JPH06118566A - Antistaticized silver halide photographic sensitive film material - Google Patents

Antistaticized silver halide photographic sensitive film material

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JPH06118566A
JPH06118566A JP27170092A JP27170092A JPH06118566A JP H06118566 A JPH06118566 A JP H06118566A JP 27170092 A JP27170092 A JP 27170092A JP 27170092 A JP27170092 A JP 27170092A JP H06118566 A JPH06118566 A JP H06118566A
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JP
Japan
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conductive polymer
silver halide
chemical
alkali metal
polymer layer
Prior art date
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Application number
JP27170092A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Shibata
吉夫 柴田
Masa Kubota
雅 久保田
Hideji Oda
秀次 織田
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication of JPH06118566A publication Critical patent/JPH06118566A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve antistatic characteristic and film strength and to obtain a backing layer uniform in a coating surface by incorporating an epoxy compound and a specified surfactant in an electrically conductive polymer layer. CONSTITUTION:The conductive polymer layer is formed between the backing layer containing gelatin and a film base and comprises a copolymer of dialkylaminoalkyl (meth)acrylate and styrenesul-fonic acid or its alkali metal salt, and the conductive polymer layer contains the epoxy compound and the surfactant represented by formula I in which n is an integer of 1-20; M is H or an alkali metal atom: R is 5-15C alkyl or a group of formula II; R1 is 1-15C alkyl; and R2 is l-3C alkyl or H or halogen.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、より詳しくは帯電防止された裏塗り層に関
する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to an antistatic backing layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀写真材料は、ベースとして
フィルム、紙等が用いられているが、これらは導電性が
低く種々の問題が引き起こされていた。
2. Description of the Related Art Films, papers and the like are used as bases for silver halide photographic materials, but these have low conductivity and have caused various problems.

【0003】これらの問題点の1つは、フィルム、紙等
にハロゲン化銀を含む塗布液を塗布する場合、コーター
で高速で塗布するのであるが、ローラーで摩擦されこす
られている間に帯電し、これが放電したときにハロゲン
化銀をカブラせる(静電気カブリ)という問題である。
もし裏塗り層の導電性を高め帯電防止を施してあれば通
常ハロゲン化銀乳剤の塗布の前に裏塗り層を塗布するの
で、この裏塗り層がベースを通して反対側の乳剤を塗布
する面の帯電防止性も向上させ静電気カブリを防止でき
る。
One of these problems is that when a coating solution containing silver halide is applied to a film, paper or the like, it is applied at a high speed with a coater, but it is charged while being rubbed and rubbed by a roller. However, this is a problem that the silver halide is fogged when it is discharged (electrostatic fog).
If the backing layer is made highly conductive and antistatic, it is usually applied before the silver halide emulsion is coated, so this backing layer should be applied through the base to the opposite emulsion coating surface. The antistatic property is also improved and electrostatic fog can be prevented.

【0004】第2に、ユーザーが感光材料を使用すると
きに、これらが帯電しているとゴミ、ホコリが感光材料
に付着し、露光及び写真処理の過程でピンホール等の好
ましくない画像を形成することがあるし、感光材料同志
がくっついて作業性が悪いという問題がある。更に人間
の手を通してこれら感光材料が放電するという問題もあ
る。これらの問題で重要なことは現像、定着、水洗とい
う処理の前でも後でも帯電特性が良好でなくてはならな
いという点である。
Secondly, when a user uses a photosensitive material, if they are charged, dust and dirt adhere to the photosensitive material, forming undesired images such as pinholes in the process of exposure and photographic processing. However, there is a problem that the photosensitive materials stick to each other and workability is poor. Further, there is a problem that these photosensitive materials are discharged through human hands. What is important in these problems is that the charging characteristics must be good both before and after the treatments of development, fixing and washing.

