JPH0585702A - Production of hydrogen separation membrane - Google Patents

Production of hydrogen separation membrane

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JPH0585702A
JPH0585702A JP27641891A JP27641891A JPH0585702A JP H0585702 A JPH0585702 A JP H0585702A JP 27641891 A JP27641891 A JP 27641891A JP 27641891 A JP27641891 A JP 27641891A JP H0585702 A JPH0585702 A JP H0585702A
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JP
Japan
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metal
thin film
plating
porous
separation membrane
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JP27641891A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Sueda
穰 末田
Sadato Shigemura
貞人 重村
Yoshio Kataoka
好夫 片岡
Toru Funada
徹 船田
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a hydrogen separation membrane having large hydrogen permeation amt. by drawing or blasting a metal porous body in the process of plating or ion plating on the surface of a thin film containing Pd of the metal porous body. CONSTITUTION:A metal porous base body is produced by laminating and sintering a porous metal thin film 2 and plural numbers of metal nets 3 having small pores. The porous metal thin film 2 is obtd. by rolling and sintering a metal fiber nonwoven fabric having small fiber diameter (e.g. SUS 316L metal fiber nonwoven fabric having 2mum fiber diameter). The metal nets 3 are laminated in a various state according to the strength and dimension required to maintain the pressure-resistant strength. Then a thin film 1 containing Pd is formed on the surface of the porous metal thin film side by plating, ion plating, etc. In this process, the surface is subjected to drawing or blasting with metal in the stage that not all pores are sealed so that the pores not completely sealed is decreased in size. Then the thin film is treated by plating or ion plating till the thin film is completely sealed to obtain the hydrogen separation membrane.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は混合ガス中の水素を分離
するための水素分離膜の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a hydrogen separation membrane for separating hydrogen in a mixed gas.

【0002】[0002]

【従来の技術】省エネルギ型分離技術として、近年、膜
による気体の分離法が注目を集めている。水素含有気体
から水素を分離し、99.99%以上の高純度の水素を
得る方法としてPdを主体とする膜を使用する方法が知
られている。
2. Description of the Related Art In recent years, a gas separation method using a membrane has attracted attention as an energy-saving separation technology. As a method for separating hydrogen from a hydrogen-containing gas to obtain high-purity hydrogen of 99.99% or more, a method using a membrane mainly containing Pd is known.

【0003】従来はPd又はPdを主体とする合金を伸
延し、薄膜とすることによって製造され、この膜は支持
枠で支持して使用されていた。しかし、この方法は60
〜100μm程度の比較的厚いものを使用しなくてはな
らず、高価なPdの使用量が増大し、又水素の透過速度
が小さい。
Conventionally, Pd or an alloy containing Pd as a main component is stretched to form a thin film, and this film is used by being supported by a supporting frame. However, this method is 60
A relatively thick material of about 100 μm must be used, the amount of expensive Pd used increases, and the hydrogen permeation rate is low.

【0004】また、セラミックスなど無機質材料からな
る多孔質体の表面にPdを含有する薄膜を形成させた水
素分離膜が提案されているが、この水素分離膜は脆性
材料であり、機械的強度、振動・衝撃に弱いため、基材
を破損しないように保持することが困難であり、特別な
容器や支持法の設計を要する。硬いため加工性が悪く
長尺のパイプ状の成形体を得ることが難しいので設計の
自由度も小さい。溶接ができないため、シール部の構
造が複雑になる。
Further, a hydrogen separation membrane has been proposed in which a thin film containing Pd is formed on the surface of a porous body made of an inorganic material such as ceramics. This hydrogen separation membrane is a brittle material and has a high mechanical strength. Since it is weak against vibration and impact, it is difficult to hold the base material without damaging it, and a special container or support method must be designed. Since it is hard and has poor workability, it is difficult to obtain a long pipe-shaped molded product, so that the degree of freedom in design is low. Since welding cannot be performed, the structure of the seal part becomes complicated.

