JPH06103779A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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Publication number
JPH06103779A
JPH06103779A JP25306592A JP25306592A JPH06103779A JP H06103779 A JPH06103779 A JP H06103779A JP 25306592 A JP25306592 A JP 25306592A JP 25306592 A JP25306592 A JP 25306592A JP H06103779 A JPH06103779 A JP H06103779A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
lines
level
cell array
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP25306592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Ienaga
隆 家永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP25306592A priority Critical patent/JPH06103779A/en
Publication of JPH06103779A publication Critical patent/JPH06103779A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce current consumption by making a part of address signals the selection signal of a memory cell array, operating only a required memory cell array at the time of sampling and keeping the other memory cell arrays to be the out of operation state. CONSTITUTION:A pre-charging period holds when a clock signal PHI is L, word lines 101-104 become L and bit lines 107, 108 become H while the line capacities 19, 20 are pre-charged. Similarly, bit lines 105, 106 become H. Then, a sampling period holds when the signal PHI is H, and when that addresses A0, A1 are L, H, respectively, lines 101-103 remain in L and only the line 104 becomes H. Then, the capacities 19, 20 are discharged through the lines 107, 108 so that the lines become L. At this time, lines 105, 106 hold H. Since a memory cell array 2 is selected when a signal A1 is H, selectors 9, 10 select the lines 107, 108. After that, when the signal PHI becomes L, the lines 107, 108 are pre-charged but the current for pre-charging does not flow through the lines 105, 106.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に関
し、特に、ROM(リードオンリメモリ)およびSRA
M(スタティック型ランダムアクセスメモリ)回路に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a ROM (Read Only Memory) and SRA.
The present invention relates to an M (static type random access memory) circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近のROMやSRAM回路は大規模化
が進んでおり、それに従って、アドレス信号が増加し、
ワード線やビット線のスピードが問題となってきた。ワ
ード線のスピードに対する問題を解決するためにメモリ
セルアレイを分割するという方法が採られるようになっ
た。
2. Description of the Related Art Recent ROM and SRAM circuits have been increasing in scale, and accordingly, the number of address signals has increased.
The speed of word lines and bit lines has become a problem. A method of dividing a memory cell array has been adopted to solve the problem of the speed of word lines.

【0003】図3に従来のメモリセルアレイを分割した
ROM回路の一例を示す。
FIG. 3 shows an example of a ROM circuit obtained by dividing a conventional memory cell array.

【0004】図3のようにこの例のROM回路は、Pc
hMOSトランジスタ82、83とNchMOSトラン
ジスタ84、85、86、87をメモリセルとし、ワー
ド線303、304とビット線307、308からなる
メモリセルアレイ71と、メモリセルアレイ71と同様
の構成のメモリセルアレイ70と、インバータ72、7
3と、AND回路74、75、76、77と、セレクタ
78、79と、ラッチ80、81とを備え構成される。
A0、A1はアドレス信号、D0、D1はデータ信号、
φはクロック信号である。
As shown in FIG. 3, the ROM circuit of this example has a Pc
A memory cell array 71 including word lines 303 and 304 and bit lines 307 and 308, and memory cell array 70 having the same configuration as the memory cell array 71, using the hMOS transistors 82 and 83 and the NchMOS transistors 84, 85, 86, and 87 as memory cells. , Inverters 72, 7
3, AND circuits 74, 75, 76 and 77, selectors 78 and 79, and latches 80 and 81.
A0 and A1 are address signals, D0 and D1 are data signals,
φ is a clock signal.

【0005】この例のROMはゲートにワード線が接続
され、ソースを接地するメモリセルのNchMOSトラ
ンジスタのドレインがビット線に接続されているか否か
でデータ“1”、“0”を表す。
In the ROM of this example, data "1" and "0" are represented by whether or not the word line is connected to the gate and the drain of the NchMOS transistor of the memory cell whose source is grounded is connected to the bit line.

