JPH06130218A - Color filter and liquid crystal display device - Google Patents

Color filter and liquid crystal display device

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JPH06130218A
JPH06130218A JP28120992A JP28120992A JPH06130218A JP H06130218 A JPH06130218 A JP H06130218A JP 28120992 A JP28120992 A JP 28120992A JP 28120992 A JP28120992 A JP 28120992A JP H06130218 A JPH06130218 A JP H06130218A
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JP
Japan
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color filter
substrate
liquid crystal
black matrix
crystal display
Prior art date
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Application number
JP28120992A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Base
章 馬瀬
Daisuke Miyazaki
大輔 宮崎
Sakae Kimura
栄 木村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide the color filter with which a beautiful display screen free from unequalnes is obtd. and the liquid crystal display device. CONSTITUTION:Plural colored layers 3 are formed on a light transparent substrate 1 and further, striped photosensitive resists 2 are provided between these colored layers 3. These resists 2 are formed to the thickness equal to the thickness of the colored layers 3. This liquid crystal display device has the first substrate 1, a second substrate which is disposed to face the first substrate 1 via a prescribed spacing and having at least the electrode and the black matrix 9 on the opposite side and a liquid crystal 12 clamped in this spacing. The first substrate is the color filter 4 and the resists 2 of the color filter 4 exist in the positions corresponding to the positions of the black matrix 9. The width of the resists 2 is narrower than the width of the black matrix 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えばフルカラ−表
示の可能な液晶表示装置等に使用されるカラ−フィルタ
およびそれを用いた液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used in a liquid crystal display device capable of full color display and a liquid crystal display device using the color filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に液晶表示装置は、携帯用コンピュ
−タ,ワ−ドプロセッサ等のディスプレイや薄型テレビ
等に使用されており、近年ではフルカラ−表示の可能な
ものも登場してきている。フルカラ−液晶表示装置の需
要は急速に伸長しており、これに伴なって液晶表示装置
の低価格化や大面積化、高品位化が進められている。
2. Description of the Related Art Generally, liquid crystal display devices are used for displays such as portable computers and word processors, and flat-screen televisions. In recent years, full-color display devices have been introduced. The demand for full-color liquid crystal display devices is rapidly growing, and along with this, the price reduction, large area, and high quality of liquid crystal display devices are being promoted.

【0003】ところで、アクティブマトリクス型駆動方
式の1方式である薄膜トランジスタを用いたアクティブ
マトリクス方式のフルカラ−液晶表示装置は、内側に個
別電極が設けられた透明基板と、カラ−フィルタの内側
に透明保護膜,透明電極および配向膜が順に積層形成さ
れたものとの間に、液晶が充填されている。更に、透明
基板とカラ−フィルタのそれぞれ外側に偏光板が配置さ
れている。
By the way, an active matrix type full color liquid crystal display device using a thin film transistor, which is one type of active matrix type driving system, has a transparent substrate provided with individual electrodes inside and a transparent protection inside a color filter. Liquid crystal is filled between the film, the transparent electrode, and the alignment film, which are sequentially stacked. Further, polarizing plates are arranged outside the transparent substrate and the color filter, respectively.

【0004】そして、上記のカラ−フィルタは、透明基
板上に所定のパタ−ンを有する光線遮断層即ちブラック
マトリクスが設けられ、このブラックマトリクスの間隙
部に画素部となるR・G・Bの透明着色層が形成されて
なっている。
In the above color filter, a light blocking layer having a predetermined pattern, that is, a black matrix is provided on a transparent substrate, and R, G, and B, which become pixel portions, are provided in the gaps of the black matrix. A transparent colored layer is formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のカ
ラ−フィルタを製造する方法の1つとして印刷法があ
る。この印刷法は、ガラス等の透明基板の表面に、顔料
および樹脂溶剤中に分散させた着色インクを、所定パタ
−ンに印刷する方法であり、低コスト化,量産性に富む
製造方法である。
A printing method is one of the methods for manufacturing the conventional color filter as described above. This printing method is a method of printing a colored ink dispersed in a pigment and a resin solvent in a predetermined pattern on the surface of a transparent substrate such as glass, and is a manufacturing method with low cost and high mass productivity. .

