JPH0580085A - Voltage detecting circuit and semiconductor storage device equipped with the said circuit - Google Patents

Voltage detecting circuit and semiconductor storage device equipped with the said circuit

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JPH0580085A
JPH0580085A JP3241294A JP24129491A JPH0580085A JP H0580085 A JPH0580085 A JP H0580085A JP 3241294 A JP3241294 A JP 3241294A JP 24129491 A JP24129491 A JP 24129491A JP H0580085 A JPH0580085 A JP H0580085A
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JP
Japan
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level
circuit
voltage
signal
test mode
Prior art date
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Pending
Application number
JP3241294A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Yanagisawa
誠 柳沢
Masao Nakano
正夫 中野
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0580085A publication Critical patent/JPH0580085A/en
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Abstract

PURPOSE:To detect whether the state of a low or high voltage of a prescribed potential is held for a prescribed time or not, regarding a semiconductor storage device for setting some test mode by use of the result of operation of a voltage detecting circuit (detection of a logical ultra-low or ultrahigh voltage). CONSTITUTION:Circuits 2 to 7 detecting that a voltage to be detected changes to a level having a difference of a prescribed level or above from a reference voltage, circuits 8 to 15 and C1 to C3 delaying this state of detection of the change of the level by a prescribed time, and circuits 16 to 19 determining whether the state of detection of the change of the level is held until the prescribed time passes, are provided. When the state of detection of the change of the level is held for the prescribed time or longer, a determination signal SUPZ indicating the detection of the change of the level is outputted.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電圧検出回路に係り、
特に、該検出回路の結果(論理的超低電圧または超高電
圧の検出)を用いて或るテストモードの設定を行う半導
体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a voltage detection circuit,
In particular, the present invention relates to a semiconductor memory device that sets a certain test mode using the result of the detection circuit (detection of logical ultra-low voltage or ultra-high voltage).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来知られている半導体記憶装置におい
ては、テストモードは一般にWCBR(rite-enable,
olumn address strobe,efore ow address strob
e)方式でエントリーされるが、それとは別に、このWC
BR方式に上述の超低電圧(または超高電圧)の検出結
果を併用して異なるテストモードにエントリーする機能
を持たせるようにしたものもある。
In a conventional known semiconductor memory device, the test mode typically WCBR (W rite-enable,
C olumn address strobe, B efore R ow address strob
e) It will be entered by the method, but apart from that, this WC
There is also a system in which the BR system is used in combination with the detection result of the above-mentioned ultra-low voltage (or ultra-high voltage) to have a function of entering a different test mode.

【0003】この種の半導体記憶装置は上述した電圧検
出回路を備えているが、従来の技術では、super low vo
ltage(超低電圧)またはsuper high voltage(超高電
圧)を単に検出する機能しかなかった。図5には従来形
の一例としての低電圧検出回路の構成が示される。図
中、1はアクティブ・ローのライトイネーブル信号(WE)
が印加される信号用パッド、Vccは高電位の電源ライン
を示し、両者の間には直列に抵抗器R、pチャネルトラ
ンジスタ2、3、4およびnチャネルトランジスタ5が
接続されている。各トランジスタのゲートはそれぞれド
レインに接続されている。トランジスタ4および5の接
続点(ノードB)は、電源ラインVccおよびVssの間に
接続されたCMOSインバータ(pチャネルトランジス
タ6およびnチャネルトランジスタ7)の入力端に接続
されている。
This type of semiconductor memory device includes the above-mentioned voltage detection circuit, but in the conventional technique, it is a super low vo
It only had the ability to detect ltage or super high voltage. FIG. 5 shows the configuration of a low voltage detection circuit as an example of a conventional type. In the figure, 1 is an active low write enable signal (WE)
Is applied to the signal pad, Vcc indicates a high-potential power supply line, and a resistor R, p-channel transistors 2, 3, 4 and an n-channel transistor 5 are connected in series between them. The gate of each transistor is connected to the drain. The connection point (node B) of the transistors 4 and 5 is connected to the input terminal of a CMOS inverter (p-channel transistor 6 and n-channel transistor 7) connected between the power supply lines Vcc and Vss.

