないように、マスター金型支持台1
1の傾きを修正する。これにより、マスター金型10の
外径部10bの中心軸と第1の対物レンズ4の光軸とが
平行になる。次に、マスター金型支持台10を回動させ
たとき、第1の変位測定機12の変化が最小になるよう
にマスター金型支持台11をXY面内で移動させる。こ
れにより、マスター金型10の外径部10bの中心軸と
第1の対物レンズ4の光軸とが一致する。続いて被検レ
ンズ支持台13に被検レンズ30を搭載し、第2の変位
測定機14を用いて同様の調整を行い、被検レンズ30
の外径部30bの中心軸と対物レンズ5の光軸とを一致
させる。ここで、第1の対物レンズ4ならびに第2の対
物レンズ5のそれぞれの光軸方向すなわちZならびZ′
方向の位置を調整し、それぞれマスター金型10の基準
面10aならびに被検レンズ30の測定面30aに投射
されたレーザ光の反射光による干渉縞が、表示装置9で
観察できる様にする。この観察において、被検レンズ3
0の片面の光軸が外径の中心軸と一致していないとき
は、偏心がある場合であり、この場合には第2の対物レ
ンズ5の光軸とも一致しないため、表示装置9で観察さ
れる干渉縞は同心円にはならない。すなわち、同心円で
はない干渉縞によって被検レンズに偏心があることを検
知できる。この場合の感度はレーザ光の使用波長の1/
10レベルの感度であるため、0.1μm以下となり、
極めて高感度とすることができる。
In such a structure, when the first displacement measuring machine 12 is moved up and down along the Z direction, the displacement amount of the first displacement measuring machine 12 is hardly displaced, so that the master die support 1
Correct the inclination of 1. As a result, the central axis of the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the optical axis of the first objective lens 4 become parallel. Next, when the master mold support base 10 is rotated, the master mold support base 11 is moved within the XY plane so that the change of the first displacement measuring machine 12 is minimized. As a result, the central axis of the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the optical axis of the first objective lens 4 coincide with each other. Subsequently, the lens 30 to be inspected is mounted on the lens support base 13 to be inspected, and the same adjustment is performed by using the second displacement measuring machine 14.
The central axis of the outer diameter portion 30b and the optical axis of the objective lens 5 are aligned. Here, the optical axis direction of each of the first objective lens 4 and the second objective lens 5, that is, Z and Z ′.
The positions in the directions are adjusted so that the interference fringes due to the reflected light of the laser light projected on the reference surface 10a of the master mold 10 and the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected can be observed on the display device 9. In this observation, the lens 3 to be inspected
When the optical axis of one surface of 0 does not coincide with the center axis of the outer diameter, there is eccentricity. In this case, the optical axis of the second objective lens 5 also does not coincide with the optical axis of the second objective lens 5. The generated interference fringes are not concentric circles. That is, it is possible to detect that the lens to be inspected is decentered by the interference fringes that are not concentric circles. The sensitivity in this case is 1 / the used wavelength of the laser light.
Since the sensitivity is 10 levels, it becomes 0.1 μm or less,
The sensitivity can be extremely high.

【0010】次にこの干渉縞が同心円状になるように、
被検レンズ支持台13の調整を行う。被検レンズ30の
測定面30aが球面の場合、被検レンズ支持台13を
X′Y′平面で移動させることで干渉縞は同心円状とな
る。この被検レンズ支持台13の移動量を移動量測定機
15aおよび15bで測定する。そして両移動量の2乗
平均が図2で示すように被検レンズ30の外径部30b
の中心軸30dに対する球面部30aの曲率中心30c
のずれ量δとなる。一方、被検レンズ30の測定面30
aが非球面の場合、被検レンズ支持台13をX′Y′平
面で移動ならびにX′Z′平面・Y′Z′平面内で傾斜
させることにより、同心円状の干渉縞となる。そして図
2に示すように、移動量測定機15aおよび15bによ
り測定した両移動量の2乗平均に基づいて被検レンズ3
0の外径部30bの中心軸30dに対する非球面30a
の非球面軸30dのずれ量δを求めることができる。ま
た、傾斜角測定機16aおよび16bに表示される両傾
斜量の2乗平均から、被検レンズ30の外径部30bの
中心軸30dに対する非球面部30aの非球面軸30c
の傾き量εを求めることができる。以上のことからレン
ズ面の偏心量を高精度に測定できる。
Next, so that the interference fringes are concentric,
The lens support base 13 to be tested is adjusted. When the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected is a spherical surface, the interference fringes become concentric circles by moving the lens support 13 to be inspected in the X'Y 'plane. The movement amount of the lens support base 13 to be tested is measured by the movement amount measuring machines 15a and 15b. Then, as shown in FIG. 2, the root mean square of both movement amounts is the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be inspected.
Center of curvature 30c of the spherical portion 30a with respect to the central axis 30d of
Deviation amount δ. On the other hand, the measurement surface 30 of the lens 30 to be inspected
When a is an aspherical surface, the test lens support 13 is moved in the X'Y 'plane and tilted in the X'Z' plane / Y'Z 'plane to form concentric interference fringes. Then, as shown in FIG. 2, the lens 3 to be inspected is based on the root mean square of both movement amounts measured by the movement amount measuring machines 15a and 15b.
Aspherical surface 30a with respect to the central axis 30d of the outer diameter portion 30b of 0
The shift amount δ of the aspherical surface axis 30d can be obtained. Further, based on the root mean square of both tilt amounts displayed on the tilt angle measuring machines 16a and 16b, the aspherical surface axis 30c of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be tested.
The inclination amount ε of can be obtained. From the above, the amount of eccentricity of the lens surface can be measured with high accuracy.