【0005】さらに、また、セラミックスなど無機質材
料に代わる0.1〜20μmの細孔を有する多孔質金属
体を基材とし、表面にPdを含有する薄膜を形成させた
水素分離膜が提案されている。この多孔質金属多孔体の
製造方法としては、発泡(多孔質)金属をプレス成形
し細孔径を制御したもの。粒径の小さい金属微粉末
(50μm以下)を焼結成形したもの。化学反応によ
り除去可能な粉末を金属粉末に混合又は溶融した金属に
添加した後、粉末を化学反応により除去し細孔を生成さ
せたものなどが提案されているが、何れも加工性が悪く
薄肉で長尺のパイプを製造することが難しいので製造で
きるとしても耐圧強度を大きくするためには厚肉が必要
で通気抵抗が大きくなり、水素分離膜の基材として適さ
ない。
Furthermore, there has been proposed a hydrogen separation membrane in which a thin film containing Pd is formed on the surface of a porous metal body having pores of 0.1 to 20 μm as an alternative to inorganic materials such as ceramics. There is. The method for producing this porous metal porous body is one in which foamed (porous) metal is press-molded to control the pore size. Sintered compact metal fine powder (50 μm or less) with small particle size. It has been proposed that a powder that can be removed by a chemical reaction is mixed with metal powder or added to a molten metal, and then the powder is removed by a chemical reaction to create pores. Since it is difficult to manufacture a long pipe, even if it can be manufactured, a thick wall is required to increase the pressure resistance and the ventilation resistance increases, which is not suitable as a base material for a hydrogen separation membrane.

【0006】そこで、我々は、上記従来技術の問題点を
解決する手段として、以下の方法により製作した水素分
離膜を提案した。(特願平3〜115811号) 50μm以下のPdを含有する薄膜を容易に形成させる
ために繊維径の小さい金属繊維不織布を圧延、焼結する
ことにより0.1〜20μmと表面細孔が小さく、かつ
通気抵抗を大きくしないために0.05〜0.15mmと
薄肉とした多孔質金属薄膜と、耐圧強度を保持するため
に必要な強度・寸法に応じて積層状態を変えた100μ
m以上の細孔を有する複数枚の金網とを積層焼結した金
属多孔体を製作する。この通気抵抗が小さく高い強度を
有すると共に、長尺のパイプ曲げ加工などの加工が可能
な金属多孔体の多孔質金属薄膜側表面に、(a)めっき
などの湿式のコーティング法、(b)真空蒸着法、イオ
ンプレーティング、気相反応法(CVD)などのドライ
コーティング法により、Pdを含有する薄膜を薄く形成
させた水素分離膜を製作する。この既提案の水素分離膜
は溶接が可能なため、モジュール化が容易となる効果も
有している。
Therefore, as a means for solving the above-mentioned problems of the prior art, we have proposed a hydrogen separation membrane manufactured by the following method. (Japanese Patent Application No. 3-115811) A metal fiber nonwoven fabric having a small fiber diameter is rolled and sintered to easily form a thin film containing Pd of 50 μm or less, and the surface pores are small as 0.1 to 20 μm. In addition, a porous metal thin film having a thin thickness of 0.05 to 0.15 mm in order not to increase the ventilation resistance, and a laminated state changed according to the strength and dimensions required to maintain the pressure resistance of 100 μ.
A metal porous body is produced by laminating and sintering a plurality of metal nets having pores of m or more. (A) Wet coating method such as plating, and (b) vacuum on the surface of the porous metal thin film of the metal porous body, which has a small air flow resistance and high strength and is capable of processing such as long pipe bending. A hydrogen separation membrane in which a thin film containing Pd is formed thinly is manufactured by a dry coating method such as a vapor deposition method, an ion plating method, and a vapor phase reaction method (CVD). Since this proposed hydrogen separation membrane can be welded, it also has the effect of facilitating modularization.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】Pd膜による水素の分
離においても、通常の膜分離と同様に気体の透過速度は
膜の厚さに逆比例する。したがって、水素透過速度の大
きな水素分離膜を製作するにはPdを含有する薄膜をで
きる限り薄くすることが有効である。
In the separation of hydrogen with a Pd membrane, the gas permeation rate is inversely proportional to the thickness of the membrane, as in ordinary membrane separation. Therefore, in order to manufacture a hydrogen separation membrane having a high hydrogen permeation rate, it is effective to make the thin film containing Pd as thin as possible.

