JPH0613439B2 - Silicon carbide whisker manufacturing method and manufacturing apparatus thereof - Google Patents

Silicon carbide whisker manufacturing method and manufacturing apparatus thereof

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JPH0613439B2
JPH0613439B2 JP61224358A JP22435886A JPH0613439B2 JP H0613439 B2 JPH0613439 B2 JP H0613439B2 JP 61224358 A JP61224358 A JP 61224358A JP 22435886 A JP22435886 A JP 22435886A JP H0613439 B2 JPH0613439 B2 JP H0613439B2
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    • C30B25/005Growth of whiskers or needles
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    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本第1発明は炭化珪素ウイスカの製造方法に関し、特に
低コストで大量生産が可能な、高効率の炭化珪素ウイス
カの製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a silicon carbide whisker, and more particularly to a method for manufacturing a highly efficient silicon carbide whisker that can be mass-produced at low cost.

本第2発明は、上記炭化珪素ウイスカの製造方法の実施
を可能とする製造装置に関する。
The second aspect of the present invention relates to a manufacturing apparatus capable of implementing the method for manufacturing a silicon carbide whisker.

[従来の技術] 従来の炭化珪素ウイスカの製造方法としては主に以下の
3つの方法が知られている。第1番目の方法は、二酸化
珪素(シリカゲル)と炭(ファーネスカーボンブラッ
ク)とを食塩等の存在下で反応させて合成する方法であ
る(特開昭58−145700)。又第2番目の方法と
しては四塩化珪素等と炭化水素との反応により生じた有
機珪素を熱分解する合成方法が知られている(特開昭5
7−123813)。又第3番目の方法としては、金属
珪素と硫化水素と硫黄とプロパン等の炭化水素とを反応
炉で反応させて合成する方法が知られている(昭和61
年窯業協会年会講演予稿集P.21)。
[Prior Art] The following three methods are mainly known as conventional methods for manufacturing silicon carbide whiskers. The first method is a method in which silicon dioxide (silica gel) and charcoal (furnace carbon black) are reacted in the presence of salt or the like to synthesize (JP-A-58-145700). As the second method, there is known a synthetic method in which organic silicon produced by the reaction of silicon tetrachloride or the like with a hydrocarbon is thermally decomposed (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 5).
7-123813). A third method is known in which metallic silicon, hydrogen sulfide, sulfur, and hydrocarbons such as propane are reacted in a reaction furnace to synthesize them (Showa 61).
Annual Ceramic Society Annual Meeting Proceedings P. 21).

[発明が解決しようとする問題点] 上記第1番目の製造方法は、使用する電力が大きいため
大量生産には向かない。又第2番目の方法は原料費が高
価であるので大量生産には不向きである。又第3の方法
はコスト的には比較的有利であるが、硫化水素および硫
黄を必ず用いないと炭化珪素ウイスカが製造されないこ
とが知られている。従ってこの硫化水素を原料として用
いることは有害の原料を用いるので好ましくないし又排
気ガス中に硫化水素及び硫黄ガスが発生し好ましくな
く、また2種類の硫黄源が原料として必要であるので製
造装置が複雑となること等のため好ましくない。
[Problems to be Solved by the Invention] The first manufacturing method is not suitable for mass production because it consumes a large amount of electric power. Further, the second method is not suitable for mass production because the raw material cost is high. Although the third method is relatively advantageous in terms of cost, it is known that silicon carbide whiskers cannot be produced unless hydrogen sulfide and sulfur are used without fail. Therefore, it is not preferable to use this hydrogen sulfide as a raw material because a harmful raw material is used. Further, hydrogen sulfide and sulfur gas are generated in the exhaust gas, which is not preferable, and since two kinds of sulfur sources are required as raw materials, a manufacturing apparatus is required. It is not preferable because it becomes complicated.

本第1発明及び第2発明は、各々上記欠点を克服するも
のであり原料源等を安価なものとして低コストで製造で
き、大量生産に有用な炭化珪素ウイスカの製造方法及び
その製造装置を提供することを目的とする。
The first invention and the second invention overcome the above-mentioned drawbacks, respectively, and provide a method for manufacturing a silicon carbide whisker and a manufacturing apparatus therefor, which can be manufactured at low cost by using an inexpensive raw material source and the like. The purpose is to do.

[問題点を解決するための手段] 本第1発明の炭化珪素ウイスカの製造方法は、硫黄を加
熱し硫黄蒸気を発生させるとともにキャリアガスを供給
し、該硫黄蒸気と該キャリアガスとの第1原料ガスを作
る第1工程と、 珪素金属を加熱しつつ該第1原料ガスを供給し該珪素金
属と該第1原料中の該硫黄蒸気とを反応させて硫化珪素
ガスを含む第2原料ガスを作る第2工程と、 該第2原料ガスと炭化水素を含む第3原料ガスとを混合
し該硫化珪素ガスと該炭化水素とを反応させて炭化珪素
とするとともに炭化珪素ウイスカを作る第3工程とを有
することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In the method for manufacturing a silicon carbide whisker of the first aspect of the present invention, the first step of heating the sulfur to generate sulfur vapor and supplying a carrier gas to the sulfur vapor and the carrier gas is performed. A first step of producing a raw material gas; and a second raw material gas containing silicon sulfide gas by supplying the first raw material gas while heating silicon metal to react the silicon metal with the sulfur vapor in the first raw material And a second raw material gas and a third raw material gas containing a hydrocarbon are mixed to react the silicon sulfide gas with the hydrocarbon to produce silicon carbide and a silicon carbide whisker is produced. And a process.