【0004】この構成において、パッド1の電位が電圧
Vssのレベルからトランジスタ2〜4の3段分のスレッ
ショルドレベル3Vth以上低いレベルに低下すると、ノ
ードBのレベルは“H”レベル(Vcc−Vth=VIIのレ
ベル)から“L”レベルに変化し、これを受けてインバ
ータ(6,7) の出力端(ノードC)の電位は“L”レベル
から“H”レベルに変化する。この場合、その低電圧
(<Vss−3Vth)の状態が保持されている限り、ノー
ドCの電位は“H”レベルを保持する。
In this structure, when the potential of the pad 1 is lowered from the level of the voltage Vss to a level lower than the threshold level 3Vth of the three stages of the transistors 2 to 4 by 3Vth or less, the level of the node B is "H" level (Vcc-Vth = changes from V II level) to "L" level, the potential of the inverter (output end of the 6, 7) (node C) in response to this change to the "H" level from the "L" level. In this case, the potential of the node C holds the "H" level as long as the low voltage state (<Vss-3Vth) is held.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
半導体記憶装置では、単に論理的超低電圧または超高電
圧を検出する機能しか持っていなかったため、例えば外
部ピンを介してスパイク状のノイズが当該電圧検出回路
に混入した場合に不都合が生じる。以下、この不都合に
ついて、図6の動作タイミング図を参照しながら説明す
る。
As described above, the conventional semiconductor memory device has only the function of detecting a logical ultra-low voltage or ultra-high voltage, and therefore spike noise is generated via an external pin, for example. Is mixed with the voltage detection circuit, a disadvantage occurs. Hereinafter, this inconvenience will be described with reference to the operation timing chart of FIG.

【0006】今、半導体記憶装置がWCBR方式でエン
トリーサイクルにある時に、スパイク状のノイズが当該
電圧検出回路(図5のパッド1)に入力されると、図6
に示されるようにノードAの電位が一時的に低電圧(<
Vss−3Vth)のレベルに低下し、それを受けてノード
BおよびノードCのレベルがそれぞれ“L”レベル、
“H”レベルに変化する。
Now, when the semiconductor memory device is in the entry cycle of the WCBR system and spike noise is input to the voltage detection circuit (pad 1 in FIG. 5), the noise shown in FIG.
As shown in, the potential of the node A is temporarily low voltage (<
Vss-3Vth) level, and in response thereto, the levels of the node B and the node C are "L" level,
Changes to "H" level.

【0007】しかしこのようなノイズは過渡的なものな
ので、やがてノードAの電位が元のVssのレベルに復帰
すると、それに応じてノードBおよびノードCのレベル
もそれぞれ元の“H”レベル、“L”レベルに復帰す
る。このように、或るテストモードのエントリーサイク
ル中にスパイク状のノイズが当該電圧検出回路に混入す
ると、その検出結果(低電圧検出状態)に異常をきた
し、それによって、この検出結果に基づきテストモード
の設定を行う半導体記憶装置が当初のテストモードとは
異なる別のテストモードにエントリーする可能性があ
る。この場合、当初のテストモードに対応するテストを
行えなくなるという不都合が生じる。
However, since such noise is transient, when the potential of the node A returns to the original level of Vss, the levels of the node B and the node C are correspondingly changed to the original "H" level and "H" level, respectively. Return to L "level. Thus, if spike-like noise enters the voltage detection circuit during the entry cycle of a certain test mode, the detection result (low voltage detection state) becomes abnormal, and the test mode is based on this detection result. There is a possibility that the semiconductor memory device for which the above setting is entered may enter another test mode different from the initial test mode. In this case, there is an inconvenience that the test corresponding to the initial test mode cannot be performed.

【0008】本発明の主な目的は、かかる従来技術にお
ける課題に鑑み、所定電位の低電圧または高電圧の状態
が一定時間以上保持されているかどうかを検出すること
ができる電圧検出回路を提供することにある。本発明の
他の目的は、上記電圧検出回路を備えた半導体記憶装置
において、WCBR方式でエントリーサイクルにある時
にスパイク状のノイズが混入した場合でも当初のテスト
モードとは異なる別のテストモードにエントリーしない
ように防止し、それによって各テストモードに応じたテ
ストを正常に行うことができる半導体記憶装置を提供す
ることにある。
In view of the above problems in the prior art, a main object of the present invention is to provide a voltage detection circuit capable of detecting whether the low voltage or high voltage state of a predetermined potential is maintained for a certain time or longer. Especially. Another object of the present invention is to enter a semiconductor memory device having the above voltage detection circuit into a different test mode from the initial test mode even when spiked noise is mixed in during the entry cycle of the WCBR method. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can prevent a test from being performed and can normally perform a test according to each test mode.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の一つの形態によれば、被検出電圧が基準電
圧から一定レベル以上の差を持つレベルに変化したこと
を検出する回路と、このレベル変化検出状態を所定時間
遅延させる回路と、該所定時間が経過するまで前記レベ
ル変化検出状態が保持されたかどうかを判定する回路と
を具備し、前記レベル変化検出状態が前記所定時間以上
保持された場合に当該レベル変化検出を指示する判定信
号を出力するようにしたことを特徴とする電圧検出回路
が提供される。
In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention, there is provided a circuit for detecting that a detected voltage has changed from a reference voltage to a level having a difference of a certain level or more. A circuit for delaying the level change detection state for a predetermined time, and a circuit for determining whether or not the level change detection state is held until the predetermined time elapses. There is provided a voltage detection circuit characterized by outputting a determination signal instructing detection of the level change when held.