【0006】図3において、クロック信号φがLレベル
の時はプリチャージ期間であり、AND回路74、7
5、76、77の出力であるワード線301、302、
303、304はLレベルとなり、メモリセルのNch
MOSトランジスタ84、85、86、87は“OF
F”となって、PchMOSトランジスタ82、83は
“ON”するために、ビット線307、308は、ビッ
ト線容量88、89をプリチャージし、Hレベルとな
る。同様にビット線305、306もHレベルとなり、
ラッチ80、81は開かず以前のデータを保持してい
る。
In FIG. 3, when the clock signal φ is at L level, it is the precharge period, and the AND circuits 74 and 7 are provided.
5, 76, 77 output word lines 301, 302,
303 and 304 become L level, and Nch of the memory cell
The MOS transistors 84, 85, 86 and 87 are "OF".
Since it becomes "F" and the PchMOS transistors 82 and 83 are turned "ON", the bit lines 307 and 308 precharge the bit line capacitors 88 and 89 and become H level. Similarly, the bit lines 305 and 306 are also set. H level,
The latches 80 and 81 do not open and hold the previous data.

【0007】次にクロック信号φがHレベルの時はサン
プリング期間となり、例えばアドレス信号A0、A1が
H、Hレベルだったとすれば、インバータ72の出力は
Lレベルとなり、従ってAND回路74、76の出力で
あるワード線301、303はLレベルのままで、AN
D回路75、77の出力であるワード線302、304
はHレベルへ変化する。するとメモリセルのNchMO
Sトランジスタ84、85は“OFF”し、NchMO
Sトランジスタ86、87は“ON”となる。
Next, when the clock signal φ is at the H level, the sampling period is reached. For example, if the address signals A0 and A1 are at the H and H levels, the output of the inverter 72 is at the L level, and therefore the AND circuits 74 and 76 are operated. The output word lines 301 and 303 remain at L level, and AN
Word lines 302 and 304 output from the D circuits 75 and 77
Changes to H level. Then NchMO of memory cell
The S transistors 84 and 85 are turned off, and NchMO
The S transistors 86 and 87 are turned on.

【0008】メモリセルのNchMOSトランジスタ8
6はビット線307には接続されておらず、またNch
MOSトランジスタ87はビット線308に接続されて
いるので、ビット線307はHレベルをビット線容量8
8によって保持し、ビット線308は、ビット線容量8
9からNchMOSトランジスタ87を介してディスチ
ャージされるためにLレベルへ変化する。
NchMOS transistor 8 of memory cell
6 is not connected to the bit line 307, and Nch
Since the MOS transistor 87 is connected to the bit line 308, the bit line 307 keeps the H level at the bit line capacitance 8
8 and holds the bit line 308 with the bit line capacitance 8
Since it is discharged from 9 through the NchMOS transistor 87, it changes to the L level.

【0009】同様に、ビット線305、306も放電さ
れ、LレベルになるかそのままHレベルを保持する。こ
のビット線305、306、307、308の電位をセ
レクタ78、79で選択するが、アドレス信号A1をH
レベルとしているのでインバータ73はLレベルにな
り、これらがセレクタ78、79にビット線の選択信号
として入力され、例えばビット線306、308が選択
されてラッチ80、81で保持されてデータD0、D1
となる。
Similarly, the bit lines 305 and 306 are also discharged to either the L level or the H level as it is. The potentials of the bit lines 305, 306, 307, 308 are selected by the selectors 78, 79, but the address signal A1 is set to H level.
Since it is set to the level, the inverter 73 becomes the L level, and these are input to the selectors 78 and 79 as bit line selection signals. For example, the bit lines 306 and 308 are selected and held by the latches 80 and 81 to store the data D0 and D1.
Becomes

【0010】図4はこのときの動作波形を示している。FIG. 4 shows operation waveforms at this time.