上記第1工程は硫黄蒸気とキャリアガスとの第1原料ガ
スを作る工程である。この硫黄原料としては種々の硫黄
を用いることができる。又この硫黄蒸気を発生させる温
度としては硫黄蒸気を発生させる温度であれば足り通常
硫黄の融点近くの温度以上である。この温度は100〜
500℃程度とするのが好ましい。100℃以上とする
のは必要な硫黄ガスを発生させるためであり、500℃
以下とするのは過剰な硫黄ガスの発生をおさえるためで
ある。またキャリアガスとしては非酸化性ガスを用いる
ことができ、この非酸化性ガスとしてはアルゴン、ヘリ
ウム等の不活性ガス又は水素等の還元性ガスあるいはこ
れらの混合ガスを用いることができる。またこのキャリ
アガスとして、不活性ガス等を含む排気ガスを用いるこ
ともできる。
The first step is a step of producing a first source gas of sulfur vapor and carrier gas. Various sulfur can be used as the sulfur raw material. Further, the temperature at which the sulfur vapor is generated is sufficient if it is the temperature at which the sulfur vapor is generated, and is usually higher than the temperature near the melting point of sulfur. This temperature is 100 ~
The temperature is preferably about 500 ° C. The temperature above 100 ° C is to generate necessary sulfur gas, and 500 ° C
The following is to suppress the generation of excessive sulfur gas. A non-oxidizing gas can be used as the carrier gas, and an inert gas such as argon or helium, a reducing gas such as hydrogen, or a mixed gas thereof can be used as the non-oxidizing gas. Further, exhaust gas containing an inert gas or the like can be used as the carrier gas.

上記第2工程は硫化珪素ガスを含む第2原料ガスを作る
工程である。この珪素金属の形態は特に限定されず、通
常粉末状のものが用いられるが角状のブロック状のもの
等であってもよい。又この珪素金属を加熱する温度はこ
の金属を活性化させて硫黄蒸気と反応させることができ
る温度であればよい。通常この温度は800〜1200
℃が好ましい。この温度であれば珪素粉末の粒成長が生
じにくく、粉末表面の活性度を上げておくことができる
し、製造される硫化珪素が容易に昇華して連続的に次の
工程に進むことができる。なお800℃未満の場合には
十分に珪素金奥が活性化されないし、1200℃を越え
る場合には粒成長のため好ましくないからである。
The second step is a step of producing a second raw material gas containing silicon sulfide gas. The form of this silicon metal is not particularly limited, and a powdery one is usually used, but a square blocky one or the like may be used. The temperature at which the silicon metal is heated may be any temperature at which the metal can be activated and reacted with sulfur vapor. Usually this temperature is 800-1200
C is preferred. At this temperature, grain growth of the silicon powder is less likely to occur, the activity of the powder surface can be increased, and the silicon sulfide produced can be easily sublimated and continuously proceed to the next step. . If the temperature is lower than 800 ° C., the deep inside of silicon is not sufficiently activated, and if the temperature exceeds 1200 ° C., grain growth is not preferable.

上記第3工程は炭化珪素ウイスカを作る工程である。こ
の第3原料ガスは炭化水素を含むガスである。このガス
は炭化水素単独であってもよいし、不活性ガス等のキャ
リアガス等を含んでいてもよい。この炭化水素として
は、メタン、エタン、プロパン、ブタン等が用いられ、
反応条件下でガスとなる炭化水素であればよい。又炭化
珪素ウイスカを成長させる核としては、アルミナ、ジル
コニア等から成る基板であっても良いし、この基反上に
微細な金属、金属化合物を配置したものであってもよい
し、この製造装置内に浮遊する粒子であってもよい。通
常この核の材質としては金属塩化物等を用いる。
The third step is a step of making a silicon carbide whisker. The third source gas is a gas containing hydrocarbon. This gas may be a hydrocarbon alone or may contain a carrier gas such as an inert gas. As this hydrocarbon, methane, ethane, propane, butane, etc. are used,
Any hydrocarbon can be used as long as it becomes a gas under the reaction conditions. The nucleus for growing the silicon carbide whiskers may be a substrate made of alumina, zirconia, or the like, or a fine metal or metal compound may be arranged on the substrate. It may be particles suspended inside. Usually, a metal chloride or the like is used as the material of this core.

上記第1工程、第2工程及び第3工程を連続して実施す
るのが好ましい。
It is preferable to carry out the first step, the second step and the third step continuously.

又上記第3工程の後から連続的に排出される硫黄蒸気お
よびキャリアガス等を含む排気ガスを第1工程のキャリ
アガスとして連続的に使用するのが好ましい。これは、
第1工程、第2工程及び第3工程が不連続の場合にも適
用できるが、これらの工程が連続である場合に適用する
のが良い。この場合には原料の有効利用及び公害源とな
る硫黄の排出を阻止することができる。この場合硫黄が
固化しないようにこの再利用される排気ガスをその沸点
以上の温度に保持する。なおキャリアガスとしての非酸
化性ガス等のみを再利用する場合には冷却して硫黄を除
去した後の回収ガスを再利用することもできる。
Further, it is preferable to continuously use, as the carrier gas in the first step, the exhaust gas containing the sulfur vapor and the carrier gas which are continuously discharged after the third step. this is,
Although it can be applied to the case where the first step, the second step and the third step are discontinuous, it is preferable to apply them when these steps are continuous. In this case, it is possible to prevent the effective use of raw materials and the emission of sulfur which is a pollution source. In this case, the recycled exhaust gas is kept at a temperature above its boiling point so that the sulfur does not solidify. When only the non-oxidizing gas or the like as the carrier gas is reused, the recovered gas after cooling to remove sulfur can be reused.

上記第3工程の後で第3工程から排出される排気ガス融
点以下に冷却し硫黄を固化して分離する硫黄分離工程を
有するのが好ましい。またその他イオウ化合物ガスが生
じている場合は、これを硫黄等の固体として除去するこ
ともできる。公害源となる硫黄等を除去するのが好まし
いからである。
After the third step, it is preferable to have a sulfur separation step of cooling to below the melting point of the exhaust gas discharged from the third step and solidifying and separating sulfur. If other sulfur compound gas is generated, it can be removed as a solid such as sulfur. This is because it is preferable to remove sulfur or the like, which is a pollution source.

