JPH0610186A - Continuous electroplating equipment and method for strip - Google Patents
Continuous electroplating equipment and method for stripInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】 本発明は、電気亜鉛めっき等
の、ストリップの連続電気めっき設備及び方法に関す
る。FIELD OF THE INVENTION This invention relates to continuous strip electroplating equipment and methods, such as electrogalvanizing.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ストリップの連続電気めっき設備は、め
っき槽の内外にストリップを通板させながら、めっき槽
外に配設されたコンダクタロールとバックアップロール
によってストリップを挟みながら通電し、めっき槽内に
配設された電極によりストリップにめっきするようにな
っている。このような電気めっき設備では、金属ロール
であるコンダクタロールが接触するストリップの片側面
は、接触が線接触かつ圧下力も強いため、該ストリップ
面のめっきの凸部がつぶされ、平滑化されて光沢化す
る。他方、コンダクタロールのないストリップの反対側
面は、軟質のバックアップロールと接触するものである
から、めっきの凸部のつぶれがなく、光沢化されない。
このため、めっき槽を通過したストリップは、コンダク
タロールが接触する片側面と、その反対側面とで、光沢
を著しく異なるものとする。2. Description of the Related Art Continuous electroplating equipment for strips is installed in the plating tank while passing the strip inside and outside the plating tank while sandwiching the strip with a conductor roll and a backup roll arranged outside the plating tank. The strips are adapted to be plated by the provided electrodes. In such an electroplating facility, since one side of the strip that the conductor roll, which is a metal roll, contacts is a line contact and has a strong rolling force, the convex portion of the plating on the strip surface is crushed, smoothed and glossed. Turn into. On the other hand, since the opposite side of the strip without the conductor roll is in contact with the soft backup roll, there is no collapsing of the convex portion of the plating and it is not glossed.
For this reason, the strip that has passed through the plating tank has a significantly different gloss on one side that contacts the conductor roll and on the opposite side.
【０００３】そこで従来、ストリップの両側面の光沢度
を殆ど均等化するため、特開平4-74896 号公報に記載さ
れる如く、同一設備内に、上側にコンダクタロール、下
側にバックアップロールを配置したロール対と、上側に
バックアップロール、下側にコンダクタロールを配置し
たロール対とを、混在化したものが提案されている。こ
の従来技術によれば、ストリップの両側面のそれぞれ
を、上側に配置されているコンダクタロールと、下側に
配置されているコンダクタロールのそれぞれによって圧
下することになる結果、両側面のめっきの凸部がともに
つぶされ、平滑化されて両側面の光沢度の差を少なくす
ることができる。Therefore, conventionally, in order to make the glossiness of both side surfaces of the strip almost equal, a conductor roll is arranged on the upper side and a backup roll is arranged on the lower side in the same equipment as described in JP-A-4-74896. It has been proposed that the above-mentioned roll pair and a roll pair in which a backup roll is arranged on the upper side and a conductor roll is arranged on the lower side are mixed. According to this conventional technique, each of both side surfaces of the strip is pressed down by each of the conductor rolls arranged on the upper side and the conductor rolls arranged on the lower side. The parts are crushed together and smoothed to reduce the difference in glossiness between the two side surfaces.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】然しながら、従来技術
では、ストリップ両側面の光沢度を十分には均等化でき
ない。これは、めっき槽を構成する最後尾のめっきセル
の出側において、例えば上側にバックアップロール、下
側にコンダクタロールを配置したとき、ストリップの上
面は最終めっきの凸部をつぶされることがないのに対
し、ストリップの下面は最終めっきの凸部をつぶされ、
上下面の間に一定の光沢度の差を残すことになる。However, the prior art cannot sufficiently equalize the glossiness on both side surfaces of the strip. This is because when the backup roll is arranged on the upper side and the conductor roll is arranged on the lower side on the exit side of the last plating cell that constitutes the plating tank, the upper surface of the strip does not crush the convex portion of the final plating. On the other hand, the lower surface of the strip is crushed by the convex part of the final plating,
A certain difference in glossiness will be left between the upper and lower surfaces.
