JPH06103909A - Microwave ion source - Google Patents
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- JPH06103909A JPH06103909A JP4274909A JP27490992A JPH06103909A JP H06103909 A JPH06103909 A JP H06103909A JP 4274909 A JP4274909 A JP 4274909A JP 27490992 A JP27490992 A JP 27490992A JP H06103909 A JPH06103909 A JP H06103909A
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、冷媒通流構造のアンテ
ナを有し、断面短冊形状、いわゆる長尺の大きなイオン
ビームを引出すことができるマイクロ波イオン源に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microwave ion source having an antenna having a coolant flow structure and capable of extracting a large ion beam having a rectangular cross section.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図３は、先の提案に係るマイクロ波イオ
ン源であって、マイクロストリップ線路構造アンテナ部
を有し、断面短冊形状のイオンビームを引きだすことが
できるイオン源の断面図であり、図４は図３のＡ−Ａ線
での断面図である。このイオン源は、プラズマ室１の内
部に磁界中のマイクロ波放電によってプラズマを生成
し、このプラズマから引出し電極系２によりイオンビー
ムを引出すものであり、この引出し電極系に対向するプ
ラズマ室の室壁１ａに沿ってマイクロ波放射用の一次元
的に長いアンテナ３が配置されている。このアンテナ
は、高密度かつ均一性の高いプラズマが生成できるよう
に、例えば２本の同じ構造のものがプラズマ室１内に平
行に配置されており、各アンテナ３は、真空気密とマイ
クロ波の絶縁を兼ねるシール部材４を用いてプラズマ室
１の側壁１ｂを貫通してプラズマ室内に導入されてお
り、アンテナの一端側にマイクロ波電力を供給するマイ
クロ波発生器５を接続し、アンテナの他端側、終端部は
金具６によってプラズマ室の側壁部１ｂに電気的に接続
されている。2. Description of the Related Art FIG. 3 is a cross-sectional view of a microwave ion source according to the above proposal, which has an antenna portion of a microstrip line structure and can extract an ion beam having a strip-shaped cross section. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. This ion source is to generate a plasma inside the plasma chamber 1 by a microwave discharge in a magnetic field and to extract an ion beam from the plasma by an extraction electrode system 2. The chamber of the plasma chamber facing the extraction electrode system. A one-dimensionally long antenna 3 for microwave radiation is arranged along the wall 1a. This antenna has, for example, two antennas having the same structure arranged in parallel in the plasma chamber 1 so that high-density and highly uniform plasma can be generated. Each antenna 3 has a vacuum-tight and microwave-tight structure. A seal member 4 also serving as an insulation is used to penetrate the side wall 1b of the plasma chamber 1 and be introduced into the plasma chamber. A microwave generator 5 for supplying microwave power is connected to one end of the antenna to connect the antenna to the other side. The end and the end are electrically connected to the side wall 1b of the plasma chamber by the metal fitting 6.
【０００３】マイクロ波電力がプラズマに結合する領域
の誘電率テンソルを変化させるために、プラズマ室の室
壁１ａの背面側には各アンテナ３にそれぞれ平行に第１
の磁石７が配置されており、各列の磁石は小さい永久磁
石をアンテナに沿って複数個並べて構成されており、そ
れらを押え板８によって固定している。In order to change the dielectric constant tensor in the region where the microwave power is coupled to the plasma, the first side is parallel to each antenna 3 on the back side of the chamber wall 1a of the plasma chamber.
Magnets 7 are arranged, and each row of magnets is composed of a plurality of small permanent magnets arranged side by side along the antenna, and they are fixed by a holding plate 8.
【０００４】プラズマ室１は、マイクロ波放電に伴いア
ンテナ３の近傍で生成された高速電子によるイオン源ガ
スの電離を促進させる放電空間であり、この高速電子の
閉じ込めを良くするために、プラズマ室の側壁１ｂの周
囲に、プラズマ室内に線カスプ磁界を形成する複数の小
さい永久磁石による第２の磁石９を配置している。The plasma chamber 1 is a discharge space that promotes ionization of the ion source gas by the high-speed electrons generated in the vicinity of the antenna 3 due to the microwave discharge. To improve the confinement of the high-speed electrons, the plasma chamber 1 A plurality of second permanent magnets 9 that are small permanent magnets that form a linear cusp magnetic field in the plasma chamber are arranged around the side wall 1b.
