JPH0611767B2 - Photocurable composition - Google Patents

Photocurable composition

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JPH0611767B2
JPH0611767B2 JP60022636A JP2263685A JPH0611767B2 JP H0611767 B2 JPH0611767 B2 JP H0611767B2 JP 60022636 A JP60022636 A JP 60022636A JP 2263685 A JP2263685 A JP 2263685A JP H0611767 B2 JPH0611767 B2 JP H0611767B2
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acrylate
colloidal silica
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photocurable composition
unsaturated carboxylic
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公一 原
隆夫 井ノ口
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Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、光により硬化する光硬化性組成物、特に光
たとえば紫外線により硬化して、基材への密着性、表面
の耐摩耗性および表面外観の良好な被膜を形成する光硬
化性組成物に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photocurable composition that is cured by light, particularly, a photocurable composition that is cured by light, for example, ultraviolet rays to obtain adhesion to a substrate, surface abrasion resistance and The present invention relates to a photocurable composition that forms a film having a good surface appearance.

[従来の技術およびその問題点] たとえばプラスチックの表面の硬度、耐摩耗性を向上さ
せることは、製品の耐久性を向上させ、その寿命を長期
化するのに極めて有効である。
[Prior Art and Its Problems] For example, improving the hardness and abrasion resistance of the surface of plastic is extremely effective in improving the durability of the product and prolonging its life.

このための方法として、従来、アクリレート化合物、シ
ラン化合物、シリカおよび光重合開始剤からなる組成物
に紫外線を照射して、プラスチック等の基材の表面に硬
化被膜を形成することが知られている(特開昭57−1
31214号公報、特開昭57−500984号公報、
特開昭58−1756号公報等参照)。
As a method for this, it has been conventionally known to irradiate a composition comprising an acrylate compound, a silane compound, silica and a photopolymerization initiator with ultraviolet rays to form a cured film on the surface of a substrate such as plastic. (JP-A-57-1
31214, JP-A-57-500984,
See JP-A-58-1756).

しかしながら、前記方法における組成物は、シリカの表
面をシラン化合物で処理するものであるから、その製造
工程が複雑となり、また、高価なシランを使用しなけれ
ばならない。
However, since the composition in the above method treats the surface of silica with a silane compound, the production process is complicated and expensive silane must be used.

この発明は前記事情に基づいてなされたものである。The present invention has been made based on the above circumstances.

すなわち、この発明の目的は、基材との密着性、耐温水
性、耐摩耗性、耐熱クラック性および表面外観に良好で
表面硬度の大きな被膜を形成することができ、しかも、
簡単な製造工程で安価に製造することのできる組成物を
提供することにある。
That is, an object of the present invention is to form a coating having good surface hardness, adhesion to a substrate, hot water resistance, abrasion resistance, heat crack resistance, and good surface appearance, and
An object of the present invention is to provide a composition that can be manufactured at low cost by a simple manufacturing process.

[前記目的を達成するための手段] 前記目的を達成するためにこの発明者が鋭意研究した結
果、α,β−不飽和カルボン酸化合物類とコロイドシリ
カと光重合開始剤とを特定の配合比で配合した組成物は
基材との密着性、耐温水性、耐摩耗性、耐熱クラック性
および表面外観が良好な硬化被膜を形成することを見出
してこの発明に到達した。
[Means for Achieving the Object] As a result of earnest research by the inventor in order to achieve the object, the α, β-unsaturated carboxylic acid compounds, colloidal silica, and photopolymerization initiator have a specific compounding ratio. The present invention was reached by finding that the composition blended in (1) forms a cured film having good adhesion to a substrate, hot water resistance, abrasion resistance, heat crack resistance and surface appearance.

すなわち、前記目的を達成するためのこの発明の概要
は、α,β−不飽和カルボン酸化合物類100重量部
と、低級アルコール中に分散されたコロイドシリカ1〜
400重量部と光重合開始剤0.1〜10重量部とを有す
ることを特徴とする光硬化性組成物である。
That is, the outline of the present invention for achieving the above object is as follows: 100 parts by weight of α, β-unsaturated carboxylic acid compounds and colloidal silica 1 to 1 dispersed in a lower alcohol.
A photocurable composition comprising 400 parts by weight and 0.1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator.