【０００５】本発明は、ストリップの両側面の光沢度を
均等化することを目的とする。The present invention aims to equalize the glossiness on both sides of the strip.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、めっき槽の内外にストリップを通板させながら、め
っき槽外に配設されたコンダクタロールによってストリ
ップに通電し、めっき槽内に配設された電極によりスト
リップにめっきする、ストリップの連続電気めっき設備
において、めっき槽の出側に配設されストリップに接触
するロールを全て軟質ロールとしてなるようにしたもの
である。According to the present invention as set forth in claim 1, while the strips are passed through the inside and outside of the plating tank, electricity is applied to the strips by a conductor roll arranged outside the plating tank, and In a continuous strip electroplating facility for plating a strip with an electrode provided in, the rolls arranged on the outlet side of the plating tank and in contact with the strip are all soft rolls.
【０００７】請求項２に記載の本発明は、請求項１に記
載のめっき槽が複数のめっきセルからなる、ストリップ
の連続電気めっき設備において、最後尾のめっきセルの
ためのコンダクタロールを、最後尾のめっきセルの上流
側に配設してなるようにしたものである。The present invention according to claim 2 is a continuous strip electroplating facility in which the plating tank according to claim 1 comprises a plurality of plating cells. It is arranged on the upstream side of the tail plating cell.
【０００８】請求項３に記載の本発明は、請求項１に記
載のストリップの連続電気めっき設備を用いるに際し、
最後尾のめっきセルのめっき量を5g／m2以上とするよう
にしたものである。The present invention according to claim 3 provides the use of the strip continuous electroplating equipment according to claim 1,
The plating amount of the last plating cell is set to 5 g / m 2 or more.
【０００９】[0009]
【作用】 めっき槽の出側に配設されるロールがすべて軟質ロー
ルからなる。従って、めっき槽の出側において、ストリ
ップは両側面とも硬質ロールに接触することがないか
ら、両側面の最終めっきの凸部はともにつぶされること
なく、結果として両側面の光沢度を均等化できる。[Function] All the rolls arranged on the outlet side of the plating tank are soft rolls. Therefore, on the outlet side of the plating tank, the strip does not come into contact with the hard roll on both sides, so that the projections of the final plating on both sides are not crushed, and as a result the glossiness on both sides can be equalized. .
【００１０】最後尾のめっきセルのためのコンダクタ
ロールを、最後尾のめっきセルの上流側に配設したか
ら、最後尾のめっきセルにおいて施されるストリップ両
側面の最終めっきの凸部がともにコンダクタロールによ
って圧下されてつぶされることがなく、結果として両側
面の光沢度を均等化できる。Since the conductor roll for the rearmost plating cell is arranged on the upstream side of the rearmost plating cell, the projections of the final plating on both side surfaces of the strip applied to the rearmost plating cell are both conductors. It is not pressed down by the roll and crushed, and as a result, the glossiness on both sides can be equalized.
【００１１】上記において、最後尾のめっきセルの
めっき量を5g／m2以上とすることにより、めっき量を少
なくする場合に比して、全めっき厚を確保するに必要な
全使用セル数が少なくなり、各セル毎に設けられている
コンダクタロールに対するストリップの通過回数が少な
くなる。このため、各セル毎にストリップに施されため
っき凸部に対し、コンダクタロールが及ぼす平滑化繰り
返し数が少なくなり、ストリップ面でのめっき凸部のつ
ぶれ度合（めっき面の平坦度面積）を低減し、結果とし
て両側面の光沢度を均等化できる。In the above, by setting the plating amount of the last plating cell to 5 g / m 2 or more, the total number of used cells required to secure the total plating thickness can be increased as compared with the case where the plating amount is reduced. The number of times the strip passes through the conductor roll provided for each cell is reduced. For this reason, the number of smoothing repetitions that the conductor roll exerts on the plating protrusions applied to the strip for each cell is reduced, and the degree of crushing of the plating protrusions on the strip surface (flatness area of the plating surface) is reduced. As a result, the glossiness on both sides can be equalized.
