JPH06101143B2 - Thin optical memory-method for manufacturing medium - Google Patents

Thin optical memory-method for manufacturing medium

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JPH06101143B2
JPH06101143B2 JP61029884A JP2988486A JPH06101143B2 JP H06101143 B2 JPH06101143 B2 JP H06101143B2 JP 61029884 A JP61029884 A JP 61029884A JP 2988486 A JP2988486 A JP 2988486A JP H06101143 B2 JPH06101143 B2 JP H06101143B2
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    • G11B7/263Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的メモリー媒体の製造方法、特にフレキシ
ブル光ディスク等の、溝付きの光学的メモリー媒体の製
造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing an optical memory medium, and more particularly to a method for manufacturing a grooved optical memory medium such as a flexible optical disk.

〔従来の技術〕 従来の薄型光学メモリー媒体の製造は、まず基板とし
て、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等の
熱可塑性樹脂を、射出成形、圧縮成形により表面に凹凸
状の案内溝が設けられた状態に成形し、次いでこの基板
上に光記録層を積層することにより行なわれていた。
[Prior Art] Conventional thin optical memory media are manufactured by forming a substrate with a thermoplastic resin such as polymethylmethacrylate or polycarbonate by injection molding or compression molding, and then providing a concave-convex guide groove on the surface. It was carried out by molding and then laminating an optical recording layer on this substrate.

このような方法では、薄型化が難しく、厚さ1.0mm以下
の光学メモリー媒体を製造することは困難であった。こ
れは、基板が第3図に示すように、凹凸状の案内溝部分
31に対して、その下の基底部32の厚みをかなり大きくし
ないと、強度上等の問題から成形が困難であることを主
因としていた。
With such a method, it is difficult to reduce the thickness and it is difficult to manufacture an optical memory medium having a thickness of 1.0 mm or less. As shown in FIG. 3, the substrate is an uneven guide groove portion.
In contrast to 31, the main reason is that unless the thickness of the base portion 32 therebelow is made considerably large, molding is difficult due to problems such as strength.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その
目的は、1.0mm以下の厚さのフレキシブル光ディスク等
を従来より容易に製造することのできる方法を提供する
ことにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a method by which a flexible optical disk or the like having a thickness of 1.0 mm or less can be manufactured more easily than before.

〔問題を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記目的達成可能な本発明は、耐熱性シートの片面に、
直接または他の層を介して該耐熱シートより熱変形温度
の低い樹脂(以下、易変形性樹脂と略称)を積層し、得
られる積層シートを加熱下に、表面に凹凸を有する金型
で挟圧することにより該樹脂層の表面に凹凸状の案内溝
を転写して形成した積層シート2枚を耐熱性シート面が
接触するよう重ね合わせ、該案内溝を有するその両表面
に光エネルギーで記録可能な光記録層を積層する工程を
有することを特徴とする薄型光学メモリー媒体の製造方
法である。
The present invention that can achieve the above object, on one surface of the heat-resistant sheet,
A resin having a heat deformation temperature lower than that of the heat-resistant sheet (hereinafter, abbreviated as easily deformable resin) is laminated directly or through another layer, and the obtained laminated sheet is sandwiched with a mold having unevenness on the surface under heating. By pressing, two laminated sheets formed by transferring uneven guide grooves to the surface of the resin layer are overlapped so that the heat-resistant sheet surfaces come into contact, and both surfaces having the guide grooves can be recorded with optical energy. A method for manufacturing a thin optical memory medium, which comprises the step of laminating various optical recording layers.