【0006】即ち、この印刷法は、R,G,Bの着色イ
ンクを円圧式の転写用ブランケットを装着した凹版オフ
セット印刷機により、透明基板上に所望パタ−ン状に印
刷する。この時の着色インク被膜は、粘性により被膜面
が各色の画素内で円弧状になる。つまり、各着色インク
被膜の境界付近で膜厚が最小となり、中央部で膜厚が最
大となる。
That is, in this printing method, R, G, and B color inks are printed in a desired pattern on a transparent substrate by an intaglio offset printing machine equipped with a pressure transfer blanket. At this time, the colored ink coating film has an arcuate surface in the pixel of each color due to viscosity. That is, the film thickness is minimum near the boundary of each colored ink coating film and is maximum in the central portion.

【0007】更に、ここで、このような着色インク被膜
面を平滑化するために、ラッピングフィルムによる研磨
や、ゴム又は鏡面仕上げした金属性ロ−ラでの加熱・加
圧が行なわれる。これにより平坦性は向上するが、エッ
ジのうねりが生じることがあり、これがムラとなる場合
がある。
Further, here, in order to smooth such a colored ink film surface, polishing with a wrapping film and heating / pressurizing with a rubber or a mirror-finished metallic roller are performed. This improves the flatness, but may cause waviness at the edges, which may cause unevenness.

【0008】ところで近年、セットの省電力,軽量化の
要求により一層の開口率向上が望まれている。これに対
応する液晶デバイスの構造として、薄膜トランジスタ
(TFT)を形成したアレイ基板側に光遮蔽膜(以下、
ブラックマトリクスと記す)を配置することによって、
このブラックマトリクスの線幅をより細くし開口率を上
げる方式が提案されている。この場合、アレイ基板側の
ブラックマトリクスの線幅をdμmとすると、カラ−フ
ィルタの着色層は、実質(d−α)μmの仮想ブラック
マトリクスに形成されると考えねばならない。ここで、
αとはアレイ基板とカラ−フィルタの合わせ精度のこと
であり、セル組立て精度、アレイ基板側のブラックマト
リクス・パタ−ンとカラ−フィルタ側の着色層・パタ−
ンのト−タルピッチ差、ブラックマトリクスの線幅精度
等から決まる値である。発明者の計算では、液晶モジュ
−ルの対角サイズをβインチとした場合、αは 0.39β−0.56≦α≦0.39β+9.44 の範囲にある。
By the way, in recent years, further improvement of the aperture ratio is desired due to the demand for power saving and weight saving of the set. As a structure of a liquid crystal device corresponding to this, a light shielding film (hereinafter,
By placing a black matrix)
A method has been proposed in which the line width of the black matrix is made narrower to increase the aperture ratio. In this case, if the line width of the black matrix on the array substrate side is dμm, it must be considered that the colored layer of the color filter is formed as a virtual black matrix of substantially (d−α) μm. here,
α is the accuracy of alignment between the array substrate and the color filter. The cell assembly accuracy, the black matrix pattern on the array substrate side and the colored layer / pattern on the color filter side.
This is a value determined by the total pitch difference of the black matrix and the line width accuracy of the black matrix. According to the calculation by the inventor, when the diagonal size of the liquid crystal module is β inches, α is in the range of 0.39β−0.56 ≦ α ≦ 0.39β + 9.44.

【0009】カラ−フィルタの製造に当たっては、アレ
イ基板との合わせ精度について、今まで以上の精度が要
求されるが、印刷法では着色層を形成した場合、上記の
理由によりムラの発生が大きな問題となってきている。
In the manufacture of the color filter, the accuracy of alignment with the array substrate is required to be higher than ever, but when the colored layer is formed by the printing method, unevenness is a serious problem due to the above reasons. Is becoming.

【0010】この発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、ムラのない綺麗な表示画面を得ることが出来るカラ
−フィルタおよび液晶表示装置を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a color filter and a liquid crystal display device capable of obtaining a beautiful display screen without unevenness.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明は、光透過性基
板上に複数の着色層が形成されてなり、更にこの着色層
間にストライプ状の感光性レジストが設けられ、このレ
ジストの厚さが着色層の厚さと同等の厚さであるカラ−
フィルタである。
According to the present invention, a plurality of colored layers are formed on a light transmissive substrate, and a stripe-shaped photosensitive resist is provided between the colored layers. Color that is as thick as the colored layer
It is a filter.

