JPH0579978B2 - - Google Patents

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JPH0579978B2
JPH0579978B2 JP55099422A JP9942280A JPH0579978B2 JP H0579978 B2 JPH0579978 B2 JP H0579978B2 JP 55099422 A JP55099422 A JP 55099422A JP 9942280 A JP9942280 A JP 9942280A JP H0579978 B2 JPH0579978 B2 JP H0579978B2
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JP
Japan
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electron beam
printing
plate
parts
resin
Prior art date
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JP55099422A
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Japanese (ja)
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JPS5724944A (en
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Takayoshi Imai
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Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5724944A publication Critical patent/JPS5724944A/en
Publication of JPH0579978B2 publication Critical patent/JPH0579978B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography

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  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、オフセツト印刷用刷版の製造方法に
関する。 更に詳しくは、レイアウトスキヤナより得られ
る電気信号化された画像情報出力からリスフイル
ム等の製版用銀塩感光材料を使用せず直接にオフ
セツト印刷用刷版を得る新規な製版方法に関す
る。 近年、印刷のスピードの高速化と効率化は、た
かまる一方であり印刷作業の工程における製版に
ついても作業の高速化および効率化が望まれてい
る。この要望に答えるものとして、カラー原稿の
色分解、色修正および網撮り等の作業を一工程で
迅速に行うカラースキヤナが導入され版材への焼
付け用の網ネガ、あるいは、網ポジが高効率で得
られるようになつたが、商品宣伝印刷のように、
カラー原稿の他にイラスト、平アミ、マーク、文
字等を含んだ複雑なレイアウトを要する場合に
は、いわゆる貼り込みという煩雑な作業が必要と
なり、この作業が製版工程の効率化の妨げとなつ
ている。このような情況の中で、カラースキヤナ
あるいは単色スキヤナより得られる電気信号化さ
れたカラー原稿、イラスト、マーク、文字等の多
種類の原稿の画像情報出力を入力信号とし、更に
この入力信号を電子回路で処理することにより、
色分解、色修正、レタツチ、コンタクトプリン
ト、ストリツピング、塗り込み、貼り込み集版あ
るいは網撮り等の従来の製版工程の大部分の作業
を終えた画像情報を電気信号として出力すること
の可能なレイアウトスキヤナが出現している。 現在この種の機能をもつレイアウトスキヤナと
しては、クロスフイールド社のマグナスキヤン
570、ヘル社のクロマコム、サイテツクス社のレ
スポンス300等があるがいずれの機種も出力信号
でキセノンランプ光線あるいはレーザー光線を制
御してリスフイルム上に画像情報を走査露光して
いる。これらのシステムでは、オフセツト印刷用
刷版を得るのに、走査露光したリスフイルムを現
像、定着、水洗、乾燥処理した後、版材と密着さ
せメタルハライドランプ等の製版用光源で露光
し、更に露光済みの版材の現像処理を行わねばな
らないという煩雑な工程が必要である。 当然のことながら、オフセツト印刷を行なう上
で印刷用刷版は必要不可欠のものであるが、製版
工程上のレイアウトスキヤナ印刷用刷版との間に
存在する上記リスフイルムに係わる工程は、必ず
しも必要ではない。むしろ、該工程を除くことが
できれば、レイアウトスキヤナを使用して、原稿
から直接印刷用刷版を得ることができ、製版工程
の最大限の効率化が可能となるばかりでなく、リ
スフイルムを使用しないことによる製版コストの
低減もはかれる。また、製版工程において、従来
より多量に使用されている銀塩感光材料を原稿フ
イルム以外には全く使用しないですむことは、銀
のような貴金属の省資源にも貢献する。 そこで、本発明者は、本来不必要な上記リスフ
イルムに係わる工程を経ずに、レイアウトスキヤ
ナの出力から直接印刷用刷版を得ることのできる
製版方法を得るべく鋭意研究した結果、本発明に
いたつたもので、本発明は、エチレン性不飽和結
合を有する硬化性樹脂を含む電子線硬化性組成物
を施した版用基材上に、レイアウトスキヤナより
得られる電気信号化された画像情報出力で制御さ
れた電子ビームを走査照射することを特徴とする
オフセツト印刷用刷版の製造方法である。 本発明にて、基材としては、一般のオフセツト
印刷用刷版の製造に用いられると同様の基材を用
いることができるが、基材上に施された電子線硬
化性組成物が電子線照射により強固に硬化密着
し、これが、耐刷力をあげるように、また、刷版
とした後の印刷時の保水性を良くするために、基
材の表面は、極めて細かな凹凸になるように砂目
立をしアルミニウム、亜鉛、クロムメツキ板等か
らなるものが好ましい。 なお、砂目立の方法としては、適当な大きさの
研磨球(ガラス、陶器、スチール等)と研磨剤
(ガーネツト、カーボランダム、アランダム等)
および水を用い、振動をあたえて金属面に細かな
傷をつける玉とぎ法、ぬれた研磨剤を圧さく空気
で金属面に吹きつける方法、ブラツシ法、陽極酸
化法、ベーマイト処理およびこれらの併用法等が
あるが、印刷時の保水性および電子線照射により
硬化した電子硬化性組成物との密着性それに伴う
耐刷力の向上には、玉とぎ法またはブラツシ法等
の機械研磨後さらに陽極化あるいはベーマイト処
理する方法にて処理したものが好ましい。 更に好ましくは、電解研磨で粗面化したアルミ
板をさらに陽極酸化して用いると水調節のしやす
い、また、再現精度、耐刷力のすぐれた刷版をう
るうことができる。 本発明で、基材上に塗布する電子線硬化性組成
物としては、アクリレート系樹脂のようなエチレ
ン性不飽和結合を有し、電子線照射によりラジカ
ル重合を起して硬化する性質を有する樹脂を含む
ことが必須条件であるが同時に、該電子線硬化性
組成物は、次のような性質を有することも必要で
ある。 1 アルミニウム、クロムメツキ等の金属粗面を
はじめとする基材上に密着性が良好であるこ
と。 2 硬化固着後、インキ受理性が良好となるもの
であること。硬化固着後の該部分の耐刷力が良
好となるものであること。 3 電子線の照射により、急速に硬化固着するこ
と。 以上のような性質を充分に満足するために、電
子線硬化性組成物は、(A)硬化性樹脂30〜80重量
部、(B)反応性希釈剤5〜50重量部、(C)熱重合禁止
剤0〜1重量部、(D)必要に応じて顔料60重量部以
下よりなる組成とすることが本発明の目的達成の
ために好ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂のうち、(a)一般式
The present invention relates to a method for manufacturing printing plates for offset printing. More specifically, the present invention relates to a novel plate-making method for directly obtaining a printing plate for offset printing from image information output in the form of an electrical signal obtained from a layout scanner without using a silver salt photosensitive material for plate-making such as lithium film. BACKGROUND ART In recent years, the speed and efficiency of printing has been increasing, and there is a desire for speed and efficiency of plate making in the printing process. In order to meet this demand, color scanners were introduced that quickly perform color separation, color correction, and halftone scanning of color originals in one step, and were able to produce halftone negatives or halftone positives for printing onto printing plates with high efficiency. However, like product advertising printing,