前記α,β−不飽和カルボン酸化合物類としては、たと
えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸およびイソ
クロトン酸等のα,β−不飽和カルボン酸、並びに前記
α,β−不飽和カルボン酸のエステル誘導体等が挙げら
れ、好ましいのは、前記アクリル酸およびそのエステル
誘導体である。
Examples of the α, β-unsaturated carboxylic acid compounds include α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and isocrotonic acid, and ester derivatives of the α, β-unsaturated carboxylic acids. And the like, and the acrylic acid and its ester derivative are preferable.

前記アクリル酸のエステル誘導体としては、たとえば、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピ
ルアクリレート、n−ブチルアクリレート、t−ブチル
アクリレート、イソブチルアクリレート、エチルヘキシ
ルアクリレート、イソデシルアクリレート、n−ヘキシ
ルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルア
クリレート、トリデシルアクリレート、フェノキシエチ
ルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキ
シエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メ
トキシエトキシエチルアクリレート、2−エトキシエト
キシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレ
ート、ジシクロペンテニルオキシアクリレート、ジシク
ロペンタジエニルアクリレート、ジシクロペンタジエン
エトキシアクリレート、メトキシジエチレングリコール
アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレ
ート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、
ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキ
シジプロピレングリコールアクリレート、フェノキシジ
エチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエ
チレングリコールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェニルオキシプロピルアクリレート、ノニルフェノー
ルエチレンオキサイド付加物アクリレート、ノニルフェ
ノールプロピレンオキサイド付加物アクリレート、オク
タフルオロペンチルアクリレート、N,N−ジメチルア
ミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチ
ルアクリレート、アリルアクリレート、1,3−ブタン
ジオールアクリレート、1,4−ブタンジオールアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールアクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
プロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバ
リン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパンジアクリレート、ビス(ア
クリロキシエトキシ)ビスフェノールA、ビス(アクリ
ロキシエトキシ)テトラブロモビスフェノールA、ビス
(アクリロキシポリエトキシ)ビスフェノールA、1,
3−ビス(ヒドロキシエチル)5,5−ジメチルヒダン
トイン、3−メチルペンタンジオールアクリレート、
α,ω−ジアクリルビスジエチレングリコールフタレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ
アクリレート、α,ω−テトラアリルビストリメチロー
ルプロパンテトラヒドロフタレート等、並びに2−ヒド
ロキシエチルアクリロイルホスフェートのような無機酸
エステル等が挙げられる。
As the ester derivative of acrylic acid, for example,
Methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, t-butyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylhexyl acrylate, isodecyl acrylate, n-hexyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate, tridecyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, Ethoxyethyl acrylate, methoxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, butoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl. Acrylate, dicyclope Butenyl oxy acrylate, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadiene ethoxy acrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, ethoxy diethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate,
Butoxytriethylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, phenoxytetraethylene glycol acrylate, 2-hydroxy-3-
Phenyloxypropyl acrylate, nonylphenol ethylene oxide adduct acrylate, nonylphenol propylene oxide adduct acrylate, octafluoropentyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-diethylaminoethyl acrylate, allyl acrylate, 1,3-butanediol Acrylate, 1,4-butanediol acrylate, 1,6-hexanediol acrylate, polyethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, hydroxypivalate ester neo Pentyl glycol diacrylate, trimethylol B Panaji acrylate, bis (acryloxyethoxy) bisphenol A, bis (acryloxyethoxy) tetrabromobisphenol A, bis (acryloxy polyethoxy) bisphenol A, 1,
3-bis (hydroxyethyl) 5,5-dimethylhydantoin, 3-methylpentanediol acrylate,
α, ω-diacrylbisdiethylene glycol phthalate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, α, ω-tetraallyl bistrimethylolpropane tetrahydrophthalate, etc. , And inorganic acid esters such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate.