【0012】又、この発明は、第1の基板と、この第1
の基板と所定の間隙を介して対向配置されると共に対向
面側に少なくとも電極およびブラックマトリクスを有す
る第2の基板と、間隙に挾持された液晶とを具備し、第
1の基板は上記のカラ−フィルタであり、このカラ−フ
ィルタのレジストはブラックマトリクスの位置と対応し
た位置にあり、且つこのレジストの幅はブラックマトリ
クスの幅よりも狭い液晶表示装置である。
The present invention also provides a first substrate and the first substrate.
A second substrate, which is arranged to face the substrate of FIG. 2 through a predetermined gap and has at least an electrode and a black matrix on the facing surface side, and a liquid crystal held in the gap, and the first substrate is the above-mentioned color substrate. A filter, the resist of this color filter is at a position corresponding to the position of the black matrix, and the width of this resist is a liquid crystal display device narrower than the width of the black matrix.

【0013】[0013]

【作用】この発明によれば、円弧状の着色層を端部のう
ねりを生じさせることなく平坦化が可能となり、ムラの
ないカラ−フィルタが得られ、このカラ−フィルタを液
晶表示装置に使用した場合、セル組立て後の欠陥の発生
を防ぐことが出来る。
According to the present invention, the arc-shaped colored layer can be flattened without causing undulations at the ends, and a color filter having no unevenness can be obtained. The color filter is used in a liquid crystal display device. In this case, it is possible to prevent the occurrence of defects after cell assembly.

【0014】[0014]

【実施例】以下、図面を参照して、この発明の一実施例
を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0015】この発明によるカラ−フィルタは図1
(d)に示すように構成され、光透過性基板である透明
基板1上に複数の画素部となる赤(R),緑(G),青
(B)の透明な着色層3が所定間隔で形成されている。
そして、各着色層3の間に、それぞれストライプ状の感
光性レジスト2が設けられ、このレジスト2の厚さが着
色層3の厚さと同等の厚さに設定されている。
The color filter according to the present invention is shown in FIG.
The transparent colored layers 3 of red (R), green (G), and blue (B), which are configured as shown in (d) and serve as a plurality of pixel portions, are arranged at predetermined intervals on the transparent substrate 1 which is a light-transmissive substrate. Is formed by.
A stripe-shaped photosensitive resist 2 is provided between each colored layer 3, and the thickness of the resist 2 is set to be equal to the thickness of the colored layer 3.

【0016】次に、このカラ−フィルタの製造方法につ
いて説明すると、図1(a)〜(d)に示すように構成
され、先ず同図(a)に示すように、光透過性基板例え
ばガラスからなる透明基板1上に、感光性レジスト2を
スピンコ−タ−又はロ−ルコ−タ−等で塗布する。この
とき、感光性レジスト2の膜厚は、後で形成する着色層
の膜厚が平坦化処理前は2μmとする場合、2±0.3
μmが望ましい。
Next, a method of manufacturing this color filter will be described. The color filter is constructed as shown in FIGS. 1A to 1D, and as shown in FIG. A photosensitive resist 2 is applied onto a transparent substrate 1 made of a material such as spin coater or roll coater. At this time, the film thickness of the photosensitive resist 2 is 2 ± 0.3 when the film thickness of the colored layer formed later is 2 μm before the flattening process.
μm is desirable.

【0017】次に、フォトマスク(図示せず)上から紫
外線を照射し、架橋反応によって同図(b)に示すよう
なパタ−ンに複数のストライプ状の感光性レジスト2を
所定間隔で形成する。このときの感光性レジスト2の幅
は、後述の液晶表示装置におけるアレイ基板側のブラッ
クマトリクスの幅よりも狭い。この実施例では、ブラッ
クマトリクスの幅が30μmに対して15μmに設定さ
れ、又、隣り合う感光性レジスト2の間隔は、平坦化処
理前の着色層(図示せず)の幅50μmと同じく50μ
mに設定されている。
Next, ultraviolet rays are radiated from above a photomask (not shown), and a plurality of stripe-shaped photosensitive resists 2 are formed at predetermined intervals in a pattern as shown in FIG. 2B by a crosslinking reaction. To do. The width of the photosensitive resist 2 at this time is narrower than the width of the black matrix on the array substrate side in the liquid crystal display device described later. In this embodiment, the width of the black matrix is set to 15 μm with respect to 30 μm, and the interval between the adjacent photosensitive resists 2 is 50 μm, which is the same as the width of the colored layer (not shown) 50 μm before the flattening process.
It is set to m.