本第2発明の炭化珪素ウイスカの製造装置は、加熱手段
と、キャリアガス導入口と硫黄蒸気を含む第1原料ガス
を導出する第1原料ガス導出口を有し、内部に配置され
た硫黄を加熱し硫黄蒸気を発生させて該第1原料ガスを
作る第1原料ガス発生装置と、 加熱手段と、該第1原料ガス導出口と連結する第1原料
ガス導入口と、硫化珪素ガスを含む第2原料ガスを導出
する第2原料ガス導出口とを有し、内部に配置された珪
素金属粉末を加熱するとともに、該第1原料ガス中の該
硫黄蒸気と加熱された該珪素金属を反応させて硫化珪素
を合成して第2原料ガスを作る第2原料ガス発生装置
と、 加熱手段と、該第2原料ガス導出口と連結する第2原料
ガス導入口と、硫黄等を含む排気ガスを導出する排気ガ
ス導出口と、炭化水素を導入する炭化水素導入口とを有
し、該第2原料ガスと該炭化水素を含む第3原料ガスと
を混合し、該硫化珪素ガスと該炭化水素とを反応させて
炭化珪素とするとともに炭化珪素ウイスカを作る炭化珪
素ウイスカ合成装置と、 を有することを特徴とする。
An apparatus for manufacturing a silicon carbide whisker according to the second aspect of the present invention has a heating means, a carrier gas inlet, and a first source gas outlet for outlet of a first source gas containing sulfur vapor. A first source gas generator for heating to generate sulfur vapor to produce the first source gas; heating means; a first source gas inlet connected to the first source gas outlet; and a silicon sulfide gas A second raw material gas outlet for leading out a second raw material gas, and heats the silicon metal powder disposed inside, and reacts the sulfur vapor in the first raw material gas with the heated silicon metal. A second raw material gas generator for synthesizing silicon sulfide to produce a second raw material gas, heating means, a second raw material gas inlet connected to the second raw material gas outlet, and an exhaust gas containing sulfur or the like Of the exhaust gas that leads to the And a third raw material gas containing the hydrocarbon, and the silicon sulfide gas and the hydrocarbon are reacted with each other to form silicon carbide and a silicon carbide whisker. And a silicon carbide whisker synthesizing device for making the same.

本製造装置は、上記第1発明の炭化珪素ウイスカの製造
方法を実施するためのものである。本製造装置は、第1
図に示すように第1原料ガス発生装置1、第2原料ガス
発生装置2および炭化珪素ウイスカ合成装置3とを有す
る。以下の説明においては主として装置について述べ、
この装置を実施するための条件は上記の製造方法につい
て説明したものと同じである。
This manufacturing apparatus is for carrying out the method for manufacturing a silicon carbide whisker of the first invention. This manufacturing device is the first
As shown in the figure, it has a first source gas generator 1, a second source gas generator 2 and a silicon carbide whisker synthesizer 3. In the following description, the device will be mainly described,
The conditions for carrying out this device are the same as those described for the above manufacturing method.

上記第1原料ガス発生装置は硫黄を加熱し硫黄蒸気を発
生させるとともにキャリアガスを導入して第1原料ガス
を作る装置である。この硫黄の加熱手段としてはカンタ
ル線ヒーターを用いることができる。又この装置は耐食
性合金等からなる耐食性かつ耐熱性のある材質からな
る。
The first raw material gas generator is an apparatus that heats sulfur to generate sulfur vapor and introduces a carrier gas to produce a first raw material gas. A Kanthal wire heater can be used as the sulfur heating means. Further, this apparatus is made of a corrosion-resistant and heat-resistant material such as a corrosion-resistant alloy.

上記第2原料ガス発生装置とは硫黄蒸気と、加熱されて
活性化された珪素金属と、を反応させて硫化珪素を合成
して第2原料ガスを作る装置である。この珪素金属を加
熱する加熱手段はカンタル線ヒーターを用いることがで
きる。又この装置の材質としては高純度アルミナ管等を
用いることができる。
The second raw material gas generation device is a device for producing a second raw material gas by reacting sulfur vapor with heated and activated silicon metal to synthesize silicon sulfide. As a heating means for heating the silicon metal, a Kanthal wire heater can be used. A high-purity alumina tube or the like can be used as the material of this device.

上記炭化珪素ウイスカ合成装置は、第2原料ガスと第3
原料ガスとを混合して硫化珪素ガスと炭化水素とを反応
させて炭化珪素とするとともに、炭化珪素ウイスカを作
る装置である。この合成装置を加熱するための加熱手段
としてはカンタル線ヒーターを用いることができる。又
この製造装置内には予め炭化珪素ウイスカを製造するた
めの所定の核を配置するための手段を有する。
The silicon carbide whisker synthesizing apparatus described above uses the second source gas and the third source gas
This is an apparatus for mixing a raw material gas and reacting a silicon sulfide gas with a hydrocarbon to produce silicon carbide, and at the same time, producing a silicon carbide whisker. A Kanthal wire heater can be used as a heating means for heating the synthesizer. Further, this manufacturing apparatus has means for disposing a predetermined nucleus for manufacturing silicon carbide whiskers in advance.

本製造装置においては上記第1原料発生装置、第2原料
ガス発生装置および炭化珪素ウイスカ合成装置は連続し
ていなくても良いが、連続となっているのが好ましい。
特に第2原料ガス発生装置と炭化珪素ウイスカ合成装置
とは連続しているのがより好ましい。さらに第2原料ガ
ス発生用容器とウイスカス合成容器とは一体となってい
るものが好ましい。
In the present manufacturing apparatus, the first raw material generator, the second raw material gas generator, and the silicon carbide whisker synthesizer may not be continuous, but are preferably continuous.
In particular, it is more preferable that the second source gas generator and the silicon carbide whisker synthesizer are continuous. Further, it is preferable that the second raw material gas generation container and the whisker synthesis container are integrated.