【００１２】[0012]
【実施例】図１は第１実施例を示す模式図、図２は第２
実施例を示す模式図、図３は第３実施例を示す模式図、
図４は最後尾のめっきセルによるめっき量とストリップ
面の平坦度面積率との関係を示す線図、図５は最終めっ
き後のコンダクタロールの有無とめっき凸部の平滑化状
態との関係を示す模式図、図６はめっきセル１基当たり
のめっき量とめっき凸部の平滑化状態との関係を示す模
式図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a schematic diagram showing a first embodiment, and FIG.
A schematic diagram showing an embodiment, FIG. 3 is a schematic diagram showing a third embodiment,
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the plating amount of the last plating cell and the flatness area ratio of the strip surface, and FIG. 5 shows the relationship between the presence or absence of a conductor roll after the final plating and the smoothing state of the plating protrusions. FIG. 6 is a schematic diagram showing the relationship between the plating amount per plating cell and the smoothing state of the plating protrusions.
【００１３】（第１実施例）（図１参照） 連続電気めっき設備１０は、図１に示す如く、第１〜第
４の４個のめっきセル１１（１１Ａ〜１１Ｄ）で１組を
なすめっき槽ユニット１２を、１ユニット以上直列配置
して構成されている。１３は支持ロールである。尚、図
１は各めっきセル１１を図示省略し設備１０の全体を示
したものである。(First Embodiment) (Refer to FIG. 1) As shown in FIG. 1, the continuous electroplating equipment 10 forms a set of four plating cells 11 (11A to 11D) of first to fourth plating cells. One or more tank units 12 are arranged in series. Reference numeral 13 is a support roll. It should be noted that FIG. 1 shows the entire equipment 10 with each plating cell 11 omitted.
【００１４】即ち、連続電気めっき設備１０にあって
は、めっき液が装填されている各めっきセル１１の内外
にストリップ１を通板させながら、めっきセル１１外に
配設されたコンダクタロール１４とバックアップロール
１５とによってストリップ１を挟みながら通電し、めっ
きセル１１内に配設された上下の電極１６によりストリ
ップ１にめっきする。That is, in the continuous electroplating equipment 10, while passing the strip 1 through the inside and outside of each plating cell 11 in which the plating solution is loaded, the conductor roll 14 disposed outside the plating cell 11 is provided. Electric current is applied while sandwiching the strip 1 with the backup roll 15, and the strip 1 is plated by the upper and lower electrodes 16 arranged in the plating cell 11.
【００１５】ここで、連続電気めっき設備１０は、最後
尾のめっきセル１１（１１Ｄ）のためのコンダクタロー
ル１４を、最後尾のめっきセル１１（１１Ｄ）の上流側
に配設している。In the continuous electroplating equipment 10, the conductor roll 14 for the rearmost plating cell 11 (11D) is arranged upstream of the rearmost plating cell 11 (11D).
【００１６】そして、連続電気めっき設備１０は、最後
尾のめっきセル１１（１１Ｄ）の出側に配設され、スト
リップ１に接触するロール、即ちシールロール１３、図
示しない下流の支持ロール類をすべて軟質ゴムロールと
している。The continuous electroplating equipment 10 is arranged on the outlet side of the rearmost plating cell 11 (11D) and has all the rolls in contact with the strip 1, ie, the seal roll 13 and the downstream supporting rolls (not shown). It is a soft rubber roll.
【００１７】また、連続電気めっき設備１０の運転に際
しては、最後尾のめっきセル１１（１１Ｄ）のめっき量
を5g／m2以上とするのが良い。When the continuous electroplating equipment 10 is operated, it is preferable that the plating amount of the last plating cell 11 (11D) is 5 g / m 2 or more.