【0018】次に、同図(c)に示すように、円圧式の
転写用ブランケットを装着した凹版オフセット印刷機に
より、赤(R),緑(G),青(B)の着色層3を形成
する。この同図(c)は平坦化処理前の状態であり、略
円弧状の断面となっている。この時、感光性レジスト2
の厚さは平坦化処理前の着色層3の厚さに対して±0.
3μmの範囲に設定されている。尚、各色の印刷が完了
する毎に、ベ−キングにより着色層3のインクを固化す
る。
Next, as shown in FIG. 2C, the red (R), green (G), and blue (B) colored layers 3 are formed by an intaglio offset printing machine equipped with a pressure transfer blanket. Form. This figure (c) is a state before the flattening process, and has a substantially arc-shaped cross section. At this time, the photosensitive resist 2
Of the colored layer 3 before the flattening treatment is ± 0.
It is set in the range of 3 μm. The ink in the colored layer 3 is solidified by baking every time printing of each color is completed.

【0019】次に、例えばラッピングフィルム(図示せ
ず)により平坦化処理を行なうと、同図(d)に示すよ
うに、平坦化される。この際、ストライプ状の感光性レ
ジスト2が着色層3の端部のうねりを防ぐ役割を果たし
ている。しかし、この時点では、着色層3の幅のばらつ
きによって部分的に着色層3が隣接色部に食み出してい
る場所がある。そこで、この後で研磨を行なう。その結
果、同図(e)に示すように、着色層3の食み出し部分
は削ることが出来た。最後に、透明電極(図示せず)を
スパッタ法により約1000オングストロ−ム成膜する
ことにより、カラ−フィルタが得られる。
Next, when a flattening process is performed using, for example, a wrapping film (not shown), it is flattened as shown in FIG. At this time, the stripe-shaped photosensitive resist 2 plays a role of preventing the undulation of the end portion of the colored layer 3. However, at this point, there is a portion where the colored layer 3 partially protrudes into the adjacent color portion due to the variation in the width of the colored layer 3. Therefore, polishing is performed thereafter. As a result, the protruding portion of the colored layer 3 could be removed as shown in FIG. Finally, a color filter is obtained by forming a transparent electrode (not shown) into a film of about 1000 angstrom by the sputtering method.

【0020】さて次に、この発明のカラ−フィルタを採
用した液晶表示装置について説明する。即ち、この発明
による液晶表示装置は図2に示すように構成され、図中
の符号4が上記のカラ−フィルタであり、図1と同一箇
所には同一符号を付している。そして、このカラ−フィ
ルタ4上には、ITO(インジウム−錫酸化物)等から
なる透明電極5および配向膜6が順に積層形成されてい
る。
Next, a liquid crystal display device employing the color filter of the present invention will be described. That is, the liquid crystal display device according to the present invention is constructed as shown in FIG. 2, the reference numeral 4 in the drawing is the color filter described above, and the same portions as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. Then, on the color filter 4, a transparent electrode 5 made of ITO (indium-tin oxide) or the like and an alignment film 6 are sequentially laminated.