【0005】特開昭56−92535号、同昭61−1
74542号によれば裏塗り層とベースの間に帯電防止
層を設け、この層を通して帯電防止性を高め、かつこの
層と裏塗り層の接着性を向上させるためにアジリジン硬
膜剤を用いることが記載されている。しかしながらアジ
リジン硬膜剤は皮膚をカブレさせ安全衛生上好ましくな
い。さらにベースとの間に帯電防止層を設けているため
に裏塗り層の接着が充分でなくかつ乾燥性が悪いという
欠点を有していた。
JP-A-56-92535 and JP-A-61-1.
According to 74542, an antistatic layer is provided between a backing layer and a base, and an aziridine hardener is used to enhance antistatic properties through this layer and to improve the adhesion between this layer and the backing layer. Is listed. However, the aziridine hardener causes skin irritation and is not preferable for safety and hygiene. Further, since the antistatic layer is provided between the base and the base, the backing layer is not sufficiently adhered and the drying property is poor.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、良好
な帯電防止性及び皮膜強度を持ち、さらに塗布面が均一
である裏塗り層を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a backing layer which has good antistatic properties and film strength and has a uniform coated surface.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、導電性ポリマ
ー層をゼラチンを含む裏塗り層とフィルムベースの間に
持つハロゲン化銀フィルム感光材料において、該導電性
ポリマーがジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレ
ートとスチレンスルホン酸またはそのアルカリ金属塩と
の共重合体からなり、かつ該導電性ポリマー層中にエポ
キシ化合物及び化1の界面活性剤を含有することにより
達成される。また、導電性ポリマーがジアルキルアミノ
アルキル(メタ)アクリレートとスチレンスルホン酸ま
たはそのアルカリ金属塩との共重合体をゼラチンまたは
その他の水溶性ポリマーにグラフトしたものである場合
においても達成される。
The present invention provides a silver halide film light-sensitive material having a conductive polymer layer between a backing layer containing gelatin and a film base, wherein the conductive polymer is a dialkylaminoalkyl (meth). It is achieved by comprising a copolymer of acrylate and styrene sulfonic acid or an alkali metal salt thereof, and containing the epoxy compound and the surfactant of Chemical formula 1 in the conductive polymer layer. It is also achieved when the conductive polymer is a copolymer of dialkylaminoalkyl (meth) acrylate and styrene sulfonic acid or its alkali metal salt grafted onto gelatin or other water-soluble polymer.

【0008】本発明に用いられる導電性ポリマーはジア
ルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートとスチレン
スルホン酸またはそのアルカリ金属塩との共重合体であ
り、エポキシ化合物により架橋するものである。共重合
体中のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート
の比率は0.3重量%以上45重量%以下が好ましい。
0.3重量%未満の比率ではエポキシ化合物により充分
な架橋をせず、アルカリ性や酸性の写真処理に耐えられ
ない。また45重量%を越える比率では帯電防止性に関
わるスチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩の割合
が相対的に低下するために、充分な帯電防止性が得られ
ない。
The conductive polymer used in the present invention is a copolymer of dialkylaminoalkyl (meth) acrylate and styrenesulfonic acid or its alkali metal salt, which is crosslinked with an epoxy compound. The proportion of dialkylaminoalkyl (meth) acrylate in the copolymer is preferably 0.3% by weight or more and 45% by weight or less.
If the ratio is less than 0.3% by weight, the epoxy compound does not sufficiently crosslink and cannot withstand alkaline or acidic photographic processing. On the other hand, if the proportion exceeds 45% by weight, the proportion of styrene sulfonic acid or its alkali metal salt relating to the antistatic property is relatively lowered, so that sufficient antistatic property cannot be obtained.

【0009】本発明の導電性ポリマーの製造は、P−ス
チレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩とジアルキル
アミノアルキル(メタ)アクリレートを任意の割合で重
合することにより得られる。ジアルキルアミノアルキル
(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ジメチル
アミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート、2−ジメチルアミノメチルメタクリ
レート等が挙げられる。
The conductive polymer of the present invention can be produced by polymerizing P-styrenesulfonic acid or its alkali metal salt and dialkylaminoalkyl (meth) acrylate in an arbitrary ratio. Examples of the dialkylaminoalkyl (meth) acrylate include 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminomethyl methacrylate and the like.