When a complex layout that includes illustrations, flat sheets, marks, characters, etc. in addition to color originals is required, the complicated work of so-called pasting becomes necessary, and this work becomes an impediment to improving the efficiency of the plate-making process. There is. Under these circumstances, the image information output of many types of originals such as color originals, illustrations, marks, characters, etc. converted into electrical signals obtained from a color scanner or monochrome scanner is used as an input signal, and this input signal is further converted into an electronic circuit. By processing with
A layout that can output image information as electrical signals after completing most of the conventional plate-making processes such as color separation, color correction, retouching, contact printing, stripping, filling, pasting, printing, and halftone printing. Sukiyana has appeared. Currently, the only layout scanner with this type of function is Crossfield's Magnus Scanner.
570, Hell's Chromacom, and Sitex's Response 300, all of which use output signals to control the xenon lamp beam or laser beam to scan and expose image information onto the lithium film. In these systems, to obtain a printing plate for offset printing, a lithium film that has been scanned and exposed is developed, fixed, washed with water, and dried, and then brought into close contact with a plate material and exposed to a plate-making light source such as a metal halide lamp, and then exposed again. This requires a complicated process in which the finished plate material must be developed. Naturally, the printing plate is essential for offset printing, but the process related to the above-mentioned lith film that exists between the layout scanner printing plate and the plate-making process is not always necessary. Not necessary. In fact, if this step could be eliminated, printing plates could be obtained directly from the manuscript using a layout scanner, which would not only make it possible to maximize the efficiency of the plate-making process, but also allow for the use of lithographic film. By not using it, plate making costs can also be reduced. Furthermore, in the plate-making process, it is no longer necessary to use silver salt photosensitive materials, which have conventionally been used in large quantities, for anything other than the original film, which contributes to resource conservation of precious metals such as silver. Therefore, the present inventor conducted extensive research to find a plate-making method that can directly obtain a printing plate from the output of a layout scanner without going through the process related to the above-mentioned lithographic film, which is originally unnecessary. The present invention relates to an image converted into an electrical signal obtained by a layout scanner on a plate substrate coated with an electron beam curable composition containing a curable resin having an ethylenically unsaturated bond. This is a method of manufacturing a printing plate for offset printing, characterized by scanning irradiation with an electron beam controlled by information output. In the present invention, as the base material, the same base material used in the production of general offset printing plates can be used, but the electron beam curable composition applied on the base material The surface of the base material is made to have extremely fine irregularities so that it hardens and adheres tightly through irradiation, increasing printing durability and improving water retention during printing after being made into a printing plate. Preferably, it is made of aluminum, zinc, chrome plated plate, etc. with a grained surface. In addition, as for the graining method, use a polishing ball of an appropriate size (glass, ceramic, steel, etc.) and an abrasive (garnet, carborundum, alundum, etc.)