【0008】しかし、Pdを含有する薄膜を形成させる
方法として挙げられるめっきやイオンプレーティングに
おいて、例えばPdを含有する薄膜を10μm以下に形
成するためには金属多孔体の表面細孔径が最大でも10
μm以下である必要があるが、既提案の金属多孔体は平
均細孔径が5〜7μmで最大15μm程度の表面細孔を
有している。
However, in plating or ion plating which is mentioned as a method of forming a thin film containing Pd, for example, in order to form a thin film containing Pd to 10 μm or less, the surface pore diameter of the metal porous body is 10 at the maximum.
Although it is necessary that the average pore size is 5 to 7 μm, the proposed porous metal body has surface pores of about 15 μm at the maximum.

【0009】したがって、現状の金属多孔体の表面細孔
をめっきあるいはイオンプレーティングなどによりPd
を含有する薄膜にて完全に封孔するためには多くの処理
時間を要し、Pdを含有する薄膜の厚みが最低15〜2
0μm必要である。その結果として水素透過速度が小さ
く、また、高価なPdの使用量が多くなるという問題が
ある。
Therefore, the surface pores of the current metallic porous body are plated with Pd by ion plating or the like.
It takes a lot of processing time to completely seal the thin film containing Pd and the thickness of the thin film containing Pd is at least 15 to 2
0 μm is required. As a result, there are problems that the hydrogen permeation rate is low and the amount of expensive Pd used is large.

【0010】また、水素透過速度の大きな水素分離膜と
するためには金属多孔体そのものの通気抵抗が小さく開
孔率の大きなことも必要であるが、表面細孔径を小さく
すると通気抵抗が上昇し開孔率が低下するという問題が
ある。それを解決する手段としては非常に線径の細い金
属繊維不織布を用いればよいが、焼結や加工条件が厳し
くなり、また費用が多くかかるなどの問題がある。
Further, in order to obtain a hydrogen separation membrane having a high hydrogen permeation rate, it is necessary that the porous metal itself has a small ventilation resistance and a large opening ratio, but if the surface pore size is reduced, the ventilation resistance increases. There is a problem that the porosity decreases. As a means for solving this, a metal fiber non-woven fabric having a very small wire diameter may be used, but there are problems that the sintering and processing conditions are strict and the cost is high.

【0011】本発明は上記技術水準に鑑み、通気抵抗が
小さく、かつPd使用量も少なくてすむ水素分離膜の製
造方法を提供しようとするものである。
In view of the above-mentioned state of the art, the present invention aims to provide a method for producing a hydrogen separation membrane, which has a low ventilation resistance and a small amount of Pd used.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は (1)細孔を有する金属多孔体の表面に、PdまたはP
dを含有する薄膜を形成させる方法において、めっきま
たはインプレーティングなどの途中で封孔処理を行うこ
とを特徴とする水素分離膜の製造方法。
The present invention provides (1) Pd or P on the surface of a porous metal body having pores.
A method for producing a hydrogen separation membrane, characterized in that in the method for forming a thin film containing d, a sealing treatment is performed during plating or plating.

【0013】(2)封孔処理を、PdまたはPdを含有
する薄膜表面を金属などによりしごくかブラスト処理に
よって行うことを特徴とする上記(1)記載の水素分離
膜の製造方法。である。
(2) The method for producing a hydrogen separation membrane as described in (1) above, wherein the sealing treatment is performed by squeezing or blasting the surface of the thin film containing Pd or Pd with a metal or the like. Is.

【0014】本発明において封孔処理に当って、しごく
材料として使用される金属はPdより硬さが大きい(ビ
ッカース硬さ:Hv120以上)ものであればどのよう
なものでも使用でき、ブラスト処理材料はシリカ系のガ
ラスビーズなどが使用される。ガラスビーズは球形であ
ることが重要で、Pd膜を伸延するが削りとらない方が
よい。また、鋼球のように質量が大きいものは金属多孔
体を変形させるおそれがあるので好ましくない。
In the present invention, in the sealing treatment, any metal used as a squeezing material can be used as long as it has a hardness higher than Pd (Vickers hardness: Hv120 or more). For example, silica-based glass beads are used. It is important that the glass beads have a spherical shape, and it is better that the glass beads extend the Pd film but do not scrape it. In addition, steel balls having a large mass such as steel balls are not preferable because they may deform the porous metal body.