【0010】上記構成において、前記所定時間が経過す
る前に前記レベル変化検出状態が解除された場合には前
記判定信号を無効にするようにしてもよい。また、本発
明の他の形態によれば、上記電圧検出回路を備えた半導
体記憶装置が提供される。この半導体記憶装置は、ロウ
アドレスストローブ信号より前にライトイネーブル信号
とコラムアドレスストローブ信号が入力されたか否かを
判定する回路と、該判定の結果に基づいてテストモード
に移行するか否かを判定する回路とを具備し、前記電圧
検出回路から前記判定信号が出力された場合に所定のテ
ストモードに移行し、該判定信号が無効の場合には別の
テストモードに移行することを特徴とする。
In the above structure, the determination signal may be invalidated when the level change detection state is released before the predetermined time has elapsed. According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including the voltage detection circuit. This semiconductor memory device determines a circuit that determines whether a write enable signal and a column address strobe signal are input before a row address strobe signal, and determines whether to shift to a test mode based on the result of the determination. And a circuit for performing a predetermined test mode when the determination signal is output from the voltage detection circuit, and a different test mode when the determination signal is invalid. ..

【0011】[0011]

【作用】上述した構成によれば、被検出電圧が基準電圧
から一定レベル以上の差を持つレベルに変化すると、そ
のレベル変化検出状態が所定時間以上保持されたかどう
かの判定が行われ、その判定結果に基づき、上記レベル
変化検出状態が所定時間以上保持された場合には、当該
レベル変化検出を指示する判定信号が出力されるように
なっている。
According to the above configuration, when the detected voltage changes from the reference voltage to a level having a difference of a certain level or more, it is determined whether the level change detection state is held for a predetermined time or more, and the determination is made. Based on the result, when the level change detection state is held for a predetermined time or more, a determination signal for instructing the level change detection is output.

【0012】従って、この判定信号の有効/無効によ
り、上記被検出電圧が或るレベル(低電圧または高電
圧)に変化した場合にその状態が一定時間以上保持され
ているか否かを検出することができる。また、このよう
な電圧検出回路を備えた半導体記憶装置において、WC
BR方式でエントリーサイクルにある時にスパイク状の
ノイズが混入した場合には、上記判定信号が無効化され
るので、半導体記憶装置が当初のテストモードとは異な
る別のテストモードに誤ってエントリーするのを防止す
ることができる。これによって、各テストモードに応じ
たテストを正常に行うことが可能となる。
Therefore, when the voltage to be detected changes to a certain level (low voltage or high voltage), it is possible to detect whether the state is held for a certain period of time or more by validating / invalidating this judgment signal. You can In a semiconductor memory device including such a voltage detection circuit, the WC
When spike-like noise is mixed in during the entry cycle in the BR method, the determination signal is invalidated, so that the semiconductor memory device erroneously enters another test mode different from the initial test mode. Can be prevented. As a result, it is possible to normally perform the test according to each test mode.

【0013】なお、本発明の他の構成上の特徴および作
用の詳細については、添付図面を参照しつつ以下に記述
される実施例を用いて説明する。
The details of other structural features and operations of the present invention will be described using the embodiments described below with reference to the accompanying drawings.

【0014】[0014]

【実施例】図1に本発明の一実施例としての低電圧検出
回路の回路構成が示される。図中、1はアクティブ・ロ
ーのライトイネーブル信号(WE)が印加される信号用パッ
ド、Vccは高電位の電源ラインを示し、両者の間には直
列に抵抗器R、pチャネルトランジスタ2、3、4およ
びnチャネルトランジスタ5が接続されている。各トラ
ンジスタのゲートはそれぞれドレインに接続されてい
る。トランジスタ4および5の接続点(ノードB)は、
電源ラインVII(内部電源電圧であってVcc−Vthのレ
ベルを有している)および電源ラインVssの間に接続さ
れたCMOSインバータ(pチャネルトランジスタ6お
よびnチャネルトランジスタ7)の入力端に接続されて
いる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows the circuit configuration of a low voltage detecting circuit as an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a signal pad to which an active-low write enable signal (WE) is applied, Vcc is a high-potential power supply line, and a resistor R and p-channel transistors 2 and 3 are connected in series between them. 4 and n-channel transistor 5 are connected. The gate of each transistor is connected to the drain. The connection point (node B) between the transistors 4 and 5 is
Connected to the input terminal of a CMOS inverter (p-channel transistor 6 and n-channel transistor 7) connected between a power supply line V II (which is an internal power supply voltage and has a level of Vcc-Vth) and a power supply line Vss. Has been done.