【0021】一方、カラ−フィルタ4に所定間隔で対向
して薄膜トランジスタ(図示せず)を有するアレイ基板
7が配設され、このアレイ基板7上にはゲ−ト絶縁膜8
が形成されている。このゲ−ト絶縁膜8上には、カラ−
フィルタ4の感光性レジスト2に対応した位置にブラッ
クマトリクス9が形成されている。更に、ゲ−ト絶縁膜
8,ブラックマトリクス9を覆うように、ITO等から
なる透明電極10および配向膜11が順に積層形成され
ている。又、このようなアレイ基板7とカラ−フィルタ
4との間には、液晶12が充填されている。更にアレイ
基板7とカラ−フィルタ4の外側には、それぞれ偏光板
13,14が配置されている。 尚、薄膜トランジスタ
およびデ−タ線等の構造は省略してある。 上記の場
合、セル合わせ誤差,ブラックマトリクス9と着色層3
ト−タルピッチ差,ブラックマトリクス9の線幅精度等
を考慮して片側7.5μmのマ−ジンを持たせるため、
ブラックマトリクス9の幅30μmに対して、感光性レ
ジスト2の幅は15μmとしている。このために、液晶
モジュ−ルとして単色ラスタ−表示を行なっても、ムラ
のない綺麗な表示画面を得ることが出来る。
On the other hand, an array substrate 7 having thin film transistors (not shown) is arranged facing the color filter 4 at a predetermined interval, and a gate insulating film 8 is provided on the array substrate 7.
Are formed. A color is formed on the gate insulating film 8.
A black matrix 9 is formed on the filter 4 at a position corresponding to the photosensitive resist 2. Further, a transparent electrode 10 made of ITO or the like and an alignment film 11 are sequentially laminated so as to cover the gate insulating film 8 and the black matrix 9. A liquid crystal 12 is filled between the array substrate 7 and the color filter 4. Further, polarizing plates 13 and 14 are arranged outside the array substrate 7 and the color filter 4, respectively. Structures such as thin film transistors and data lines are omitted. In the above case, cell alignment error, black matrix 9 and colored layer 3
In order to have a margin of 7.5 μm on one side in consideration of the total pitch difference and the line width accuracy of the black matrix 9,
The width of the black matrix 9 is 30 μm, and the width of the photosensitive resist 2 is 15 μm. Therefore, even if a single color raster display is performed as a liquid crystal module, a beautiful display screen without unevenness can be obtained.

【0022】さて、上記のカラ−フィルタの製造方法に
よれば、印刷法においても、ブラックマトリクス・オン
・アレイ型の薄膜トランジスタ液晶表示装置用として、
ムラのないカラ−フィルタを得ることが出来る。特に、
レジスト2のパタ−ン間隔を平坦化処理前の着色層3の
幅よりも広くすることにより、着色層3を必ずレジスト
パタ−ン間に形成することが可能である。更に、レジス
ト2の膜厚を平坦化処理前の着色層3の膜厚に対して±
0.3μmとすることにより、この後の平坦化処理によ
って円弧状の画素を端部のうねりを生じさせることな
く、平坦化が可能となった。又、レジスト2の幅をブラ
ックマトリクス9の幅dμmに対して、アレイ基板7と
カラ−フィルタ4の合わせ精度を考慮して(d−α)μ
mとすることにより、セル組立て後の欠陥の発生を防ぐ
ことが可能である。但し、αは液晶モジュ−ルの対角サ
イズをβインチとした場合、 0.39β−0.56≦α≦0.39β+9.44 の範囲にある。
According to the above-described color filter manufacturing method, even in the printing method, as a black matrix on array type thin film transistor liquid crystal display device,
An even color filter can be obtained. In particular,
By making the pattern interval of the resist 2 wider than the width of the colored layer 3 before the flattening treatment, the colored layer 3 can be formed between the resist patterns without fail. Further, the film thickness of the resist 2 is ±± with respect to the film thickness of the colored layer 3 before the flattening process.
By setting the thickness to 0.3 μm, it becomes possible to flatten the arc-shaped pixel by the flattening process thereafter without causing the undulation of the end portion. Further, the width of the resist 2 is set to the width dμm of the black matrix 9 in consideration of the alignment accuracy of the array substrate 7 and the color filter 4 (d−α) μ.
By setting m, it is possible to prevent the occurrence of defects after cell assembly. However, α is in the range of 0.39β−0.56 ≦ α ≦ 0.39β + 9.44 when the diagonal size of the liquid crystal module is β inches.