Also, the beading method uses water and vibration to make small scratches on the metal surface, the method of blowing wet abrasive onto the metal surface with compressed air, the brushing method, anodizing method, boehmite treatment, and combinations of these methods. However, in order to improve water retention during printing, adhesion with the electrocurable composition cured by electron beam irradiation, and printing durability associated with it, further anode treatment is required after mechanical polishing such as the doweling method or brushing method. It is preferable to use a method of oxidation or boehmite treatment. More preferably, if an aluminum plate roughened by electrolytic polishing is further anodized, it is possible to easily adjust the water content and obtain a printing plate with excellent reproducibility and printing durability. In the present invention, the electron beam curable composition to be applied onto the substrate is a resin having an ethylenically unsaturated bond such as an acrylate resin and having the property of causing radical polymerization and curing by electron beam irradiation. It is an essential condition that the electron beam curable composition contains the following properties. 1. Good adhesion to base materials including rough metal surfaces such as aluminum and chrome plating. 2. The ink receptivity should be good after curing and fixation. The printing durability of the part after hardening and fixation should be good. 3 Rapid hardening and fixation by irradiation with electron beams. In order to fully satisfy the above properties, the electron beam curable composition must contain (A) 30 to 80 parts by weight of a curable resin, (B) 5 to 50 parts by weight of a reactive diluent, and (C) a heat-curable composition. In order to achieve the object of the present invention, it is preferable to have a composition consisting of 0 to 1 part by weight of a polymerization inhibitor and, if necessary, 60 parts by weight or less of (D) a pigment. Among the curable resins related to the present invention, (a) general formula

【式】(式中Rは炭素数1〜3の有機 残基を、nは0もしくは1〜6の整数を示す)で
表わされる2重結合を有する5員環化合物及び/
もしくはこれらのデイールス・アルダー反応生成
物と(b)同一分子内に重合性の2重結合と水酸基と
を共に有する化合物とを反応させて得られる水酸
基を有する樹脂もしくは該樹脂に必要に応じて水
素添加をした水酸基を有する樹脂にアクリル酸及
び/もしくはメタクリル酸をエステル化反応して
えられる硬化性樹脂は(a)成分として、シクロペン
タジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペ
ンタジエン、テトラシクロペンタジエン、および
炭素数1〜3のそれらの低級アルキル置換体から
なる群から選ばれた1種ないし2種以上と、(b)成
分として、(メタ)アリルアルコール、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、ブテンジオ
ール等の群から選ばれた1種ないし2種以上を(a)
成分/(b)成分のモル比が30/70〜95/5、好まし
くは40/60〜80/20の間にてラジカル重合触媒の
存在下または無触媒で、所望ならばキシレン等の
溶媒の存在下において、150〜350℃で加熱反応さ
せ水酸基を有する樹脂を得、必要に応じては、該
水酸基を有する樹脂に水素添加を行い、大部分が
分子量300〜500のジオールの占めるいわゆるレジ
ナスポリオールとした後、アクリル酸および/も
しくはメタクリル酸をエステル化反応することに
より得られる。 上記過程において、水素添加条件は慎重に選ぶ
必要があり白金、パラジウム等の貴金属触媒を用
いて行うことが望ましく、室温〜250℃、常圧〜
100Kg/cm2の条件下で水酸基量を減少させること
なく水素化を行うことが好ましい。水素化の程度
は、通常、水酸基を有する樹脂(レジナスポリオ
ール)の炭素−炭素2重結合の40%以上、好まし
くは60%以上水素化すると色相の極めてきれい
な、電子線硬化後の安定性のよい硬化被膜を与え
るものが得られてる。また、水酸基を有する樹脂
とアクリル酸及び/もしくはメタクリル酸との反
応は、触媒の存在下または無触媒で通常のエステ
ル化反応条件で行なう。この際、水酸基を有する