【0015】インバータ(6,7) の出力端(ノードC)の
信号は、pチャネルトランジスタ16およびnチャネルト
ランジスタ17の各ゲートに入力されると共に、それぞれ
電源ラインVIIおよびVssの間に接続された4段のCM
OSインバータを順次介して(ノードG)、nチャネル
トランジスタ18およびpチャネルトランジスタ19の各ゲ
ートに入力されている。各CMOSインバータは、イン
バータ(6,7) と同様に、pチャネルトランジスタ8、1
0、12、14およびnチャネルトランジスタ9、11、13、1
5から成り、各インバータ間(ノードD、ノードE、ノ
ードF)には信号レベルを遅延させるためのMOSキャ
パシタC1〜C3が接続されている。
The signal at the output terminal (node C) of the inverter (6, 7) is input to the gates of the p-channel transistor 16 and the n-channel transistor 17 and connected between the power supply lines V II and Vss, respectively. 4 stage CM
It is input to the gates of the n-channel transistor 18 and the p-channel transistor 19 via the OS inverter in sequence (node G). Each CMOS inverter has a p-channel transistor 8, 1 like the inverter (6, 7).
0, 12, 14 and n-channel transistors 9, 11, 13, 1
MOS capacitors C1 to C3 for delaying the signal level are connected between the respective inverters (node D, node E, node F).

【0016】トランジスタ16、トランジスタ17およびト
ランジスタ18は、電源ラインVIIおよびVssの間に直列
に接続されており、トランジスタ16,17 の各ドレイン端
(ノードH)は、トランジスタ19を介して電源ラインV
IIに接続されている。ノードHのレベルは、ノードCお
よびノードGのレベルの少なくとも一方が“L”レベル
の場合に“H”レベルとなり、両方のレベルが“H”レ
ベルの時だけ“L”レベルとなる。つまり、トランジス
タ16〜19は論理としてナンドゲートを構成している。
[0016] transistor 16, the transistor 17 and transistor 18 are connected in series between the power supply line V II and Vss, each drain terminal of the transistor 16 and 17 (node H), the power supply line via a transistor 19 V
It is connected to II . The level of the node H becomes "H" level when at least one of the levels of the node C and the node G is "L" level, and becomes "L" level only when both levels are "H" level. That is, the transistors 16 to 19 logically form a NAND gate.

【0017】ノードHの信号は、電源ラインVIIおよび
Vssの間に接続されたCMOSインバータ(pチャネル
トランジスタ20およびnチャネルトランジスタ21)に入
力されており、該インバータ(20,21) からは判定信号SU
PZが出力される。この判定信号SUPZは、後述するよう
に、パッド1の電位(ノードAのレベル)が電圧Vssの
レベルよりも一定レベル以上低いレベルに所定時間以上
保持されていたことを指示する信号、すなわち低電圧検
出を指示する信号である。
The signal at the node H is input to the CMOS inverter (p-channel transistor 20 and n-channel transistor 21) connected between the power supply lines V II and Vss, and the inverter (20, 21) makes a decision. Signal SU
PZ is output. As will be described later, this determination signal SUPZ is a signal indicating that the potential of the pad 1 (level of the node A) is kept at a level lower than the level of the voltage Vss by a certain level or more, that is, a low voltage. This is a signal instructing detection.

【0018】図2には本実施例の低電圧検出回路の動作
タイミング波形が示される。まず、パッド1の電位(ノ
ードAのレベル)が電源電圧Vssのレベルからトランジ
スタ2〜4の3段分のスレッショルドレベル3Vth以上
低いレベルに低下すると、ノードBのレベルは“H”レ
ベルから“L”レベルに変化し、これを受けてインバー
タ(6,7) の出力端(ノードC)の電位は“L”レベルか
ら“H”レベルに変化する。
FIG. 2 shows operation timing waveforms of the low voltage detection circuit of this embodiment. First, when the potential of the pad 1 (the level of the node A) drops from the level of the power supply voltage Vss to a level lower than the threshold level 3Vth of three stages of the transistors 2 to 4 by more than 3Vth, the level of the node B changes from "H" level to "L" level. The level of the output terminal (node C) of the inverters (6, 7) changes from "L" level to "H" level.