【0010】さらに本発明において、スチレンスルホン
酸又はそのアルカリ金属塩およびジアルキルアミノアル
キル(メタ)アクリレート以外にも第3成分として種々
のモノマーが共重合可能であり、例えば、スチレン及び
その誘導体、(メタ)アクリル酸エステル及びその誘導
体、酢酸ビニル等が挙げられる。こうした第3成分のモ
ノマーの共重合比率は0.1重量%から45重量%程度
の範囲が好ましい。
Further, in the present invention, in addition to styrenesulfonic acid or its alkali metal salt and dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, various monomers can be copolymerized as the third component. For example, styrene and its derivatives, (meth) ) Acrylic acid esters and their derivatives, vinyl acetate and the like. The copolymerization ratio of the third component monomer is preferably in the range of about 0.1% by weight to 45% by weight.

【0011】上記の様な共重合体を合成する際に種々の
水溶性ポリマーをあらかじめ溶解もしくは分散して、こ
れらの存在下にラジカル重合を行うことで、こうした水
溶性ポリマーへ共重合体がグラフト重合したグラフト共
重合体組成物を得ることができる。
When synthesizing the above-mentioned copolymer, various water-soluble polymers are previously dissolved or dispersed, and radical polymerization is carried out in the presence of these, so that the copolymer is grafted to these water-soluble polymers. A polymerized graft copolymer composition can be obtained.

【0012】この様に重合の際にあらかじめ添加してお
く水溶性ポリマーの好ましい例としては、ゼラチン及び
その変性物があげられ、これ以外にも変性デンプン、ポ
リビニルピロリドン等の種々の水溶性ポリマーを使用す
ることができる。
Preferred examples of the water-soluble polymer to be added in advance during the polymerization include gelatin and its modified products, and various other water-soluble polymers such as modified starch and polyvinylpyrrolidone are also available. Can be used.

【0013】スチレンスルホン酸のカウンターイオンと
してはナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ
金属イオンが好ましい。以下に合成例を示すが、これら
に限定されるものではない。
The counter ion of styrene sulfonic acid is preferably an alkali metal ion such as sodium ion or potassium ion. Examples of synthesis are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0014】合成例1 撹拌機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を備えた
500mlの4ッ口フラスコにゼラチン10g、p−ス
チレンスルホン酸ナトリウム90g、2−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート10gとり蒸留水300gを加
えて80℃に加熱した。窒素雰囲気下で過硫酸カリウム
1gを加えることにより重合を開始し3時間加熱撹拌
し、重合を行いポリマー溶液を得た。
Synthesis Example 1 Gelatin 10 g, sodium p-styrenesulfonate 90 g, and 2-dimethylaminoethyl methacrylate 10 g were placed in a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen introduction tube and a reflux condenser, and distilled water was added. 300 g was added and heated to 80 ° C. Polymerization was started by adding 1 g of potassium persulfate under a nitrogen atmosphere, and the mixture was heated and stirred for 3 hours to carry out polymerization to obtain a polymer solution.

【0015】合成例2 合成例1と同様に、p−スチレンスルホン酸ナトリウム
80g、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート20
gとり蒸留水300gを加え、塩酸水溶液にて中和後、
80℃に加熱した。窒素雰囲気下で過硫酸カリウム1g
を加えることにより重合を開始し3時間加熱撹拌し、重
合を行いポリマー溶液を得た。
Synthesis Example 2 In the same manner as in Synthesis Example 1, 80 g of sodium p-styrenesulfonate and 20 g of 2-dimethylaminoethyl methacrylate were used.
After adding 300 g of distilled water and neutralizing with hydrochloric acid aqueous solution,
Heated to 80 ° C. 1 g potassium persulfate under nitrogen atmosphere
Polymerization was started by adding, and the mixture was heated and stirred for 3 hours to carry out polymerization to obtain a polymer solution.