以下、本発明を更に詳細に説明する。本発明の一実施態
様においては、まず、耐熱性シートの片面に易変形性樹
脂を積層し、積層シートを形成する。この積層方法とし
ては、易変形性樹脂を溶剤等に溶かし、それをロールコ
ートにより耐熱性シートに塗布する方法や、易変形性樹
脂をフィルム状にし、耐熱性シートにラミネートする方
法等がある。また、易変形性樹脂と耐熱性シートとを接
着層を介して貼合してもよい。この方法では十分大きな
接着力が得られ、且つ耐熱性シートは接着層により保護
される。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In one embodiment of the present invention, first, an easily deformable resin is laminated on one surface of a heat resistant sheet to form a laminated sheet. Examples of the lamination method include a method of dissolving an easily deformable resin in a solvent and applying it to a heat resistant sheet by roll coating, a method of forming the easily deformable resin into a film and laminating it on the heat resistant sheet. Further, the easily deformable resin and the heat resistant sheet may be bonded together via an adhesive layer. With this method, a sufficiently large adhesive force is obtained, and the heat resistant sheet is protected by the adhesive layer.

上記のような方法を再度実施して、2枚の積層シートを
形成する。2枚の積層シートを形成する他の方法とし
て、2枚の耐熱性シートを重ねて、その両面にディッピ
ング塗布を行う方法も採用できる。この方法は一度に2
枚の積層シートを得ることができる点で好ましい。
The above method is carried out again to form two laminated sheets. As another method of forming two laminated sheets, a method of stacking two heat resistant sheets and performing dipping coating on both surfaces thereof can also be adopted. This method is 2 at a time
It is preferable in that a single laminated sheet can be obtained.

次いで、2枚の積層シートのそれぞれの易変形性樹脂面
に、凹凸状の案内溝を転写し、2枚の基板を形成する。
この転写法として、一方の内表面のみが凹凸状とした、
対の金型により、積層シートを1枚ずつ挟圧する方法、
あるいは、2枚の積層シートを各々の耐熱シートが接触
するように重ね合わせた後、これを、内表面に凹凸をそ
れぞれ有する、対の金型により、加熱下挟圧する方法が
採用できる。後者の方法では、表裏対称の状態で挟圧で
きるので基板のたわみも少なくなるといった利点があ
る。
Next, uneven guide grooves are transferred to the easily deformable resin surfaces of the two laminated sheets to form two substrates.
As this transfer method, only one inner surface was made uneven,
A method of pressing the laminated sheets one by one with a pair of molds,
Alternatively, it is possible to adopt a method in which two laminated sheets are superposed so that the respective heat-resistant sheets come into contact with each other, and then the two are laminated with a pair of molds each having unevenness on the inner surface under heating. The latter method has an advantage that the deflection of the substrate can be reduced because the pressing can be performed in a symmetrical state of the front and back.

次いで、2枚の基板を、各耐熱シート面が接触するよう
に重ね合わせ、その両表面、即ち案内溝が設けられてい
る易変形性樹脂層面に光エネルギーで記録可能な光記録
層を積層して、2枚の光学メモリー媒体を同時に形成す
る。光記録層の積層は、後述する材料の蒸着法や、ディ
ップコート法、ロールコート法等の各種塗布法による。
Next, the two substrates are superposed so that their heat-resistant sheet surfaces come into contact with each other, and an optical recording layer capable of recording with light energy is laminated on both surfaces thereof, that is, the easily deformable resin layer surface provided with the guide groove. Thus, two optical memory media are simultaneously formed. The optical recording layer is laminated by various coating methods such as a vapor deposition method of a material described below, a dip coating method and a roll coating method.

本発明に用いる耐熱性シートつまりベースとなるフィル
ムは、凹凸パターン形成時の可塑状態の樹脂の温度に絶
えるものであり、熱硬化性の耐熱フィルムが好ましい。
この熱硬化性の耐熱フィルムの代表的例としては、ポリ
イミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、エポキシ
樹脂フィルム、シリコーン樹脂フィルム、ポリエステル
イミドフィルム、ポリエステルフィルム、及びテトラフ
ルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体フ
ィルム、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキ
ルビニルエーテル共重合体フィルムなどのフッ素樹脂フ
ィルムなどがある。
The heat-resistant sheet used in the present invention, that is, the base film is a material that can withstand the temperature of the resin in the plastic state when the uneven pattern is formed, and a thermosetting heat-resistant film is preferable.
Typical examples of the thermosetting heat-resistant film include polyimide film, polyamideimide film, epoxy resin film, silicone resin film, polyesterimide film, polyester film, and tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer film, tetra film. Examples thereof include fluororesin films such as fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer films.