【0011】またSRAM回路も、データが入出力でき
るのと、メモリセルがSRAM回路に変わるだけで、ほ
ぼ上述と同様の動作をする。
The SRAM circuit also operates almost the same as described above except that data can be input / output and the memory cell is changed to the SRAM circuit.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の分割されたメモリセルアレイを持つROMおよ
びSRAM回路は、ワード線を分割しただけであるの
で、分割したメモリセルアレイを全て動作させるように
なっている。これはサンプリング期間に、アドレス信号
によってはセレクタに接続される全てのビット線がディ
スチャージされる場合もあり、セレクタで選択されなか
ったビット線がまた次のプリチャージ期間にプリチャー
ジされることになり、不必要な電流を消費してしまうと
いう課題があった。
However, in the above-mentioned conventional ROM and SRAM circuits having the divided memory cell array, only the word lines are divided, so that the divided memory cell arrays are all operated. There is. This is because all bit lines connected to the selector may be discharged during the sampling period depending on the address signal, and the bit lines not selected by the selector will be precharged again in the next precharge period. The problem is that it consumes unnecessary current.

【0013】本発明は従来の上記実情に鑑みてなされた
ものであり、従って本発明の目的は、従来の技術に内在
する上記課題を解決することを可能とした新規な半導体
集積回路を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and therefore an object of the present invention is to provide a novel semiconductor integrated circuit capable of solving the above problems inherent in the conventional art. Especially.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明に係るROMおよびSRAM回路は、メモリ
セルアレイを分割したROMおよびSRAM回路におい
て、複数のメモリセルアレイとこれらのメモリセルアレ
イの各々のワード線を前記メモリセルアレイごとに排他
的に選択するXデコーダと、前記メモリセルアレイのビ
ット線を選択するYセレクタとを備えて構成される。
To achieve the above object, a ROM and SRAM circuit according to the present invention is a ROM and SRAM circuit in which a memory cell array is divided, and a plurality of memory cell arrays and each of these memory cell arrays are provided. An X decoder for exclusively selecting a word line for each memory cell array and a Y selector for selecting a bit line of the memory cell array are provided.

【0015】[0015]

【作用】Xデコーダがワード線をメモリセルアレイごと
に排他的に選択することにより、1つのメモリセルアレ
イが動作している時に他のメモリセルアレイが動作しな
い状態(ビット線をディスチャージしない状態)を保
つ。
By the X decoder exclusively selecting the word line for each memory cell array, when one memory cell array is operating, the other memory cell array is kept inactive (bit line is not discharged).

【0016】[0016]

【実施例】次に本発明をその好ましい各実施例について
図面を参照して具体的に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will now be specifically described with reference to the drawings for each of its preferred embodiments.

【0017】図1は本発明による第1の実施例(ROM
回路に適用した実施例)を示すブロック構成図である。
FIG. 1 shows a first embodiment (ROM) according to the present invention.
It is a block diagram showing an example applied to a circuit.

【0018】図1に示されるように、本発明による第1
の実施例は、PchMOSトランジスタ13、14とN
chMOSトランジスタ15、16、17、18とワー
ド線103、104とビット線107、108からなる
メモリセルアレイ2と、メモリセルアレイ2と同様の構
成のメモリセルアレイ1と、インバータ3、4と、AN
D回路5、6、7、8と、セレクタ9、10とラッチ1
1、12とを備えて構成されている。またA0、A1は
アドレス信号、D0、D1はデータ信号、φはクロック
信号をそれぞれ示している。
As shown in FIG. 1, according to the first aspect of the present invention.
Of the PchMOS transistors 13 and 14 and N
A memory cell array 2 including chMOS transistors 15, 16, 17, 18 and word lines 103, 104 and bit lines 107, 108, a memory cell array 1 having the same configuration as the memory cell array 2, inverters 3, 4, and AN.
D circuits 5, 6, 7, 8 and selectors 9, 10 and latch 1
1 and 12, and is comprised. A0 and A1 are address signals, D0 and D1 are data signals, and φ is a clock signal.