これらのα,β−不飽和カルボン酸化合物類は、前記各
種のものを単独で使用することもできるが、その二種以
上を混合して併用するのが好ましく、たとえば二種の
α,β−不飽和カルボン酸化合物を使用する場合、たと
えばペンタエリスリトールトリアクリレートと2−ヒド
ロキシエチルアクリレートとの組合せ、トリメチロール
プロパントリアクリレートとジエチレングリコールジア
クリレートとの組合せが好ましい。
These α, β-unsaturated carboxylic acid compounds may be used alone, but it is preferable to use a mixture of two or more thereof, for example, two α, β-unsaturated carboxylic acid compounds. When using unsaturated carboxylic acid compounds, for example, a combination of pentaerythritol triacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate, a combination of trimethylolpropane triacrylate and diethylene glycol diacrylate are preferred.

前記コロイドシリカは、通常、粒径が10〜30mμ程
度の超微粒子であり、低級アルコールに分散したコロイ
ド液として存在する。特に、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール等の低級アルコール中
に分散したコロイドシリカは、この発明の組成物中での
分散が良好となり、硬化被膜の耐摩耗性が向上するの
で、水に分散するよりも好ましい。この低級アルコール
中に分散するコロイドシリカの濃度は、通常、1〜50
重量%である。
The colloidal silica is usually ultrafine particles having a particle size of about 10 to 30 mμ and exists as a colloidal liquid dispersed in a lower alcohol. Especially methanol, ethanol,
Colloidal silica dispersed in a lower alcohol such as propanol or isopropanol has a better dispersion in the composition of the present invention and improves the abrasion resistance of the cured film, and is therefore preferable to being dispersed in water. The concentration of colloidal silica dispersed in this lower alcohol is usually 1 to 50.
% By weight.

このような低級アルコールにコロイドシリカを分散した
ものとして、たとえばオスカル(Oscal)[触媒化
成工業(株)製]という商品名で商業的に入手すること
ができる。
A dispersion of colloidal silica in such a lower alcohol is commercially available, for example, under the trade name of Oscal [manufactured by Catalysts & Chemicals Industry Co., Ltd.].

前記光重合開始剤としては、光エネルギーの吸収により
ラジカルを発生するものであればどのようなものでも良
く、たとえば、アセトフェノン、2,2−ジエトキシア
セトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p
−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、
2−クロロベンゾフェノン、p,p′−ジクロロベンゾ
フェノン、p,p′−ビスジエチルアミノベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾイン−n−プロピルエーテル、ベンゾインイソブ
チルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベン
ジルメチルケタール、テトラメチルインモニウムモノサ
ルファイド、チオキサンソン、2−クロロチオキサンソ
ン、2−メチルチオキサンソン、アゾビスイソブチロニ
トリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパ
ーオキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−
1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、メチルベン
ゾイルホルメート、2,2−ジエトキシアセトフェノ
ン、4−N,N′−ジメチルアセトフェノン、o−ジメ
チルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、これらの
中でも、紫外線エネルギーを吸収してラジカルを発生す
る1−(4−イソプロピルフェニル)−2−シドロキシ
−2−メチルプロパン−1−オン等のケトン系化合物を
好適に使用することができる。
The photopolymerization initiator may be any one as long as it generates a radical by absorbing light energy, and examples thereof include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone and p.
-Dimethylaminopropiophenone, benzophenone,
2-chlorobenzophenone, p, p'-dichlorobenzophenone, p, p'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether,
Benzoin-n-propyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzylmethyl ketal, tetramethylimmonium monosulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, azobisisobutyronitrile, Benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-
1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, methylbenzoyl formate, 2,2-diethoxyacetophenone, 4-N, N'-dimethylacetophenone, o -Isoamyl dimethylaminobenzoate and the like are mentioned, and among these, a ketone system such as 1- (4-isopropylphenyl) -2-sidroxy-2-methylpropan-1-one which absorbs ultraviolet energy and generates a radical. The compound can be preferably used.