【０００５】引出し電極系２は、図示しない引出し電源
から高電圧が印加され、プラズマ室１と同電位にあるプ
ラズマ電極２1と、その下流側の接地電極２2で構成され
ている。各電極には、断面短冊形状のイオンビームを引
出すために、それぞれスリット状のイオン引出し孔２1
ａ、２2ａが形成されている。The extraction electrode system 2 is composed of a plasma electrode 2 1 to which a high voltage is applied from an extraction power source (not shown) and which has the same potential as the plasma chamber 1, and a ground electrode 2 2 on the downstream side thereof. In order to extract an ion beam having a strip-shaped cross section, a slit-shaped ion extraction hole 2 1 is formed in each electrode.
a, 2 2 a are formed.
【０００６】プラズマ室にイオン化したい所要のイオン
源ガスを導入し、アンテナ３にマイクロ波発生器５から
マイクロ波電力を供給すると、アンテナの近傍に、マイ
クロ波放電が起こりプラズマが生成される。そして生成
されたプラズマ中の高速電子とガス分子との衝突によっ
てプラズマ室内に更にプラズマが生成され、かかるプラ
ズマから引出し電極系２によってイオンビームが引出さ
れる。When a required ion source gas to be ionized is introduced into the plasma chamber and microwave power is supplied to the antenna 3 from the microwave generator 5, microwave discharge occurs near the antenna and plasma is generated. Then, plasma is further generated in the plasma chamber by collision of high-speed electrons and gas molecules in the generated plasma, and the ion beam is extracted from the plasma by the extraction electrode system 2.
【０００７】そして、このイオン源では、アンテナ３、
その近傍のプラズマ室１の室壁１ａ及びアンテナの周囲
のプラズマがマイクロ波ストリップ線路構造を形成して
おり、これにより、アンテナの近傍で発生したプラズマ
がプラズマ室の中心部方向に拡散しやすくなるから、マ
イクロ波がアンテナの給電部付近でプラズマによってカ
ットオフされにくくなる。その結果、アンテナ３の長手
方向におけるマイクロ波の伝搬とプラズマによるマイク
ロ波の吸収とを両立させることができるようになり、プ
ラズマにマイクロ波電力をアンテナのほぼ全域に亘って
吸収させて同全域に均一なプラズマを生成することを可
能にする。これに伴い、アンテナ３のほぼ全域という長
い領域に亘って均一性の良好なイオンビームを引出すこ
とが可能になる。In this ion source, the antenna 3,
The plasma around the chamber wall 1a of the plasma chamber 1 and the antenna in the vicinity thereof forms a microwave strip line structure, which facilitates the diffusion of plasma generated near the antenna toward the center of the plasma chamber. Therefore, the microwaves are less likely to be cut off by the plasma in the vicinity of the feeding portion of the antenna. As a result, the propagation of microwaves in the longitudinal direction of the antenna 3 and the absorption of microwaves by the plasma can both be achieved, and the microwave power is absorbed by the plasma over almost the entire area of the antenna and the microwave power is absorbed over the entire area. It enables to generate a uniform plasma. Along with this, it becomes possible to extract an ion beam with good uniformity over a long region, which is almost the entire region of the antenna 3.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上述のマイクロ波スト
リップ線路構造を有する長尺イオン源においては、プラ
ズマ励起用のマイクロ波を供給するに当り、線状の長い
アンテナ３を用い、その絶縁、支持にはシール部材４を
用いている。しかし、アンテナ３は、プラズマ室１内に
生ずるプラズマの衝突により、加熱されるから、このよ
うにアンテナがシール部材４によって熱的にも他の部材
から絶縁されていると、大きなイオンビームを引出すた
めに、アンテナに大きなマイクロ波電力を供給し、プラ
ズマ生成量を増大させる場合、アンテナ、絶縁シール部
材の熱的破壊、ロウ付け部の融解等の事態を招くことに
なる。In the long ion source having the above microwave strip line structure, a long linear antenna 3 is used for supplying microwaves for plasma excitation, and its insulation and support are provided. The seal member 4 is used for the. However, since the antenna 3 is heated by the collision of the plasma generated in the plasma chamber 1, if the antenna is thermally insulated from the other members by the seal member 4 as described above, a large ion beam is extracted. Therefore, when a large amount of microwave power is supplied to the antenna to increase the amount of plasma generated, the antenna and the insulating seal member are thermally destroyed, and the brazing portion is melted.