【0019】図1を参照するに、クロック信号φがLレ
ベルの時はプリチャージ期間であり、AND回路5、
6、7、8の出力であるワード線101、102、10
3、104はLレベルとなり、NchMOSトランジス
タ15、16、17、18は“OFF”となって、Pc
hMOSトランジスタ13、14は“ON”するため
に、ビット線107、108はビット線容量19、20
がプリチャージされて、Hレベルとなる。同様にビット
線105、106もHレベルとなり、ラッチ11、12
は開かず、以前のデータを保持している。
Referring to FIG. 1, when the clock signal φ is at L level, it is a precharge period, and the AND circuit 5,
The word lines 101, 102, 10 which are the outputs of 6, 7, 8
3, 104 becomes L level, NchMOS transistors 15, 16, 17, 18 become "OFF", and Pc
Since the hMOS transistors 13 and 14 are turned on, the bit lines 107 and 108 have bit line capacitors 19 and 20.
Is precharged and becomes H level. Similarly, the bit lines 105 and 106 also become H level, and the latches 11 and 12
Does not open and retains previous data.

【0020】次にクロック信号φがHレベルの時はサン
プリング期間であり、アドレス信号A0、A1がそれぞ
れLレベル、Hレベルであったとすると、インバータ3
の出力がHレベル、インバータ4の出力がLレベルにな
るので、AND回路5、6、7の出力であるワード線1
01、102、103はLレベルのままで、AND回路
8の出力のワード線104のみHレベルになる。そうす
るとNchMOSトランジスタ17、18は“ON”
し、従って、ビット線107、108はビット線容量1
9、20が、NchMOSトランジスタ17、18を介
してディスチャージされ、Lレベルへ変化する。このと
きビット線105、106はワード線101、102が
LレベルなのでHレベルを保持する。
When the clock signal φ is at the H level during the sampling period, and the address signals A0 and A1 are at the L level and the H level, respectively, the inverter 3
The output of the AND circuit 5 becomes the H level and the output of the inverter 4 becomes the L level.
01, 102, and 103 remain L level, and only the word line 104 of the output of the AND circuit 8 becomes H level. Then, the NchMOS transistors 17 and 18 are "ON".
Therefore, the bit lines 107 and 108 have a bit line capacitance of 1
9 and 20 are discharged through the NchMOS transistors 17 and 18 and change to L level. At this time, the bit lines 105 and 106 hold the H level because the word lines 101 and 102 are at the L level.

【0021】アドレス信号A1がHレベルの時には、メ
モリセルアレイ2を選択するので、セレクタ9、10は
ビット線107、108を選択し、これがラッチ11、
12へ伝えられて、保持され、データD0、D1とな
る。この後またクロック信号φがLレベルのプリチャー
ジ期間になると、先ほどディスチャージしたビット線1
07、108はPchMOSトランジスタ13、14を
介して、プリチャージされ、このとき充電電流が流れる
が、メモリセルアレイ1側のビット線105、106は
ディスチャージされていなかったので、プリチャージの
ための電流は流れない。
When the address signal A1 is at the H level, the memory cell array 2 is selected, so that the selectors 9 and 10 select the bit lines 107 and 108, which are latches 11 ,.
It is transmitted to 12 and held, and becomes data D0 and D1. After this, when the clock signal φ enters the L-level precharge period again, the bit line 1 that was previously discharged is
07 and 108 are precharged through the Pch MOS transistors 13 and 14, and a charging current flows at this time, but since the bit lines 105 and 106 on the memory cell array 1 side have not been discharged, the current for precharging is Not flowing.

【0022】このようにアドレス信号A1によって、メ
モリセルアレイを選択し、一方を動作させないことで消
費電流を半分にすることができる。
As described above, by selecting the memory cell array by the address signal A1 and not operating one of them, the current consumption can be halved.

【0023】図2は、本発明による第2の実施例(本発
明をSRAM回路に適用した場合)を示すブロック構成
図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention (when the present invention is applied to an SRAM circuit).