この発明に係る光硬化性組成物は、前記α,β−不飽和
カルボン酸化合物類100重量部に対して前記コロイド
シリカ1〜400重量部、好ましくは5〜100重量
部、および前記光重合開始剤0.1〜10重量部、好まし
くは1〜8重量部を配合することが重要である。なお、
前記コロイドシリカの配合量は、コロイドシリカそれ自
身の重量部を言うのであって、水,低級アルコール等に
分散したコロイドシリカを使用するときであっても、溶
媒の重量を前記コロイドシリカの重量に含めない。
The photocurable composition according to the present invention comprises 1 to 400 parts by weight of the colloidal silica, preferably 5 to 100 parts by weight, and 100 to 100 parts by weight of the α, β-unsaturated carboxylic acid compounds, and the photopolymerization initiation. It is important to add 0.1-10 parts by weight, preferably 1-8 parts by weight of the agent. In addition,
The blending amount of the colloidal silica means the weight part of the colloidal silica itself, and even when the colloidal silica dispersed in water, a lower alcohol or the like is used, the weight of the solvent is added to the weight of the colloidal silica. exclude.

前記コロイドシリカの配合量が1重量部未満であると、
この光硬化性組成物を硬化して得られる被膜に十分な耐
摩耗性を付与することができず、また、前記コロイドシ
リカの配合量が400重量部を越えると、被膜にクラッ
クが発生する。
When the content of the colloidal silica is less than 1 part by weight,
Sufficient abrasion resistance cannot be imparted to the film obtained by curing this photocurable composition, and if the amount of the colloidal silica compounded exceeds 400 parts by weight, the film will crack.

前記光重合開始剤の配合量が0.1重量部未満であると、
この光硬化性組成物の硬化性が悪くなり、また、配合量
が10重量部を越えると、被膜が着色する等の問題を生
ずる。
When the blending amount of the photopolymerization initiator is less than 0.1 parts by weight,
The curability of the photocurable composition is deteriorated, and when the blending amount exceeds 10 parts by weight, problems such as coloring of the coating film occur.

この発明の光硬化性組成物は、前記α,β−不飽和カル
ボン酸化合物類と低級アルコール中に分散されたコロイ
ドシリカと光重合開始剤とを混合することにより得るこ
とができる。前記各成分の混合順序に制限はなく、どの
ような順序で混合しても良い。もっとも、前記α,β−
不飽和カルボン酸化合物類と低級アルコール中に分散さ
れたコロイドシリカとを混合してから、これらに前記光
重合開始剤を配合するのが好ましい。
The photocurable composition of the present invention can be obtained by mixing the α, β-unsaturated carboxylic acid compounds, colloidal silica dispersed in a lower alcohol, and a photopolymerization initiator. The order of mixing the components is not limited, and the components may be mixed in any order. However, the above α, β-
It is preferable that the unsaturated carboxylic acid compounds and the colloidal silica dispersed in the lower alcohol are mixed and then the photopolymerization initiator is added thereto.

この発明に係る光硬化性組成物は、基材表面に塗布し、
光、特に紫外線を照射すると硬化して被膜を形成する。
The photocurable composition according to the present invention is applied to the surface of a substrate,
When it is exposed to light, especially ultraviolet rays, it cures and forms a film.

前記被膜を好適に形成することのできる基材としては、
たとえばポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテ
ルイミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリメチルメタ
クリレート等のプラスチック、鋼、アルミニウム等の金
属等が挙げられる。これら基材の中でも、特にポリカー
ボネートが好ましい。
As the base material on which the coating film can be suitably formed,
Examples thereof include plastics such as polycarbonate, polyester, polyetherimide, polyphenylene oxide and polymethylmethacrylate, and metals such as steel and aluminum. Of these substrates, polycarbonate is particularly preferable.

また、この光硬化性組成物は、たとえばコーティングバ
ー、ドクターナイフ、スプレー等を使用する方法、浸漬
法等により基材表面に塗布することができる。
The photocurable composition can be applied to the surface of the substrate by, for example, a method using a coating bar, a doctor knife, a spray or the like, or a dipping method.