樹脂の水酸基1に対して、アクリル酸および/も
しくはメタクリル酸を0.5〜1モル当量反応させ
ることが好ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例としては
ポリオールにアクリル酸及び/もしくはメタクリ
ル酸をエステル化反応して得られるアクリレート
および/もしくはメタクリレート〔これらを(メ
タ)アクリレート)と表示する。〕があるが、こ
れらは各種グリコール、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール、ポリペンタエリスリトールなどのポリオー
ルにアクリル酸及び/もしくはメタクリル酸をエ
ステル化反応して得られる。 そして、これらのポリオールにアクリル酸及
び/もしくはメタクリル酸をエステル化反応して
得られる(メタ)アクリレートだけでは塗布の際
に必要な粘度、流動特性及び電子線硬化後の皮膜
の可撓性、強靱性が得られぬことがあるので、不
飽和ポリエステル樹脂、共役乾性油、エポキシ樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、アリルスルホン
アミド−ホルムアルデヒド樹脂、セチルビニール
エーテル、及びフタル酸ジアリルプレポリマーの
何れか、もしくはそれらの混合物を上記(メタ)
アクリレート30〜70重量部に対し、70〜30重量部
添加してそれらの欠点を補うことが望ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
ポリエステル樹脂系アクリレート及び/もしくは
メタクリレートがあるが、これらは従来インキ用
ビヒクルとして賞用されてきている変性アルキツ
ド、ポリエステルなどにアクリル酸及び/もしく
はメタクリル酸をエステル化反応して得られるも
のである。すなわち、粘度、溶解性、顔料に対す
る濡れ、皮膜の柔軟性などを調整する目的で油、
或いは脂肪酸変性した水酸基過剰のアルキツド、
或いは水酸基過剰ポリエステル樹脂にアクリル酸
及び/もしくはメタクリル酸をエステル化反応す
ることで得られる。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
エポキシ基を有する化合物にアクリル酸及び/も
しくはメタクリル酸をエステル化反応した(メ
タ)アクリレートがあるが、これは例えば、ビス
フエノールA/エピクロルヒドリンより成るエポ
キシ樹脂やエポキシ化アマニ油にアクリル酸及
び/もしくはメタクリル酸をエステル化反応する
ことで得られるもので、硬化特性がすれ、非常に
強靱な耐溶剤性のすぐれた皮膜を形成する点に特
徴がある。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
ウレタン変性アクリル樹脂及び/もしくはメタク
リル樹脂があるが、これは、水酸基過剰アルキツ
ド、或いはポリエステルと水酸基含有のアクリル
酸エステル及び/もしくは水酸基含有のメタクリ
ル酸エステルとを、トルエンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネートなどのジイソシアネ
ートで結合せしめることにより得られるものであ
る。 本発明にて反応性希釈剤としては、ビニル化合
物が好ましく、また、反応性、溶解性、低粘度性
の要求から(メタ)アクリル酸誘導体が好まし
い。そしてこのようなアクリル酸誘導体としては
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトール(メタ)アクリ
レート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)ア
クリレート、アルキル(メタ)アクリレート(炭
素数1〜18のアルキル基)、1価フエノールまた
は多価フエノールの水酸基にアルキレンオキサイ
ドを付加させたものにアクリル酸またはメタクリ
ル酸をエステル化反応したもの、スチレン、アリ
ルアルコールエステル、グリシジル(メタ)アク
リレート等の架橋性モノマーを使用できる。 本発明にて顔料は特に限定されるものではな
く、通常の塗料、印刷インキに使用されている有
機顔料、無機顔料を用いることができる。 顔料は必らずしも入れる必要はないが、基材に
施された時の状態を確認および修正するため、ま
た、版材を現像処理した時の画像の状態を確認お
よび修正するため、更には、印刷機あるいはコー
ターで施す際に基材上に良好な転移をするように
硬化性組成物のレオロジー的性質を調節するため
に用いる。 本発明にて、重合禁止剤は通常アクリル系及
び/もしくはメタクリル系化合物に有効なものを
そのまま用いることができるが、ハイドロキノン
及びその誘導体、テトラメチルチウラムジサルフ
アイド、N−ニトロソフエニルヒドロキシアミン
のアルミニウム塩などが特に有効である。 本発明にて電子線硬化性組成物を調製するに当
つては(1)硬化性樹脂を(2)反応性希釈剤でワニス化
し(3)熱重合禁止剤を加え、(4)必要に応じ顔料とと
もに三本ロールミル等で分散練肉する。分散方法
は場合によつてはいわゆるフラツシング法を用い
ることもできる。そして400r.p.m.30℃でのタツ
ク値を5〜20、25℃での60秒のフロー値を15〜20
に調整することで調製する。なお、他の有機溶
剤、充填剤、添加剤などを上記操作中に必要に応
じて加えることができるのはいうまでもない。 なお、上記硬化性樹脂を、ケトン系、エステル
系および芳香族系等の有機溶剤で溶解したものを
基材上に塗布した後、該有機溶剤を常法にて蒸発
除去し、基材上に固型状の硬化性樹脂層を形成さ
せて版材とすることもできる。また、この際必要
に応じて前記顔料を加えてもよい。 本発明で、基材上へ電子硬化性組成物を施す方
法としては、通常のオフセツト印刷機や、凸版印
刷機による、いわゆるベタ刷り印刷方式、あるい
は、通常のクリヤーコーテイングに使用されるグ
ラビアコーターやロールコーターによるコーテイ
ング方式を用いることが好ましいが、施す方法は
特に限定されるものではない。また、施された電
子線硬化性組成物の皮膜の厚さは、極端に薄いと
現像後の画像の再現精度が悪くなり、しかも耐刷
力が劣るようになる。また、逆に厚すぎると現像
処理の作業性が劣るようになるため、3μm〜
50μmの皮膜厚が好ましい。 本発明で、電子線照射装置は、高電圧発生装
置、電子銃、加速管、アパーチヤー、電子レン
ズ、コントローラ、プランキングユニツト及び真
空装置等よりなり、電子ビームは版材上に微小な
スポツトとして照射されるように電子レンズで集
束された後、チタン箔の窓を通して電子線照射装
置外に放射され、版材面上に到達する。なお、上
記チタン箔を用いない場合は、電子線照射装置及
び被走査照射部全体を高真空に保つ必要がある。 また、レイアウトスキヤナよりの電気信号化さ
れた画像情報出力は、インターフイエースを介し
てコントローラに入力され電子ビームをオン・オ
フさせる信号を発生させる。該コントローラで発
生したオン・オフ信号はブランキングユニツトを