本発明に用いる、易変形性樹脂としては熱可塑性樹脂が
好ましい。この熱可塑性樹脂の代表的なものには、ポリ
サルホン、ポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重
合体やエチレン−アクリレート共重合体やエチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン共重合体、ポリオ
レフィンハロゲン化物、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合
体や塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体等の塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体や
塩化ビニリデン−塩化ビニル−アクリルニトリル共重合
体等の塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレ
ン−アクリルニトリル共重合体(AS樹脂)やスチレン−
アクリルニトリル−ブタジエン共重合体(ABS樹脂)等
のスチレン共重合体、p−メチルスチロールや2,5−ジ
クロルスチロールやビニルアントラセンなど、あるいは
それらの共重合体(スチロール共重合体)、クマロンお
よびインデンあるいはこれらとスチレンとの共重合体、
テルペン樹脂ないしピコライト、アクリル樹脂、ポリア
クリルニトリル、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合
体やアクリルニトリル−ビニルピリジン共重合体やアク
リルニトリル−メタクリル酸メチル共重合体等のアクリ
ルニトリル共重合体、ポリアクリルアミドないし、アク
リルニトリルにアセトンを作用させたダイアセトンアク
リルアミドポリマー、ポリ酢酸ビニル、アクリル酸エス
テルやビニルエステルやビニルエーテルやエチレン等と
酢酸ビニルとの共重合体、ポリビニルエーテル、ポリア
ミド、熱可塑性ポリエステル、ポリビニルアルコールま
たはポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン、数平
均分子量6,000以下のポリビニルカルバゾールまたはビ
ニルカルバゾールとエチレンもしくはスチレン等とのポ
リビニルカルバゾール共重合体等の含窒素ビニル重合
体、ポリブタジエンまたはブタジエン−スチレン共重合
体やイソプレン−イソブチレン共重合体等のジエン系重
合体、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリエチレン
イミン類、セルロース系樹脂あるいは上記樹脂の2種類
以上のブレンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブ
レンド体などがある。
The easily deformable resin used in the present invention is preferably a thermoplastic resin. Typical examples of the thermoplastic resin include polysulfone, polyolefin, polyolefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylate copolymer and ethylene-propylene copolymer, polyolefin halides, vinyl acetate. -Vinyl chloride copolymers such as vinyl chloride copolymers and vinyl chloride-acrylonitrile copolymers, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymers and vinylidene chloride copolymers such as vinylidene chloride-vinylidene chloride-vinyl chloride-acrylonitrile copolymers , Polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer (AS resin) and styrene-
Styrene copolymers such as acrylonitrile-butadiene copolymer (ABS resin), p-methylstyrene, 2,5-dichlorostyrene, vinylanthracene, etc., or their copolymers (styrene copolymers), coumarone and Indene or a copolymer of these with styrene,
Terpene resin or picolite, acrylic resin, polyacrylonitrile, acrylonitrile-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile-vinyl pyridine copolymer, acrylonitrile-methyl methacrylate copolymer and other acrylonitrile copolymers, polyacrylamide or , Diacetone acrylamide polymer obtained by acting acetone on acrylonitrile, polyvinyl acetate, acrylic acid ester or vinyl ester, vinyl ether or copolymer of ethylene with vinyl acetate, polyvinyl ether, polyamide, thermoplastic polyester, polyvinyl alcohol or Polyvinyl acetal resin, polyurethane, polyvinylcarbazole having a number average molecular weight of 6,000 or less, or polyvinylcarbazol of vinylcarbazole and ethylene or styrene. Nitrogen-containing vinyl polymers such as copolymers, dibutadiene polymers such as polybutadiene or butadiene-styrene copolymers and isoprene-isobutylene copolymers, polyethers, polycarbonates, polyethyleneimines, cellulosic resins or two of the above resins. There are blends of more than one kind or blends with other thermoplastic resins.