【0011】[0011]

【実施例1】図3は本発明の実施例1を示し、図1と同
一の要素は同一の符号を付して対応させてある。図3に
おいて、31は、トワイマングリーン型干渉装置であ
り、この干渉装置はレーザ光源1と、レーザ光源1の光
束を拡大するビームエキスパンダ2と、ビームエキスパ
ンダ2からの光束を2分するビームスプリッタ3と、ビ
ームスプリッタ3で2分された一方の光束をマスター金
型10に投射する第1の対物レンズ4と、ビームスプリ
ッタ3で2分された他方の光束を被検レンズ30に投射
する第2の対物レンズ5と、マスター金型10および被
検レンズ30からの反射光を第1の対物レンズ4または
第2の対物レンズ5ならびにビームスプリッタ3を介し
て集光させ干渉させる集光レンズ6と、この集光レンズ
6の焦点面に位置して干渉縞を形成するスクリーン7
と、このスクリーン7上に形成された干渉縞を撮影する
TVカメラ8と、TVカメラ8で撮影された干渉縞を表
示する表示装置9とからなる。
[Embodiment 1] FIG. 3 shows Embodiment 1 of the present invention, in which the same elements as in FIG. In FIG. 3, reference numeral 31 denotes a Twyman-Green type interference device, which divides a laser light source 1, a beam expander 2 for expanding the light beam of the laser light source 1, and a light beam from the beam expander 2 into two. The beam splitter 3, the first objective lens 4 that projects one of the light fluxes split by the beam splitter 3 onto the master mold 10, and the other light flux that is split by the beam splitter 3 into the test lens 30 Condensing the reflected light from the second objective lens 5 and the master mold 10 and the lens 30 to be examined through the first objective lens 4 or the second objective lens 5 and the beam splitter 3 to cause interference. A lens 6 and a screen 7 positioned on the focal plane of the condenser lens 6 to form interference fringes
And a TV camera 8 for photographing the interference fringes formed on the screen 7, and a display device 9 for displaying the interference fringes photographed by the TV camera 8.

【0012】このようなトワイマングリーン型干渉装置
に対し、その第1の対物レンズ4側にはマスター金型1
0を支持するマスター金型支持台11が配設され、第2
の対物レンズ5側には被検レンズ30を搭載する被検レ
ンズ支持台13が配設される。マスター金型支持台11
はマスター金型10に投射する光束の光軸方向すなわち
第1の対物レンズ4の光軸をZ軸としたとき、Z軸回り
に回動可能なスピンドル11aと、その光軸方向の直交
2軸をX軸・Y軸としたとき、X軸・Y軸方向に移動可
能な移動ステージ11bと、XZ面およびYZ面内で傾
斜可能な傾斜ステージ11cとを備えている。また、マ
スター金型10に対しては、Z方向に移動可能なステー
ジ17aに搭載されてマスター金型10の外径部10b
に接触し、マスター金型10の外径部10bのX方向の
変位を測定する第1のピックテスタ17bが配設されて
いる。
In contrast to such a Twyman-Green type interference device, the master mold 1 is provided on the side of the first objective lens 4 thereof.
The master die support 11 for supporting 0 is arranged,
On the side of the objective lens 5 of the above, a lens support base 13 for mounting a lens 30 for inspection is arranged. Master mold support 11
Is a spindle 11a rotatable around the Z axis and two axes orthogonal to the optical axis direction of the light flux projected on the master mold 10, that is, when the optical axis of the first objective lens 4 is the Z axis. Where X is the X-axis / Y-axis, the movable stage 11b is movable in the X-axis / Y-axis directions, and the tilt stage 11c is tiltable in the XZ plane and the YZ plane. Further, with respect to the master die 10, the outer diameter portion 10b of the master die 10 is mounted on the stage 17a movable in the Z direction.
And a first pick tester 17b for measuring the displacement of the outer diameter portion 10b of the master die 10 in the X direction.

【0013】一方、被検レンズ支持台13は、被検レン
ズ30に投射する光束の光軸をZ′軸としたとき、Z′
軸回りに回動可能な回転スピンドル13aと、光軸
(Z′軸)方向の直交2軸をX′軸・Y′軸としたと
き、X′軸・Y′軸方向に移動可能な移動ステージ13
bと、X′Z′面およびY′Z′面内で傾斜可能な傾斜
ステージ13cとを備えている。また、被検レンズ30
に対してはZ′方向に移動可能なステージ18aに搭載
されて被検レンズ30の外径部30bに接触し、被検レ
ンズ30の外径部30bのX′方向の変位を測定する第
2のピックテスタ18bが配設されている。さらに被検
レンズ支持台13には、同支持台13の移動ステージ1
3bに装着され、同ステージ13bのX′方向および
Y′方向の移動量を読み取る第1および第2のマイクロ
メータ19aおよび19bと、傾斜ステージ13cに装
着され、同ステージ13cのX′Z′面およびY′Z′
面の傾斜移動量を読み取ることにより傾斜角を検出する
第3および第4のマイクロメータ20aおよび20bと
が設けられている。ここで、マスター金型10は被検レ
ンズ30の測定面30aの測定基準とするため、球面ま
たは非球面形状からなる基準面10aを有している。
On the other hand, when the optical axis of the light beam projected on the lens 30 to be inspected is the Z'axis, the lens support base 13 to be inspected Z '
When a rotary spindle 13a rotatable about an axis and two orthogonal axes in the optical axis (Z'-axis) direction are X'-axis / Y'-axis, a movable stage movable in the X'-axis / Y'-axis direction. Thirteen
b, and a tilt stage 13c capable of tilting in the X'Z 'plane and the Y'Z' plane. Also, the lens 30 to be inspected
On the other hand, it is mounted on the stage 18a movable in the Z ′ direction and contacts the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be measured, and the displacement of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be measured in the X ′ direction is measured. The pick tester 18b of FIG. Further, on the lens support base 13 to be inspected, the moving stage 1 of the support base 13 is attached.
3b, the first and second micrometers 19a and 19b for reading the movement amount of the stage 13b in the X'and Y'directions, and the tilt stage 13c, the X'Z 'surface of the stage 13c. And Y'Z '
Third and fourth micrometers 20a and 20b for detecting the tilt angle by reading the tilt movement amount of the surface are provided. Here, the master mold 10 has a reference surface 10a having a spherical surface or an aspherical surface, which serves as a measurement reference for the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected.