【0024】図2に示すように、本発明による第2の実
施例は、NchMOSトランジスタ32、33とインバ
ータ30、31からなるRAMセル34と、このRAM
セル34と同様のRAMセル35、36、37と、Pc
hMOSトランジスタ39、40、41、42と、ワー
ド線203、204とから成るメモリセルアレイ38
と、メモリセルアレイ38と同様の構成であるメモリセ
ルアレイ47と、インバータ52、53と、AND回路
48、49、50、51と、セレクタ54、55と、リ
ードライトバッファ56、57とを備えて構成されてい
る。
As shown in FIG. 2, the second embodiment according to the present invention is a RAM cell 34 including NchMOS transistors 32 and 33 and inverters 30 and 31, and this RAM.
RAM cells 35, 36, 37 similar to cell 34, and Pc
Memory cell array 38 including hMOS transistors 39, 40, 41, 42 and word lines 203, 204
A memory cell array 47 having the same configuration as the memory cell array 38, inverters 52 and 53, AND circuits 48, 49, 50 and 51, selectors 54 and 55, and read / write buffers 56 and 57. Has been done.

【0025】また、φはクロック信号、A0、A1はア
ドレス信号、D0、D1はデータ信号、RDはRAMの
リード信号WRはRAMのライト信号をそれぞれ示して
いる。
Further, φ is a clock signal, A0 and A1 are address signals, D0 and D1 are data signals, RD is a RAM read signal WR, and a RAM write signal.

【0026】図2を参照するに、まずクロック信号φが
Lレベルの時はプリチャージ期間であり、AND回路4
8、49、50、51の出力のワード線201、20
2、203、204はLレベルとなり、RAMセル34
の中のNchMOSトランジスタ32、33は“OF
F”となり、RAMセル35、36、37も同様に動作
し、PchMOSトランジスタ39、40、41、42
は“ON”するので、ビット線209、210、21
1、212はPchMOSトランジスタ39、40、4
1、42を介してビット線容量43、44、45、46
がプリチャージされ、Hレベルになる。
Referring to FIG. 2, first, when the clock signal φ is at L level, it is a precharge period, and the AND circuit 4
8, 49, 50, 51 output word lines 201, 20
2, 203, and 204 become L level, and the RAM cell 34
NchMOS transistors 32 and 33 in the
F ″, the RAM cells 35, 36, 37 operate in the same manner, and PchMOS transistors 39, 40, 41, 42
Bit line 209, 210, 21
1, 212 are PchMOS transistors 39, 40, 4
Bit line capacitors 43, 44, 45, 46 via 1, 42
Is precharged and becomes H level.

【0027】同様にメモリセルアレイ47側のビット線
205、206、207、208もプリチャージされH
レベルになる。
Similarly, the bit lines 205, 206, 207 and 208 on the memory cell array 47 side are also precharged to H level.
Become a level.

【0028】次にクロック信号φがHレベルの時はサン
プリング期間であり、例えばアドレス信号A0、A1が
両方ともHレベルだったとする。まずデータの書き込み
から説明すると、ライト信号WRがHレベルになりリー
ドライトバッファ56、57がライトバッファとして働
く。データ信号D0はリードライトバッファ56に入力
され、そこからtrueとbarのデータが、セレクタ
54へ伝えられる。
Next, it is assumed that the clock signal φ is at the H level during the sampling period, and for example, both the address signals A0 and A1 are at the H level. First of all, writing data will be described. The write signal WR becomes H level, and the read / write buffers 56 and 57 function as write buffers. The data signal D0 is input to the read / write buffer 56, from which true and bar data is transmitted to the selector 54.

【0029】アドレス信号A1がHレベルのときに、メ
モリセルアレイ38が選択されるので、このtrueと
barの信号はセレクタ54によってビット線対20
9、210へ伝えられ、データ信号D0の値に応じてど
ちらかのビット線がディスチャージされてLレベルにな
り、一方はビット線容量によってHレベルを保持する。
Since the memory cell array 38 is selected when the address signal A1 is at the H level, the selector 54 outputs the signals of true and bar to the bit line pair 20.
9 and 210, one of the bit lines is discharged to the L level according to the value of the data signal D0, and the other holds the H level due to the bit line capacitance.