【0015】[0015]

【作用】以下、本発明を更に具体的に説明し、本発明の
作用を併せて明らかにする。
The present invention will be described in more detail below, and the function of the present invention will be clarified.

【0016】(1)水素分離膜の基材として、繊維径の
小さい金属繊維不織布を圧延、焼結して薄肉とした多孔
質金属薄膜と、耐圧強度を保持するために必要な強度・
寸法に応じて積層状態を変えた細孔を有する複数枚の金
網とを積層焼結した金属多孔体を製作する。
(1) As a base material of the hydrogen separation membrane, a porous metal thin film made thin by rolling and sintering a metal fiber nonwoven fabric having a small fiber diameter, and the strength required to maintain pressure resistance.
A metal porous body is produced by laminating and sintering a plurality of metal nets having pores whose laminated state is changed according to the size.

【0017】(2)その金属多孔体の多孔質金属薄膜側
表面にめっきあるいはイオンプレーティングなどにより
Pdを含有する薄膜を形成させる。
(2) A Pd-containing thin film is formed on the surface of the porous metal thin film side of the porous metal body by plating or ion plating.

【0018】(3)完全に表明細孔を封孔するには最低
15〜20μm必要であるが、本発明では表面細孔が完
全に封孔されていないめっきあるいはイオンプレーティ
ングの途中段階において、Pdを含有する薄膜の表面を
金属などによるしごきあるいはブラスト処理などを実施
する。この処理によりPdを含有する薄膜の表面が潰れ
完全に封孔していない開孔が小さくなる。
(3) At least 15 to 20 μm is required to completely seal the expressed pores, but in the present invention, in the intermediate stage of plating or ion plating in which the surface pores are not completely sealed, The surface of the thin film containing Pd is subjected to ironing or blasting with a metal or the like. By this treatment, the surface of the Pd-containing thin film is crushed and the size of the opening that is not completely sealed is reduced.

【0019】(4)その後、さらに表面細孔がPdを含
有する薄膜にて完全に封孔するまでめっきあるいはイオ
ンプレーティングなどの処理を行う。この処理はPdを
含有する薄膜の表面細孔が小さくなっているため短時間
で行うことができ、その結果として、非常に薄いPdを
含有する薄膜をもつ水素分離膜の製造が可能となる。
(4) Thereafter, a treatment such as plating or ion plating is further performed until the surface pores are completely sealed with a thin film containing Pd. This treatment can be performed in a short time because the surface pores of the Pd-containing thin film are small, and as a result, a hydrogen separation membrane having a very thin Pd-containing thin film can be produced.

【0020】[0020]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明の金属多孔体パイプにPdを含有す
る薄膜を形成させたものの断面構造の模式図を図1に示
し、図1によって本発明の一実施例を説明する。
(Embodiment 1) A schematic view of a cross-sectional structure of a metal porous pipe of the present invention on which a thin film containing Pd is formed is shown in FIG. 1, and one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0021】線径2μmの多孔質金属薄膜となるSUS
316L金属繊維不織布2と200、100、40メッ
シュの金網(SUS316)を重ねたもの3とを120
0℃×3時間の条件で積層焼結した金属多孔体を巻き加
工→溶接して20φ×300Lのパイプを製作した。こ
のパイプの全厚みは約0.6mmであり、多孔質金属薄膜
の厚みは0.10mmである。又、表面細孔径は平均で約
6〜7μm、開孔率は約30%であるが、最大15μm
の細孔をある程度有している。この金属多孔体パイプ外
表面の状況の走査型電子顕微鏡写真(1000倍)を図
2に示す。
SUS which becomes a porous metal thin film having a wire diameter of 2 μm
316L metal fiber non-woven fabric 2 and 3 with 200, 100 and 40 mesh wire mesh (SUS316) stacked on top of each other 120
A metal porous body laminated and sintered under the condition of 0 ° C. for 3 hours was wound and welded to manufacture a pipe of 20φ × 300 L. The total thickness of this pipe is about 0.6 mm and the thickness of the porous metal thin film is 0.10 mm. The average surface pore diameter is about 6 to 7 μm, and the open area ratio is about 30%, but the maximum is 15 μm.
To some extent. A scanning electron micrograph (× 1000) of the condition of the outer surface of the metal porous pipe is shown in FIG.