【0014】次に本実施例による測定を説明する。第1
のピックテスタ17bが搭載されたステージ17aをZ
方向に沿って上下移動させたとき、第1のピックテスタ
17bの変位量がほとんど変位しないように、マスター
金型支持台11の傾斜ステージ11cを調整する。これ
により、マスター金型10の外径部10bの中心軸と第
1の対物レンズ4の光軸とが平行になる。次に、マスタ
ー金型支持台10の回転スピンドル11aを回動させた
とき、第1のピックテスタ17bの変化が最小になるよ
うにマスター金型支持台11の移動ステージ11bをX
Y面内で移動させる。これにより、マスター金型10の
外径部10bの中心軸と第1の対物レンズ4の光軸とが
一致する。マスター金型10は外径部と球面(または非
球面)部とをあらかじめ同軸切削することにより、その
球面(または非球面)部の光軸は第1の対物レンズ4の
光軸と一致する。
Next, the measurement according to this embodiment will be described. First
The stage 17a equipped with the pick tester 17b of
The tilt stage 11c of the master mold support 11 is adjusted so that the displacement amount of the first pick tester 17b is hardly displaced when vertically moved along the direction. As a result, the central axis of the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the optical axis of the first objective lens 4 become parallel. Next, when the rotary spindle 11a of the master mold support base 10 is rotated, the moving stage 11b of the master mold support base 11 is moved so as to minimize the change of the first pick tester 17b.
Move in Y plane. As a result, the central axis of the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the optical axis of the first objective lens 4 coincide with each other. The optical axis of the spherical (or aspherical) portion of the master die 10 is pre-coaxially cut with the outer diameter portion and the spherical (or aspherical) portion so that the optical axis thereof coincides with the optical axis of the first objective lens 4.

【0015】続いて、被検レンズ支持台13に被検レン
ズ30を搭載し、第2のピックテスタ18bを用いて同
様の調整を行い、被検レンズ30の外径部30bの中心
軸と第2の対物レンズ5の光軸とを一致させる。ここ
で、第1の対物レンズ4ならびに第2の対物レンズ5の
それぞれを光軸方向の位置、すなわちZならびZ′方向
の位置を調整し、それぞれマスター金型10の基準面1
0aならびに被検レンズ30の測定面30aに投射され
たレーザ光の反射光による干渉縞が、表示装置9で観察
できるようにする。この場合、被検レンズ30の片面の
光軸が外径の中心軸と一致していないとき、すなわち偏
心がある場合は、第2の対物レンズ6の光軸とも一致し
ないため、表示装置9で観察される干渉縞は同心円には
ならない。すなわち、同心円ではない干渉縞によって被
検レンズの偏心を検知できる。
Subsequently, the lens 30 to be inspected is mounted on the lens support base 13 to be inspected, and the same adjustment is performed by using the second pick tester 18b, so that the center axis of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be inspected and the second The optical axis of the objective lens 5 of is matched. Here, the positions of the first objective lens 4 and the second objective lens 5 are adjusted in the optical axis direction, that is, in the Z and Z ′ directions, respectively, and the reference surface 1 of the master mold 10 is adjusted.
0a and the interference fringes due to the reflected light of the laser light projected on the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected can be observed on the display device 9. In this case, when the optical axis of one surface of the lens 30 to be inspected does not coincide with the central axis of the outer diameter, that is, when there is eccentricity, it does not coincide with the optical axis of the second objective lens 6 either. The interference fringes observed are not concentric. That is, the eccentricity of the lens under test can be detected by the interference fringes that are not concentric circles.