【０００９】本発明は、アンテナについて、冷媒が循環
できる構造とすることにより、大電力のマイクロ波が供
給される場合にあっても、アンテナ部の破損を防ぎ、大
きなイオンビーム電流を生成することができるマイクロ
波イオン源の提供を目的とするものである。According to the present invention, since the antenna has a structure in which a coolant can circulate, damage to the antenna section is prevented and a large ion beam current is generated even when a high-power microwave is supplied. The purpose of the present invention is to provide a microwave ion source capable of performing the above.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、磁界中のマイ
クロ波放電によって内部にプラズマが生成されるプラズ
マ室と、生成されたプラズマからイオンビームを引出す
引出し電極系と、前記プラズマ室の室壁に沿って配置さ
れた一次元的に長いマイクロ波放射用のアンテナと、こ
のアンテナが配置された前記室壁の背面側にアンテナに
沿うように配置された磁石とを有し、前記アンテナ、前
記プラズマ室の前記室壁及び生成されたプラズマがマイ
クロ波ストリップ線路構造を形成しているマイクロ波イ
オン源において、前記アンテナの内部に細管を設け、こ
の細管を通してアンテナの内部に冷媒を通流させてなる
ことを特徴とするものである。The present invention is directed to a plasma chamber in which plasma is generated by microwave discharge in a magnetic field, an extraction electrode system for extracting an ion beam from the generated plasma, and a chamber of the plasma chamber. An antenna for one-dimensionally long microwave radiation arranged along a wall, and a magnet arranged along the antenna on the back side of the chamber wall in which this antenna is arranged, the antenna, In the microwave ion source in which the chamber wall of the plasma chamber and the generated plasma form a microwave strip line structure, a thin tube is provided inside the antenna, and a refrigerant is passed through the thin tube into the antenna. It is characterized by
【００１１】[0011]
【作用】冷媒の通流により、アンテナを冷却することが
できるから、大電力マイクロ波を供給するときにも、プ
ラズマによるアンテナの加熱を防ぎ、アンテナ、絶縁シ
ール部材の破損を防止することができる。Since the antenna can be cooled by the flow of the refrigerant, it is possible to prevent the antenna from being heated by the plasma and prevent the antenna and the insulating seal member from being damaged even when the high power microwave is supplied. .
【００１２】[0012]
【実施例】本発明の実施例について図面を参照して説明
する。図１はマイクロ波イオン源の断面図、図２はアン
テナ部の拡大断面図であり、図３、図４と同一符号は同
等部分を示す。プラズマ室１の引出し電極系２に対向す
る室壁１ａに沿ってマイクロ波放射用の一次元的に長い
アンテナ３が配置されている。このアンテナは、真空気
密とマイクロ波の絶縁を兼ねるシール部材、具体的には
アルミナセラミック製のハーメチックシール部材４を用
いてプラズマ室１の側壁１ｂを貫通しプラズマ室内に導
入されており、アンテナの一端側にマイクロ波電力を供
給するマイクロ波発生器５を接続し、アンテナの他端
側、終端部は金具６によってプラズマ室の側壁部１ｂに
電気的に接続されている。プラズマ室１内に高密度かつ
均一性の高いプラズマが生成できるように、２本のアン
テナ３が平行に配置されており、各アンテナに給電する
二つのマイクロ波発生器５は、両アンテナの端部の互い
に反対側の位置に設けられて各アンテナに給電してい
る。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a microwave ion source, FIG. 2 is an enlarged sectional view of an antenna portion, and the same reference numerals as those in FIGS. A one-dimensionally long antenna 3 for microwave radiation is arranged along a chamber wall 1a facing the extraction electrode system 2 of the plasma chamber 1. This antenna is introduced into the plasma chamber by penetrating the side wall 1b of the plasma chamber 1 using a hermetic sealing member 4 made of alumina ceramic, which is a sealing member that also serves as a vacuum airtight and microwave insulating. A microwave generator 5 for supplying microwave power is connected to one end side, and the other end side and the end portion of the antenna are electrically connected to the side wall portion 1b of the plasma chamber by a metal fitting 6. The two antennas 3 are arranged in parallel so that plasma with high density and high uniformity can be generated in the plasma chamber 1. The two microwave generators 5 feeding the respective antennas are connected to the ends of both antennas. The antennas are provided at positions opposite to each other to feed each antenna.
