JPH06130426A - Moisturized tungsten oxide film, its manufacture, and electrochromic element - Google Patents

Moisturized tungsten oxide film, its manufacture, and electrochromic element

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JPH06130426A
JPH06130426A JP4300673A JP30067392A JPH06130426A JP H06130426 A JPH06130426 A JP H06130426A JP 4300673 A JP4300673 A JP 4300673A JP 30067392 A JP30067392 A JP 30067392A JP H06130426 A JPH06130426 A JP H06130426A
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JP
Japan
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tungsten oxide
substrate
oxide film
moisturized
hydrogen peroxide
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JP4300673A
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Japanese (ja)
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Fumiaki Taho
文明 田甫
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Fuji Xerox Co Ltd
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a moisturized tungsten oxide film which is even in film thickness and large in adhesive strength with a substrate, provide a production method for moisturized tungsten oxide film which is excellent in productivity and free from danger in dissolving operation, and also provide an electrochromic element which is excellent in responsiveness of coloring and discoloring. CONSTITUTION:A moisturized tungsten oxide film is made by heating a film of reactant of tungstic acid with hydrogen peroxide water formed on a substrate. After a composition containing a reactant of tungstic acid with hydrogen peroxide water is applied on a substrate made of ITO coated glass, NESA glass, etc., it is heated at a temperature of 50 to 200 deg.C for production. The moisturized tungsten oxide film formed on the substrate is utilized as an electrochromic element.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、含水酸化タングステン
被膜、その製造方法およびそれを利用したエレクトロク
ロミック素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hydrous tungsten oxide film, a method for producing the same, and an electrochromic device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、表示素子、光変調素子等の電子装
置に用いられているエレクトロクロミック金属酸化物被
膜は、真空蒸着法により形成するのが一般的であった。
しかしながら、この方法では、設備が高価であり、ま
た、生産性が低いという問題があり、また、量産性、簡
便さに欠け、必ずしも優れた方法とはいいがたい面を有
していた。また、製造設備の安価な塗布技術を用いて薄
膜状の含水金属酸化物を製造する方法として、金属また
は金属炭化物を過酸化水素水に溶解して、塗布、加熱す
ることにより分解させ、相当する含水金属酸化物等の薄
膜を得る方法が提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, electrochromic metal oxide films used in electronic devices such as display devices and light modulation devices have generally been formed by a vacuum deposition method.
However, this method has a problem that the equipment is expensive and the productivity is low, and it lacks mass productivity and convenience, so that it is not always an excellent method. Further, as a method for producing a thin film hydrous metal oxide by using an inexpensive coating technique of a manufacturing facility, a metal or metal carbide is dissolved in hydrogen peroxide solution, decomposed by coating and heating, A method for obtaining a thin film of hydrous metal oxide has been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来提
案されている技術は、過酸化水素水中への溶解時に急激
な反応が起こる等、溶解作業中の危険性や、エレクトロ
クロミック素子の発色および消色時の応答性等の点で、
必ずしも満足するものではなかった。本発明は、従来の
技術における上記のような実情に鑑みてなされたもので
ある。 したがって、本発明の目的は、被膜が均一であ
り、基板との密着強度が大きい含水酸化タングステン被
膜を提供することにある。本発明の他の目的は、生産性
に優れ、溶解作業中の危険性がない含水酸化タングステ
ン被膜の製造方法を提供することにある。本発明のさら
に他の目的は、発色および消色時の応答性が良好なエレ
クトロクロミック素子を提供することにある。
However, the techniques proposed hitherto are the dangers during dissolution work, such as a rapid reaction occurring during dissolution in hydrogen peroxide water, and the coloring and decoloring of electrochromic devices. In terms of time responsiveness,
I was not always satisfied. The present invention has been made in view of the above-mentioned actual situation in the conventional technique. Therefore, an object of the present invention is to provide a hydrous tungsten oxide coating having a uniform coating and a high adhesion strength with a substrate. Another object of the present invention is to provide a method for producing a hydrous tungsten oxide coating which is excellent in productivity and has no danger during a melting operation. Still another object of the present invention is to provide an electrochromic device having good responsiveness during color development and color erasing.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々検討
した結果、ある特定のタングステン酸の可溶化物を加熱
処理することにより、上記目的が達成されることを見出
し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の含
水酸化タングステン被膜は、基板上に形成されたタング
ステン酸と過酸化水素水との反応物の被膜を加熱するこ
とによって作製されたことを特徴とする。また、本発明
の含水酸化タングステン被膜の製造方法は、基体上に、
タングステン酸と過酸化水素水との反応物を含有する組
成物を塗布した後、加熱することを特徴とする。さら
に、本発明のエレクトロクロミック素子膜は、基板上
に、上記の含水酸化タングステン被膜を設けてなること
を特徴とする。
As a result of various investigations, the present inventors have found that the above object can be achieved by heat-treating a specific solubilized product of tungstic acid, and completed the present invention. Came to do. That is, the hydrous tungsten oxide coating of the present invention is characterized by being produced by heating the coating of the reaction product of tungstic acid and hydrogen peroxide solution formed on the substrate. Further, the method for producing a hydrous tungsten oxide coating of the present invention comprises:
The composition is characterized in that it is heated after applying a composition containing a reaction product of tungstic acid and hydrogen peroxide solution. Further, the electrochromic device film of the present invention is characterized in that the above hydrous tungsten oxide film is provided on a substrate.