作動させて電子ビーム電流を制御し走査照射中の
版材への電子ビーム照射線量を制御する。なお、
電子ビーム照射線量は基材上の電子線硬化性組成
物の厚さにもよるが得られた版材の現像後の画像
の再現精度及び耐刷力において優れた性能を具備
させる為に1〜20メガラドが好ましい。 本発明にて、版材上への電子ビームの走査方法
は特に限定されるものではなく、一般的には、版
材と電子ビームのどちらか一方のみを移動させる
方法と両者を移動させて行なう方法とがある。こ
の際、版材は平面状にするかあるいは円筒状ドラ
ムの表面に巻き付けて曲面状にすることができ
る。但し、走査機構の簡便さの点からは、版材を
円筒ドラムの表面に巻き付け、電子ビームは移動
させずに該円筒ドラムを円周方向に回転させると
同時に回転軸方向へも円筒ドラムを移動させ版材
上の全面を走査照射する方法が好ましい。 なお、電子線照射装置に電磁偏向器を備えて、
該偏向器により電子ビームを版材の一辺方向に走
査させ、同時に版材を該方向と直角方向に移動さ
せることにより版材上の全面を走査照射すること
もできる。ここで、硬化手段に電子線を用いるこ
との利点は、画像電気信号による制御性が紫外線
等の活性光線に比べはるかに良好でしかも容易で
あり、更に電子線の透過力が強いためたとえば紫
外線硬化性組成物を用いて紫外線照射した場合に
比べ深部まですみやかに固化硬化がすすみ、極め
て良好な基材への密着性を示すと同時に走査も速
化できる。そして紫外線硬化性組成物のように低
分子量の光重合開始剤を含有していないので本発
明にかかわる刷版を用いて印刷する際画線部であ
る電子線硬化性組成物のその硬化皮膜から印刷過
程にて使用するインキによつて抽出されるような
成分もないため、上述の硬化が内部にまで深く及
ぶ十分な効果とあいまつて、極めてすぐれた耐刷
力を発現する。また、硬化固着した部分はインキ
に対する親和性も十分である。すなわち、画線と
して一般油性印刷インキおよび一般紫外線硬化型
印刷インキに対するインキ受理性が良好で、画像
の再現性も優れた印刷物を与える刷版を与える。
なお、耐刷力の強く要求されるオフセツト輪転印
刷において多層金属版と同程度の耐刷力を有する
刷版を作製することができる。 本発明で、電子線照射後の版材の現像は、電子
線硬化性組成物の硬化部と未硬化部の溶剤への溶
解性の差を利用して行なう。現像溶剤としては一
般の有機溶剤を用いることができるが、現像性、
作業性等から、いわゆるケトン系、エステル系あ
るいは芳香族系の溶剤を用いることが好ましい。
また、上記有機溶剤による現像処理は、スポンジ
等の版材面を損傷する恐れのないものに有機溶剤
を含ませて版材を拭い未硬化部を除去するか、版
材上に有機溶剤をシヤワー状に噴射して未硬化部
を洗い流して除去する方式が好ましいが有機溶剤
を用いて現像する上で、未硬化部を除去する方式
は特に限定されない。尚、現像後の版材上の残留
現象溶剤を常法により蒸発除去した後、印刷用刷
版が得られる。 本発明によれば、したがつてレイアウトスキヤ
ナより電気信号化された画像情報出力からリスフ
イルム等の製版用銀塩材料を使用ぜず直接にしか
も耐刷力、画像再現精度の優れたオフセツト印刷
用刷版が製造される。 以下、比較例および実施例をもつて説明する。
(例中、部とは重量部を示す。) 比較例 抽象模様を有する複数のカラー透過原稿から、
カラースキヤナ(ヘル社製クロマグラフC299)
とレイアウトスキヤナ(サイテツクス社製レスポ
ンス300)を使用し、アルゴンレーザー用リスフ
イルム(デユポン社製CCSL−4)に、藍インキ
印刷刷版用のレイアウトされた画像を分解線数
150線で走査露光した後、該リスフイルムを自動
現像機にて現像、定着、水洗及び乾燥処理してポ
ジ画像を有するリスフイルムを得た。該処理した
リスフイルムをオフセツト印刷用ポジタイプPS
版(富士写真フイルム(株)製GAP−)と密着さ
せて常法により適正露光(ウシオ電気(株)製3kwメ
タルハライドランプより1.5mで45秒間露光)を
行ない、露光後の該PS版を自動現像機に適正現
像処理し、さららに乾燥処理して、藍インキ印刷
用刷版Pを得た。 実施例 1 純度97%のジシクロペンタジエン132部、アリ
ルアルコール58部および市販混合キシレン110部
を攪拌機つきオートクレープに仕込み、温度260
℃で5時間反応させた反応終了後、オートクレー
プを冷却し内容物を蒸留して未反応モノマー、低
重合体およびキシレンを除去して、152部の樹脂
()−1が得られた。この樹脂()−1 100部
を市販混合キシレンに溶解し、パラジウム濃度5
%のパラジウムカーボン(日本エンゲルハルト社
製5%Pdc標準品)1部を添加し、水素圧30Kg/
cm2、150℃、1時間水素化反応を行い、溶媒を留
去して水添加樹脂()−1を得た。 樹脂()−1及び樹脂()−1の性状は次の
通りである。
A 5-membered ring compound having a double bond represented by the formula (wherein R represents an organic residue having 1 to 3 carbon atoms and n represents an integer of 0 or 1 to 6) and/or
Alternatively, a resin having a hydroxyl group obtained by reacting these Diels-Alder reaction products with (b) a compound having both a polymerizable double bond and a hydroxyl group in the same molecule, or hydrogen added to the resin as necessary. The curable resin obtained by esterifying acrylic acid and/or methacrylic acid to a resin having added hydroxyl groups contains cyclopentadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, tetracyclopentadiene, and carbon as component (a). One or more selected from the group consisting of lower alkyl substituents of numbers 1 to 3, and (b) component, (meth)allyl alcohol, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy (a) one or more selected from the group of propyl (meth)acrylate, butenediol, etc.