【００１３】各アンテナ３は、その内部に冷却水を通流
するために、内部に細管３’が設けられており、全体と
して同軸型の二重パイプ構造に形成されている。図２に
示すように、アンテナ３のマイクロ波供給側の端部をＴ
字状管構造とし、細管３’に矢印で示すように流入した
冷却水はアンテナの終端部分でアンテナ３の内部に入っ
て通流し、アンテナを冷却してＴ字状管部から流出す
る。アンテナ３の冷媒としては、水以外の液体、或いは
気体を用いてもよい。Each antenna 3 is provided with a thin tube 3'to allow cooling water to flow therein, and is formed as a coaxial double pipe structure as a whole. As shown in FIG. 2, connect the end of the antenna 3 on the microwave supply side to T
The cooling water having a V-shaped tube structure flows into the thin tube 3'as indicated by the arrow, flows into the inside of the antenna 3 at the terminal end of the antenna, and cools the antenna to flow out from the T-shaped tube portion. A liquid other than water or a gas may be used as the coolant of the antenna 3.
【００１４】マイクロ波はアンテナ３の表面とプラズマ
室１の室壁１ａで形成されるストリップ線路を伝搬して
いく。アンテナ３の厚みを供給されるマイクロ波の表皮
深さより厚くしておけば、アンテナの内部はマイクロ波
の伝搬に影響を与えない。したがって、アンテナ３の内
部に細管３’及び冷却水が存在してもマイクロ波とプラ
ズマの結合を損なうことなく、アンテナを冷却すること
ができる。The microwave propagates through the strip line formed by the surface of the antenna 3 and the chamber wall 1a of the plasma chamber 1. If the thickness of the antenna 3 is made thicker than the skin depth of the supplied microwave, the inside of the antenna does not affect the propagation of the microwave. Therefore, even if the thin tube 3 ′ and the cooling water exist inside the antenna 3, the antenna can be cooled without impairing the coupling between the microwave and the plasma.
【００１５】マイクロ波電力がプラズマに結合する領域
の誘電率テンソルを変化させるために、プラズマ室の室
壁１ａの背面側には各対アンテナ３1、３2にそれぞれ平
行に第１の磁石７が配置されており、磁石７は押え板８
によって固定されている。プラズマ室１は、マイクロ波
放電に伴いアンテナ３の近傍で生成された高速電子によ
るイオン源ガスの電離を促進させる放電空間であり、こ
の高速電子の閉じ込めを良くするために、プラズマ室の
側壁１ｂの周囲に、プラズマ室内に多極線カスプ磁界を
形成する複数の小さい永久磁石による第２の磁石９を配
置している。引出し電極系２は、プラズマ電極２1と接
地電極２2で構成されているが、場合によっては、加速
−減速型の引出し電極系やユニポテンシャル型のレンズ
電極を付加した構造のものでもよい。また、引出し電極
系２における各電極のイオン引出し孔は、スリット状の
ものでもよいし、多孔の引出し孔でもよい。In order to change the permittivity tensor in the region where the microwave power is coupled to the plasma, the first magnet 7 is provided in parallel with each pair of antennas 3 1 and 3 2 on the back side of the chamber wall 1a of the plasma chamber. Are arranged, and the magnet 7 holds the holding plate 8
Is fixed by. The plasma chamber 1 is a discharge space that promotes ionization of the ion source gas by fast electrons generated in the vicinity of the antenna 3 along with the microwave discharge, and in order to improve the confinement of this fast electron, the side wall 1b of the plasma chamber 1b. Around the circumference of the above, a second magnet 9 composed of a plurality of small permanent magnets that form a multi-pole cusp magnetic field in the plasma chamber is arranged. The extraction electrode system 2 is composed of a plasma electrode 2 1 and a ground electrode 2 2 , but in some cases, it may have a structure in which an acceleration-deceleration type extraction electrode system or a unipotential type lens electrode is added. Further, the ion extraction hole of each electrode in the extraction electrode system 2 may be a slit-shaped one or a porous extraction hole.