【0019】このノードCの“H”レベルの信号はトラ
ンジスタ16,17 の各ゲートに入力され、それによってト
ランジスタ16はカットオフ状態となり、トランジスタ17
はターンオンする。一方、ノードCの“H”レベルの信
号を受けてインバータ(8,9) 、インバータ(10,11) 、イ
ンバータ(12,13) およびインバータ(14,15) の各出力端
(ノードD、ノードE、ノードFおよびノードG)のレ
ベルは、それぞれ所定時間だけ順次遅延して“L”レベ
ル、“H”レベル、“L”レベルおよび“H”レベルに
変化する。ノードGの“H”レベルの信号はトランジス
タ18,19 の各ゲートに入力され、それによってトランジ
スタ19はカットオフ状態となり、トランジスタ18はター
ンオンし、トランジスタ17のオン動作と協働してノード
Hのレベルを“L”レベルにひき下げる。
The "H" level signal of the node C is input to the gates of the transistors 16 and 17, whereby the transistor 16 is cut off and the transistor 17 is cut off.
Turns on. On the other hand, in response to the "H" level signal of the node C, the inverters (8, 9), the inverters (10, 11), the inverters (12, 13) and the output terminals of the inverters (14, 15) (node D, node D, The levels of E, node F, and node G) are sequentially delayed by a predetermined time and are changed to "L" level, "H" level, "L" level, and "H" level. The "H" level signal of the node G is input to the gates of the transistors 18 and 19, whereby the transistor 19 is cut off, the transistor 18 is turned on, and in cooperation with the on operation of the transistor 17, the node H is turned on. Lower the level to "L" level.

【0020】この“L”レベルの信号を受けてインバー
タ(20,21)の出力すなわち判定信号SUPZは“H”レベル
となる。これによって、パッド1の電位が一定のレベル
(<Vss−3Vth)に所定時間以上保持されていたこと
が検出される。このように本実施例の構成によれば、ノ
ードAのレベルが一定レベル以上低いレベルに低下する
と、ノードBのレベルが“L”レベルに低下して回路が
動作を開始し、ノードGのレベルが“H”レベルに変化
した後、以降ノードGのレベルが“H”レベルに変化す
るまでの間(つまり所定時間)その低電圧(<Vss−3
Vth)検出状態を保持すると、その低電圧検出を指示す
る“H”レベルの判定信号SUPZが出力される。
Upon receiving this "L" level signal, the output of the inverter (20, 21), that is, the determination signal SUPZ, becomes "H" level. As a result, it is detected that the potential of the pad 1 is kept at a constant level (<Vss-3Vth) for a predetermined time or longer. As described above, according to the configuration of this embodiment, when the level of the node A drops to a level lower than a certain level, the level of the node B drops to the “L” level, the circuit starts operating, and the level of the node G drops. Of the low voltage (<Vss-3) until the level of the node G changes to the "H" level after the change of "H" level (that is, for a predetermined time).
When the Vth) detection state is maintained, the “H” level determination signal SUPZ that indicates the detection of the low voltage is output.

【0021】この場合、所定時間の経過前、すなわちノ
ードGのレベルが“H”レベルに変化する前に、上記低
電圧検出状態が解除された場合(例えば、スパイク状の
ノイズ混入等に起因してノードCのレベルが一旦“H”
レベルに変化したが、ほどなく元の“L”レベルに復帰
した場合)には、判定信号SUPZは無効(“L”レベルの
まま)となる。
In this case, when the low voltage detection state is released before a predetermined time elapses, that is, before the level of the node G changes to "H" level (for example, due to spike-like noise mixing or the like). Node C is once at "H" level
When the level is changed to the original “L” level soon after), the determination signal SUPZ becomes invalid (remains at the “L” level).