本製造装置においては、第2図に示すようにウイスカ製
造装置3から排出される硫黄蒸気およびキャリアガスを
含む排気ガスを硫黄の融点以下に冷却する冷却装置を具
備し、該硫黄蒸気を固化して硫黄蒸気を冷却し固化して
分離する硫黄分離装置4をもつことができる。又本製造
装置においてはウイスカ製造装置3から連続的に排出さ
れる硫黄蒸気およびキャリアガス等を含む排気ガスを第
1原料ガス発生装置1へ戻すための排ガス再利用装置5
をもつことができる。また排ガス再利用装置は上記硫黄
分離装置を経由して生じた硫黄除去後の排ガスを第1原
料ガス発生装置へ戻すものとすることができる。この場
合には硫黄除去後の主として非酸化性ガスを含む排ガス
を有効再利用することとなる。この排ガス再利用装置は
例えば第4図に示すように炭化珪素ウイスカ製造装置3
の排気ガス導出口33および第1原料発生装置1のキャ
リアガス導入口12に連通する配管51と、該配管51
の途中に配設されたファン52とから成るものとするこ
とができる。
As shown in FIG. 2, the present manufacturing apparatus is equipped with a cooling device for cooling the exhaust gas containing the sulfur vapor and the carrier gas discharged from the whisker manufacturing apparatus 3 to the melting point of sulfur or lower, and solidifying the sulfur vapor. It is possible to have a sulfur separator 4 that cools and solidifies the sulfur vapor to separate it. Further, in this manufacturing apparatus, an exhaust gas reuse apparatus 5 for returning exhaust gas containing sulfur vapor, carrier gas, etc., continuously discharged from the whisker manufacturing apparatus 3 to the first raw material gas generation apparatus 1
Can have Further, the exhaust gas re-use device may be a device that returns the exhaust gas after sulfur removal generated via the sulfur separation device to the first raw material gas generation device. In this case, exhaust gas containing mainly non-oxidizing gas after sulfur removal is effectively reused. This exhaust gas reuse device is, for example, as shown in FIG.
And a pipe 51 communicating with the exhaust gas outlet 33 and the carrier gas inlet 12 of the first raw material generator 1;
And a fan 52 disposed in the middle of.

本製造装置においては第3図に示すように第1原料ガス
発生装置1内へキャリアガスを供給するためのキャリア
ガス供給装置6を有するものとすることができる。また
同様に炭化珪素ウイスカ合成装置3内へ炭化水素を供給
するための炭化水素供給装置7を有するものとすること
もできる。
This manufacturing apparatus may have a carrier gas supply device 6 for supplying a carrier gas into the first raw material gas generation device 1 as shown in FIG. Similarly, a hydrocarbon feed device 7 for feeding hydrocarbons into the silicon carbide whisker synthesizer 3 may be provided.

[発明の効果] 本発明の炭化珪素ウイスカの製造方法は、安価な硫黄、
珪素金属及び炭化水素を原料とするので炭化珪素ウイス
カを安価にかつ大量に製造することができる。この製造
方法によれば安価な炭化珪素ウイスカを製造することが
できるので本製造方法は大量に使用されるFRM、FR
C(繊維強化セラミックス)用等の炭化珪素ウイスカの
製造に極めて有用である。
[Effects of the Invention] The method for producing a silicon carbide whisker of the present invention comprises:
Since silicon metal and hydrocarbon are used as raw materials, silicon carbide whiskers can be manufactured inexpensively and in large quantities. According to this manufacturing method, an inexpensive silicon carbide whisker can be manufactured.
It is extremely useful for manufacturing silicon carbide whiskers for C (fiber reinforced ceramics) and the like.

又本製造方法において硫化珪素を合成する際の反応温度
が800〜1200℃である場合には製造される硫化珪
素が次々に昇華して次の工程に容易に搬送することがで
きるので第1工程、第2工程及び第3工程を連続して実
施することが容易となりその連続実施をする場合には極
めて安価かつ高効率で酸化珪素ウイスカを製造すること
ができる。
Further, when the reaction temperature for synthesizing silicon sulfide in the present production method is 800 to 1200 ° C., the produced silicon sulfide is sublimated one after another and can be easily transported to the next step. The second step and the third step can be easily carried out continuously, and when they are carried out continuously, the silicon oxide whiskers can be manufactured at extremely low cost and with high efficiency.

又本製造方法において硫黄分離工程又は排ガス再利用工
程さらにはこの両工程を有する場合においては大気に排
出される最終的な排気ガス中に硫黄成分が基本的に含ま
れないので、無公害な炭化珪素ウイスカの製造方法であ
り、かつさらに硫黄又はキャリアガスを再利用できるの
で原料および排熱を有効利用することができる。
Further, in the case where the present manufacturing method has the sulfur separation step or the exhaust gas reusing step, or both of these steps, since the sulfur component is basically not contained in the final exhaust gas discharged to the atmosphere, there is no pollution carbonization. Since it is a method for producing silicon whiskers and sulfur or carrier gas can be reused, raw materials and exhaust heat can be effectively used.

本第2発明の製造装置は、第1原料ガス発生装置と、第
2原料ガス発生装置と、炭化珪素ウイスカ合成装置と、
を有するので、本性像装置を用いれば上記第1発明の製
造方法を実施することができる。従って本製造装置は安
価かつ大量に炭化珪素ウイスカの製造を可能とする有用
な装置である。
A manufacturing apparatus of the second invention is a first raw material gas generator, a second raw material gas generator, a silicon carbide whisker synthesizer,
Therefore, the manufacturing method of the first invention can be carried out by using the imaging device of the present invention. Therefore, the present manufacturing apparatus is a useful apparatus that enables inexpensive and large-scale production of silicon carbide whiskers.