The molar ratio of component/component (b) is between 30/70 and 95/5, preferably between 40/60 and 80/20, in the presence of a radical polymerization catalyst or without a catalyst, if desired in a solvent such as xylene. A resin having a hydroxyl group is obtained by heating the reaction at 150 to 350°C in the presence of the resin, and if necessary, the resin having a hydroxyl group is hydrogenated to form a so-called resinous resin whose majority is composed of diol with a molecular weight of 300 to 500. It is obtained by forming a polyol and then subjecting it to an esterification reaction with acrylic acid and/or methacrylic acid. In the above process, the hydrogenation conditions must be carefully selected, and it is preferable to use a noble metal catalyst such as platinum or palladium.
It is preferable to carry out the hydrogenation under the condition of 100 Kg/cm 2 without reducing the amount of hydroxyl groups. The degree of hydrogenation is usually 40% or more, preferably 60% or more of the carbon-carbon double bonds of the resin (resinous polyol) having hydroxyl groups, to obtain an extremely clear hue and stability after electron beam curing. A product that gives a good cured film has been obtained. Further, the reaction between the resin having a hydroxyl group and acrylic acid and/or methacrylic acid is carried out under normal esterification reaction conditions in the presence of a catalyst or without a catalyst. At this time, it is preferable to react acrylic acid and/or methacrylic acid in an amount of 0.5 to 1 molar equivalent per hydroxyl group 1 of the resin having a hydroxyl group. Another example of the curable resin according to the present invention is an acrylate and/or methacrylate obtained by esterifying a polyol with acrylic acid and/or methacrylic acid [these are referred to as (meth)acrylates]. ] These are obtained by esterifying acrylic acid and/or methacrylic acid with polyols such as various glycols, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and polypentaerythritol. However, (meth)acrylate obtained by esterifying these polyols with acrylic acid and/or methacrylic acid alone does not have the necessary viscosity, flow characteristics, and flexibility and toughness of the film after electron beam curing. unsaturated polyester resin, conjugated drying oil, epoxy resin, urea formaldehyde resin, allyl sulfonamide formaldehyde resin, cetyl vinyl ether, and diallyl phthalate prepolymer, or their Mixture above (meta)
It is desirable to add 70 to 30 parts by weight to 30 to 70 parts by weight of acrylate to compensate for these drawbacks. Other examples of the curable resin related to the present invention include:
There are polyester resin-based acrylates and/or methacrylates, which are obtained by esterifying acrylic acid and/or methacrylic acid with modified alkyds, polyesters, etc., which have conventionally been used as vehicles for inks. In other words, oil,
or fatty acid-modified alkyd with excess hydroxyl groups,
Alternatively, it can be obtained by subjecting acrylic acid and/or methacrylic acid to an esterification reaction on a polyester resin with excess hydroxyl groups. Other examples of the curable resin related to the present invention include:
There is (meth)acrylate, which is the esterification reaction of acrylic acid and/or methacrylic acid to a compound having an epoxy group. It is obtained by esterifying methacrylic acid, and is characterized by its smooth curing properties and the ability to form a very tough film with excellent solvent resistance. Other examples of the curable resin related to the present invention include:
There are urethane-modified acrylic resins and/or methacrylic resins, which are made by combining hydroxyl-excess alkyd or polyester with hydroxyl-containing acrylic ester and/or hydroxyl-containing methacrylic ester, toluene diisocyanate,
It is obtained by bonding with a diisocyanate such as isophorone diisocyanate. In the present invention, vinyl compounds are preferred as the reactive diluent, and (meth)acrylic acid derivatives are preferred in view of the requirements for reactivity, solubility, and low viscosity. Examples of such acrylic acid derivatives include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, and 1,6- Esterification reaction of acrylic acid or methacrylic acid to hexanediol (meth)acrylate, alkyl (meth)acrylate (alkyl group with 1 to 18 carbon atoms), monohydric phenol or polyhydric phenol with alkylene oxide added to the hydroxyl group. Crosslinkable monomers such as styrene, allyl alcohol ester, glycidyl (meth)acrylate, etc. can be used. In the present invention, the pigment is not particularly limited, and organic pigments and inorganic pigments used in ordinary paints and printing inks can be used. Pigments do not necessarily have to be added, but they can be added in order to confirm and correct the condition when applied to the base material, and to confirm and correct the condition of the image when the plate material is developed. are used to adjust the rheological properties of the curable composition to ensure good transfer onto the substrate during application with a printer or coater. In the present invention, polymerization inhibitors that are effective for acrylic and/or methacrylic compounds can be used as they are, but hydroquinone and its derivatives, tetramethylthiuram disulfide, N-nitrosophenylhydroxyamine, etc. Particularly effective are aluminum salts. In preparing the electron beam curable composition in the present invention, (1) the curable resin is (2) made into a varnish with a reactive diluent, (3) a thermal polymerization inhibitor is added, and (4) as necessary. Disperse and knead together with pigment using a three-roll mill or the like. As the dispersion method, a so-called flushing method may be used depending on the case. Then, the tack value at 400rpm 30℃ is 5~20, and the flow value for 60 seconds at 25℃ is 15~20.