光、特に紫外線は、たとえば高圧水銀ランプにより照射
することができる。
Light, in particular UV light, can be applied, for example, by means of a high-pressure mercury lamp.

[発明の効果] この発明に係る光硬化性組成物は、α,β−不飽和カル
ボン酸と低級アルコール中に分散されたコロイドシリカ
と光重合開始剤とを単に混合するだけで得ることができ
るから、簡単に、しかも安価に製造することができ、し
かも前記各成分を特定の配合比で配合してなるので、光
硬化後の基材と被膜との密着性、硬化後の被膜の耐温水
性および耐熱クラック性、被膜表面の耐摩耗性が良好
で、また被膜の表面外観はクラックの発生もなく平滑で
美麗である。
EFFECTS OF THE INVENTION The photocurable composition according to the present invention can be obtained by simply mixing α, β-unsaturated carboxylic acid, colloidal silica dispersed in a lower alcohol, and a photopolymerization initiator. Therefore, it can be easily and inexpensively manufactured, and since the above-mentioned components are mixed in a specific mixing ratio, the adhesion between the base material and the coating film after photocuring, and the hot water resistance of the coating film after curing. And the resistance to heat cracking and abrasion resistance of the coating surface are good, and the surface appearance of the coating is smooth and beautiful without cracks.

[実施例] 次にこの発明の実施例および比較例を示してこの発明を
さらに具体的に説明する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically by showing Examples and Comparative Examples of the present invention.

(実施例1〜11) 第1表に示す種類のアクリレート化合物およびイソプロ
パノールに分散したコロイドシリカ(濃度30重量%)
を第1表に示す配合比で、混合し、次いで第1表に示す
配合比で、光重合開始剤として1−(4−イソプロピル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オンを添加して光硬化性組成物を得た。
(Examples 1 to 11) Colloidal silica dispersed in acrylate compounds of the types shown in Table 1 and isopropanol (concentration 30% by weight)
Were mixed at the compounding ratio shown in Table 1, and then 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1 was used as the photopolymerization initiator at the compounding ratio shown in Table 1.
-ON was added to obtain a photocurable composition.

この光硬化性組成物をコーティングバーで厚み3mmのポ
リカーボネート板に塗布し、出力120W/cmの高圧水
銀ランプを150mmの距離、コンベア速度2m/分で照
射して、硬化被膜を形成した。
This photocurable composition was applied to a polycarbonate plate having a thickness of 3 mm with a coating bar, and a high pressure mercury lamp having an output of 120 W / cm was irradiated at a distance of 150 mm at a conveyor speed of 2 m / min to form a cured film.

得られた試料の特性につき、以下の試験法で評価した。
その結果を第1表に示す。
The characteristics of the obtained sample were evaluated by the following test methods.
The results are shown in Table 1.

なお、使用したアクリル酸化合物およびコロイダルシリ
カの種類は、次のとおりである。
The types of acrylic acid compound and colloidal silica used are as follows.