【００１８】図４は、連続電気めっき設備１０の最後尾
のめっきセル１１（１１Ｄ）によるめっき量とストリッ
プ１面の平坦部面積率との関係を、従来設備（最後尾の
めっきセルのためのコンダクタロールを最後尾のめっき
セルの下流側に配設したもの）におけると比較して示す
実験線図である。この実験は、板厚1.6mm のストリップ
１について、めっき設備の全めっき量を 20g／m2とした
ものであり、Ａは連続電気めっき設備１０において最後
尾のめっきセル１１Ｄを含む各めっきセル１１のめっき
量を1.4g／m2とし全使用めっきセル数を14セルとしたも
の、Ｂは連続電気めっき設備１０において最後尾のめっ
きセル１１Ｄを含む各めっきセル１１のめっき量を5g／
m2とし全使用めっきセル数を 4セルとしたもの、Ｃは従
来設備において最後尾のめっきセルを含む各セルのめっ
き量を1.4g／m2とし全使用めっきセル数を14セルとした
もの、Ｄは従来設備において最後尾のめっきセルを含む
各セルのめっき量を5g／m2とし全使用めっきセル数を 4
セルとしたものである。そして、ストリップ面の平坦部
面積はめっき面を画像解析して算出した。従来設備で
は、14セル使用（Ｃ）を 4セル使用（Ｄ）とすることに
より、平坦部面積率が13.2％から2.3 ％に83％減少し
た。また、連続電気めっき設備１０では、14セル使用
（Ａ）により、従来設備の14セル使用（Ｃ）に対し13.2
％から 8％に40％減少し、更に 4セル使用（Ｂ）により
従来設備の 4セル使用（Ｄ）に対し2.3 ％から0.03％に
93％減少してストリップ１の両側面の光沢度差が目視で
はほぼ皆無となった。即ち、連続電気めっき設備１０に
あっては、最後尾のめっきセル１１Ｄを含む各めっきセ
ル１１でのめっき量を5g／m2以上とすることにより、ス
トリップ１のめっき面の光沢度上昇を抑制し、ストリッ
プ１の両側面での光沢度差を皆無にできるのである。FIG. 4 shows the relationship between the plating amount by the last plating cell 11 (11D) of the continuous electroplating equipment 10 and the flat area ratio of the strip 1 surface (for the last plating cell). It is an experimental diagram shown in comparison with the one in which the conductor roll is disposed on the downstream side of the rearmost plating cell). In this experiment, the total plating amount of the plating equipment was set to 20 g / m 2 for the strip 1 having a plate thickness of 1.6 mm, and A represents each plating cell 11 including the last plating cell 11D in the continuous electroplating equipment 10. The plating amount is 1.4 g / m 2 and the total number of plating cells used is 14 cells. B indicates the plating amount of each plating cell 11 including the last plating cell 11D in the continuous electroplating facility 10 is 5 g /
m 2 and the total number of plating cells used is 4 cells, C is the conventional equipment and the plating amount of each cell including the last plating cell is 1.4 g / m 2 and the total number of plating cells used is 14 cells. , D, the plating amount of each cell including the last plating cell in the conventional equipment is 5 g / m 2 and the total number of plating cells used is 4
It is a cell. The flat area of the strip surface was calculated by image analysis of the plated surface. In the conventional equipment, by using 14 cells (C) and 4 cells (D), the flat area ratio decreased from 13.2% to 2.3% by 83%. Moreover, in the continuous electroplating equipment 10, 14 cells (A) are used, which is 13.2% compared to 14 cells (C) of conventional equipment.
% From 8% to 40%, and by using 4 cells (B), from 2.3% to 0.03% compared to 4 cells (D) of conventional equipment
It decreased by 93%, and the difference in glossiness between the both sides of strip 1 became almost zero by visual observation. That is, in the continuous electroplating equipment 10, by suppressing the amount of plating in each plating cell 11 including the rearmost plating cell 11D to 5 g / m 2 or more, an increase in the glossiness of the plating surface of the strip 1 is suppressed. However, it is possible to eliminate the difference in glossiness on both sides of the strip 1.