【0022】図3には本実施例の低電圧検出回路が適用
される半導体記憶装置の一構成例が示される。図示の装
置は、メモリセルアレイ30と、それぞれ外部からのアク
ティブ・ローのロウアドレスストローブ信号RASXおよび
コラムアドレスストローブ信号CASXに応答して内部で用
いられるタイミング用クロックを発生するクロック発生
回路31と、コラムアドレスストローブ信号CASXに応答す
るインバータ32と、該インバータの出力とクロック発生
回路31からのクロックに応答するアンドゲート33と、該
アンドゲートの出力に応答して内部で用いられる別のタ
イミング用クロックを発生するクロック発生回路34と、
該クロック発生回路からのクロックと外部からのアクテ
ィブ・ローのライトイネーブル信号WEX に応答して書込
み信号を発生する回路35と、外部からのアドレス信号A
0 〜A11のバッファリングを行うと共にそのプリデコー
ドを行う回路36と、該回路を通して入力されたロウアド
レス信号およびコラムアドレス信号をそれぞれ解読し、
セルアレイ30内の複数のワード線および複数のビット線
(図示せず)のいずれかをそれぞれ選択するロウデコー
ダ37およびコラムデコーダ38と、選択されたビット線に
対応するデータ線を該ビット線に接続するコラムゲート
39と、クロック発生回路31からのクロックに応答して読
み出しデータの増幅を行ったり、セルアレイ30との間で
データの授受を行うセンスアンプ(S/A)および入出
力(I/O)ゲート40と、本実施例の低電圧検出回路41
と、ロウアドレスストローブ信号RASXに先立って書込み
信号(W) が入力されたか否かを判定する回路42と、ロウ
アドレスストローブ信号RASXに先立ってコラムアドレス
ストローブ信号CASXが入力されたか否かを判定する回路
43と、各回路41〜43の判定信号に基づいてテストモード
に移行するか否かを判定する回路44と、該判定回路44の
結果に基づきデータ圧縮を行う回路45と、書込み信号
(W)に応答して入力データDINのバッファリングを行う
データ入力バッファ46と、クロック発生回路34からのク
ロックに応答してセルアレイ30からのデータまたはデー
タ圧縮回路45からの圧縮データのバッファリングを行
い、出力データDOUTとして送出するデータ出力バッフ
ァ47とから構成されている。
FIG. 3 shows an example of the configuration of a semiconductor memory device to which the low voltage detection circuit of this embodiment is applied. The illustrated device includes a memory cell array 30, a clock generation circuit 31 for generating a timing clock used internally in response to an active low row address strobe signal RASX and a column address strobe signal CASX, respectively, and a column. An inverter 32 responding to the address strobe signal CASX, an AND gate 33 responding to the output of the inverter and the clock from the clock generating circuit 31, and another timing clock used internally in response to the output of the AND gate are provided. A clock generation circuit 34 for generating,
A circuit 35 for generating a write signal in response to a clock from the clock generation circuit and an external active low write enable signal WEX, and an external address signal A
A circuit 36 for buffering 0 to A 11 and predecoding the same, and decoding the row address signal and the column address signal input through the circuit 36,
A row decoder 37 and a column decoder 38 for selecting one of a plurality of word lines and a plurality of bit lines (not shown) in the cell array 30 and a data line corresponding to the selected bit line are connected to the bit line. Column gate
39, a sense amplifier (S / A) and an input / output (I / O) gate 40 for amplifying read data in response to the clock from the clock generation circuit 31 and for exchanging data with the cell array 30. And the low voltage detection circuit 41 of the present embodiment
And a circuit 42 for judging whether or not the write signal (W) is inputted prior to the row address strobe signal RASX, and a judgment for whether or not the column address strobe signal CASX is inputted before the row address strobe signal RASX. circuit
43, a circuit 44 that determines whether to shift to the test mode based on the determination signals of the circuits 41 to 43, a circuit 45 that performs data compression based on the result of the determination circuit 44, and a write signal
A data input buffer 46 that buffers the input data D IN in response to (W), and a buffering of the data from the cell array 30 or the compressed data from the data compression circuit 45 in response to the clock from the clock generation circuit 34. And a data output buffer 47 that outputs the output data D OUT .

【0023】図4にテスト判定回路44の一構成例が示さ
れる。図示の回路は、電源ラインVIIにソースが接続さ
れ且つCBR判定信号CBRZに応答するpチャネルトラン
ジスタ51と、該トランジスタのドレインにソースが接続
され且つWBR判定信号WBRZに応答するpチャネルトラ
ンジスタ52と、該トランジスタのドレインにソースが接
続され且つ判定信号SUPZに応答するpチャネルトランジ
スタ53と、該トランジスタのドレインと電源ラインVss
の間に接続され且つ判定信号SUPZに応答するnチャネル
トランジスタ54と、トランジスタ53,54の各ドレインと
電源ラインVssの間に接続され且つWBR判定信号WBRZ
に応答するnチャネルトランジスタ55と、同じくトラン
ジスタ53,54 の各ドレインと電源ラインVssの間に接続
され且つCBR判定信号CBRZに応答するnチャネルトラ
ンジスタ56と、電源ラインVIIおよびVssの間に接続さ
れ、トランジスタ53,54 の各ドレイン端の信号に応答し
てテストモード判定信号TSを出力するCMOSインバー
タ(pチャネルトランジスタ57およびnチャネルトラン
ジスタ58)とを有している。
FIG. 4 shows an example of the configuration of the test decision circuit 44. The circuit shown includes a p-channel transistor 51 whose source is connected to the power supply line V II and which responds to the CBR determination signal CBRZ, and a p-channel transistor 52 whose source is connected to the drain of the transistor and which responds to the WBR determination signal WBRZ. , A p-channel transistor 53 whose source is connected to the drain of the transistor and which responds to the determination signal SUPZ, and the drain of the transistor and the power supply line Vss
N-channel transistor 54 which is connected between the drains of the transistors 53 and 54 and the power supply line Vss and which is connected to the n-channel transistor 54 and which responds to the determination signal SUPZ and which is connected to the WBR determination signal WBRZ.
Connected between the drains of the transistors 53 and 54 and the power supply line Vss, and the n-channel transistor 56 responsive to the CBR determination signal CBRZ, and the power supply lines V II and Vss. And a CMOS inverter (p-channel transistor 57 and n-channel transistor 58) that outputs a test mode determination signal TS in response to signals at the drain ends of the transistors 53 and 54.