【0016】次にこの干渉縞が同心円状になるように、
被検レンズ支持台13の移動ステージ13bならびに傾
斜ステージ13cを用いて調整する。ここで、被検レン
ズ30の測定面30aが球面の場合、被検レンズ支持台
13の移動ステージ13bをX′Y′平面で移動させる
ことで干渉縞は同心円状となる。この移動量を移動ステ
ージ13bに装着されている第1および第2のマイクロ
メータ19aおよび19bで測定し、両移動量の2乗平
均を算出なる。この算出値が被検レンズ30の外径部3
0bの中心軸30dに対する球面部30aの曲率中心3
0cのずれ量δとなる。一方、被検レンズ30の測定面
30aが非球面の場合、被検レンズ支持台13の移動ス
テージ13bをX′Y′平面で移動させると共に、傾斜
ステージ13cによってX′Z′平面およびY′Z′平
面における傾斜を行うことにより、同心円状の干渉縞と
する。このとき、移動ステージ13bに装着されている
第1および第2のマイクロメータ19aおよび19bに
よりこれらを測定する。これらの移動量の2乗平均が被
検レンズ30の外径部30bの中心軸30dに対する非
球面部30aの非球面軸30cのずれ量δとなる。ま
た、傾斜ステージ13cに装着されている第3および第
4のマイクロメータ20aおよび20bにより測定した
傾斜量から両傾斜量の2乗平均を算出する。これが被検
レンズ30の外径部30bの中心軸30dに対する非球
面部30aの非球面軸30cの傾き量εとなる。
Next, so that the interference fringes are concentric,
Adjustment is performed using the moving stage 13b of the lens support base 13 and the tilt stage 13c. Here, when the measurement surface 30a of the lens 30 to be measured is a spherical surface, the interference fringes become concentric circles by moving the moving stage 13b of the lens support base 13 to be tested on the X'Y 'plane. This moving amount is measured by the first and second micrometers 19a and 19b mounted on the moving stage 13b, and the root mean square of both moving amounts is calculated. This calculated value is the outer diameter portion 3 of the lens 30 to be inspected.
The center of curvature 3 of the spherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of 0b
The shift amount δ is 0c. On the other hand, when the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected is an aspherical surface, the moving stage 13b of the lens support 13 to be inspected is moved in the X'Y 'plane, and the tilt stage 13c is used to move in the X'Z' plane and Y'Z 'plane. A concentric interference fringe is formed by inclining in the ′ plane. At this time, these are measured by the first and second micrometers 19a and 19b mounted on the moving stage 13b. The mean square of these movement amounts is the shift amount δ of the aspherical surface axis 30c of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be tested. Further, the root mean square of both tilt amounts is calculated from the tilt amounts measured by the third and fourth micrometers 20a and 20b mounted on the tilt stage 13c. This is the inclination amount ε of the aspherical surface axis 30c of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be tested.

【0017】このような本実施例によりレンズの偏心量
を高精度に測定できる。特に本実施例では被検レンズ支
持台13の移動ステージ13bを移動させる第1および
第2のマイクロメータ19aおよび19bが移動量測定
機としての機能を兼ね備え、しかも、被検レンズ支持台
13の傾斜ステージ13cを傾斜させる第3および第4
のマイクロメータ20aおよび220bが傾斜角測定機
としての機能を兼ね備えているため、移動量測定機なら
びに傾斜角測定機を別途、付加する必要がなく、構成が
簡単となり、操作も容易となる。
According to the present embodiment as described above, the amount of eccentricity of the lens can be measured with high accuracy. In particular, in this embodiment, the first and second micrometers 19a and 19b for moving the moving stage 13b of the lens support base 13 also have a function as a movement amount measuring machine, and the tilt of the lens support base 13 is also measured. Third and fourth tilting stage 13c
Since the micrometers 20a and 220b also have a function as a tilt angle measuring machine, there is no need to separately add a movement amount measuring machine and a tilt angle measuring machine, and the configuration is simple and the operation is easy.

【0018】[0018]

【実施例2】図4は本発明の実施例2を示し、実施例1
と同一の要素は同一の符号で対応させてある。この実施
例2では、Z方向に移動可能なステージ21aに搭載さ
れてマスター金型10の外径部10bに接触し、マスタ
ー金型10の外径部10bのX方向の変位を測定する第
1の電気マイクロメータ21bと、第1の電気マイクロ
メータ21bで測定された変位量を表示する第1の表示
部21cとにより第1の変位測定機が構成されている。
また、Z′方向に移動可能なステージ22aに搭載され
て被検レンズ30の外径部30bに接触し被検レンズ3
0の外径部30bのX′方向の変位を測定する第2の電
気マイクロメータ22bと、第2の電気マイクロメータ
22bで測定された変位量を表示する第2の表示部22
cとにより第2の変位測定機が構成されている。さらに
被検レンズ支持台13の移動ステージ13bに接触し
て、X′方向およびY′方向の移動量を読み取る第3お
よび第4の電気マイクロメータ23a,23bと、両電
気マイクロメータ23a,23bで測定した両移動量の
2乗平均値を表示する第3の表示部23cとにより移動
量測定機が構成され、被検レンズ支持台13の傾斜ステ
ージ13cに接触して、X′Z′面およびY′Z′面に
傾斜する傾斜量を読み取る第5および第6の電気マイク
ロメータ24aおよび24bと、両電気マイクロメータ
24a,24bて測定した傾斜量から傾斜ステージ13
cの傾斜角を演算し表示する第4の表示部24cにより
傾斜角測定機が構成されている。
Embodiment 2 FIG. 4 shows Embodiment 2 of the present invention, and Embodiment 1
The same elements as are designated by the same reference numerals. In the second embodiment, it is mounted on a stage 21a movable in the Z direction and comes into contact with the outer diameter portion 10b of the master die 10 to measure the displacement of the outer diameter portion 10b of the master die 10 in the X direction. The electric displacement meter 21b and the first display unit 21c for displaying the displacement amount measured by the first displacement electric meter 21b constitute a first displacement measuring machine.
Further, the lens to be measured 3 is mounted on the stage 22a movable in the Z'direction and comes into contact with the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be measured.
A second electric micrometer 22b that measures the displacement of the outer diameter portion 30b of 0 in the X'direction, and a second display unit 22 that displays the amount of displacement measured by the second electric micrometer 22b.
A second displacement measuring machine is constituted by c and c. Further, the third and fourth electric micrometers 23a and 23b for reading the amount of movement in the X'direction and the Y'direction by contacting the moving stage 13b of the lens support base 13 and the electric micrometers 23a and 23b. A moving amount measuring machine is constituted by the third display portion 23c which displays the root mean square value of both measured moving amounts, and contacts the tilt stage 13c of the lens support base 13 to be tested, and the X'Z 'plane and Based on the fifth and sixth electric micrometers 24a and 24b for reading the tilt amount tilted in the Y'Z 'plane, and the tilt amounts measured by the electric micrometers 24a and 24b, the tilt stage 13
A tilt angle measuring machine is configured by the fourth display unit 24c that calculates and displays the tilt angle of c.