Prepare by adjusting. It goes without saying that other organic solvents, fillers, additives, etc. can be added as necessary during the above operations. In addition, after applying the above-mentioned curable resin dissolved in an organic solvent such as a ketone type, an ester type, or an aromatic type onto a base material, the organic solvent is evaporated off using a conventional method, and then the curable resin is dissolved on the base material. A plate material can also be produced by forming a solid curable resin layer. Moreover, at this time, the above-mentioned pigment may be added as necessary. In the present invention, the method of applying the electronically curable composition onto the substrate is a so-called solid printing method using a normal offset printing machine or a letterpress printing machine, or a gravure coater used for normal clear coating. Although it is preferable to use a coating method using a roll coater, the method of application is not particularly limited. Furthermore, if the thickness of the applied electron beam curable composition film is extremely thin, the reproduction accuracy of the image after development will be poor, and furthermore, the printing durability will be poor. On the other hand, if it is too thick, the workability of the developing process will be poor, so
A coating thickness of 50 μm is preferred. In the present invention, the electron beam irradiation device consists of a high voltage generator, an electron gun, an acceleration tube, an aperture, an electron lens, a controller, a planking unit, a vacuum device, etc., and the electron beam is irradiated onto the plate material as a minute spot. After being focused by an electron lens, the electron beam is emitted outside the electron beam irradiation device through a titanium foil window and reaches the plate surface. Note that when the titanium foil described above is not used, it is necessary to maintain the entire electron beam irradiation device and scanned irradiation area in a high vacuum. Further, the image information output from the layout scanner in the form of an electric signal is input to the controller via the interface to generate a signal for turning on and off the electron beam. The on/off signal generated by the controller operates a blanking unit to control the electron beam current and the electron beam irradiation dose to the plate material during scanning irradiation. In addition,
The electron beam irradiation dose depends on the thickness of the electron beam curable composition on the substrate, but it is 1 to 1 to ensure that the obtained plate material has excellent performance in terms of image reproduction accuracy and printing durability after development. 20 megarads is preferred. In the present invention, the method of scanning the electron beam onto the plate material is not particularly limited, and generally, it is carried out by moving only one of the plate material or the electron beam, and by moving both. There is a method. At this time, the plate material can be made into a flat shape or can be wrapped around the surface of a cylindrical drum to make it into a curved shape. However, from the point of view of the simplicity of the scanning mechanism, the plate material is wrapped around the surface of a cylindrical drum, and the cylindrical drum is rotated in the circumferential direction without moving the electron beam, and at the same time, the cylindrical drum is also moved in the direction of the rotation axis. A method in which the entire surface of the plate material is scanned and irradiated is preferred. In addition, the electron beam irradiation device is equipped with an electromagnetic deflector,
It is also possible to scan and irradiate the entire surface of the plate by scanning the electron beam in one side direction of the plate using the deflector and simultaneously moving the plate in a direction perpendicular to the direction. Here, the advantage of using an electron beam as a curing means is that controllability using image electrical signals is much better and easier than with actinic rays such as ultraviolet rays, and furthermore, the penetrating power of electron beams is strong, so for example, ultraviolet curing Compared to the case of UV irradiation using a transparent composition, solidification and hardening progresses more quickly to a deeper part, exhibiting extremely good adhesion to the substrate and at the same time speeding up scanning. Since it does not contain a low molecular weight photopolymerization initiator unlike the ultraviolet curable composition, when printing using the printing plate according to the present invention, the cured film of the electron beam curable composition, which is the image area, is removed. Since there are no components extracted by the ink used in the printing process, the above-mentioned hardening effect extends deep into the interior, and together with this, extremely excellent printing durability is achieved. Further, the hardened and fixed portion has sufficient affinity for ink. That is, a printing plate is provided which provides printed matter with good ink receptivity to general oil-based printing inks and general ultraviolet curable printing inks as images and excellent image reproducibility.
In addition, in offset rotary printing where printing durability is strongly required, a printing plate having printing durability comparable to that of a multilayer metal plate can be produced. In the present invention, the plate material after electron beam irradiation is developed by utilizing the difference in solubility in a solvent between the cured portion and the uncured portion of the electron beam curable composition. General organic solvents can be used as the developing solvent, but developability,
From the viewpoint of workability, etc., it is preferable to use so-called ketone, ester, or aromatic solvents.
In addition, for the above-mentioned development treatment using an organic solvent, the uncured portions are removed by wiping the plate with a sponge or other material that does not cause damage to the plate surface soaked in the organic solvent, or the organic solvent is showered onto the plate. It is preferable to use a method in which the uncured portion is removed by spraying it in the form of a spray to wash away the uncured portion, but there is no particular limitation on the method for removing the uncured portion when developing with an organic solvent. Incidentally, after the residual solvent on the plate material after development is removed by evaporation by a conventional method, a printing plate is obtained. According to the present invention, offset printing can be performed directly from the output of image information converted into electrical signals from a layout scanner without using silver halide materials for plate making such as lithium film, and which has excellent printing durability and image reproduction accuracy. A printing plate is manufactured. The following is a description using comparative examples and examples.