【００１９】尚、連続電気めっき設備１０にあっては、
めっき槽ユニット１２を構成する各めっきセル１１のコ
ンダクタロール１４と電極１６との配置関係を、ストリ
ップ通板方向において対称としている。これにより、各
めっきセル１１内でストリップ１の長手方向に生ずる電
位差を、めっき槽ユニット１２内で互いに相殺化し、連
続電気めっき設備１０の全体におけるストリップ１の長
手方向での電位差を最小化し、操業の安全、めっき品質
の維持を図っている。In the continuous electroplating equipment 10,
The arrangement relationship between the conductor roll 14 and the electrode 16 of each plating cell 11 constituting the plating tank unit 12 is symmetrical in the strip passing direction. Thereby, the potential difference generated in the longitudinal direction of the strip 1 in each plating cell 11 is canceled out in the plating tank unit 12, and the potential difference in the longitudinal direction of the strip 1 in the entire continuous electroplating equipment 10 is minimized to operate. We are working to maintain the safety and maintenance of plating quality.
【００２０】以下、上記実施例の作用について説明す
る。 最終めっき槽ユニット１２の出側に配設されるシール
ロール１３、図示しない下流の支持ロール類がすべて軟
質ロールからなる。従って、最終めっき槽ユニット１２
の出側において、ストリップ１は両側面とも硬質ロール
に接触することがないから、両側面の最終めっきの凸部
はともにつぶされることなく、結果として両側面の光沢
度を均等化できる。The operation of the above embodiment will be described below. The seal roll 13 disposed on the outlet side of the final plating tank unit 12 and the downstream supporting rolls (not shown) are all soft rolls. Therefore, the final plating tank unit 12
Since the strip 1 does not come into contact with the hard roll on both sides on the exit side, the projections of the final plating on both sides are not crushed together, and as a result the glossiness on both sides can be equalized.
【００２１】最後尾のめっきセル１１Ｄのためのコン
ダクタロール１４を、最後尾のめっきセル１１Ｄの上流
側に配設したから、最後尾のめっきセル１１Ｄにおいて
施されるストリップ両側面の最終めっきの凸部がともに
コンダクタロール１４によって圧下されてつぶされるこ
とがなく、結果として両側面の光沢度を均等化できる。Since the conductor roll 14 for the rearmost plating cell 11D is arranged on the upstream side of the rearmost plating cell 11D, the projections of the final plating on both side surfaces of the strip applied in the rearmost plating cell 11D. Both parts are not pressed down by the conductor roll 14 and crushed, and as a result, the glossiness of both side surfaces can be equalized.
【００２２】図５は、最終めっき後にコンダクタロール
１４で圧下したときには、めっき凸部がつぶされた平滑
状態（Ｃ）となって光沢度を増すのに対し、最終めっき
後にコンダクタロール１４で圧下しないときには、めっ
き凸部はつぶされないままの状態（Ｂ）となることを示
している。FIG. 5 shows that when the conductor roll 14 is pressed down after the final plating, the convexity of the plating is flattened to a smoothed state (C) to increase the glossiness, while the conductor roll 14 is not pressed down after the final plating. At times, it is shown that the plated protrusions are in a state (B) in which they are not crushed.
【００２３】最後尾のめっきセル１１Ｄのめっき量を
5g／m2以上とすることにより、めっき量を少なくする場
合に比して、全めっき厚を確保するに必要な全使用セル
数が少なくなり、各セル１１毎に設けられているコンダ
クタロール１４に対するストリップ１の通過回数が少な
くなる。このため、各セル１１毎にストリップ１に施さ
れためっき凸部に対し、コンダクタロール１４が及ぼす
平滑化繰り返し数が少なくなり、ストリップ面でのめっ
き凸部のつぶれ度合（めっき面の平坦度面積）を低減
し、結果として両側面の光沢度を均等化できる。The plating amount of the last plating cell 11D
By setting the amount of plating to 5 g / m 2 or more, the total number of used cells required to secure the total plating thickness is reduced as compared with the case where the plating amount is reduced, and the conductor roll 14 provided for each cell 11 is reduced. The number of passages of the strip 1 with respect to is reduced. For this reason, the number of smoothing repetitions that the conductor roll 14 exerts on the plating convex portion applied to the strip 1 for each cell 11 is small, and the degree of crushing of the plating convex portion on the strip surface (flatness area of the plating surface is ) Is reduced, and as a result, the glossiness on both sides can be equalized.