アクリレート化合物A;ペンタエリスリトールトリアク
リレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートとの4:
1(重量比)混合物 アクリレート化合物B;ペンタエリスリトールトリアク
リレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートとの3:
2(重量比)混合物 アクリレート化合物C;トリメチロールプロパントリア
クリレートとジエチレングリコールジアクリレートとの
3:2(重量比)の混合物 アクリレート化合物D;アロニックスUV−3700
[東亜合成化学工業(株)製、光重合開始剤未添加]
(紫外線硬化型のアクリレート化合物) コロイドシリカa;Oscal 1432(平均粒子径
12mμ)[触媒化成工業(株)製] コロイドシリカb;Oscal 1433(平均粒子径
18mμ)[触媒化成工業(株)製] コロイドシリカc;Oscal 1434(平均粒子径
25mμ)[触媒化成工業(株)製] {初期密着性} 前記試料の被膜表面に縦,横それぞれ1cmの等間隔のク
ロスカットを入れて100個の目を形成し、セロハン粘
着テープによる剥離操作をし、剥離しなかった目の数で
初期密着性を評価した。
Acrylate compound A: Pentaerythritol triacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate 4:
1 (weight ratio) mixture Acrylate compound B; pentaerythritol triacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate 3:
2 (weight ratio) Mixture Acrylate compound C; 3: 2 (weight ratio) mixture of trimethylolpropane triacrylate and diethylene glycol diacrylate Acrylate compound D; Aronix UV-3700
[Toagosei Chemical Industry Co., Ltd., no photopolymerization initiator added]
(UV-Curable Acrylate Compound) Colloidal silica a; Oscal 1432 (average particle size
12 mμ) [Catalyst Chemical Co., Ltd.] Colloidal silica b; Oscal 1433 (average particle size)
18mμ) [Catalyst Chemical Co., Ltd.] Colloidal silica c; Oscal 1434 (average particle size
25 mμ) [Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.] {Initial adhesiveness} Cross-cuts at equal intervals of 1 cm in length and width are put on the coating surface of the sample to form 100 eyes, and peeling operation with cellophane adhesive tape The initial adhesion was evaluated by the number of eyes that were not peeled off.

{耐温水性} 前記初期密着性の場合と同様にクロスカットを入れて1
00個の目を形成し、85℃の温水に3時間浸漬した
後、セロハン粘着テープによる剥離操作をし、剥離しな
かった目の数で耐温水性を評価した。
{Hot water resistance} 1 with cross-cut as in the case of initial adhesion
After forming 00 eyes and immersing the eyes in warm water at 85 ° C. for 3 hours, a peeling operation was performed with a cellophane adhesive tape, and the hot water resistance was evaluated by the number of eyes that were not peeled.

{テーバ摩耗性} CS−10摩耗輪および500gの荷重を備えたテーバ
摩耗試験機で100回転させたときの「かすみ度
(%)」を摩耗試験前の「かすみ度(%)」との差で評
価した。
{Taber Wearability} Difference between "haze degree (%)" before wear test when "100 degree of haze" is measured with a Taber abrasion tester equipped with a CS-10 wear wheel and a load of 500 g. It was evaluated by.

{耐熱クラック性} 120℃の乾燥機中に試料を投入して500時間後の表
面のクラックの有無を目視で観察して評価した。
{Heat-resistant crack resistance} The presence or absence of cracks on the surface 500 hours after the sample was placed in a dryer at 120 ° C was visually observed and evaluated.

{塗膜外観} 試料における硬化被膜の表面外観を目視で観察して評価
した。
{Appearance of coating film} The surface appearance of the cured coating film in the sample was visually observed and evaluated.

(比較例1〜4) コロイドシリカを配合しない外は前記実施例と同様にし
て硬化被膜を得、前記実施例と同様にしてこの被膜の特
性を評価した。その結果を第1表に示す。
(Comparative Examples 1 to 4) A cured coating film was obtained in the same manner as in the above Example except that no colloidal silica was added, and the characteristics of this coating film were evaluated in the same manner as in the above Example. The results are shown in Table 1.

(比較例5、6) コロイドシリカの配合比をこの発明で規定する範囲外と
した外は、前記実施例と同様にして硬化被膜を得、前記
実施例と同様にしてこの被膜の特性を評価した。比較例
6では硬化被膜が形成されたが、被膜にクラックが発生
した。
(Comparative Examples 5 and 6) A cured coating film was obtained in the same manner as in the above Example except that the compounding ratio of colloidal silica was outside the range specified in the present invention, and the characteristics of this coating film were evaluated in the same manner as in the above Example. did. In Comparative Example 6, a cured film was formed, but cracks occurred in the film.