本発明において用いる光記録層の材料としては、光によ
って記録がなされる薄膜を形成可能なものならばその種
類は問わないが、例えばアルミニウムなどの金属、ビス
マス、酸化テルルやカルコゲナイド系化合物などの無機
化合物が挙げられる。これらの材料は、一般にスパッタ
リングや真空蒸着により光記録層とする。また、他の光
記録層材料として光吸収色素を主体とするものが挙げら
れる。光吸収色素としては、シアニン、メロシアニン、
トリフェニルメタン、ナフトキノン、キサンテン、スク
アリウムおよびアズレンなどを含めて、アゾ、スチルベ
ン、フタロシアニン系の直接染料、アゾ、アントラキノ
ン、トリフェニルメタン、キサンテン、アジン系の酸性
染料、シアニン、アゾ、アジン、トリフェニルメタン系
の塩基性染料、アゾ、アントラキノン、キサンテン、ト
リフェニルメタン系の媒染・酸性媒染染料、アントラキ
ノン、インジゴイド系の建染染料、アゾ、アントラキノ
ン、フタロシアニン、トリフェニルメタン系の油溶染料
などを使用することができる。これらは、主に前記した
各種塗布法により光記録層とする。
The material of the optical recording layer used in the present invention may be of any type as long as it can form a thin film to be recorded by light, and examples thereof include metals such as aluminum, bismuth, inorganic materials such as tellurium oxide and chalcogenide compounds. Compounds. These materials are generally used as an optical recording layer by sputtering or vacuum evaporation. Further, as the other optical recording layer material, a material mainly containing a light absorbing dye can be mentioned. As the light absorbing dye, cyanine, merocyanine,
Including azo, stilbene, phthalocyanine direct dyes, azo, anthraquinone, triphenylmethane, xanthene, azine acid dyes, cyanine, azo, azine, triphenyl, including triphenylmethane, naphthoquinone, xanthene, squalium and azulene. Methane basic dye, azo, anthraquinone, xanthene, triphenylmethane mordant / acid mordant dye, anthraquinone, indigoid vat dye, azo, anthraquinone, phthalocyanine, triphenylmethane oil soluble dye, etc. can do. These are mainly used as the optical recording layer by the various coating methods described above.

〔作用〕[Action]

本発明の方法では、案内溝部分とその下の基底部とを別
種の材質として基板を成形し、しかも、その基底部に予
め成形されている強度の高い耐熱性シートを使用するの
で、基底部を案内溝部分よりも相対的に厚くしなくても
基板成形は容易にできる。
In the method of the present invention, the guide groove portion and the base portion below the guide groove portion are formed of different materials to form the substrate, and since a high-strength heat-resistant sheet preformed on the base portion is used, the base portion is formed. The substrate can be easily formed without making the thickness relatively thicker than the guide groove portion.

また、本発明では、射出成形のように金型内に原料樹脂
を行き渡らせる工程を必要としないので、金型の設定す
るキャビティー幅の制約が極めて小さく、この点から
も、基板の薄型化が図れる。以上の理由から、本法によ
れば、光学メモリー媒体全体としても薄型化が図れる。
In addition, the present invention does not require a step of distributing the raw material resin in the mold unlike the injection molding, so that the restriction of the cavity width set by the mold is extremely small, and from this point also, the substrate can be made thin. Can be achieved. For the above reasons, according to this method, the optical memory medium as a whole can be made thinner.

また、2枚同時に光記録層が形成されるので生産性が向
上する。
Further, since the optical recording layers are formed simultaneously on the two sheets, the productivity is improved.

更に、本法では、光記録層の積層の際、2枚の基板のそ
れぞれの裏面は露出してないので、その積層法にディッ
ピング塗布を利用する場合も、基板の裏面をカバー等で
覆う必要が全くなく、ディッピング塗布の実施が極めて
容易となる。
Furthermore, in this method, since the back surfaces of the two substrates are not exposed when the optical recording layers are stacked, it is necessary to cover the back surfaces of the substrates even when using dipping coating for the stacking method. Since there is no problem, the dipping coating can be carried out very easily.