又本製造装置において硫黄分離装置又は硫黄ガス又はハ
キャリアガスを再利用できる排ガス再利用装置を有する
場合には、硫黄の排出をなくした無公害な装置又は硫黄
又はキャリアガスを有効利用する製造方法を提供する装
置といえる。
Further, when the present manufacturing apparatus has a sulfur separation apparatus or an exhaust gas reusing apparatus capable of reusing sulfur gas or ha carrier gas, a pollution-free apparatus that eliminates sulfur emission or a manufacturing method that effectively uses sulfur or carrier gas Can be said to be a device that provides.

本製造装置において第2原料ガス発生装置を構成する硫
化珪素合成容器とウイスカ合成装置を構成するウイスカ
合成容器とが隔壁で仕切られている場合には、金属珪素
と炭化水素の接触が避けられるため、金属珪素の炭化を
なくすことができ金属珪素が有効に炭化珪素ウイスカに
転換することができるので、本製造方法は極めて珪素の
反応効率が高く有用な方法である。
In the present manufacturing apparatus, when the silicon sulfide synthesis container forming the second raw material gas generator and the whisker synthesis container forming the whisker synthesizer are partitioned by a partition wall, contact between metallic silicon and hydrocarbon is avoided. Since the carbonization of metallic silicon can be eliminated and the metallic silicon can be effectively converted into silicon carbide whiskers, the present production method is a highly useful method with extremely high reaction efficiency of silicon.

[実施例] 以下、実施例により本第1発明及び第2発明を説明す
る。
[Examples] Hereinafter, the first invention and the second invention will be described by examples.

本実施例に用いられた装置の概略説明図を第4図に示
す。この装置は、第1原料ガス発生装置1と、キャリア
ガス供給装置6と、第2原料ガス発生装置2と、炭化珪
素ウイスカ合成装置3と、炭化水素供給装置7と、硫黄
分離装置4と、排ガス再利用装置5とを有する。
A schematic explanatory view of the apparatus used in this example is shown in FIG. This apparatus comprises a first source gas generator 1, a carrier gas supply unit 6, a second source gas generator 2, a silicon carbide whisker synthesizer 3, a hydrocarbon supply unit 7, and a sulfur separator 4. The exhaust gas recycling device 5 is included.

上記第1原料ガス発生装置1は硫黄発生容器(材質はス
テンレスからなる。)11と、非酸化性ガス導入口12
と、第1原料ガス導出口13と、加熱手段(ヒータ)1
4を有する。
The first source gas generator 1 includes a sulfur generating container (made of stainless steel) 11 and a non-oxidizing gas inlet 12.
, First raw material gas outlet 13, and heating means (heater) 1
Have 4.

上記キャリアガス供給装置6は、水素供給源61とアル
ゴン供給源64を有する。これらの供給源61、64に
は流量を調節するニードルバルブ63、66と、上記硫
黄発生装置の導入口に通じる配管62、65とからな
る。
The carrier gas supply device 6 has a hydrogen supply source 61 and an argon supply source 64. These supply sources 61 and 64 are composed of needle valves 63 and 66 for adjusting the flow rate and pipes 62 and 65 leading to the inlet of the sulfur generator.

上記第2原料ガス発生装置は加熱手段(ヒータ)24、
硫化珪素合成容器(アルミナ管から成る。)21を有
し、又その一端に第1原料ガス導入口22を有しその他
端に第2原料ガス導出口23を有する。又この内部に珪
素金属粉末25を配置するためのアルミナ製のボード2
6を有する。
The second source gas generator is a heating means (heater) 24,
It has a silicon sulfide synthesis container (made of an alumina tube) 21, a first raw material gas inlet 22 at one end, and a second raw material gas outlet 23 at the other end. Also, an alumina board 2 for arranging silicon metal powder 25 therein
Have six.

上記炭化珪素ウイスカ合成装置はヒータ34、ウイスカ
合成容器31を有し、またその一端に第2原料ガス導出
口23と連結する導入口32を有し他端に排気ガス導出
口33と又他の一端に炭化水素(第3原料ガス)導入口
37とを有する。このウイスカ合成容器31は上記第2
原料ガス発生容器21と一体となったもので同じ材質か
らなり、両容器21、31の間には隔壁27が設けられ
ている。そしてこの容器31内にアルミナ基板36が配
置されている。
The silicon carbide whisker synthesizing apparatus has a heater 34 and a whisker synthesizing vessel 31, an inlet 32 connected to the second raw material gas outlet 23 at one end, and an exhaust gas outlet 33 at the other end, and another. It has a hydrocarbon (third source gas) inlet 37 at one end. This whisker synthesis container 31 is the second
It is integrated with the source gas generation container 21 and made of the same material, and a partition wall 27 is provided between the two containers 21 and 31. An alumina substrate 36 is placed in this container 31.

上記炭化水素供給装置7は、炭化水素(プロピレン)供
給源71と、その先端に付けられた流量調節用のニード
ルバルブ73とこのバブルの流出側に付けられ炭化珪素
ウイスカ合成装置の導入口37に接続する炭化水素導出
口71とからなる。
The hydrocarbon supply device 7 has a hydrocarbon (propylene) supply source 71, a flow rate adjusting needle valve 73 attached to the tip thereof, and an inlet 37 of a silicon carbide whisker synthesizer attached to the outflow side of the bubble. The hydrocarbon outlet 71 is connected.

上記硫黄分離装置4は、その一端部に炭化珪素ウイスカ
合成装置3の排気ガス導出口33に連結する排気ガス導
入口42を有し、大気へ排出する排気ガス導出口43
と、これに続くニードルバルブ43さらに排気ポンプ4
6を有する。
The sulfur separator 4 has an exhaust gas inlet 42 connected to the exhaust gas outlet 33 of the silicon carbide whisker synthesizer 3 at one end, and an exhaust gas outlet 43 for discharging to the atmosphere.
And the needle valve 43 following this and the exhaust pump 4
Have six.