【0024】この構成において、CBR判定信号CBRZと
WBR判定信号WBRZが“L”レベルで、且つ判定信号SU
PZが“L”レベルの時(つまり、スパイク状のノイズ混
入等に起因して上記低電圧検出状態が所定時間以上保持
されなかった場合)に、トランジスタ53,54 の各ドレイ
ン端の信号は“H”レベルとなり、それによって最終段
のCMOSインバータのnチャネルトランジスタ58がタ
ーンオンし、テストモード判定信号TSを“L”レベルに
ひき下げる。この場合、本装置がテストモードに移行し
ないように制御がなされる。
In this configuration, the CBR determination signal CBRZ and the WBR determination signal WBRZ are at "L" level and the determination signal SU
When PZ is at "L" level (that is, when the above-mentioned low voltage detection state is not held for a predetermined time or longer due to spike noise mixing, etc.), the signals at the drain ends of the transistors 53 and 54 are " Then, the n-channel transistor 58 of the final stage CMOS inverter is turned on, and the test mode determination signal TS is pulled down to the "L" level. In this case, control is performed so that the device does not shift to the test mode.

【0025】これに対し、上記低電圧検出状態が所定時
間以上保持された場合、つまり判定信号SUPZが“H”レ
ベルを呈している時、トランジスタ54のオンによってp
チャネルトランジスタ57がオン状態となり、テストモー
ド判定信号TSは“H”レベルとなる。この“H”レベル
の信号TSは、本装置がテストモードに移行することを指
示している。
On the other hand, when the low voltage detection state is maintained for a predetermined time or more, that is, when the determination signal SUPZ is at the "H" level, the transistor 54 is turned on to turn on the p signal.
The channel transistor 57 is turned on, and the test mode determination signal TS becomes "H" level. This "H" level signal TS indicates that this device shifts to the test mode.

【0026】なお、本実施例では基準電圧が一定レベル
以下の低電位(<Vss−3Vth)に所定時間以上保持さ
れた時に低電圧検出を指示する判定信号SUPZを出力する
ように構成したが、電圧検出の形態はこれに限定されな
い。本発明の要旨からも明らかなように、例えば、基準
電圧が一定レベル以上の高電位に所定時間以上保持され
た時に高電圧検出を指示する判定信号を出力するように
構成してもよい。
In the present embodiment, the determination signal SUPZ for instructing low voltage detection is output when the reference voltage is held at a low potential (<Vss-3Vth) below a certain level for a predetermined time or longer. The form of voltage detection is not limited to this. As is clear from the gist of the present invention, for example, when the reference voltage is held at a high potential of a certain level or higher for a predetermined time or longer, a determination signal for instructing high voltage detection may be output.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように本発明の電圧検出回
路によれば、基準電圧が低電圧または高電圧の或るレベ
ルに変化した場合にその状態が一定時間以上保持されて
いるか否かを検出することができる。また、このような
電圧検出回路を備えた半導体記憶装置において、WCB
R方式でエントリーサイクルにある時にスパイク状のノ
イズが混入した場合でも当初のテストモードとは異なる
別のテストモードにエントリーすることが無くなり、誤
動作には到らない。これによって、各テストモードに応
じたテストを正常に行うことができる。
As described above, according to the voltage detection circuit of the present invention, when the reference voltage changes to a certain level of low voltage or high voltage, it is determined whether or not the state is maintained for a certain period of time or longer. Can be detected. In a semiconductor memory device including such a voltage detection circuit, the WCB
Even if spike-like noise is mixed in during the entry cycle in the R method, there is no need to enter another test mode different from the initial test mode, and no malfunction occurs. Thereby, the test according to each test mode can be normally performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例としての低電圧検出回路の構
成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a low voltage detection circuit as an embodiment of the present invention.

【図2】図1の回路の動作タイミング図である。FIG. 2 is an operation timing chart of the circuit of FIG.

【図3】図1の低電圧検出回路が適用される半導体記憶
装置の構成を示すブロック図である。
3 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device to which the low voltage detection circuit of FIG. 1 is applied.