【0023】[0023]

【発明の効果】この発明によれば、円弧状の着色層を端
部のうねりを生じさせることなく平坦化が可能となり、
ムラのないカラ−フィルタが得られ、このカラ−フィル
タを液晶表示装置に使用した場合、セル組立て後の欠陥
の発生を防ぐことが出来る。
According to the present invention, it is possible to flatten an arcuate colored layer without causing undulations at the ends.
A color filter having no unevenness can be obtained, and when this color filter is used in a liquid crystal display device, it is possible to prevent the occurrence of defects after cell assembly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)〜(d)はこの発明の一実施例に係るカ
ラ−フィルタの製造方法を示す工程説明図。
1A to 1D are process explanatory views showing a manufacturing method of a color filter according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例に係る液晶表示装置を示す
断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…透明基板(光透過性基板)、2…レジスト、3…着
色層、4…カラ−フィルタ、5,10…透明電極、6,
11…配向膜、7…アレイ基板、8…ゲ−ト絶縁膜、9
…ブラックマトリクス、12…液晶、偏光板13,14
…偏光板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate (light transmissive substrate), 2 ... Resist, 3 ... Colored layer, 4 ... Color filter, 5, 10 ... Transparent electrode, 6,
11 ... Alignment film, 7 ... Array substrate, 8 ... Gate insulating film, 9
... black matrix, 12 ... liquid crystal, polarizing plates 13 and 14
…Polarizer.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光透過性基板上に複数の着色層が形成さ
れてなるカラ−フィルタにおいて、 上記着色層間にストライプ状の感光性レジストが設けら
れ、該レジストの厚さが上記着色層の厚さと同等の厚さ
であることを特徴とするカラ−フィルタ。
1. A color filter comprising a plurality of colored layers formed on a light transmissive substrate, wherein a stripe-shaped photosensitive resist is provided between the colored layers, and the thickness of the resist is the thickness of the colored layers. A color filter having the same thickness as that of the color filter.
【請求項2】 第1の基板と、この第1の基板と所定の
間隙を介して対向配置されると共に対向面側に少なくと
も電極およびブラックマトリクスを有する第2の基板
と、上記間隙に挾持された液晶とを具備する液晶表示装
置において、 上記第1の基板は請求項1記載のカラ−フィルタであ
り、更に上記レジストは上記ブラックマトリクスの位置
と対応した位置にあり、且つ該レジストの幅は上記ブラ
ックマトリクスの幅よりも狭いことを特徴とする液晶表
示装置。
2. A first substrate, a second substrate facing the first substrate with a predetermined gap therebetween and having at least an electrode and a black matrix on the facing surface side, and sandwiched between the first substrate and the second substrate. In the liquid crystal display device including the liquid crystal, the first substrate is the color filter according to claim 1, the resist is at a position corresponding to the position of the black matrix, and the width of the resist is A liquid crystal display device characterized by being narrower than the width of the black matrix.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6887631B2 (en) 2001-06-01 2005-05-03 Seiko Epson Corporation Color filter and electro-optical device
JP2006084852A (en) * 2004-09-16 2006-03-30 Sharp Corp Color filter, liquid crystal display device having color filter, and manufacturing method of color filter
US7106399B2 (en) 2002-03-27 2006-09-12 Seiko Epson Corporation Electro-optical apparatus, comprising a partition layer formed on a shading layer its production method, devices and electronic appliances
KR100725425B1 (en) * 2000-07-19 2007-06-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 liquid crystal display
WO2012066971A1 (en) * 2010-11-16 2012-05-24 シャープ株式会社 Color filter substrate, method of manufacturing same, liquid crystal display panel and liquid crystal display device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100725425B1 (en) * 2000-07-19 2007-06-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 liquid crystal display
US6887631B2 (en) 2001-06-01 2005-05-03 Seiko Epson Corporation Color filter and electro-optical device
US7282843B2 (en) 2001-06-01 2007-10-16 Seiko Epson Corporation Electro-optical display having an arrangement of active and dummy coloring pixels performing as a color filter element
US7106399B2 (en) 2002-03-27 2006-09-12 Seiko Epson Corporation Electro-optical apparatus, comprising a partition layer formed on a shading layer its production method, devices and electronic appliances
US7330228B2 (en) 2002-03-27 2008-02-12 Seiko Epson Corporation Electro-optical apparatus, its production method, devices and electronic appliances
JP2006084852A (en) * 2004-09-16 2006-03-30 Sharp Corp Color filter, liquid crystal display device having color filter, and manufacturing method of color filter
WO2012066971A1 (en) * 2010-11-16 2012-05-24 シャープ株式会社 Color filter substrate, method of manufacturing same, liquid crystal display panel and liquid crystal display device

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