【0005】以下、本発明の詳細について説明する。本
発明の含水酸化タングステン被膜を製造するためには、
まず、タングステン酸と過酸化水素水との反応物を含有
する組成物を基板上に塗布する。組成物に使用される溶
剤としては、上記タングステン酸と過酸化水素水との反
応物を溶解する能力があるものであれば、如何なるもの
でも使用することができる。例えば、水、およびメタノ
ール、エタノールなどのアルコール類等が使用できる。
これ等の溶媒は、単独または2種以上混合して使用して
もよい。本発明において、上記組成物には、さらに添加
剤を添加することができる。例えば、モノラウリンなど
の界面改質剤を添加することができる。また、増粘して
ペースト状のものを得る場合には、添加剤として増粘剤
を使用するのが好ましく、例えば、ポリビニルアルコー
ルなどの公知の高分子物質を使用することができる。
The details of the present invention will be described below. In order to produce the hydrous tungsten oxide coating of the present invention,
First, a composition containing a reaction product of tungstic acid and hydrogen peroxide solution is applied onto a substrate. As the solvent used in the composition, any solvent can be used as long as it has the ability to dissolve the reaction product of the tungstic acid and aqueous hydrogen peroxide. For example, water and alcohols such as methanol and ethanol can be used.
You may use these solvents individually or in mixture of 2 or more types. In the present invention, an additive may be further added to the above composition. For example, an interfacial modifier such as monolaurin can be added. Further, in the case of thickening to obtain a paste, it is preferable to use a thickener as an additive, and for example, a known polymer substance such as polyvinyl alcohol can be used.

【0006】上記の組成物は、適当な基材の上に塗布さ
れるが、基材としては、例えば、エレクトロクロミック
素子として利用する場合には、ITOコートガラス、N
ESAガラスなどの透明導電性ガラスや、アルミニウ
ム、ステンレス鋼等の金属基板が使用される。また、塗
布方法としては、上記組成物が液状の場合は、例えば、
ロールコート法またはディップ塗布法が好ましく使用で
きる。また、組成物がペースト状の場合には、例えば、
スピンコート法またはスクリーン印刷法が好ましく使用
できる。また、上記組成物をインクジェット法のような
直接描画法を用いて基板上に被着させることもできる。
The above composition is applied onto a suitable substrate. As the substrate, for example, when it is used as an electrochromic device, ITO-coated glass, N is used.
Transparent conductive glass such as ESA glass or a metal substrate such as aluminum or stainless steel is used. Further, as a coating method, when the composition is in a liquid state, for example,
A roll coating method or a dip coating method can be preferably used. Further, when the composition is a paste, for example,
A spin coating method or a screen printing method can be preferably used. Also, the composition can be deposited on the substrate by a direct drawing method such as an inkjet method.

【0007】次いで、基板上に塗布または被着により形
成された被膜を、加熱処理する。それにより、タングス
テン酸と過酸化水素水との反応物が熱分解して、含水酸
化タングステン被膜が形成される。加熱処理温度は、通
常50℃〜200℃であり、好ましくは100℃〜15
0℃である。また、過熱処理時間は、10分〜300分
であり、好ましくは60分〜120分である。上記のよ
うにして作製された含水酸化タングステン被膜は、エレ
クトロクロミック素子として利用することができる。す
なわち、含水酸化タングステン被膜が形成されたITO
コートガラス或いはNESAガラス等は、エレクトロク
ロミックセルにおけるエレクトロクロミック素子として
利用することができる。
Next, the coating film formed on the substrate by application or deposition is heat-treated. As a result, the reaction product of tungstic acid and hydrogen peroxide solution is thermally decomposed to form a hydrous tungsten oxide film. The heat treatment temperature is usually 50 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C to 15 ° C.
It is 0 ° C. The superheat treatment time is 10 minutes to 300 minutes, preferably 60 minutes to 120 minutes. The hydrous tungsten oxide coating film produced as described above can be used as an electrochromic device. That is, ITO having a hydrous tungsten oxide coating formed thereon
Coated glass or NESA glass can be used as an electrochromic element in an electrochromic cell.