【0016】合成例3 合成例1と同様に、ポリビニルピロリドン7g、スチレ
ン15g、p−スチレンスルホン酸ナトリウム80g、
2−ジメチルアミノエチルメタクリレート10gとり蒸
留水300gを加え、塩酸水溶液にて中和後、80℃に
加熱した。窒素雰囲気下で過硫酸カリウム1gを加える
ことにより重合を開始し3時間加熱撹拌し、重合を行い
ポリマー溶液を得た。
Synthesis Example 3 As in Synthesis Example 1, 7 g of polyvinylpyrrolidone, 15 g of styrene, 80 g of sodium p-styrenesulfonate,
10 g of 2-dimethylaminoethyl methacrylate was added to 300 g of distilled water, neutralized with a hydrochloric acid aqueous solution, and then heated to 80 ° C. Polymerization was started by adding 1 g of potassium persulfate under a nitrogen atmosphere, and the mixture was heated and stirred for 3 hours to carry out polymerization to obtain a polymer solution.

【0017】本発明により得られる導電性ポリマーは、
これにエポキシ化合物を加えることによりフィルム等の
支持体上に皮膜形成し、例えば50℃程度の加熱条件で
数時間のうちに完全に架橋するものである。
The conductive polymer obtained by the present invention is
By adding an epoxy compound to this, a film is formed on a support such as a film and completely crosslinked within a few hours under a heating condition of about 50 ° C.

【0018】本発明の導電性ポリマーは、1m2 当り固
形分として0.1〜5gの塗布量が好ましい。0.1g
よりも少なければ良好な帯電防止特性が得られず、5g
よりも多ければ吸水量が多くなり乾燥性が悪くなる。該
導電性ポリマー層には必要に応じて他のバインダーを含
んでもよい。
The conductive polymer of the present invention is preferably applied in an amount of 0.1 to 5 g as a solid content per 1 m 2 . 0.1 g
If less than 5g, good antistatic properties cannot be obtained and
If it is larger than the above range, the amount of water absorption increases and the drying property deteriorates. If necessary, the conductive polymer layer may contain other binder.

【0019】本発明で用いられるエポキシ系化合物の具
体例を以下に示すがこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the epoxy compound used in the present invention are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0020】[0020]

【化3】 [Chemical 3]

【0021】[0021]

【化4】 [Chemical 4]

【0022】[0022]

【化5】 [Chemical 5]

【0023】[0023]

【化6】 [Chemical 6]

【0024】[0024]

【化7】 [Chemical 7]

【0025】[0025]

【化8】 [Chemical 8]

【0026】[0026]

【化9】 [Chemical 9]

【0027】[0027]

【化10】 [Chemical 10]

【0028】[0028]

【化11】 [Chemical 11]

【0029】[0029]

【化12】 [Chemical 12]

【0030】[0030]

【化13】 [Chemical 13]

【0031】[0031]

【化14】 [Chemical 14]

【0032】[0032]

【化15】 [Chemical 15]

【0033】エポキシ系化合物の添加量は導電性ポリマ
ー1g当り重量で1mgから1gであり、特に好ましく
は50mgから300mgである。あまり多く加えると
帯電防止層の上層である裏塗り層に影響を及ぼし色素抜
けが悪くなる。あまり少ないと帯電防止層の皮膜が弱く
なる。
The amount of the epoxy compound added is 1 mg to 1 g, and particularly preferably 50 mg to 300 mg, per 1 g of the conductive polymer. If added too much, the backing layer, which is the upper layer of the antistatic layer, is affected, and the dye removal becomes worse. If it is too small, the film of the antistatic layer becomes weak.

【0034】本発明に用いる界面活性剤一般式化1のも
のは、USP3,026,201号に記載されているが
本発明の導電性ポリマー及びエポキシ化合物とのマッチ
ングについては何ら記載されていない。
The surfactant of the general formula 1 used in the present invention is described in USP 3,026,201, but no description is given regarding matching with the conductive polymer and epoxy compound of the present invention.