【００１６】アンテナ３に沿わせた第１の磁石７によっ
て形成されるアンテナと室壁１ａとの間の領域の磁界
が、同領域の誘電率テンソルに影響を及ぼすから、この
磁石による磁界の強度と分布を調整し、或いはアンテナ
と室壁との間の距離を調整し、アンテナの長手方向にお
ける誘電率テンソルを調整することによって、アンテナ
の長手方向におけるマイクロ波のプラズマによる吸収を
均一化することができる。アンテナ３におけるマイクロ
波の供給側付近でマイクロ波の吸収が大きくなりがちで
あるから、具体的には、第１の磁石７によるアンテナの
マイクロ波供給側の磁界強度を終端部側のそれより大き
くするか、アンテナのマイクロ波供給側に置けるアンテ
ナと室壁１ａとの間の距離を、終端部側のそれより小さ
くすることにより、アンテナの長手方向におけるマイク
ロ波のプラズマによる吸収をより均一化することがで
き、その結果、生成されるプラズマをより均一化するこ
とができる。Since the magnetic field in the area between the antenna and the chamber wall 1a formed by the first magnet 7 along the antenna 3 affects the dielectric constant tensor in the area, the strength of the magnetic field by this magnet is large. And the distribution between them, or the distance between the antenna and the chamber wall, and the permittivity tensor in the longitudinal direction of the antenna to make the absorption of microwaves by the plasma uniform in the longitudinal direction of the antenna. You can Since the absorption of microwaves tends to be large in the vicinity of the microwave supply side of the antenna 3, specifically, the magnetic field strength on the microwave supply side of the antenna by the first magnet 7 is made larger than that on the terminal end side. Alternatively, by making the distance between the antenna on the microwave supply side of the antenna and the chamber wall 1a smaller than that on the terminal end side, the absorption of microwaves by the plasma in the longitudinal direction of the antenna is made more uniform. As a result, the generated plasma can be made more uniform.
【００１７】生成された高速電子がプラズマ室１内で効
率良く閉じ込められるように、線カスプ磁界を形成する
第２の磁石９を配置している。その際、プラズマ室１内
の磁界が全体として、いわゆる磁気フィルタ構造を形成
する場合には、ガス分子の付着性解離が進む。そこで、
閉じ込め磁界形成用の第２の磁石９とマイクロ波電力吸
収に係る第１の磁石７による磁界を調整し、両磁界を結
合させて、磁気フィルタを構成させることにより、イオ
ン源から引出されるイオンビームのイオン種の比率を変
化させることができる。A second magnet 9 for forming a linear cusp magnetic field is arranged so that the generated high-speed electrons are efficiently confined in the plasma chamber 1. At that time, when the magnetic field in the plasma chamber 1 forms a so-called magnetic filter structure as a whole, adhesive dissociation of gas molecules proceeds. Therefore,
Ions extracted from the ion source by adjusting the magnetic fields of the second magnet 9 for forming the confining magnetic field and the first magnet 7 relating to microwave power absorption and combining both magnetic fields to form a magnetic filter. The ratio of the ion species of the beam can be changed.