【００２４】図６（Ａ）はめっきセル１基当たりのめっ
き量が少なく、全使用セル数が多いとき、コンダクタロ
ールによる平滑化の繰り返し数が多く、めっき凸部のつ
ぶれ度合が大きくなって、光沢度を増すことを示してい
る。これに対し、図６（Ｂ）は、めっきセル１基当たり
のめっき量が多く、全使用セル数が少ないとき、コンダ
クタロールによる平滑化の繰り返し数が少なく、めっき
凸部のつぶれ度合いが小さくなることを示している。FIG. 6 (A) shows that when the plating amount per plating cell is small and the total number of cells used is large, the number of times of smoothing by the conductor roll is large, and the degree of crushing of the plating protrusions becomes large. It shows that the glossiness is increased. On the other hand, in FIG. 6B, when the plating amount per plating cell is large and the total number of cells used is small, the number of repetitions of smoothing by the conductor roll is small and the degree of crushing of the plating convex portion is small. It is shown that.
【００２５】（第２実施例）（図２参照） 連続電気めっき設備２０は、第１と第２の２個のめっき
セル２１（２１Ａ、２１Ｂ）で１組をなすめっき槽ユニ
ット２２を、１ユニット以上直列配置し、最終めっき槽
ユニット２２に続く最後尾にめっきセル２３を配置した
ものである。２４はコンダクタロール、２５はバックア
ップロール、２６は電極、２７は支持ロール、Ｒは整流
電源である。(Second Embodiment) (Refer to FIG. 2) The continuous electroplating equipment 20 includes a plating bath unit 22 which is a set of two first and second plating cells 21 (21A, 21B). More than one unit is arranged in series, and the plating cell 23 is arranged at the end following the final plating tank unit 22. Reference numeral 24 is a conductor roll, 25 is a backup roll, 26 is an electrode, 27 is a support roll, and R is a rectifying power supply.
【００２６】ここで、連続電気めっき設備２０は、連続
電気めっき設備１０と同様に、最後尾のめっきセル２３
のためのコンダクタロール２４を、最後尾のめっきセル
２３の上流側に配設している。Here, the continuous electroplating equipment 20 is the same as the continuous electroplating equipment 10 and the last plating cell 23.
Is arranged on the upstream side of the rearmost plating cell 23.
【００２７】そして、連続電気めっき設備２０は、連続
電気めっき設備１０と同様に、最後尾のめっきセル２３
の出側に配設され、ストリップ１に接触するロール、即
ちシールロール２７、図示しない下流の支持ロール類を
すべて軟質ゴムロールとしている。The continuous electroplating equipment 20, like the continuous electroplating equipment 10, has the last plating cell 23.
The rolls arranged on the outlet side of the sheet, which come into contact with the strip 1, that is, the seal rolls 27 and the downstream supporting rolls (not shown) are all soft rubber rolls.
【００２８】尚、連続電気めっき設備２０にあっては、
めっき槽ユニット２２を構成する各めっきセル２１のコ
ンダクタロール２４と電極２６の配置関係を、ストリッ
プ通半方向において対称としている。これにより、各め
っきセル２１内でストリップ１の長手方向に生ずる電位
差を、めっき槽ユニット２２内で互いに相殺化し、連続
電気めっき設備２０の全体におけるストリップ１の長手
方向での電位差を最小化し、操業の安全、めっき品質の
維持を図っている。In the continuous electroplating equipment 20,
The arrangement relationship between the conductor roll 24 and the electrode 26 of each plating cell 21 constituting the plating tank unit 22 is symmetrical in the strip half-way direction. As a result, the potential difference generated in the longitudinal direction of the strip 1 in each plating cell 21 is canceled out in the plating tank unit 22, and the potential difference in the longitudinal direction of the strip 1 in the entire continuous electroplating equipment 20 is minimized. We are working to maintain the safety and maintenance of plating quality.