【0035】本発明の界面活性剤は本発明の導電性ポリ
マーとエポキシ化合物とのマッチングにおいて、優れた
塗布性を示し塗布面が透明で均一なものが得られる。ま
た、良好な皮膜特性が得られ、表面抵抗値も比較的低い
値を示す。
The surfactant of the present invention exhibits excellent coatability in matching the conductive polymer of the present invention with the epoxy compound, and a transparent and uniform coating surface can be obtained. In addition, good film characteristics are obtained, and the surface resistance value is relatively low.

【0036】他の界面活性剤を用いると塗布面が白濁し
たり、塗布むらが見られたりする。また表面抵抗値に影
響を及ぼすものも少なくない。
When other surfactants are used, the coated surface becomes cloudy or uneven coating is observed. Also, there are many things that affect the surface resistance value.

【0037】化1において、nは20以下が好ましい。
21以上になると塗布性が悪くなる。特に3〜15が好
ましい。Rのアルキル基はC5 〜C15でありC4以下で
あると界面活性剤としての役割を果たさずに、塗布性を
悪くし、実用上問題となる。C16以上であると親油性の
性質が強すぎて塗布ムラを引き起こす。特にC8 〜C12
が好ましい。R1 もRのアルキル基と同様である。Mは
Hまたはアルカリ金属である。特にナトリウム、カリウ
ムイオンが好ましい。R2 はC1 〜C3 のアルキル基、
H、ハロゲン原子である。
In the chemical formula 1, n is preferably 20 or less.
When it is 21 or more, the coating property becomes poor. Particularly, 3 to 15 is preferable. Alkyl group R is not play a role as a C 5 -C 15 a and C 4 is not more than a surfactant, and poor coating properties, causing a practical problem. When it is C 16 or more, the lipophilic property is too strong, causing uneven coating. Especially C 8 to C 12
Is preferred. R 1 is the same as the alkyl group of R. M is H or an alkali metal. Particularly, sodium and potassium ions are preferable. R 2 is a C 1 -C 3 alkyl group,
H, a halogen atom.

【0038】これらの界面活性剤の添加量は塗布液1リ
ットル当り0.05から10gが好ましい。添加時期は
いつでも良い。
The amount of these surfactants added is preferably 0.05 to 10 g per liter of the coating liquid. The time of addition may be any time.

【0039】本発明で用いら界面活性剤の具体例を以下
に示すがこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the surfactant used in the present invention are shown below, but the surfactant is not limited thereto.

【0040】[0040]

【化16】 [Chemical 16]

【0041】[0041]

【化17】 [Chemical 17]

【0042】[0042]

【化18】 [Chemical 18]

【0043】[0043]

【化19】 [Chemical 19]

【0044】[0044]

【化20】 [Chemical 20]

【0045】[0045]

【化21】 [Chemical 21]

【0046】本発明に用いられる導電性ポリマー層はゼ
ラチンを含む裏塗り層とフィルムベースとの間に位置す
るものであり、その他の位置では好ましくない。例え
ば、裏塗り層を介してベースと反対側に帯電防止層を設
けた場合は、一般的に裏塗り層にフィルター染料が入っ
ているので色素抜けが悪くなり好ましくない。更に乳剤
層とフィルムベースの間に帯電防止層を設けた場合、一
般に乳剤層はストリッピングフィルムの貼り込み等で乳
剤面は裏側よりも強い接着が必要とされ不利である。さ
らに乳剤層と保護層の間、又はフィルムベースより保護
層の外側に帯電防止ポリマー層を設けることは現像進行
性、定着速度から見て不利である。従って、帯電防止ポ
リマーはフィルムベースとゼラチンを含む裏塗り層の間
に位置させるのが最も合理的である。
The conductive polymer layer used in the present invention is located between the backing layer containing gelatin and the film base, and is not preferred at other positions. For example, when an antistatic layer is provided on the side opposite to the base via the backing layer, the backing layer generally contains a filter dye, which is not preferable because the dye loss is poor. Further, when an antistatic layer is provided between the emulsion layer and the film base, it is generally disadvantageous that the emulsion layer is required to have stronger adhesion on the emulsion side than on the back side by sticking a stripping film or the like. Further, providing an antistatic polymer layer between the emulsion layer and the protective layer or on the outer side of the protective layer with respect to the film base is disadvantageous in view of development progress and fixing speed. Therefore, it is most reasonable to position the antistatic polymer between the film base and the backing layer containing gelatin.