【0019】このような構成において、第1の電気マイ
クロメータ21bが搭載されたステージ21aをZ方向
に沿って上下移動させたとき、第1の表示装置21cで
読み取る第1の電気マイクロメータ21bの変位量がほ
とんど変位しないように、マスター金型支持台11の傾
斜ステージ11cを調整する。これにより、マスター金
型10の外径部10bの中心軸と第1の対物レンズ4の
光軸とが平行になる。次に、マスター金型支持台10の
回転スピンドル11aを回動させたとき、第1の電気マ
イクロメータ21bの変化が最小になるようにマスター
金型支持台11の移動ステージ11bをXY面内で移動
させる。これにより、マスター金型10の外径部10b
の中心軸と第1の対物レンズ4の光軸とが一致する。マ
スター金型10は外径部と球面(または非球面)部とを
あらかじめ同軸切削することにより、その球面(または
非球面)部の光軸は第1の対物レンズ4の光軸と一致す
る。
In such a structure, when the stage 21a on which the first electric micrometer 21b is mounted is moved up and down in the Z direction, the first electric micrometer 21b read by the first display device 21c. The tilt stage 11c of the master die support 11 is adjusted so that the displacement amount is hardly displaced. As a result, the central axis of the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the optical axis of the first objective lens 4 become parallel. Next, when the rotary spindle 11a of the master mold support 10 is rotated, the moving stage 11b of the master mold support 11 is moved in the XY plane so that the change of the first electric micrometer 21b is minimized. To move. Thereby, the outer diameter portion 10b of the master die 10
The central axis of and the optical axis of the first objective lens 4 coincide with each other. The optical axis of the spherical (or aspherical) portion of the master die 10 is pre-coaxially cut with the outer diameter portion and the spherical (or aspherical) portion so that the optical axis thereof coincides with the optical axis of the first objective lens 4.

【0020】続いて、被検レンズ支持台13に被検レン
ズ30を搭載し、第2の電気マイクロメータ22bおよ
び第2の表示部22cを用いて同様の調整を行い、被検
レンズ30の外径部30bの中心軸と第2の対物レンズ
5の光軸とを一致させる。ここで、第1の対物レンズ4
ならびに第2対物レンズ5のそれぞれを光軸方向すなわ
ちZならびにZ′方向の位置を調整し、それぞれマスタ
ー金型10の基準面10aならびに被検レンズ30の測
定面30aに投射されたレーザ光の反射光による干渉縞
が表示装置9で観察できるようにする。
Subsequently, the lens 30 to be inspected is mounted on the lens support base 13 to be inspected, and the same adjustment is performed by using the second electric micrometer 22b and the second display portion 22c, and the outside of the lens 30 to be inspected. The central axis of the diameter portion 30b and the optical axis of the second objective lens 5 are aligned. Here, the first objective lens 4
And the second objective lens 5 are respectively adjusted in the optical axis direction, that is, in the Z and Z'directions, and the reflection of the laser light projected on the reference surface 10a of the master mold 10 and the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected, respectively. The interference fringes caused by light are made visible on the display device 9.

【0021】次にこの干渉縞が同心円状になるように、
被検レンズ支持台13の移動ステージ13bならびに傾
斜ステージ13cを用いて調整する。ここで被検レンズ
30の測定面30aが球面の場合、被検レンズ支持台1
3の移動ステージ13bをX′Y′平面で移動させるこ
とで、同心円状の干渉縞が得られ、この移動量を移動ス
テージ13bに接触している第3および第4の電気マイ
クロメータ23aおよび23bで測定し、両移動量の2
乗平均を第3の表示装置23cが表示する。この表示値
が被検レンズ30の外径部30bの中心軸30dに対す
る球面部30aの曲率中心30cのずれ量δとなる。一
方、被検レンズ30の測定面30aが非球面の場合、被
検レンズ支持台13の移動ステージ13bをX′Y′平
面で移動させると共に、傾斜ステージ13cでX′Z′
平面およびY′Z′平面での傾斜をさせることにより、
同心円状の干渉縞とする。このとき、移動ステージ13
bに接触している第1および第2の電気マイクロメータ
23aおよび23bにより求めた両移動量の2乗平均が
第3の表示装置23cに表示され、この表示値が、被検
レンズ30の外径部30bの中心軸30dに対する非球
面部30aの非球面軸30dのずれ量δとなる。また、
傾斜ステージ13cに接触している第5および第6の電
気マイクロメータ24aおよび24bにより測定した移
動量から求められる傾斜量が第4の表示装置24cに表
示され、この表示値が、被検レンズ30の外径部30b
の中心軸30dに対する非球面部30aの非球面軸30
dの傾き量εとなる。
Next, so that the interference fringes are concentric,
Adjustment is performed using the moving stage 13b of the lens support base 13 and the tilt stage 13c. Here, when the measurement surface 30a of the lens 30 to be tested is a spherical surface, the lens support base 1 to be tested 1
By moving the third moving stage 13b in the X'Y 'plane, concentric interference fringes are obtained, and the moving amount of the third and fourth electric micrometers 23a and 23b in contact with the moving stage 13b is obtained. Measured at, 2 of both movement
The third display device 23c displays the weighted average. This displayed value is the shift amount δ of the center of curvature 30c of the spherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be tested. On the other hand, when the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected is an aspherical surface, the moving stage 13b of the lens support base 13 to be inspected is moved in the X'Y 'plane and X'Z' in the tilt stage 13c.
By tilting in the plane and the Y'Z 'plane,
Concentric interference fringes. At this time, the moving stage 13
The mean square of both movement amounts obtained by the first and second electric micrometers 23a and 23b in contact with b is displayed on the third display device 23c, and this display value is displayed outside the lens 30 to be inspected. The displacement amount δ of the aspherical surface axis 30d of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the diameter portion 30b is obtained. Also,
The tilt amount obtained from the moving amount measured by the fifth and sixth electric micrometers 24a and 24b in contact with the tilt stage 13c is displayed on the fourth display device 24c, and this display value is displayed on the lens 30 to be tested. Outer diameter part 30b
Of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the
The inclination amount ε of d is obtained.