【００２９】ところで、連続電気めっき設備２０にあっ
ては、最後尾のめっきセル２３に進入してくるストリッ
プ１の上面を、該めっきセル２３のためのコンダクタロ
ール２４によって圧下するとともに、該ストリップ１の
下面を最終めっき槽ユニット２２の第２めっきセル２１
のためのコンダクタロール２４（第２めっきセル２１の
下流側に配置）によって圧下している。このため、連続
電気めっき設備２０にあっては、最後尾のめっきセル２
３において最終めっきを施されるストリップ１の両側面
を予めコンダクタロール２４によって等しく圧下し、か
つ等しい時間めっき処理するから、最終めっき後の両側
面の平坦度を殆ど同等にし得る。従って、最終めっきの
めっき量を前述の5g／m2以上の如くに厚くせず、薄い場
合でも、両側面の光沢度を確実に均等化できる。By the way, in the continuous electroplating equipment 20, the upper surface of the strip 1 entering the rearmost plating cell 23 is pressed down by the conductor roll 24 for the plating cell 23, and the strip 1 is also cut. The lower surface of the second plating cell 21 of the final plating tank unit 22
Is rolled down by a conductor roll 24 (disposed on the downstream side of the second plating cell 21). Therefore, in the continuous electroplating equipment 20, the last plating cell 2
Since both side surfaces of the strip 1 to be finally plated in 3 are equally rolled down by the conductor rolls 24 and are plated for the same time, the flatness of both side surfaces after the final plating can be made almost equal. Therefore, even if the plating amount of the final plating is not made thicker than the above-mentioned 5 g / m 2 or more, even if it is thin, the glossiness of both side surfaces can be surely equalized.
【００３０】（第３実施例）（図３参照） 連続電気めっき設備３０は、隣り合うめっきセル３１の
上部電極３６と下部電極３６と、両めっきセル３１間の
コンダクタロール３４とを同一の整流電源Ｒに接続した
ものを、直列配置したものである。３５はバックアップ
ロール、３７は支持ロールである。(Third Embodiment) (See FIG. 3) In the continuous electroplating equipment 30, the upper electrode 36 and the lower electrode 36 of the adjacent plating cells 31 and the conductor roll 34 between both plating cells 31 are rectified by the same rectification. Those connected to the power source R are arranged in series. Reference numeral 35 is a backup roll, and 37 is a support roll.
【００３１】ここで、連続電気めっき設備３０は、連続
電気めっき設備１０と同様に、最後尾のめっきセル３１
のためのコンダクタロール３４を、最後尾のめっきセル
３１の上流側に配設している。Here, the continuous electroplating equipment 30 is the same as the continuous electroplating equipment 10 and the last plating cell 31.
Is arranged on the upstream side of the rearmost plating cell 31.
【００３２】そして、連続電気めっき設備３０は、最後
尾のめっきセル３１の出側に配設され、ストリップ１に
接触するロール、即ちシールロール３７及び下流の支持
ロールをすべて軟質ゴムロールとしている。The continuous electroplating equipment 30 is arranged on the outlet side of the rearmost plating cell 31, and the rolls in contact with the strip 1, that is, the seal rolls 37 and the downstream support rolls are all soft rubber rolls.
【００３３】また、連続電気めっき設備３０の運転に際
しては、最後尾のめっきセル３１のめっき量を5g／m2以
上とするのが良い。Further, when the continuous electroplating equipment 30 is operated, the plating amount of the last plating cell 31 is preferably set to 5 g / m 2 or more.