【0008】次に、本発明のエレクトロクロミック素子
を利用したエレクトロクロミックセルについて説明す
る。エレクトロクロミックセルにおいて、エレクトロク
ロミック素子の対向電極としては、例えば、ITOコー
トガラス、NESAガラス、金属基板、またはそれ等の
基材上にCrOx 、MnOx 、CoOx 、NiO、Ir
x 、RhOx 、プルシアンブルー等を被覆したものを
使用することができる。また、エレクトロクロミック素
子と対向電極との間のギャップに充填させる電解質とし
ては、例えば、プロピレンカーボネートまたはポリエチ
レンオキサイドにLiClO4 、LiBF4 、テトラブ
チルアンモニウムパークロレート、テトラブチルアンモ
ニウムテトラフルオロボレート等の塩を溶解した溶液型
のもの、アルキルアルコール等によう化リチウム等の塩
とポリビニルブチラール等の高分子物質を溶解させた高
分子半固体型のもの、酸化ジルコニウム等の固体型のも
の等を用いることができる。
Next, an electrochromic cell using the electrochromic device of the present invention will be described. In the electrochromic cell, the counter electrode of the electrochromic device is, for example, ITO coated glass, NESA glass, a metal substrate, or a substrate thereof such as CrO x , MnO x , CoO x , NiO, Ir.
Those coated with O x , RhO x , Prussian blue, etc. can be used. Further, as the electrolyte to be filled in the gap between the electrochromic element and the counter electrode, for example, a salt of propylene carbonate or polyethylene oxide such as LiClO 4 , LiBF 4 , tetrabutylammonium perchlorate or tetrabutylammonium tetrafluoroborate. It is possible to use a dissolved solution type, a polymer semi-solid type in which a salt such as lithium iodide such as alkyl alcohol and a polymeric substance such as polyvinyl butyral is dissolved, a solid type such as zirconium oxide, etc. it can.

【0009】[0009]

【作用】本発明のエレクトロクロミック素子は、真空蒸
着法で作製した従来のエレクトロクロミック素子に比べ
て、発色および消色時の応答性が良好であるという利点
を有している。その原因は明確ではないが、含水酸化タ
ングステン被膜の発色部位の活性が高くなっている、若
しくは、三次元構造が発色性に関与しているリチウムイ
オン等の出入りに適した構造になっているものと推測さ
れる。
The electrochromic device of the present invention has an advantage that the responsiveness at the time of coloring and decoloring is excellent as compared with the conventional electrochromic device produced by the vacuum deposition method. Although the cause is not clear, the activity of the coloring site of the hydrous tungsten oxide coating is high, or the structure is suitable for the entry and exit of lithium ions whose three-dimensional structure is involved in coloring. Presumed to be.

【0010】[0010]

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
する。 合成例1 (タングステン酸と過酸化水素水との反応物溶液の調
製)水20mlに30%過酸化水素水20mlを加え、
さらにタングステン酸4.0gを加えた。10分間攪拌
し、溶解させた後、白金黒10mgを加えて、過剰の過
酸化水素水を分解した。この溶液を0.45μmのフィ
ルターで濾過して、タングステン酸と過酸化水素水との
反応物溶液を得た。 合成例2 合成例1で得られた反応物溶液18.6gにポリビニル
アルコール1.4gを溶解した以外は、同様にして反応
物含有組成物を調製した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. Synthesis Example 1 (Preparation of Reaction Product Solution of Tungstic Acid and Hydrogen Peroxide) To 20 ml of water was added 20 ml of 30% hydrogen peroxide,
Further, 4.0 g of tungstic acid was added. After stirring and dissolving for 10 minutes, 10 mg of platinum black was added to decompose excess hydrogen peroxide solution. This solution was filtered through a 0.45 μm filter to obtain a reaction product solution of tungstic acid and hydrogen peroxide solution. Synthesis Example 2 A reaction product-containing composition was prepared in the same manner except that 1.4 g of polyvinyl alcohol was dissolved in 18.6 g of the reaction product solution obtained in Synthesis Example 1.