【0022】この金属多孔体パイプの外表面に、本発明
を用いないで表面細孔が完全に封孔されるまで無電解め
っき(Pdの化合物と還元剤を含有する液に浸漬)にて
Pdをめっきした。完全に封孔できるまでに要しためっ
き時間は20時間であり、Pdめっきの膜厚は約18μ
mであった。(比較例1)
The outer surface of this metal porous pipe is subjected to Pd by electroless plating (immersing in a liquid containing a Pd compound and a reducing agent) until the surface pores are completely sealed without using the present invention. Plated. The plating time required to completely seal the holes is 20 hours, and the film thickness of Pd plating is about 18μ.
It was m. (Comparative Example 1)

【0023】また、同一条件の無電解めっきにて6時間
めっき後の金属多孔体パイプの表面をガラスビーズによ
るブラスト処理(平均ビーズ径:115μm、圧力:5
kg/cm2 )を実施した。6時間めっき後のブラスト処理
前後の通気抵抗測定結果を図3に、Pdめっき膜の表面
状況の走査型電子顕微鏡写真(1000倍)を図4、図
5に示す。ブラスト処理により表面の細孔が潰されて小
さくなり、その結果通気抵抗が約200倍上昇してい
る。
The surface of the metal porous pipe after electroless plating under the same conditions for 6 hours was blasted with glass beads (average bead diameter: 115 μm, pressure: 5).
kg / cm 2 ) was carried out. FIG. 3 shows the results of measuring the ventilation resistance before and after the blasting treatment after 6 hours of plating, and FIGS. 4 and 5 show scanning electron micrographs (× 1000) of the surface condition of the Pd plated film. The blast treatment causes the pores on the surface to be crushed and made smaller, resulting in an increase in ventilation resistance of about 200 times.

【0024】上記ブラスト処理後のパイプは、さらに4
時間の同一条件の無電解めっきにて完全に封孔でき、そ
のPdめっきの膜1の厚さは約8.5μmであった。
(実施例1)
After the blast treatment, the number of pipes is 4
The pores could be completely sealed by electroless plating under the same conditions of time, and the thickness of the Pd-plated film 1 was about 8.5 μm.
(Example 1)

【0025】本発明を用いないでPdめっきしたもの
(比較例1)及び本発明の方法でPdめっきしたもの
(実施例1)の各々のパイプにつき、H2 混合ガスの圧
力を3kg/cm2 G、流量を200Nl/min で、500
℃で実施した水素透過試験結果を表1に示す。
The pressure of H 2 mixed gas was 3 kg / cm 2 for each pipe of Pd plated without using the present invention (Comparative Example 1) and Pd plated by the method of the present invention (Example 1). G, 500 at a flow rate of 200 Nl / min
The results of the hydrogen permeation test conducted at 0 ° C are shown in Table 1.

【0026】表1から明らかなように、本発明の方法に
よりPdめっきしたもの(実施例1)の水素透過速度は
42cm3 /cm2・min であり、本発明を用いない方法
(比較例1)の2.1倍、従来のPdまたはPdを含有
する合金を伸延したPd膜の約11倍である。
As is clear from Table 1, the hydrogen permeation rate of the Pd-plated product of the present invention (Example 1) was 42 cm 3 / cm 2 · min, and the method not using the present invention (Comparative Example 1). 2), which is 2.1 times, and about 11 times that of a Pd film obtained by extending a conventional Pd or an alloy containing Pd.