【００３４】尚、連続電気めっき設備３０にあっても、
各めっきセル３１のコンダクタロール３４と電極３６の
配置関係を、ストリップ通板方向において対称とし、連
続電気めっき設備３０の全体におけるストリップ１の長
手方向での電位差を最小化している。Even in the continuous electroplating equipment 30,
The arrangement relationship between the conductor roll 34 and the electrode 36 of each plating cell 31 is made symmetrical in the strip passing direction to minimize the potential difference in the longitudinal direction of the strip 1 in the entire continuous electroplating equipment 30.
【００３５】[0035]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ストリッ
プ両側面の光沢度を均等化することができる。As described above, according to the present invention, the glossiness on both side surfaces of the strip can be equalized.
【図１】図１は第１実施例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a first embodiment.
【図２】図２は第２実施例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a second embodiment.
【図３】図３は第３実施例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a third embodiment.
【図４】図４は最後尾のめっきセルによるめっき量とス
トリップ面の平坦度面積率との関係を示す線図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the plating amount by the rearmost plating cell and the flatness area ratio of the strip surface.
【図５】図５は最終めっき後のコンダクタロールの有無
とめっき凸部の平滑化状態との関係を示す模式図であ
る。FIG. 5 is a schematic diagram showing the relationship between the presence or absence of a conductor roll after the final plating and the smoothed state of the plated protrusions.
【図６】図６はめっきセル１基当たりのめっき量とめっ
き凸部の平滑化状態との関係を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing the relationship between the plating amount per plating cell and the smoothing state of the plating protrusions.
１０ 連続電気めっき設備 １１ めっきセル １３ シールロール １４ コンダクタロール １５ バックアップロール １６ 電極 10 Continuous Electroplating Equipment 11 Plating Cell 13 Seal Roll 14 Conductor Roll 15 Backup Roll 16 Electrode
Claims (3)
ながら、めっき槽外に配設されたコンダクタロールによ
ってストリップに通電し、めっき槽内に配設された電極
によりストリップにめっきする、ストリップの連続電気
めっき設備において、めっき槽の出側に配設されストリ
ップに接触するロールを全て軟質ロールとしてなること
を特徴とするストリップの連続電気めっき設備。1. A strip of which is energized by a conductor roll disposed outside the plating tank while the strip is passed inside and outside the plating tank and which is plated by electrodes disposed inside the plating tank. Continuous electroplating equipment for strips, characterized in that in the continuous electroplating equipment, all the rolls arranged on the outlet side of the plating tank that come into contact with the strips are soft rolls.
きセルからなる、ストリップの連続電気めっき設備にお
いて、最後尾のめっきセルのためのコンダクタロール
を、最後尾のめっきセルの上流側に配設してなることを
特徴とするストリップの連続電気めっき設備。2. In a strip continuous electroplating facility, wherein the plating tank according to claim 1 comprises a plurality of plating cells, a conductor roll for the last plating cell is provided upstream of the last plating cell. Continuous electroplating equipment for strips, which is characterized by being arranged.
めっき設備を用いるに際し、最後尾のめっきセルのめっ
き量を5g／m2以上とすることを特徴とするストリップの
連続電気めっき方法。3. A continuous electroplating method for strips, characterized in that when the continuous electroplating equipment for strips according to claim 1 is used, the plating amount of the last plating cell is 5 g / m 2 or more.
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|---|---|---|---|
| JP19017892A JP3211981B2 (en) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | Continuous strip electroplating equipment and method |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP19017892A JP3211981B2 (en) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | Continuous strip electroplating equipment and method |
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| JPH0610186A true JPH0610186A (en) | 1994-01-18 |
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3211981B2 (en) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-06-25 JP JP19017892A patent/JP3211981B2/en not_active Expired - Fee Related
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| CN1309878C (en) * | 2000-04-20 | 2007-04-11 | 埃托特克德国有限公司 | Elastic contact element |
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| JP3211981B2 (en) | 2001-09-25 |
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