【００１８】平行に配置された各アンテナ３に給電する
二つのマイクロ波発生器５は、両アンテナの端部の互い
に反対側の位置にあり、全体として、プラズマが生成さ
れる長い領域の両端部からマイクロ波を供給するから、
プラズマ生成部の全長に亘ってマイクロ波の吸収が平
均、均一化され、プラズマ室１内に生成されるプラズマ
も均一化され、均一性のよい長尺のイオンビームを引出
すことができる。The two microwave generators 5 feeding the respective antennas 3 arranged in parallel are located at positions opposite to each other at the ends of both antennas, and as a whole, both ends of a long region where plasma is generated. Because it supplies microwaves from
The absorption of microwaves is averaged and made uniform over the entire length of the plasma generation unit, and the plasma generated in the plasma chamber 1 is also made uniform, so that a long ion beam with good uniformity can be extracted.
【００１９】[0019]
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、マイク
ロ波ストリップ線路構造をもつイオン源では一次元的に
長いアンテナを使用するが、このアンテナを同軸二重パ
イプ構造とし、内部に冷媒を通流させ、冷却している。
マイクロ波は、アンテナの表面部を伝搬するから、マイ
クロ波とプラズマとの結合を損なわずにアンテナを冷却
することができ、大電力マイクロ波の投入時におけるア
ンテナの加熱を防ぎ、更に、アンテナ自体及びアンテナ
絶縁シール部の熱的損傷、破壊を防ぐことができ、長尺
のイオンビーム、大きなイオン電流を生成するイオン源
を実現することができる。As described above, according to the present invention, a one-dimensionally long antenna is used in an ion source having a microwave strip line structure. This antenna has a coaxial double pipe structure, and a coolant is provided inside. It is flowing and cooling.
Since the microwave propagates on the surface of the antenna, the antenna can be cooled without impairing the coupling between the microwave and plasma, the antenna is prevented from being heated when the high-power microwave is applied, and further, the antenna itself. Further, it is possible to prevent thermal damage and destruction of the antenna insulating seal portion, and it is possible to realize a long ion beam and an ion source that generates a large ion current.
【図１】本発明の実施例の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention.
【図２】アンテナ部の拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of an antenna unit.
【図３】従来例の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a conventional example.
【図４】図４のＡ−Ａ線での断面図である。4 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
1 プラズマ室 2 引出し電極系 3 アンテナ 3' 細管 5 マイクロ波発生器 7 第１の磁石 8 押え板 9 第２の磁石 1 Plasma chamber 2 Extraction electrode system 3 Antenna 3'capillary tube 5 Microwave generator 7 First magnet 8 Holding plate 9 Second magnet
Claims (1)
プラズマが生成されるプラズマ室と、生成されたプラズ
マからイオンビームを引出す引出し電極系と、前記プラ
ズマ室の室壁に沿って配置された一次元的に長いマイク
ロ波放射用のアンテナと、このアンテナが配置された前
記室壁の背面側にアンテナに沿うように配置された磁石
とを有し、前記アンテナ、プラズマ室の前記室壁及び生
成されたプラズマがマイクロ波ストリップ線路構造を形
成しているマイクロ波イオン源において、前記アンテナ
の内部に細管を設け、この細管を通してアンテナの内部
に冷媒を通流させてなることを特徴とするマイクロ波イ
オン源。1. A plasma chamber in which plasma is generated by microwave discharge in a magnetic field, an extraction electrode system for extracting an ion beam from the generated plasma, and a primary chamber arranged along a chamber wall of the plasma chamber. An antenna for originally long microwave radiation, and a magnet arranged along the antenna on the back side of the chamber wall in which the antenna is arranged, the antenna, the chamber wall of the plasma chamber, and the generation. In a microwave ion source in which the generated plasma forms a microwave strip line structure, a thin tube is provided inside the antenna, and a refrigerant is made to flow through the thin tube into the antenna. Ion source.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4274909A JPH06103909A (en) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | Microwave ion source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4274909A JPH06103909A (en) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | Microwave ion source |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH06103909A true JPH06103909A (en) | 1994-04-15 |
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|---|---|---|---|
| JP4274909A Pending JPH06103909A (en) | 1992-09-21 | 1992-09-21 | Microwave ion source |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06103909A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010539669A (en) * | 2007-09-20 | 2010-12-16 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | Microwave plasma generator and plasma torch |
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1992
- 1992-09-21 JP JP4274909A patent/JPH06103909A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010539669A (en) * | 2007-09-20 | 2010-12-16 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | Microwave plasma generator and plasma torch |
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