【0030】同様にデータ信号D1もリードライトバッ
ファ57、セレクタ55を経て、ビット線対211、2
12のいずれかをディスチャージし、一方を保持する。
このときインバータ52、53の出力はいずれもLレベ
ルであるから、AND回路48、49、51の出力であ
るワード線201、202、204はLレベルのまま
で、AND回路50の出力のワード線203のみHレベ
ルとなる。そうすると、RAMセル34の中のNchM
OSトランジスタ32、33が“ON”し、ビット線対
211、212の電位をインバータ30、31へ伝えデ
ータが保持される。
Similarly, the data signal D1 also passes through the read / write buffer 57 and the selector 55, and then passes through the bit line pair 211,2.
Discharge one of 12 and hold one.
At this time, since the outputs of the inverters 52 and 53 are both at the L level, the word lines 201, 202 and 204 which are the outputs of the AND circuits 48, 49 and 51 remain at the L level, and the word lines which are the output of the AND circuit 50. Only 203 becomes H level. Then, NchM in the RAM cell 34
The OS transistors 32 and 33 are turned on, the potential of the bit line pair 211 and 212 is transmitted to the inverters 30 and 31, and the data is held.

【0031】RAMセル35も同様に動作し、データが
保持される。このときメモリセルアレイ47側のビット
線205、206、207、208はディスチャージさ
れずにHレベルを保持しているので、次のプリチャージ
期間にプリチャージ電流を消費しない。
The RAM cell 35 operates in the same manner and holds data. At this time, the bit lines 205, 206, 207, and 208 on the memory cell array 47 side are not discharged and are held at the H level, so that the precharge current is not consumed in the next precharge period.

【0032】次にサンプリング期間におけるデータ読み
出しを、データ書き込み時と同じアドレス信号で説明す
ると、同じアドレスなので同様にワード線203のみH
レベルで、ワード線201、202、204はLレベル
となる。するとRAMセル34の中のNchMOSトラ
ンジスタ32、33が“ON”し、インバータ30、3
1で保持していたデータをビット線対211、212に
伝え、このビット線のいずれかがディスチャージされて
Lレベルとなり、同様にビット線対209、210もい
ずれかがLレベルに変化する。このときメモリセルアレ
イ47側のビット線205、206、207、208
は、ワード線201、202がLレベルなのでHレベル
を保持したままである。これらのビット線の電位からセ
レクタ54、55は書き込み時と同様にビット線対20
9、210とビット線対211、212を選択し、その
電位をリードライトバッファ56、57へ伝える。
Next, the data reading in the sampling period will be explained using the same address signal as in the data writing.
At the level, the word lines 201, 202 and 204 are at the L level. Then, the NchMOS transistors 32 and 33 in the RAM cell 34 are turned on, and the inverters 30 and 3 are turned on.
The data held at 1 is transmitted to the bit line pair 211 and 212, one of the bit lines is discharged to the L level, and similarly, either of the bit line pair 209 and 210 changes to the L level. At this time, the bit lines 205, 206, 207, 208 on the memory cell array 47 side
Holds the H level because the word lines 201 and 202 are at the L level. From the potentials of these bit lines, the selectors 54 and 55 select the bit line pair 20 in the same manner as in writing.
9, 210 and bit line pairs 211, 212 are selected, and the potentials thereof are transmitted to the read / write buffers 56, 57.

【0033】読み出し時には信号RDがHレベルとな
り、リードライトバッファ56、57はリードバッファ
となり、セレクタ56、57から伝えられるtrueと
barの電位からデータを取り出し保持してデータ信号
D0、D1を出力する。この時にもメモリセルアレイ4
7側のビット線205、206、207、208はHレ
ベルを保持しているので、次のプリチャージ期間にプリ
チャージ電流を消費しない。
At the time of reading, the signal RD becomes H level, the read / write buffers 56, 57 become read buffers, data is taken out from the potentials of true and bar transmitted from the selectors 56, 57 and held, and the data signals D0, D1 are output. . Even at this time, the memory cell array 4
Since the bit lines 205, 206, 207, and 208 on the 7 side hold the H level, the precharge current is not consumed in the next precharge period.