【0011】実施例1 基板として、ITOコートガラスを用い、合成例1で得
た反応物溶液を、基板上にスピンコーターを用いて塗布
した。塗布後、乾燥器において120℃で1時間加熱処
理して、基板上に含水タングステン被膜を形成した。形
成された含水タングステン被膜の膜厚は0.3μmであ
った。上記のようにして作製された含水酸化タングステ
ン被膜を有するITOコートガラスに対して、対向電極
として、NiO膜を形成させたITOコートガラスを2
0μmのギャップが生じるように配設し、電解質として
1mol/リットルの濃度を有するLiClO4 のプロ
ピレンカーボネート溶液を用いて、エレクトロクロミッ
クセルを作製した。このエレクトロクロミックセルの含
水酸化タングステン被膜を負極として、直流1.5Vを
印加したところ、エレクトロクロミック素子は黒青色に
変化し、電圧印加0.2秒後、700nmの吸光度変化
は、0.4であった。極性を逆にして1.5Vを印加し
たところ、0.1秒で黒青色は消えた。また、この発色
および消色操作は、繰り返し行うことができた。
Example 1 ITO coated glass was used as a substrate, and the reactant solution obtained in Synthesis Example 1 was applied onto the substrate using a spin coater. After coating, heat treatment was performed in a dryer at 120 ° C. for 1 hour to form a hydrous tungsten coating on the substrate. The film thickness of the formed hydrous tungsten film was 0.3 μm. In contrast to the ITO-coated glass having the hydrous tungsten oxide coating produced as described above, 2 pieces of ITO-coated glass having a NiO film formed thereon as a counter electrode are used.
An electrochromic cell was prepared using a propylene carbonate solution of LiClO 4 having a concentration of 1 mol / liter, which was arranged so as to form a gap of 0 μm. When a direct current of 1.5 V was applied using the hydrous tungsten oxide film of this electrochromic cell as a negative electrode, the electrochromic element changed to black blue, and after 0.2 seconds of voltage application, the change in absorbance at 700 nm was 0.4. there were. When the polarity was reversed and 1.5 V was applied, the black-blue color disappeared in 0.1 seconds. In addition, the coloring and erasing operations could be repeated.

【0012】実施例2 実施例1と同様にして形成した含水酸化タングステン被
膜を有するITOコートガラスに対して、対向電極とし
て、ITOコートガラスを20μmのギャップが生じる
ように配設し、電解質として、下記組成の高分子半固体
電解質を用いてエレクトロクロミックセルを作製した。 よう化リチウム 47mg 2,3−ジメルカプト−1−プロパノール 870mg トリブロモ酢酸 1.04g ポリビニルブチラール 25g ブタノール 69ml このエレクトロクロミックセルの含水酸化タングステン
被膜を負極として、直流1.2Vを印加したところ、エ
レクトロクロミック素子は青色に変化し、電圧印加0.
2秒後、700nmの吸光度変化は、0.5であった。
極性を逆にして1.2Vを印加したところ、0.1秒で
青色は消えた。また、この発色および消色操作は、繰り
返し行うことができた。
Example 2 ITO coated glass having a hydrous tungsten oxide coating formed in the same manner as in Example 1 was provided with ITO coated glass as a counter electrode so that a gap of 20 μm was formed, and as an electrolyte, An electrochromic cell was produced using a polymer semi-solid electrolyte having the following composition. Lithium iodide 47 mg 2,3-dimercapto-1-propanol 870 mg Tribromoacetic acid 1.04 g Polyvinyl butyral 25 g Butanol 69 ml When a hydrous tungsten coating of this electrochromic cell was used as a negative electrode, a direct current of 1.2 V was applied. The color changed to blue and the voltage was applied.
After 2 seconds, the change in absorbance at 700 nm was 0.5.
When the polarity was reversed and 1.2 V was applied, the blue color disappeared in 0.1 seconds. In addition, the coloring and erasing operations could be repeated.