上記排ガス再利用装置5は、この炭化珪素ウイスカ製造
装置3と該硫黄分離装置4を結ぶ配管途中と、上記第1
原料ガス発生装置1と水素供給源61を結ぶ配管途中
と、を結ぶ配管51と該配管51途中に設けられたファ
ン52とを有する。
The exhaust gas re-use device 5 is provided in the middle of the pipe connecting the silicon carbide whisker production device 3 and the sulfur separation device 4,
It has a pipe 51 connecting the source gas generator 1 and the hydrogen supply source 61, a pipe 51 connecting the same, and a fan 52 provided in the middle of the pipe 51.

上記製造装置を用いて以下の方法により炭化珪素ウイス
カを製造した。まず耐食性合金からなる硫黄発生容器1
1内に硫黄のブロック15を投入し又アルミナ管からな
る硫化珪素合成容器21内にアルミナボードを設置し
た。このアルミナボードには平均粒径100μm程度の
シリコン金属粉末25を1〜5g投入した。またウイス
カ合成容器31内にアルミナ基板36を配置した。
Silicon carbide whiskers were manufactured by the following method using the above manufacturing apparatus. First, a sulfur generating container 1 made of a corrosion resistant alloy
A sulfur block 15 was placed in the reactor 1, and an alumina board was placed in a silicon sulfide synthesis container 21 composed of an alumina tube. 1 to 5 g of silicon metal powder 25 having an average particle size of about 100 μm was put into this alumina board. Further, an alumina substrate 36 was placed in the whisker synthesizing container 31.

その後この一連の装置をアルゴンガスにて内部の空気を
パージしアルゴンガスで置換した。
After that, the air inside the series of devices was purged with argon gas and replaced with argon gas.

第1原料発生装置の加熱ヒータ14を用いてこの硫黄1
5を450℃まで昇温した。それと同時に第1原料発生
装置2及び炭化珪素ウイスカ製造装置3のヒータ24,
34を用いて珪素金属粉末25を1200℃に又ウイス
カ合成容器31内を1300℃以上に昇温した。その後
アルゴンガスを止め水素供給源61のニードルバルブ6
3を開き水素を100ml/分の速度で流出させた。又
加熱されたこのガスはファン52を通してこの系内を循
環させた。
Using the heater 14 of the first raw material generator, the sulfur 1
5 was heated to 450 ° C. At the same time, the heaters 24 of the first raw material generating device 2 and the silicon carbide whisker manufacturing device 3,
34 was used to raise the temperature of the silicon metal powder 25 to 1200 ° C. and the temperature in the whisker synthesizing vessel 31 to 1300 ° C. or higher. After that, the argon gas is stopped and the needle valve 6 of the hydrogen supply source 61
3 was opened and hydrogen was allowed to flow out at a rate of 100 ml / min. The heated gas was circulated in the system through the fan 52.

硫黄発生容器11で発生した硫黄蒸気は水素により硫化
珪素合成容器21内に搬送されてこの容器21内で活性
化されたシリコン金属粉末25の表面で該硫黄蒸気と該
珪素が反応し硫化珪素ガスを発生させた。
Sulfur vapor generated in the sulfur generation container 11 is transported by hydrogen into the silicon sulfide synthesis container 21, and the sulfur vapor reacts with the silicon on the surface of the activated silicon metal powder 25 in the container 21 to generate silicon sulfide gas. Was generated.

又このときプロピレンガスを炭化水素導入口37を通し
て約5〜10ml/分の速度でウイスカ合成容器31内
に流入させた。この流入したプロピレンは、キャリアガ
スにより搬送されてウイスカ合成容器31内に流入した
硫化珪素ガスと反応して炭化珪素が生成し基板36上に
ある核を基にして炭化珪素が成長し炭化珪素ウイスカ3
5が合成された。
At this time, propylene gas was caused to flow into the whisker synthesis vessel 31 through the hydrocarbon inlet 37 at a rate of about 5 to 10 ml / min. The propylene that has flowed in is reacted with the silicon sulfide gas that has been carried by the carrier gas and has flowed into the whisker synthesizing container 31 to generate silicon carbide, and silicon carbide grows based on the nuclei on the substrate 36, resulting in silicon carbide whiskers. Three
5 was synthesized.

この硫化珪素合成容器21及びウイスカ合成容器31の
間には隔壁27を設け珪素粉末の炭化を防止した。
A partition wall 27 was provided between the silicon sulfide synthesis container 21 and the whisker synthesis container 31 to prevent carbonization of the silicon powder.

500℃加熱されたパイプ51を通して再度第1原料ガ
ス発生装置1に戻し硫黄及び水素等の再利用を行った。
It was returned to the first source gas generator 1 again through the pipe 51 heated at 500 ° C., and the sulfur, hydrogen, etc. were reused.

又排気ガスのうちプロピレンからの分解により得られた
分だけの水素は、系内では余分の水素であるからファン
46を通して15〜30ml/分程度この排気ガスを排
出した。このときにのガス中の硫黄を分離回収するため
冷却を行った。このため冷却手段4を通して最終的な排
気ガス48を排出する。この冷却手段4には冷却水が循
環されている。
In addition, since only the amount of hydrogen obtained by decomposition from propylene in the exhaust gas is excess hydrogen in the system, about 15 to 30 ml / min of this exhaust gas was discharged through the fan 46. Cooling was performed to separate and recover sulfur in the gas at this time. Therefore, the final exhaust gas 48 is discharged through the cooling means 4. Cooling water is circulated in the cooling means 4.

約3時間程上記製造装置を用いて反応させた後これらの
装置を冷却して炭化珪素ウイスカの合成状態等を調べ
た。
After reacting for about 3 hours using the above-mentioned manufacturing apparatus, these apparatuses were cooled and the synthesis state of silicon carbide whiskers was examined.