【0022】このような本実施例においても、偏心量の
精度の良い測定ができるが、第3の表示装置23cの値
から直接δを読み取ることができると共に、第4の表示
装置24cから直接εを読み取ることができるため、作
業性が良くなるメリットがある。
In this embodiment as well, the eccentricity amount can be measured with high accuracy, but δ can be directly read from the value of the third display device 23c, and ε can be directly read from the fourth display device 24c. Can be read, which has the advantage of improving workability.

【0023】[0023]

【実施例3】図5は本発明の実施例3を示し、実施例1
および2と同一の要素は同一の符号で対応させてある。
この実施例3ではZ方向に移動可能なステージ25aに
搭載されてマスター金型10の外径部10bに非接触状
態でマスター金型10の外径部10bのX方向の変位を
測定する第1の光学式変位計25bと、第1の光学式変
位計25bで測定された変位量を表示する第1の表示部
25cとにより第1の変位測定機が構成され、Z′方向
に移動可能なステージ26aに搭載されて被検レンズ3
0の外径部30bに非接触状態で被検レンズ30外径部
30bのX′方向の変位を測定する第2の光学式変位計
26bと、第2の光学式変位計26bで測定された変位
量を表示する第2の表示部26cにより第2の変位測定
機が構成されている。また、被検レンズ支持台13の移
動ステージ13bのX′方向およびY′方向の移動量を
非接触状態で読み取る第3および第4の光学式変位計2
7aおよび27bと、両光学式変位計27aおよび27
bで読み取られた両移動量の2乗平均値を表示する第3
の表示部27cとにより移動量測定機が構成され、被検
レンズ支持台13の傾斜ステージ13cの傾斜角を読み
取る光電式オートコリメータ28aと、光電式オートコ
リメータ28aで読み取られた傾斜ステージ13cの傾
斜角を表示する第4の表示部28cとにより傾斜角測定
機が構成されている。
[Third Embodiment] FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention.
The same elements as 2 and 2 are associated with the same reference numerals.
In the third embodiment, the displacement of the outer diameter portion 10b of the master die 10 in the X direction is measured without being in contact with the outer diameter portion 10b of the master die 10 by being mounted on the stage 25a movable in the Z direction. The optical displacement meter 25b and the first display unit 25c for displaying the displacement amount measured by the first optical displacement meter 25b constitute a first displacement measuring machine, which is movable in the Z'direction. The lens to be inspected 3 mounted on the stage 26a
The second optical displacement meter 26b for measuring the displacement in the X'direction of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be measured in a non-contact state with the outer diameter portion 30b of 0 and the second optical displacement meter 26b. The second display unit 26c that displays the amount of displacement constitutes a second displacement measuring machine. Further, the third and fourth optical displacement meters 2 for reading the movement amounts of the moving stage 13b of the lens support base 13 in the X'direction and the Y'direction in a non-contact state.
7a and 27b, and both optical displacement meters 27a and 27
3rd which displays the root mean square value of both movement amount which is read with b
The display unit 27c and the display unit 27c constitute a movement amount measuring device, and a photoelectric autocollimator 28a for reading the tilt angle of the tilt stage 13c of the lens support base 13 to be measured, and a tilt of the tilt stage 13c read by the photoelectric autocollimator 28a. A tilt angle measuring machine is configured with the fourth display unit 28c that displays the angle.

【0024】上記構成において、第1の光学式変位計2
5bが搭載されたステージ25aをZ方向に沿って上下
移動させたとき、第1の表示装置25cで読み取る第1
の光学式変位計25bの変位量がほとんど変位しないよ
うに、マスター金型支持台11の傾斜ステージ11cを
調整する。これにより、マスター金型10の外径部10
bの中心軸と第1の対物レンズ1の光軸とが平行とな
る。次に、マスター金型支持台10の回転スピンドル1
1aを回動させたとき、第1の光学式変位計25bの変
化が最小になるようにマスター金型支持台11の移動ス
テージ11bをXY面内で移動させる。これにより、マ
スター金型10の外径部10bの中心軸と第1の対物レ
ンズ4の光軸とが一致する。マスター金型10は外径部
と球面(または非球面)部とをあらかじめ同軸切削する
ことにより、その球面(または非球面)部の光軸が第1
の対物レンズ4の光軸と一致する。
In the above structure, the first optical displacement meter 2
When the stage 25a on which the 5b is mounted is moved up and down along the Z direction, the first display device 25c reads the first image.
The tilting stage 11c of the master die support 11 is adjusted so that the displacement amount of the optical displacement meter 25b is hardly displaced. Thereby, the outer diameter portion 10 of the master mold 10
The central axis of b and the optical axis of the first objective lens 1 are parallel to each other. Next, the rotary spindle 1 of the master mold support 10
When 1a is rotated, the moving stage 11b of the master mold support 11 is moved within the XY plane so that the change of the first optical displacement meter 25b is minimized. As a result, the central axis of the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the optical axis of the first objective lens 4 coincide with each other. In the master mold 10, the outer diameter portion and the spherical surface (or aspherical surface) are coaxially cut in advance so that the optical axis of the spherical surface (or aspherical surface) is first.
Coincides with the optical axis of the objective lens 4.