(比較例7,8) 光重合開始剤の配合比をこの発明で規定する範囲外とし
た外は、前記実施例と同様にした。比較例7では、硬化
被膜が形成されたが、被膜は黄変した。比較例8では、
組成物は硬化せず、被膜が形成されなかった。
(Comparative Examples 7 and 8) Comparative Examples 7 and 8 were carried out in the same manner as in the above Examples except that the compounding ratio of the photopolymerization initiator was outside the range specified in the present invention. In Comparative Example 7, a cured coating was formed, but the coating turned yellow. In Comparative Example 8,
The composition did not cure and no film formed.

第1表の実施例および比較例を比べると、この発明に係
る光硬化性組成物による硬化被膜は、基材との密着性、
耐温水性、耐摩耗性および被膜の表面外観が共に優れ、
コロイドシリカを配合しない組成物の硬化被膜は、基材
との密着性、耐温水性、耐摩耗性がいずれも劣り、ま
た、アクリレート化合物、コロイドシリカおよび光重合
開始剤を共に配合していても、この発明で規定する配合
比を外れると、硬化被膜の特性が不良となることが分
る。
Comparing the examples and comparative examples in Table 1, the cured film of the photocurable composition according to the present invention shows the adhesion to the substrate,
Both hot water resistance, abrasion resistance and surface appearance of the coating are excellent,
The cured coating of the composition containing no colloidal silica is inferior in adhesion to a substrate, hot water resistance and abrasion resistance, and even if an acrylate compound, colloidal silica and a photopolymerization initiator are both compounded. It can be seen that if the compounding ratio defined by the present invention is deviated, the characteristics of the cured film become poor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】α,β−不飽和カルボン酸化合物類100
重量部と、低級アルコール中に分散されたコロイドシリ
カ1〜400重量部と光重合開始剤0.1〜10重量部と
を有することを特徴とする光硬化性組成物。
1. An α, β-unsaturated carboxylic acid compound 100.
A photocurable composition comprising 1 part by weight, 1 to 400 parts by weight of colloidal silica dispersed in a lower alcohol, and 0.1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63286409A (en) * 1987-05-19 1988-11-24 Idemitsu Petrochem Co Ltd Production of curable resin composition
IL89696A0 (en) * 1988-04-11 1989-09-28 Minnesota Mining & Mfg Abrasion resistant coatings comprising silicon dioxide dispersions
JP2659391B2 (en) * 1988-04-18 1997-09-30 サンスター技研株式会社 Photocurable composition
US4973612A (en) * 1989-11-30 1990-11-27 Dow Corning Corporation Silane free radiation curable abrasion resistant coating composition containing an unsaturated organic compound
US6383641B1 (en) 1997-08-15 2002-05-07 Asahi Glass Company Ltd. Transparent coated molded product and method for producing the same
CN1934201B (en) * 2004-03-26 2011-04-13 旭硝子株式会社 Active energy ray curable coating composition and molded product
DE102007032886A1 (en) 2007-07-14 2009-01-15 Bayer Materialscience Ag Hydrophilic hardcoat coatings
KR101457254B1 (en) * 2007-09-28 2014-10-31 아사히 가라스 가부시키가이샤 Photocurable composition, method for producing fine patterned body, and optical device
DE102008004622A1 (en) 2008-01-16 2009-07-23 Bayer Materialscience Ag Silica-containing UV-curable hardcoat coatings with urethane acrylates
EP2264492B1 (en) 2008-04-08 2014-07-02 Asahi Glass Company, Limited Manufacturing method for a wire grid polarizer
JP5819198B2 (en) 2009-02-12 2015-11-18 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフトBayer MaterialScience AG Anti-reflective / anti-fog coating

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5438619A (en) * 1977-08-31 1979-03-23 Nippon Tokushu Toryo Co Ltd Thick slate with ultraviolet ray hardened transparent coating layer
JPS5632510A (en) * 1979-08-27 1981-04-02 Sumitomo Chem Co Ltd Radically curable composition
JPS5936667A (en) * 1982-07-26 1984-02-28 Sankyo Co Ltd Aminopyrimidine derivative
JPS5958036A (en) * 1982-09-29 1984-04-03 Nitto Electric Ind Co Ltd Manufacture of sheet with high glareproof effect and scratch resistance

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