【0047】裏塗り層のゼラチン量は、1m2 当り1〜
8g、好ましくは1〜5gである。裏塗り層には更に前
記した導電性ポリマー、その他の導電性ポリマー、水溶
性ポリマー、硬膜剤、マット剤、ハレーション防止用染
料、界面活性剤などを必要に応じて含むことができる。
The amount of gelatin in the backing layer is 1 to 1 m 2
8 g, preferably 1-5 g. The backing layer may further contain the above-mentioned conductive polymer, other conductive polymer, water-soluble polymer, hardener, matting agent, antihalation dye, surfactant and the like, if necessary.

【0048】本発明に用いられるフィルムベースはポリ
エチレンテレフタレートフィルムが主であるが、その他
のポリエステルベースも含まれる。
The film base used in the present invention is mainly a polyethylene terephthalate film, but other polyester bases are also included.

【0049】[0049]

【実施例】【Example】

実施例1 蒸留水500mlに10wt%の2−ジメチルアミノエチル
メタクリレートをもつポリスチレンスルホン酸ナトリウ
ムの10%溶液を500ml加え、更に化3のエポキシ化
合物の10%の水溶液を50ml加えた。この溶液を5つ
作製した。
Example 1 To 500 ml of distilled water was added 500 ml of a 10% solution of sodium polystyrene sulfonate having 10% by weight of 2-dimethylaminoethyl methacrylate, and 50 ml of a 10% aqueous solution of the epoxy compound of Chemical formula 3 was added. Five solutions were prepared.

【0050】それぞれの液に各種界面活性剤の10%溶
液を10ml加えた。加えた界面活性剤を表1に示す。
10 ml of a 10% solution of various surfactants was added to each solution. The surfactants added are shown in Table 1.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】次にそれぞれの液を下引き済みの100ミ
クロンのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布
量が20ml/m2 になるようにロールフィットコーティ
ングパン及びエアーナイフコーターにより塗布した。塗
布後50℃で24時間加温した。
Next, each solution was coated on a 100-micron polyethylene terephthalate film which had been subbed by a roll-fit coating pan and an air knife coater so that the coating amount was 20 ml / m 2 . After the application, it was heated at 50 ° C. for 24 hours.

【0053】裏塗り層とするゼラチン溶液は不活性ゼラ
チン50gを蒸留水950mlに溶かしたもので界面活性
剤として10%のエアロールOPを20ml加えた。硬膜
剤として2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリ
アジンを25ml加え、塗布量が50ml/m2 になるよう
に導電性ポリマー層上に塗布し、50℃で24時間加温
した。
The gelatin solution used as the backing layer was prepared by dissolving 50 g of inert gelatin in 950 ml of distilled water, and 20 ml of 10% air roll OP was added as a surfactant. 25 ml of 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine was added as a hardener, and the coating amount was 50 ml / m 2 on the conductive polymer layer, and the mixture was heated at 50 ° C. for 24 hours.

【0054】加温後の試料を裁断し、小西六社製GR−
14自動現像液を用いて処理した。現像は三菱製紙株式
会社製MRA CD−111、35℃20秒、定着は同
CF−711、35℃20秒である。
The sample after heating was cut, and GR- manufactured by Konishi Rokusha Co., Ltd. was cut.
Processed using 14 automated developers. Development is MRA CD-111 manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd. at 35 ° C. for 20 seconds, and fixing is CF-711 at 35 ° C. for 20 seconds.