金属珪素粉末25はほとんど消費されており、ウイスカ
合成容器31内の基板36上には白っぽい炭化珪素ウイ
スカ35が密生していた。
Most of the metallic silicon powder 25 was consumed, and whitish silicon carbide whiskers 35 were densely formed on the substrate 36 in the whisker synthesizing container 31.

しかし水素供給源61により水素ガスを導入し排気ガス
用のファン46により排気ガス48を排出する場合は大
部分の硫黄が硫黄分離装置4の冷却面に付着した大部分
の硫黄45を回収できた。
However, when the hydrogen gas is introduced by the hydrogen supply source 61 and the exhaust gas 48 is discharged by the exhaust gas fan 46, most of the sulfur 45 can be collected on the cooling surface of the sulfur separation device 4. .

本製造装置を用いて上記の製造方法によれば、白っぽい
炭化珪素ウイスカを安価に製造することができるととも
に硫黄の大部分は冷却装置により回収することができ大
気へ排出する排気ガス中には硫黄成分はほとんど含まれ
ない。従ってこれらによれば安価かつ大量に炭化珪素ウ
イスカを製造することができるとともに公害の心配がな
い。又大部分の熱量は排ガス再利用装置により回収する
ので、排熱を有効利用することができエネルギーコスト
の低減を図ることもできた。又ウイスカ製造容器と硫化
珪素合成容器の間に隔壁を有し、珪素粉末とプロパンと
の接触を避けることができたので珪素の炭化をなくすこ
とができ珪素を有効にウイスカに転換することもでき
た。又本製造装置による製造方法は連続運鉄であるので
高効率に炭化珪素ウイスカを連続的に大量に製造するこ
とができた。
According to the above manufacturing method using this manufacturing apparatus, whitish silicon carbide whiskers can be manufactured at a low cost, and most of the sulfur can be recovered by the cooling device, and the exhaust gas discharged to the atmosphere contains sulfur. Contains almost no ingredients. Therefore, according to these, the silicon carbide whiskers can be manufactured inexpensively and in large quantities, and there is no fear of pollution. Further, since most of the heat quantity is recovered by the exhaust gas reusing device, the exhaust heat can be effectively used and the energy cost can be reduced. Further, since a partition wall was provided between the whisker manufacturing container and the silicon sulfide synthesis container, it was possible to avoid contact between silicon powder and propane, so that carbonization of silicon could be eliminated and silicon could be effectively converted into whiskers. It was Further, since the manufacturing method using this manufacturing apparatus is continuous iron transportation, a large amount of silicon carbide whiskers can be continuously manufactured with high efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は第1原料ガス発生装置、第2原料ガス発生装置
および炭化珪素ウイスカ合成装置から成る炭化珪素ウイ
スカの製造装置の説明図である。第2図は第1図に示す
各装置に硫黄分離装置および排ガス再利用装置を加えて
成る炭化珪素ウイスカの製造装置の説明図である。第3
図は第2図に示す各装置にキャリアガス供給装置および
炭化水素供給装置を加えて成る炭化珪素ウイスカの製造
装置の説明図である。 第4図は実施例で用いた炭化珪素ウイスカの製造装置の
概略説明図である。 1……第1原料ガス発生装置 2……第2原料ガス発生装置 3……炭化珪素ウイスカ合成装置 4……硫黄分離装置 5……排ガス再利用装置 6……キャリアガス供給装置 7……炭化珪素供給装置 14、24、34……加熱手段(ヒータ) 15……硫黄 25……珪素粉末 27……隔壁 35……炭化珪素ウイスカ 36……アルミナ基板 44……冷却手段 45……回収硫黄 61……水素供給源 64……アルゴン供給源
FIG. 1 is an explanatory diagram of a silicon carbide whisker manufacturing apparatus including a first source gas generator, a second source gas generator, and a silicon carbide whisker synthesizer. FIG. 2 is an explanatory view of a silicon carbide whisker manufacturing apparatus which is obtained by adding a sulfur separator and an exhaust gas reusing apparatus to each apparatus shown in FIG. Third
The figure is an explanatory view of a silicon carbide whisker manufacturing apparatus in which a carrier gas supply apparatus and a hydrocarbon supply apparatus are added to each apparatus shown in FIG. FIG. 4 is a schematic explanatory view of a silicon carbide whisker manufacturing apparatus used in the examples. 1 ... First raw material gas generator 2 ... Second raw material gas generator 3 ... Silicon carbide whisker synthesizer 4 ... Sulfur separator 5 ... Exhaust gas reuse device 6 ... Carrier gas supply device 7 ... Carbonization Silicon supply device 14, 24, 34 ... Heating means (heater) 15 ... Sulfur 25 ... Silicon powder 27 ... Partition wall 35 ... Silicon carbide whisker 36 ... Alumina substrate 44 ... Cooling means 45 ... Recovered sulfur 61 ...... Hydrogen supply source 64 ...... Argon supply source