【0013】実施例3 基板として、ITOコートガラスの上に、合成例2で調
製した反応物含有組成物を、400メッシュのスクリー
ンを用いて印刷法により塗布した。塗布後、乾燥器にお
いて100℃で2時間加熱処理して、基板上に含水タン
グステン被膜を形成した。形成された含水タングステン
被膜の膜厚は0.4μmであった。上記のようにして作
製された含水酸化タングステン被膜を有するITOコー
トガラスに対して、対向電極として、ITOコートガラ
スを20μmのギャップが生じるように配設し、電解質
として1mol/リットルの濃度を有するLiClO4
のプロピレンカーボネート溶液を用いて、エレクトロク
ロミックセルを作製した。このエレクトロクロミックセ
ルの含水酸化タングステン被膜を負極として、直流2V
を印加したところ、エレクトロクロミック素子は青色に
変化し、電圧印加0.3秒後、700nmの吸光度変化
は、0.4であった。極性を逆にして2Vを印加したと
ころ、0.1秒で青色は消えた。また、この発色および
消色操作は、繰り返し行うことができた。
Example 3 As a substrate, the reactant-containing composition prepared in Synthesis Example 2 was applied onto ITO-coated glass by a printing method using a 400-mesh screen. After coating, heat treatment was performed in a dryer at 100 ° C. for 2 hours to form a hydrous tungsten coating on the substrate. The film thickness of the formed hydrous tungsten film was 0.4 μm. With respect to the ITO-coated glass having the hydrous tungsten oxide coating produced as described above, the ITO-coated glass was arranged as a counter electrode so that a gap of 20 μm was formed, and LiClO having a concentration of 1 mol / l as an electrolyte. Four
An electrochromic cell was prepared using the propylene carbonate solution of. Using the hydrous tungsten oxide film of this electrochromic cell as the negative electrode, direct current 2V
Was applied, the electrochromic element changed to blue, and the change in absorbance at 700 nm was 0.4 after 0.3 seconds from application of voltage. When 2 V was applied with the polarity reversed, the blue color disappeared in 0.1 seconds. In addition, the coloring and erasing operations could be repeated.

【0014】比較例1 真空蒸着法を用いてITOコートガラス上に膜厚0.3
μmの酸化タングステン被膜を形成した。この酸化タン
グステン被膜を有するITOコートガラスに対して、対
向電極として、NiO膜を形成させたITOコートガラ
スを20μmのギャップが生じるように配設し、電解質
として1mol/リットルの濃度を有するLiClO4
のプロピレンカーボネート溶液を用いて、エレクトロク
ロミックセルを作製した。このエレクトロクロミックセ
ルの酸化タングステン被膜を負極として、直流1.5V
を印加したところ、エレクトロクロミック素子は黒青色
に変化し、電圧印加0.6秒後、700nmの吸光度変
化は、0.4であった。極性を逆にして1.5Vを印加
したところ、0.5秒で黒青色は消えた。
Comparative Example 1 A film thickness of 0.3 was formed on an ITO-coated glass by using a vacuum evaporation method.
A μm tungsten oxide film was formed. With respect to the ITO-coated glass having the tungsten oxide coating, an ITO-coated glass having a NiO film formed thereon was arranged as a counter electrode so that a gap of 20 μm was formed, and LiClO 4 having a concentration of 1 mol / liter was used as an electrolyte.
An electrochromic cell was prepared using the propylene carbonate solution of. With the tungsten oxide film of this electrochromic cell as the negative electrode, direct current 1.5 V
When the voltage was applied, the electrochromic element changed to black blue, and the change in absorbance at 700 nm was 0.4 after a voltage application of 0.6 seconds. When 1.5 V was applied with the polarity reversed, the black-blue color disappeared in 0.5 seconds.