【0025】続いて、被検レンズ支持台13に被検レン
ズ30を搭載し、第2の光学式変位計26bおよび第2
の表示部26cを用いて同様の調整を行い、被検レンズ
30の外径部30bの中心軸と第2の対物レンズ5の光
軸とを一致させる。ここで、第1の対物レンズ4ならび
に第2の対物レンズ5のそれぞれを光軸方向すなわちZ
ならびにZ′方向の位置調整し、それぞれマスター金型
10の基準面10aならびに被検レンズ30の測定面3
0aに投射されたレーザ光の反射光による干渉縞が表示
装置9で観察できるようにする。
Subsequently, the lens 30 to be inspected is mounted on the lens support base 13 to be inspected, and the second optical displacement meter 26b and the second optical displacement meter 26b are mounted.
The same adjustment is performed by using the display section 26c of (1) to align the central axis of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be tested with the optical axis of the second objective lens 5. Here, each of the first objective lens 4 and the second objective lens 5 is set in the optical axis direction, that is, Z.
And the position of the Z'direction are adjusted, and the reference surface 10a of the master mold 10 and the measurement surface 3 of the lens 30 to be measured are respectively adjusted.
The interference fringes due to the reflected light of the laser light projected on 0a are made visible on the display device 9.

【0026】次にこの干渉縞が同心円状になるように、
被検レンズ支持台13の移動ステージ13bならびに傾
斜ステージ13cを用いて調整する。ここで被検レンズ
30の測定面30aが球面の場合、被検レンズ支持台1
3の移動ステージ13bをX′Y′平面で移動させるこ
とで、同心円状の干渉縞が得られ、この移動量を第3お
よび第4の光学式変位計27aおよび27bで測定し、
この両移動量の2乗平均を第3の表示装置27cが表示
する。この2乗平均値が被検レンズ30の外径部30b
の中心軸30に対する球面部30aの曲率中心30cの
ずれ量δとなる。一方、被検レンズ30の測定面30a
が非球面の場合、被検レンズ支持台13の移動ステージ
13bをX′Y′平面で移動させると共に、傾斜ステー
ジ13cでX′Z′平面およびY′Z′平面における傾
斜をさせることにより、同心円状の干渉縞とする。この
とき、第1および第2の光学式変位計27aおよび27
bにより求めた両移動量の2乗平均を第3の表示装置2
7cが表示し、この表示値が被検レンズ30の外径部3
0bの中心軸30dに対する非球面部30aの非球面軸
30cのずれ量δとなる。また光電式オートコリメータ
28で測定された傾斜量を第4の表示装置28bが表示
し、この表示値が被検レンズ30の外径部30bの中心
軸30dに対する非球面部30aの非球面軸30cの傾
き量εとなる。
Next, so that the interference fringes are concentric,
Adjustment is performed using the moving stage 13b of the lens support base 13 and the tilt stage 13c. Here, when the measurement surface 30a of the lens 30 to be tested is a spherical surface, the lens support base 1 to be tested 1
By moving the moving stage 13b of No. 3 in the X'Y 'plane, concentric interference fringes are obtained, and the moving amount is measured by the third and fourth optical displacement gauges 27a and 27b.
The third display device 27c displays the root mean square of the two movement amounts. This root mean square value is the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be inspected.
The deviation amount δ of the center of curvature 30c of the spherical surface portion 30a with respect to the central axis 30 of On the other hand, the measurement surface 30a of the lens 30 to be inspected
Is an aspherical surface, the moving stage 13b of the lens support base 13 is moved in the X'Y 'plane, and the tilting stage 13c is tilted in the X'Z' and Y'Z 'planes to form concentric circles. Interference fringes. At this time, the first and second optical displacement meters 27a and 27
The mean square of the two movement amounts obtained in step b is used for the third display device 2
7c is displayed, and the displayed value is the outer diameter portion 3 of the lens 30 to be measured.
The deviation amount δ of the aspherical surface axis 30c of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of 0b. Further, the fourth display device 28b displays the amount of inclination measured by the photoelectric autocollimator 28, and this display value is the aspherical surface axis 30c of the aspherical surface portion 30a with respect to the central axis 30d of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be measured. The inclination amount is ε.