【0034】このようにアドレス信号A1によってメモ
リセルアレイを選択し、一方を動作させないことでSR
AMでも消費電流を半分にすることができる。
In this way, by selecting the memory cell array by the address signal A1 and not operating one of them, the SR
Even with AM, the current consumption can be halved.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
メモリセルアレイを分割したROMおよびSRAM回路
において、アドレス信号の一部をメモリセルアレイの選
択信号とし、サンプリング時に必要なメモリセルアレイ
のみ動作し、他のメモリセルアレイは非動作状態を保つ
ようにすることで、プリチャージ時に非動作状態だった
メモリセルアレイが電流を消費しないという効果が得ら
れる。
As described above, according to the present invention,
In the ROM and SRAM circuits in which the memory cell array is divided, by using a part of the address signal as a selection signal of the memory cell array, only the memory cell array necessary for sampling operates, and the other memory cell arrays keep the non-operation state, The effect that the memory cell array which is in the non-operating state at the time of precharging does not consume current is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による第1の実施例を示すブロック構成
図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment according to the present invention.

【図2】本発明による第2の実施例を示すブロック構成
図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a second embodiment according to the present invention.

【図3】従来例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a conventional example.

【図4】従来例における動作波形図である。FIG. 4 is an operation waveform diagram in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2、38、47、70、71…メモリセルアレイ 3、4、30、31、52、53、72、73…インバ
ータ 5、6、7、8、48、49、50、51、74、7
5、76、77…AND回路 9、10、54、55、78、79…セレクタ回路 11、12、80、81…ラッチ回路 13、14、39、40、41、42、82、83…P
chMOSトランジスタ 15、16、17、18、32、33、84、85、8
6、87…NchMOSトランジスタ 19、20、43、44、45、46、88、89…ビ
ット線容量 34、35、36、37…RAMセル 56、57…リードライトバッファ 101、102、103、104、201、202、2
03、204、301、302、303、304…ワー
ド線 105、106、107、108、205、206、2
07、208、209、210、211、212、30
5、306、307、308…ビット線 φ…クロック信号 A0、A1…アドレス信号 D0、D1…データ信号 RD…RAMのリード信号 WR…RAMのライト信号
1, 2, 38, 47, 70, 71 ... Memory cell array 3, 4, 30, 31, 52, 53, 72, 73 ... Inverter 5, 6, 7, 8, 48, 49, 50, 51, 74, 7
AND circuit 9, 10, 54, 55, 78, 79 ... Selector circuit 11, 12, 80, 81 ... Latch circuit 13, 14, 39, 40, 41, 42, 82, 83 ... P
chMOS transistors 15, 16, 17, 18, 32, 33, 84, 85, 8
6, 87 ... NchMOS transistors 19, 20, 43, 44, 45, 46, 88, 89 ... Bit line capacitances 34, 35, 36, 37 ... RAM cells 56, 57 ... Read / write buffers 101, 102, 103, 104, 201, 202, 2
03, 204, 301, 302, 303, 304 ... Word line 105, 106, 107, 108, 205, 206, 2
07, 208, 209, 210, 211, 212, 30
5, 306, 307, 308 ... Bit line φ ... Clock signal A0, A1 ... Address signal D0, D1 ... Data signal RD ... RAM read signal WR ... RAM write signal

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルアレイと、該メモリセ
ルアレイの各々のワード線を選択する複数のXデコーダ
と、前記メモリセルアレイのビット線を選択する複数の
Yセレクタとで構成されるリードオンリメモリあるいは
スタティック型ランダムアクセスメモリであって、前記
Xデコーダは前記メモリセルアレイを排他的に選択する
ことを特徴とする半導体集積回路。
1. A read only memory comprising a plurality of memory cell arrays, a plurality of X decoders for selecting word lines of the memory cell arrays, and a plurality of Y selectors for selecting bit lines of the memory cell array. A semiconductor integrated circuit, which is a static random access memory, wherein the X decoder exclusively selects the memory cell array.
【請求項2】 前記Xデコーダはアドレス信号の一部を
前記メモリセルアレイの選択信号として使用することを
更に特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the X decoder uses a part of an address signal as a selection signal of the memory cell array.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014211673A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 カシオ計算機株式会社 Microcomputer and storage device

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