【0015】比較例2 水20mlに30%過酸化水素水20mlを加え、氷冷
した。さらに金属タングステン6.4gを1時間おきに
8回に分けて加えた。15時間攪拌し、溶解した後、白
金黒10mgを加えて、過剰の過酸化水素水を分解し
た。この溶液を0.45μmのフィルターで濾過して、
タングステン酸と過酸化水素水との反応物溶液を得た。
なお、上記の場合、金属タングステンを徐々に加えたの
は、爆発的な反応を防止する為であり、一時に加える
と、大量の泡発生と共に、溶液が溢れる恐れがあったか
らである。このようにして調製した溶液を、基板として
ITOコートガラスを用い、その上にスピンコーターを
用いて塗布した。塗布後、乾燥器において120℃で1
時間加熱処理して、基板上に含水タングステン被膜を形
成した。形成された含水タングステン被膜の膜厚は0.
3μmであった。上記のようにして作製された含水酸化
タングステン被膜を有するITOコートガラスに対し
て、対向電極として、NiO膜を形成させたITOコー
トガラスを20μmのギャップが生じるように配設し、
電解質として1mol/リットルの濃度を有するLiC
lO4 のプロピレンカーボネート溶液を用いて、エレク
トロクロミックセルを作製した。このエレクトロクロミ
ックセルの含水酸化タングステン被膜を負極として、直
流1.5Vを印加したところ、エレクトロクロミック素
子は黒青色に変化し、電圧印加0.8秒後、700nm
の吸光度変化は、0.3であった。極性を逆にして1.
5Vを印加したところ、0.6秒で黒青色は消えた。
Comparative Example 2 20 ml of 30% hydrogen peroxide solution was added to 20 ml of water, and the mixture was ice-cooled. Further, 6.4 g of metallic tungsten was added every 1 hour in 8 batches. After stirring and dissolving for 15 hours, 10 mg of platinum black was added to decompose excess hydrogen peroxide solution. Filter this solution through a 0.45 μm filter,
A reaction solution of tungstic acid and hydrogen peroxide solution was obtained.
In the above case, the reason for gradually adding metallic tungsten is to prevent an explosive reaction, and if added at one time, a large amount of bubbles might be generated and the solution might overflow. The solution thus prepared was coated on the ITO-coated glass as a substrate by using a spin coater. After application, 1 at 120 ° C in a dryer
After heat treatment for a period of time, a hydrous tungsten film was formed on the substrate. The formed hydrous tungsten film has a thickness of 0.
It was 3 μm. With respect to the ITO-coated glass having the hydrous tungsten oxide coating produced as described above, an ITO-coated glass having a NiO film formed thereon was disposed as a counter electrode so that a gap of 20 μm was formed,
LiC having a concentration of 1 mol / liter as an electrolyte
An electrochromic cell was prepared using a propylene carbonate solution of 10 4 . When a direct current of 1.5 V was applied using the hydrous tungsten oxide coating of this electrochromic cell as a negative electrode, the electrochromic element changed to black blue, and 700 nm after voltage application for 0.8 seconds.
The change in absorbance was 0.3. Reverse the polarity 1.
When 5 V was applied, the black blue color disappeared in 0.6 seconds.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明の含水酸化タングステン被膜は、
被膜が均一で、基板との密着強度が大きく、発色および
消色時の応答性が良好なエレクトロクロミック素子とし
て利用することができる。また、本発明の含水酸化タン
グステン被膜の製造方法は、生産性に優れ、溶解作業中
に危険性がないという利点がある。そして、本発明のエ
レクトロクロミック素子は、上記実施例と比較例の比較
から明らかなように、真空蒸着法で作製した従来のエレ
クトロクロミック素子に比べて、発色および消色時の応
答性が良好である。
The hydrous tungsten oxide coating of the present invention comprises:
It can be used as an electrochromic device having a uniform coating film, a high adhesion strength with a substrate, and a good responsiveness at the time of coloring and erasing. Further, the method for producing a hydrous tungsten oxide coating film of the present invention has the advantages of excellent productivity and no danger during the melting operation. Then, the electrochromic device of the present invention, as is clear from the comparison of the above-mentioned example and the comparative example, has a good response at the time of coloring and erasing, as compared with the conventional electrochromic device produced by the vacuum deposition method. is there.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成されたタングステン酸と過
酸化水素水との反応物の被膜を加熱することによって作
製された含水酸化タングステン被膜。
1. A hydrous tungsten oxide coating film produced by heating a coating film of a reaction product of tungstic acid and hydrogen peroxide solution formed on a substrate.
【請求項2】 基体上に、タングステン酸と過酸化水素
水との反応物を含有する組成物を塗布した後、加熱する
ことを特徴とする含水酸化タングステン被膜の製造方
法。
2. A method for producing a hydrous tungsten oxide coating, which comprises applying a composition containing a reaction product of tungstic acid and aqueous hydrogen peroxide onto a substrate and then heating the composition.
【請求項3】 基板上に、請求項1記載の含水酸化タン
グステン被膜を設けてなることを特徴とするエレクトロ
クロミック素子。
3. An electrochromic device comprising a substrate and the hydrous tungsten oxide film according to claim 1 provided on the substrate.
JP4300673A 1992-10-14 1992-10-14 Moisturized tungsten oxide film, its manufacture, and electrochromic element Pending JPH06130426A (en)

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