【0055】帯電防止能力は処理前、処理後の試料を2
5℃30%RH(相対湿度)の雰囲気下に2時間放置し
その表面抵抗値を三菱油化株式会社製ハイレスタ表面抵
抗計、モデルHT−210により測定した。表面抵抗の
目安としては1012Ω以上が不可であり、1011以下は
良好なレベルである。
The antistatic ability of the sample before and after the treatment was 2
It was left for 2 hours in an atmosphere of 5 ° C. and 30% RH (relative humidity), and its surface resistance value was measured by a Hiresta surface resistance meter, Model HT-210 manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. As a measure of the surface resistance, 10 12 Ω or more is impossible, and 10 11 or less is a good level.

【0056】膜強度は試料表面に5mm間隔で正方形状に
ナイフで傷をつけ、30℃の水中に30秒間侵漬した後
に、ティッシューを用いてその表面をこすることにより
○△×の三段階で評価した。○印は全く剥がれないも
の、△はやや剥がれるもの、×印はかなり剥がれるもの
である。塗布性は塗布ムラが目立つものや塗布された面
が濁っているものについては×、その程度が軽いものに
ついては△、塗布面が均一で濁りのないものについては
○とした。これらの結果を表2に示す。
The film strength was obtained by scratching the surface of the sample with a knife in a square shape at intervals of 5 mm, immersing the sample in water at 30 ° C. for 30 seconds, and then rubbing the surface with a tissue. It was evaluated by. The circles are those that do not peel at all, the triangles are those that peel slightly, and the crosses are those that peel considerably. The coating properties were evaluated as × when the coating unevenness was noticeable or when the coated surface was turbid, Δ when the coating surface was light, and ◯ when the coated surface was uniform and had no turbidity. The results are shown in Table 2.

【0057】[0057]

【表2】 [Table 2]

【0058】表2からわかる様に、エアロールOPを用
いたものは塗布性ムラが少し見られ、さらに塗布面が白
濁しており不可である。アクチノールKを用いたものは
塗布性は良好であるが皮膜強度がやや弱く処理後の抵抗
値がやや高い。ゾンテスTLを用いたものは塗布ムラが
見られ皮膜強度もやや劣る。サンスタット1007を用
いたものはポリマー層がやや白濁し皮膜強度もやや弱
い。これらの結果から本発明の界面活性剤を導電性ポリ
マー層に用いた裏塗り層は表面抵抗値、皮膜強度、塗布
性に優れていることがわかる。
As can be seen from Table 2, in the case of using the air roll OP, the coating property is slightly uneven and the coated surface is cloudy, which is not possible. The coating using Actinol K has good coatability, but the coating strength is rather weak and the resistance after treatment is rather high. In the case of using Zontes TL, coating unevenness is observed and the film strength is slightly inferior. In the case of using Sunstat 1007, the polymer layer is slightly cloudy and the film strength is slightly weak. From these results, it can be seen that the backing layer using the surfactant of the present invention in the conductive polymer layer is excellent in surface resistance value, film strength and coatability.

【0059】実施例2 5wt%の2−ジエチルアミノエチルメタクリレートをも
つポリスチレンスルホン酸ナトリウムを水溶性ゼラチン
に10:1の重量比(ゼラチンが1)でグラフトした導
電性ポリマーを作製した。このポリマーに蒸留水を加え
5%の水溶液を1000mlつくり、更に化15のエポキ
シ化合物の10%の水溶液を30ml加えた。この溶液を
5つ作製した。
Example 2 A conductive polymer was prepared by grafting sodium polystyrene sulfonate having 5% by weight of 2-diethylaminoethyl methacrylate onto water-soluble gelatin at a weight ratio of 10: 1 (gelatin = 1). Distilled water was added to this polymer to prepare 1000 ml of a 5% aqueous solution, and 30 ml of a 10% aqueous solution of the epoxy compound of Chemical formula 15 was added. Five solutions were prepared.

【0060】それぞれの液に各種界面活性剤の10%溶
液を20ml加えた。加えた界面活性剤を表3に示す。
20 ml of 10% solutions of various surfactants were added to each solution. Table 3 shows the added surfactants.

【0061】[0061]

【表3】 [Table 3]

【0062】実施例1と同様にして表面抵抗値、皮膜強
度、塗布性について調べた。これらの結果を表4に示
す。
In the same manner as in Example 1, the surface resistance value, film strength and coatability were examined. The results are shown in Table 4.