〔実施例〕〔Example〕

以下本発明の具体的実施例を第1、第2図に基づいて示
し、本発明をさらに詳細に説明する。
Specific examples of the present invention will be shown below with reference to FIGS. 1 and 2, and the present invention will be described in more detail.

実施例1 第1図に示すように、熱変形温度が300℃で厚さが50μ
mのポリイミドフィルム(東レ(株)のカプトンフィル
ム)のの2枚を加圧ロール2で接触させ、熱変形温度が
85℃で数平均分子量が8万であるポリメチルメタクリレ
ートをトルエンに溶解させた溶液3中を通すことによ
り、両表面(2枚のポリイミドフィルムのそれぞれの片
面)にポリメチルメタクリレートを塗布後、加熱炉4で
トルエンを蒸発させ、厚さ50μmのポリメチルメタクリ
レート層を積層し、積層シート2枚を形成した(第1
図)。その後、第2図に示すように、原盤より電鋳加工
によって製造した、表面に凹凸を有するスタンパー12、
13が金型10、11にそれぞれとりつけられた前記プレス部
で加熱押圧してポリメチルメタクリレート層に案内講を
転写し、溶液3に達するまで冷却固化した。
Example 1 As shown in FIG. 1, the heat distortion temperature is 300 ° C. and the thickness is 50 μm.
2 pieces of the polyimide film of m (Kapton film of Toray Industries, Inc.) are brought into contact with each other with the pressure roll 2, and the heat distortion temperature is
After passing polymethylmethacrylate having a number average molecular weight of 80,000 at 85 ° C in a solution 3 in toluene, apply polymethylmethacrylate to both surfaces (one side of each of the two polyimide films) and then heat. Toluene was evaporated in the furnace 4 and 50 μm thick polymethylmethacrylate layers were laminated to form two laminated sheets (first
Figure). After that, as shown in FIG. 2, a stamper 12 having an uneven surface produced by electroforming from a master,
13 was heated and pressed by the press parts attached to the molds 10 and 11, respectively, to transfer the guide structure to the polymethylmethacrylate layer, and then cooled and solidified until the solution 3 was reached.

続いて、下記光吸収染料 の1%溶液6(溶媒…ジアセトンアルコール:イソプロ
ピルアルコール=2:1重量部)中を通し、光吸収染料を
案内溝上に塗布し、溶媒を蒸発させて光記録層を形成
後、2枚の分離ロール15で分離して2枚の、薄型光学メ
モリ媒体を得た。各媒体の厚さは、0.1mmであった。
Then, the following light absorbing dye 1% solution 6 (solvent: diacetone alcohol: isopropyl alcohol = 2: 1 parts by weight), the light absorbing dye is applied on the guide groove, and the solvent is evaporated to form an optical recording layer. Two thin optical memory media were obtained by separating with a separating roll 15. The thickness of each medium was 0.1 mm.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上、詳細に説明したように、耐熱性シートの片面に、
直接または他の層を介して易変形性樹脂を積層し、得ら
れる積層シートを加熱下に、表面に凹凸を有する金型で
挟圧することにより該樹脂層の表面に凹凸状の案内溝を
転写して形成した積層シート2枚を耐熱性シート面が接
触するよう重ね合わせ、該案内溝を有するその両表面に
光エネルギーで記録可能な光記録層を積層することによ
り、1.0mm以下の厚さのフレキシブル光ディスク等を生
産性高く、しかも、従来よりも容易に製造することがで
きるようになった。
As described above in detail, on one surface of the heat resistant sheet,
Laminate an easily deformable resin directly or via another layer, and press the resulting laminated sheet with a mold having irregularities on the surface to transfer an irregular guide groove to the surface of the resin layer. The two heat-resistant sheets are laminated so that the surfaces of the heat-resistant sheets are in contact with each other, and an optical recording layer capable of recording with optical energy is laminated on both surfaces having the guide groove to obtain a thickness of 1.0 mm or less. It has become possible to manufacture such flexible optical discs with high productivity and more easily than ever before.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はポリイミドフィルムにポリメチルメタクリレー
トを塗布する工程図、第2図は案内溝の転写および光吸
収色素の塗布を実施する肯定図、第3図は射出成形法に
より製造された基板の断面図である。 1:ポリイミドフィルム、2:加圧ロール 3:ポリメチルメタクリレート溶液 4:加圧炉 10、11:金型 12、13:スタンパー、14:光吸収性色素溶液 15:分離ロール 31:案内溝部分、32:基底部
Fig. 1 is a process drawing of applying polymethylmethacrylate to a polyimide film, Fig. 2 is an affirmative view of transferring guide grooves and applying light absorbing dye, and Fig. 3 is a cross section of a substrate manufactured by an injection molding method. It is a figure. 1: Polyimide film, 2: Pressure roll 3: Polymethylmethacrylate solution 4: Pressure furnace 10, 11: Mold 12, 13: Stamper, 14: Light absorbing dye solution 15: Separation roll 31: Guide groove part, 32: Base