【0027】このような本実施例によりレンズの偏心を
高精度に測定でき、しかもマスター金型10の外径部1
0bならびに被検レンズ30の外径部30bの変位を測
定する第1および第2の光学式変位計25bおよび26
bが非接触のため、マスター金型10の外径部10bな
らびに被検レンズ30の外径部30bとの接触による損
傷を発生することがなく、保守が容易となる。
According to the present embodiment as described above, the eccentricity of the lens can be measured with high accuracy, and moreover, the outer diameter portion 1 of the master mold 10 can be measured.
0b and the first and second optical displacement gauges 25b and 26 for measuring the displacement of the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be tested.
Since b is non-contact, damage is not generated due to contact with the outer diameter portion 10b of the master mold 10 and the outer diameter portion 30b of the lens 30 to be inspected, and maintenance is easy.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上の通り、本発明によればマスター金
型と被検レンズからの反射光による干渉縞を観察するこ
とにより、被検レンズの偏心を極めて感度良く検知で
き、これにより精度の良い偏心測定ができる。
As described above, according to the present invention, the eccentricity of the lens to be inspected can be detected with extremely high sensitivity by observing the interference fringes due to the reflected light from the master die and the lens to be inspected. Good eccentricity measurement is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基本構成を示す側面図。FIG. 1 is a side view showing a basic configuration of the present invention.

【図2】被検レンズの一例を示す側面図。FIG. 2 is a side view showing an example of a lens to be inspected.

【図3】本発明の実施例1の構成を示す側面図。FIG. 3 is a side view showing the configuration of the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例2の構成を示す側面図。FIG. 4 is a side view showing the configuration of the second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例3の構成を示す側面図。FIG. 5 is a side view showing a configuration of a third embodiment of the present invention.

【図6】従来装置の側面図。FIG. 6 is a side view of a conventional device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 マスター金型 11 マスター金型支持台 12 第1の変位測定機 13 被検レンズ支持台 14 第2の変位測定機 15a 移動量測定機 15b 移動量測定機 16a 傾斜角測定機 16b 傾斜角測定機 30 被検レンズ 10 master mold 11 master mold support 12 first displacement measuring machine 13 lens support base 14 second displacement measuring machine 15a moving amount measuring machine 15b moving amount measuring machine 16a tilt angle measuring machine 16b tilt angle measuring machine 30 test lens

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅田 茂也 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2 オリン パス光学工業株式会社内 (72)発明者 岩崎 暢喜 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2 オリン パス光学工業株式会社内 (72)発明者 後藤 光夫 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2 オリン パス光学工業株式会社内 (72)発明者 野澤 龍介 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2 オリン パス光学工業株式会社内 (72)発明者 川俣 健 東京都渋谷区幡ヶ谷2丁目43番2 オリン パス光学工業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shigeya Sugada 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Olympus Optical Co., Ltd. (72) Inventor Nobuyoshi Iwasaki 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Olympus Optical Industry Co., Ltd. (72) Inventor Mitsuo Goto 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Olympus Optical Industry Co., Ltd. (72) Ryusuke Nozawa 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Olympus Optical industry Co., Ltd. (72) Inventor Ken Kawamata 2-43-2 Hatagaya, Shibuya-ku, Tokyo Olympus Optical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検レンズからの反射光と、測定基準と
なるマスター金型からの反射光とを干渉させてレンズ面
の偏心量を測定する装置において、 前記マスター金型に投射する光束の光軸をZ軸として、
その軸回りに回動可能であると共に、当該Z軸と直交す
るX軸およびY軸方向に移動可能であり、且つXZ面お
よびYZ内で傾斜可能なマスター金型支持台と、 前記Z軸方向に移動可能で前記マスター金型外径部のX
方向の変位を測定する第1の変位測定機と、 前記被検レンズに投射する光束の光軸をZ′軸として、
その軸回りに回動可能であると共に、当該Z′軸と直交
するX′軸およびY′軸方向に移動可能であり、且つ
X′Z′面およびY′Z′面内で傾斜可能な被検レンズ
支持台と、 前記Z′軸方向に移動可能で前記被検レンズ外径部の
X′方向の変位を測定する第2の変位測定機と、 前記被検レンズ支持台のX′方向およびY′方向の移動
量を測定する移動量測定機と、 前記被検レンズ支持台のX′Z′面およびY′Z′面の
傾斜角を測定する傾斜角測定機とを備えていることを特
徴とするレンズ偏心測定装置。
1. An apparatus for measuring the amount of eccentricity of a lens surface by causing the reflected light from a lens under test and the reflected light from a master mold, which is a measurement reference, to interfere with each other. With the optical axis as the Z axis,
A master mold support base that is rotatable about its axis, movable in the X-axis and Y-axis directions orthogonal to the Z-axis, and tiltable in the XZ plane and YZ; Can be moved to the X of the outer diameter part of the master mold
A first displacement measuring device for measuring displacement in a direction, and an optical axis of a light beam projected on the lens to be inspected as a Z'axis,
A member that is rotatable about that axis, is movable in the X'axis and Y'axis directions orthogonal to the Z'axis, and is tiltable in the X'Z 'and Y'Z' planes. An inspection lens support base, a second displacement measuring device which is movable in the Z'-axis direction and measures a displacement in the X'direction of the outer diameter portion of the lens to be inspected, and an X'direction of the inspection lens support base and A movement amount measuring device for measuring a movement amount in the Y'direction; and an inclination angle measuring device for measuring an inclination angle of the X'Z 'surface and the Y'Z' surface of the lens support to be tested. Characteristic lens eccentricity measuring device.
JP18627992A 1992-06-19 1992-06-19 Lens eccentricity measuring device Withdrawn JPH06137993A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5548396A (en) * 1993-08-13 1996-08-20 Ricoh Company, Ltd. Method and apparatus for measuring eccentricity of aspherical lens having an aspherical surface on only one lens face
KR100765988B1 (en) * 2001-06-21 2007-10-10 고등기술연구원연구조합 A manufacturing apparatus with function adjusting center

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