【表1】 [Table 1]

【0027】また、本発明の方法(実施例1)でのPd
めっき液の使用量は、本発明を用いない方法(比較例
1)の半分であり、時間短縮のみでなく、費用節減から
も効果がある。
Further, Pd in the method of the present invention (Example 1)
The amount of plating solution used is half that of the method not using the present invention (Comparative Example 1), which is effective not only in reducing time but also in cost reduction.

【0028】(実施例2)実施例1で製作した図2に示
す外表面を有する金属多孔体パイプの外表面に、本発明
を用いないで表面細孔が完全に封孔されるまでイオンプ
レーティングを実施した。完全に封孔できるまでに要し
たイオンプレーティング時間は180分であり、Pdの
膜厚は約25μmであった。(比較例2)
(Example 2) Ion plating was performed on the outer surface of the metal porous pipe having the outer surface shown in FIG. 2 manufactured in Example 1 until the surface pores were completely sealed without using the present invention. Was carried out. The ion plating time required to completely seal the holes was 180 minutes, and the film thickness of Pd was about 25 μm. (Comparative example 2)

【0029】また、同一のイオンプレーティング条件に
て50分イオンプレーティング後の金属多孔体パイプの
表面を金属製の箆にてしごき処理を実施した。50分イ
オンプレーティング処理後のしごき処理前後の通気抵抗
測定結果を図6に、Pdイオンプレーティング膜の表面
状況の走査型電子顕微鏡写真(1000倍)を図7、図
8に示す。しごき処理により表面の細孔が潰されて小さ
くなり、通気抵抗は約300倍上昇している。
Further, the surface of the metal porous pipe after ion plating for 50 minutes under the same ion plating condition was subjected to ironing treatment with a metal whisk. FIG. 6 shows the results of airflow resistance measurement before and after the ironing treatment after 50 minutes of ion plating treatment, and scanning electron micrographs (× 1000) of the surface condition of the Pd ion plating film are shown in FIGS. 7 and 8. By the ironing treatment, the pores on the surface are crushed and become smaller, and the ventilation resistance is increased by about 300 times.

【0030】上記のしごき処理後のパイプは、さらに3
0分の同一条件のイオンプレーティング処理にて完全に
封孔でき、そのPdイオンプレーティングの膜厚は約1
0μmであった。(実施例2)
After the ironing process, the number of pipes is 3
It is possible to completely seal the hole by the ion plating treatment under the same condition for 0 minutes, and the film thickness of the Pd ion plating is about 1
It was 0 μm. (Example 2)

【0031】本発明を用いないでイオンプレーティング
したもの(比較例2)及び本発明の方法でイオンプレー
ティングしたもの(実施例2)の各々のパイプにつき、
2 混合ガスの圧力を3kg/cm2 G、流量を20Nl/
min で、500℃で実施した水素透過試験結果を表2に
示す。
For each of the pipes ion-plated without using the present invention (Comparative Example 2) and those ion-plated with the method of the present invention (Example 2),
H 2 mixed gas pressure is 3 kg / cm 2 G, flow rate is 20 Nl /
Table 2 shows the results of hydrogen permeation test conducted at 500 ° C. for min.

【0032】表2から明らかなように、本発明の方法に
よりイオンプレーティングしたもの(実施例2)の水素
透過速度は34cm3 /cm2 ・min であり、本発明を用い
ない方法(比較例2)の約2.8倍、従来のPdまたは
Pdを含有する合金を伸延したPd膜の約8.5倍であ
る。
As is apparent from Table 2, the hydrogen permeation rate of the ion-plated product of the present invention (Example 2) was 34 cm 3 / cm 2 · min, and the method not using the present invention (Comparative Example) It is about 2.8 times that of 2), and about 8.5 times that of a conventional Pd film obtained by stretching Pd or an alloy containing Pd.