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29L 17:00 4F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location // B29L 17:00 4F

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】耐熱性シートの片面に、直接または他の層
を介して該耐熱シートより熱変形温度の低い樹脂を積層
し、得られる積層シートを加熱下に、表面に凹凸を有す
る金型で挟圧することにより該樹脂層の表面に凹凸状の
案内溝を転写して形成した積層シート2枚を、耐熱性シ
ート面が接触するよう重ね合わせ、該案内溝を有するそ
の両表面に光エネルギーで記録可能な光記録層を積層す
る工程を有することを特徴とする薄型光学メモリー媒体
の製造方法。
1. A mold having a heat-resistant sheet, on one side of which a resin having a heat distortion temperature lower than that of the heat-resistant sheet is laminated directly or via another layer, and the resulting laminated sheet is heated to have irregularities on the surface. Two laminated sheets formed by transferring uneven guide grooves to the surface of the resin layer by sandwiching them are stacked so that the heat-resistant sheet surfaces are in contact with each other, and light energy is applied to both surfaces having the guide grooves. A method for manufacturing a thin optical memory medium, comprising a step of laminating an optical recording layer capable of recording with a recording medium.
【請求項2】光エネルギーで記録可能な光記録層をディ
ッピング塗布により積層することを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の薄型光学メモリー媒体の製造方法。
2. The method for producing a thin optical memory medium according to claim 1, wherein an optical recording layer capable of recording with light energy is laminated by dipping coating.
【請求項3】接触させた2枚の耐熱性シートの両表面上
へ、ディッピング塗布により樹脂層を積層して、積層シ
ート2枚を同時に形成することを特徴とする特許請求の
範囲第1項又は第2項記載の薄型光学メモリー媒体の製
造方法。
3. The two laminated sheets are formed simultaneously by laminating a resin layer by dipping coating on both surfaces of two heat-resistant sheets that are in contact with each other. Alternatively, the method for manufacturing the thin optical memory medium according to the second aspect.
【請求項4】樹脂層が熱可塑性樹脂よりなることを特徴
とする特許請求の範囲第1項,第2項又は第3項記載の
光学メモリー媒体の製造方法。
4. The method of manufacturing an optical memory medium according to claim 1, 2, or 3, wherein the resin layer is made of a thermoplastic resin.
【請求項5】耐熱性シートが熱硬化性樹脂よりなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項〜第4項何れか一項
記載の光学メモリ媒体の製造方法。
5. The method for manufacturing an optical memory medium according to claim 1, wherein the heat resistant sheet is made of a thermosetting resin.
JP61029884A 1986-02-14 1986-02-15 Thin optical memory-method for manufacturing medium Expired - Lifetime JPH06101143B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61029884A JPH06101143B2 (en) 1986-02-15 1986-02-15 Thin optical memory-method for manufacturing medium
US07/473,106 US5160462A (en) 1986-02-14 1990-02-02 Preparing optical memory medium by laminating a thermoplastic resin layer on a thermosetting resin sheet
US07/928,322 US5378516A (en) 1986-02-14 1992-08-12 Thin type optical memory medium and method for preparing the same

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