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】硫黄を加熱し硫黄蒸気を発生させるととも
にキャリアガスを供給し、該硫黄蒸気と該キャリアガス
との第1原料ガスを作る第1工程と、 珪素金属を加熱しつつ該第1原料ガスを供給し該珪素金
属と該第1原料中の該硫黄蒸気とを反応させて硫化珪素
ガスを含む第2原料ガスを作る第2工程と、 該第2原料ガスと炭化水素を含む第3原料ガスとを混合
し該硫化珪素ガスと該炭化水素とを反応させて炭化珪素
とするとともに炭化珪素ウイスカを作る第3工程と、を
有することを特徴とする炭化珪素ウイスカの製造方法。
1. A first step of heating sulfur to generate sulfur vapor and supplying a carrier gas to produce a first raw material gas of the sulfur vapor and the carrier gas; and a first step of heating silicon metal. A second step of supplying a source gas to react the silicon metal with the sulfur vapor in the first source to produce a second source gas containing a silicon sulfide gas; and a second step containing the second source gas and a hydrocarbon. 3. A method for producing a silicon carbide whisker, which comprises: mixing a raw material gas 3 and reacting the silicon sulfide gas with the hydrocarbon to form silicon carbide and producing a silicon carbide whisker.
【請求項2】第2工程において反応温度は800〜12
00℃である特許請求の範囲第1項記載の炭化珪素ウイ
スカの製造方法。
2. The reaction temperature in the second step is 800-12.
The method for producing a silicon carbide whisker according to claim 1, wherein the temperature is 00 ° C.
【請求項3】第3工程の後で第3工程から排出される排
気ガスを融点(113℃)以下に冷却し硫黄を固化して
分離する第4工程を有する特許請求の範囲第1項記載の
炭化珪素ウイスカの製造方法。
3. The method according to claim 1, further comprising a fourth step of cooling the exhaust gas discharged from the third step below the melting point (113 ° C.) and solidifying and separating the sulfur after the third step. Manufacturing method of silicon carbide whiskers.
【請求項4】第1工程、第2工程及び第3工程を連続し
て実施する特許請求の範囲第2項記載の炭化珪素ウイス
カの製造方法。
4. The method for manufacturing a silicon carbide whisker according to claim 2, wherein the first step, the second step and the third step are continuously carried out.
【請求項5】第3工程から連続的に排出される排気ガス
を第1工程のキャリアガスとして連続的に使用する特許
請求の範囲第4項記載のウイスカの製造方法。
5. The method for producing whiskers according to claim 4, wherein the exhaust gas continuously discharged from the third step is continuously used as the carrier gas in the first step.
【請求項6】加熱手段と、キャリアガス導入口と、硫黄
蒸気を含む第1原料ガスを導出する第1原料ガス導出口
とを有し、内部に配置された硫黄を加熱し硫黄蒸気を発
生させて該第1原料ガスを作る第1原料ガス発生装置
と、 加熱手段と、該第1原料ガス導出口と連結する第1原料
ガス導入口と、硫化珪素ガスを含む第2原料ガスを導出
する第2原料ガス導出口とを有し、内部に配置された珪
素金属粉末を加熱するとともに、該第1原料ガス中の該
硫黄蒸気と加熱された該珪素金属とを反応させて硫化珪
素を合成して第2原料ガスを作る第2原料ガス発生装置
と、 加熱手段と、該第2原料ガス導出口と連結する第2原料
ガス導入口と、硫黄等を含む排気ガスを導出する排気ガ
ス導出口と、炭化水素を導入する炭化水素導入口とを有
し、該第2原料ガスと該炭化水素を含む第3原料ガスと
を混合し該硫化珪素ガスと該炭化水素とを反応させて炭
化珪素とするとともに炭化珪素ウイスカを作る炭化珪素
ウイスカ合成装置と、 を有することを特徴とする炭化珪素ウイスカの製造装
置。
6. A heating means, a carrier gas inlet, and a first raw material gas outlet for discharging a first raw material gas containing sulfur vapor, which heats the sulfur arranged inside to generate sulfur vapor. A first raw material gas generator for producing the first raw material gas, heating means, a first raw material gas inlet connected to the first raw material gas outlet, and a second raw material gas containing silicon sulfide gas And a second source gas outlet port for heating the silicon metal powder disposed inside, and reacting the sulfur vapor in the first source gas with the heated silicon metal to generate silicon sulfide. A second raw material gas generator that synthesizes the second raw material gas, a heating means, a second raw material gas inlet connected to the second raw material gas outlet, and an exhaust gas that exhausts an exhaust gas containing sulfur or the like And a hydrocarbon introduction port for introducing hydrocarbons. A silicon carbide whisker synthesizing apparatus for mixing a source gas and a third source gas containing the hydrocarbon to react the silicon sulfide gas with the hydrocarbon to form silicon carbide and to produce a silicon carbide whisker. Characteristic silicon carbide whisker manufacturing equipment.
【請求項7】炭化珪素ウイスカ製造装置から排出される
排気ガスを融点(113℃)以下に冷却する冷却手段を
具備し、該硫黄蒸気を固化して分離する硫黄分離装置を
有する特許請求の範囲第6項記載の炭化珪素ウイスカの
製造方法。
7. A sulfur separator provided with a cooling means for cooling the exhaust gas discharged from the silicon carbide whisker manufacturing apparatus to a melting point (113 ° C.) or less and for solidifying and separating the sulfur vapor. A method for producing a silicon carbide whisker according to item 6.
【請求項8】炭化珪素ウイスカ製造装置から連続的に排
出される排気ガスを第1原料ガス発生装置へ戻すための
排ガス再利用装置を有する特許請求の範囲第6項記載の
炭化珪素ウイスカの製造装置。
8. The production of a silicon carbide whisker according to claim 6, further comprising an exhaust gas re-use device for returning exhaust gas continuously discharged from the silicon carbide whisker production device to the first raw material gas generation device. apparatus.
【請求項9】第1原料ガス発生装置内へキャリアガスを
供給するためのキャリアガス供給装置を有する特許請求
の範囲第6項記載の炭化珪素ウイスカの製造装置。
9. The apparatus for manufacturing a silicon carbide whisker according to claim 6, further comprising a carrier gas supply device for supplying a carrier gas into the first source gas generation device.
【請求項10】炭化珪素ウイスカ合成装置内へ炭化水素
を供給するための炭化水素供給装置を有する特許請求の
範囲第6項記載の炭化珪素ウイスカの製造装置。
10. The apparatus for manufacturing a silicon carbide whisker according to claim 6, further comprising a hydrocarbon supply device for supplying a hydrocarbon into the silicon carbide whisker synthesizer.
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