【表2】 また、本発明の方法(実施例2)でのPdの使用量
は、本発明を用いない方法(比較例2)の半分以下であ
り、時間短縮のみでなく、費用節減からも効果がある。
[Table 2] Further, the amount of Pd used in the method of the present invention (Example 2) is less than half that in the method not using the present invention (Comparative Example 2), which is effective not only in reducing time but also in cost reduction.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によれば非常に薄いPdまたはP
d合金膜を形成でき、水素透過量の大きい水素分離膜が
提供でき、しかも作業時間の短縮および高価なPdの使
用量も少なくてすむという利点がある。
According to the present invention, extremely thin Pd or P
There are advantages that a d-alloy membrane can be formed, a hydrogen separation membrane with a large hydrogen permeation amount can be provided, and that the working time can be shortened and the amount of expensive Pd used can be small.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の金属多孔体パイプにPdを含有する薄
膜を形成させたものの断面構造の模式図。
FIG. 1 is a schematic diagram of a cross-sectional structure of a metal porous pipe of the present invention on which a thin film containing Pd is formed.

【図2】実施例1,2における金属多孔体パイプ外表面
(めっき及びイオンプレーティング前)の微細金属組織
を示す走査型電子顕微鏡写真。
FIG. 2 is a scanning electron micrograph showing a fine metal structure of an outer surface of a porous metal pipe (before plating and ion plating) in Examples 1 and 2.

【図3】実施例1における金属多孔体パイプへの6時間
めっき後のブラスト処理前後の通気抵抗測定結果を示す
図表。
FIG. 3 is a chart showing the results of measurement of ventilation resistance before and after blasting after plating the porous metal pipe in Example 1 for 6 hours.

【図4】実施例1における金属多孔体パイプへの6時間
めっき後のブラスト処理前のPdめっき膜の表面状況の
微細金属組織を示す走査型電子顕微鏡写真。
FIG. 4 is a scanning electron micrograph showing the fine metallographic structure of the surface of the Pd-plated film after blasting the porous metal pipe in Example 1 for 6 hours.

【図5】図4のPdめっき膜表面状況のものをブラスト
処理した後のPdめっき膜の表面状況の微細金属組織を
示す走査型電子顕微鏡写真。
5 is a scanning electron micrograph showing the fine metallographic structure of the surface of the Pd plated film after blasting the surface of the Pd plated film of FIG.

【図6】実施例2における金属多孔体パイプへの50分
イオンプレーティング処理後のしごき処理前後の通気抵
抗測定結果を示す図表。
FIG. 6 is a table showing the results of measurement of ventilation resistance before and after ironing treatment after 50 minutes of ion plating treatment on a metal porous pipe in Example 2.

【図7】実施例2における金属多孔体パイプへの50分
イオンプレーティング処理後のしごき処理前のPdイオ
ンプレーティング膜の表面状況の微細金属組織を示す走
査型電子顕微鏡写真。
FIG. 7 is a scanning electron micrograph showing the fine metal structure of the surface condition of the Pd ion plating film after the 50-minute ion plating process on the porous metal pipe in Example 2 and before the ironing process.

【図8】図7のPdイオンプレーティング膜表面状況の
ものをしごき処理した後のPdイオンプレーティング表
面状況の微細金属組織を示す走査型電子顕微鏡写真。
8 is a scanning electron micrograph showing a fine metallographic structure of the Pd ion plating film surface condition after ironing the Pd ion plating film surface condition of FIG. 7. FIG.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 船田 徹 広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toru Funada 4-6-22 Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima City Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Hiroshima Research Laboratory

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 細孔を有する金属多孔体の表面に、Pd
またはPdを含有する薄膜を形成させる方法において、
めっきまたはインプレーティングなどの途中で封孔処理
を行うことを特徴とする水素分離膜の製造方法。
1. Pd is formed on the surface of a porous metal body having pores.
Alternatively, in the method of forming a thin film containing Pd,
A method for producing a hydrogen separation membrane, which comprises performing a pore-sealing treatment during plating or plating.
【請求項2】 封孔処理を、PdまたはPdを含有する
薄膜表面を金属などによりしごくかブラスト処理によっ
て行うことを特徴とする請求項1記載の水素分離膜の製
造方法。
2. The method for producing a hydrogen separation membrane according to claim 1, wherein the sealing treatment is performed by squeezing or blasting the surface of the thin film containing Pd or Pd with a metal or the like.
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