【図4】図3におけるテスト判定回路の一構成例を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration example of a test determination circuit in FIG.

【図5】従来形の一例としての低電圧検出回路の構成を
示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a low voltage detection circuit as an example of a conventional type.

【図6】図5の回路の問題点を説明するための動作タイ
ミング図である。
FIG. 6 is an operation timing chart for explaining a problem of the circuit of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2〜4, 6, 8,10, 12, 14, 16, 18, 20…pチャネル
トランジスタ 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 19, 21…nチャネルトラ
ンジスタ C1〜C3…MOSキャパシタ R…抵抗器 SUPZ…(低電圧検出を指示する)判定信号 Vss…基準電圧 41…低電圧検出回路 42…WBR判定回路 43…CBR判定回路 44…テスト判定回路 CASX…コラムアドレスストローブ信号 RASX…ロウアドレスストローブ信号 WEX …ライトイネーブル信号
2-4, 6, 8, 8, 10, 12, 14, 16, 18, 20 ... P-channel transistors 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 19, 21 ... N-channel transistors C1-C3 ... MOS capacitors R ... Resistor SUPZ ... (Low voltage detection instruction) judgment signal Vss ... Reference voltage 41 ... Low voltage detection circuit 42 ... WBR judgment circuit 43 ... CBR judgment circuit 44 ... Test judgment circuit CASX ... Column address strobe signal RASX ... Row Address strobe signal WEX… Write enable signal

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検出電圧が基準電圧から一定レベル以
上の差を持つレベルに変化したことを検出する回路(2
〜7,R)と、 このレベル変化検出状態を所定時間遅延させる回路(8
〜15, C1〜C3)と、 該所定時間が経過するまで前記レベル変化検出状態が保
持されたかどうかを判定する回路(16 〜19) とを具備
し、 前記レベル変化検出状態が前記所定時間以上保持された
場合に当該レベル変化検出を指示する判定信号(SUPZ)を
出力するようにしたことを特徴とする電圧検出回路。
1. A circuit (2) for detecting that the detected voltage has changed from a reference voltage to a level having a difference of a certain level or more.
~ 7, R) and a circuit (8) for delaying this level change detection state for a predetermined time.
˜15, C1 to C3) and a circuit (16 to 19) for determining whether or not the level change detection state is held until the predetermined time elapses, and the level change detection state is the predetermined time or more. A voltage detection circuit characterized by outputting a determination signal (SUPZ) for instructing detection of the level change when the voltage is held.
【請求項2】 前記判定回路は、前記所定時間が経過す
る前に前記レベル変化検出状態が解除された場合には前
記判定信号を無効にすることを特徴とする請求項1に記
載の電圧検出回路。
2. The voltage detection circuit according to claim 1, wherein the determination circuit invalidates the determination signal when the level change detection state is released before the predetermined time elapses. circuit.
【請求項3】 前記レベル変化検出状態を保持する回路
は、直列に接続された複数段のCMOSインバータ(8,
9;10,11;12,13;14,15)を具備し、該CMOSインバータ
の動作遅延時間によって前記所定時間を設定するように
したことを特徴とする請求項2に記載の電圧検出回路。
3. A circuit for holding the level change detection state comprises a plurality of stages of CMOS inverters connected in series (8,
9. The voltage detection circuit according to claim 2, further comprising: 9; 10,11; 12,13; 14,15), wherein the predetermined time is set according to an operation delay time of the CMOS inverter.
【請求項4】 請求項2に記載の電圧検出回路を備えた
半導体記憶装置であって、 ロウアドレスストローブ信号(RASX)より前にライトイネ
ーブル信号(WEX) とコラムアドレスストローブ信号(CAS
X)が入力されたか否かを判定する回路(42,43)と、 該判定の結果に基づいてテストモードに移行するか否か
を判定する回路(44)とを具備し、 前記電圧検出回路から前記判定信号が出力された場合に
所定のテストモードに移行し、該判定信号が無効の場合
には別のテストモードに移行することを特徴とする半導
体記憶装置。
4. A semiconductor memory device equipped with the voltage detection circuit according to claim 2, wherein a write enable signal (WEX) and a column address strobe signal (CAS) precede the row address strobe signal (RASX).
X) is input to determine whether the circuit (42, 43), and a circuit (44) for determining whether to shift to the test mode based on the result of the determination, the voltage detection circuit The semiconductor memory device is characterized in that it shifts to a predetermined test mode when the determination signal is output from the device and shifts to another test mode when the determination signal is invalid.
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JPH0793997A (en) * 1993-09-24 1995-04-07 Nec Corp Static semiconductor memory device
US6522591B2 (en) 2000-06-27 2003-02-18 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor memory circuit

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