【0063】[0063]

【表4】 [Table 4]

【0064】表4からわかる様に、エアロールOPを用
いたものは塗布ムラが少し見られ、さらに塗布面が白濁
しており不可である。アクチノールKを用いたものは塗
布性、皮膜強度は良好であるが処理後の抵抗値がやや高
い。ゾンテスTLを用いたものは塗布ムラが見られる。
サンスタット1007を用いたものはポリマー層がやや
白濁し、皮膜強度が他に比べて若干劣っている。これに
対して本発明の界面活性剤化16を用いたものは表面抵
抗値、皮膜強度、塗布性は良好であった。
As can be seen from Table 4, in the case of using the air roll OP, some coating unevenness was observed, and the coated surface was clouded, which is not possible. The one using Actinol K has good coatability and film strength, but the resistance value after treatment is rather high. The one using Zontes TL shows uneven coating.
In the case of using Sunstat 1007, the polymer layer is slightly clouded and the film strength is slightly inferior to the others. On the other hand, in the case of using the surface active agent 16 of the present invention, the surface resistance value, the film strength and the coating property were good.

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明のハロゲン化銀感光材料は導電
性、皮膜強度、塗布性に優れた帯電防止層を有する。
The silver halide light-sensitive material of the present invention has an antistatic layer excellent in conductivity, film strength and coatability.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性ポリマー層をゼラチンを含む裏塗
り層とフィルムベースとの間に持つハロゲン化銀フィル
ム感光材料において、該導電性ポリマーがジアルキルア
ミノアルキル(メタ)アクリレートとスチレンスルホン
酸またはそのアルカリ金属塩との共重合体からなり、か
つ該導電性ポリマー層中にエポキシ化合物及び化1で示
される界面活性剤を含有することを特徴とするハロゲン
化銀フィルム感光材料。 【化1】 【化2】 化1のnは1〜20の自然数、MはHまたはアルカリ金
属、RはC5 〜C15のアルキル基、または化2で示され
る基である。化2のR1 はC1 〜C15のアルキル基、R
2 はC1〜C3のアルキル基、またはH、またはハロゲン
原子である。
1. A silver halide film light-sensitive material having a conductive polymer layer between a backing layer containing gelatin and a film base, wherein the conductive polymer is dialkylaminoalkyl (meth) acrylate and styrenesulfonic acid or a compound thereof. A silver halide film light-sensitive material comprising a copolymer with an alkali metal salt and containing an epoxy compound and a surfactant represented by Chemical Formula 1 in the conductive polymer layer. [Chemical 1] [Chemical 2] In the chemical formula 1, n is a natural number of 1 to 20, M is H or an alkali metal, R is a C 5 to C 15 alkyl group, or a group represented by the chemical formula 2. R 1 in Chemical Formula 2 is a C 1 -C 15 alkyl group, R 1
2 is an alkyl group or H or a halogen atom, a C 1 -C 3.
【請求項2】 導電性ポリマー層をゼラチンを含む裏塗
り層とフィルムベースとの間に持つハロゲン化銀フィル
ム感光材料において、該導電性ポリマーがジアルキルア
ミノアルキル(メタ)アクリレートとスチレンスルホン
酸またはそのアルカリ金属塩との共重合体をゼラチンま
たはその他の水溶性ポリマーにグラフトしたものであ
り、かつ該導電性ポリマー層中にエポキシ化合物及び化
1で示される界面活性剤を含有することを特徴とするハ
ロゲン化銀フィルム感光材料。
2. A silver halide film light-sensitive material having a conductive polymer layer between a backing layer containing gelatin and a film base, wherein the conductive polymer is dialkylaminoalkyl (meth) acrylate and styrenesulfonic acid or a compound thereof. It is characterized in that a copolymer with an alkali metal salt is grafted to gelatin or other water-soluble polymer, and that the conductive polymer layer contains an epoxy compound and a surfactant shown in Chemical formula 1. Silver halide film photosensitive material.
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