(In the examples, parts indicate parts by weight.) Comparative example From multiple color transparent originals with abstract patterns,
Color scanner (Chromagraph C299 manufactured by Hell)
Using a layout scanner (Response 300 manufactured by Cytecs), the laid out image for an indigo ink printing plate was separated into line numbers on a lithium film for argon laser (CCSL-4 manufactured by Dupont).
After scanning exposure with 150 lines, the lithographic film was developed using an automatic processor, fixed, washed with water, and dried to obtain a lithographic film having a positive image. Positive type PS for offset printing of the treated lith film
Properly expose the plate (GAP- manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a conventional method (exposure for 45 seconds at 1.5 m using a 3 kW metal halide lamp manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.), and then automatically remove the PS plate after exposure. Appropriate development processing was carried out using a developing machine, and further drying processing was carried out to obtain an indigo ink printing plate P. Example 1 132 parts of dicyclopentadiene with a purity of 97%, 58 parts of allyl alcohol, and 110 parts of commercially available mixed xylene were charged into an autoclave equipped with a stirrer, and the temperature was 260.
After the reaction was completed for 5 hours at <RTIgt;C,</RTI> the autoclave was cooled and the contents were distilled to remove unreacted monomers, low polymers, and xylene, yielding 152 parts of Resin ()-1. 100 parts of this resin ()-1 was dissolved in commercially available mixed xylene, and the palladium concentration was 5.
% palladium carbon (5% Pdc standard product made by Nippon Engelhard) was added, and the hydrogen pressure was 30 kg/
A hydrogenation reaction was carried out at 150°C for 1 hour, and the solvent was distilled off to obtain water-added resin (2)-1. The properties of Resin ()-1 and Resin ()-1 are as follows.

【表】 次に樹脂()−1 80部、アクリル酸20部、
パラトルエンスルフオン酸1.0部、ハイドロキノ
ン0.1部をサイドアーム付冷却機及び攪拌機付4
つ口フラスコに仕込み、ベンゼン/メチルイソブ
チルケトン(MIBK)混合溶媒の還流下100℃で
12時間反応後、120℃でベンゼン、MIBKを留去
し、樹脂(A)−1を得た。樹脂()−1について
も、樹脂()−1と同時にメタクリル酸と反応
させた樹脂(A)−2を得た。次に得られた樹脂(A)−
1、(A)−2それぞれ70部をトリメチロールプロパ
ントリアクリレート30部で溶解しワニスA、ワニ
スBとする。 さらに、上記ワニスAを用いて以下の処方で三
本ロールを用いて電子線硬化性組成物Aを調製し
た。なお、以下でいうタツク値は400r.p.m.30℃
での値、フロー値は25℃での60秒を意味する。 ワニスA 52部 ビスフエノールAエチレンオキサイド 付加体のジアクリレート 33.9部 カーミン6B(T) (東洋インキ製造(株)製紅顔料) 13部 有機ペントナイト 1部 N−ニトロソフエニルヒドロキシアミン アルミニウム塩 0.1部 タツク値12.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子硬化性組成物Aを
いわゆるPS版のメクラ版を原版として用い金属
板印刷用オフセツト印刷機で、電解研磨で砂目立
をした後、陽極酸化処理した厚さ300μmのアルミ
板に皮膜厚5μmでベタ刷印刷し版材Aとした。 次に、比較例で使用した複数のカラー透過原稿
から、カラースキヤナ(ヘル社製クロマグラフ
C299)とレイアウトスキヤナ(サイ・テツクス
社製レスポンス300)によりレイアウト済みの藍
インキ印刷版用の電気信号化された画像情報出力
を得、該電気信号をインターフエースを介して電
子線照射装置に入力させて電子ビームをチタン箔
の窓を通して電子線照射装置外に放射させ、走査
用の円筒ドラム表面上に固定された上記版材Aを
線量5メガラドにて走査照射した。なお、電子ビ
ームが照射される版材表面はいわゆるエアーイン
ヒビションを防ぐために窒素ガス置換した。 次に、セロソルプアセテートを含ませたスポン
ジを用いて、電子ビームを走査照射した版材Aの
表面を拭い、未硬化の電子線硬化性組成物を除去
した後、常法にて残留現像溶剤を蒸発除去させ藍
インキ印刷用刷版Aを製造した。 実施例 2 実施例1で得たワニスBを用いて、以下の処方
で実施例1と同様に電子線硬化性組成物Bを調製
した。 ワニスB 40部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 31.9部 リオノールブルーKL (東洋インキ製造(株)製藍顔料) 3部 白艶華−O(体質顔料) 25部 テトラメチルチラウムジサルフアイド 0.1部 タツク値10.0 フロー値16.0 このようにして得られた、電子線硬化性組成物
Bを玉研ぎ法で粗面化した厚さ300μmのアルミ板
に実施例1と同様に皮膜厚5μmで印刷し、版材B
とした。 次に実施例1と同様に版材Bを線量10メガラド
にて走査照射し、更に実施例1と同様に版材Bを
現像、乾燥して刷版Bを製造した。 実施例 3 フタル酸ジアリルプレポリマー60部をジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート39.5部、N−
ニトロソフエニルヒドロキシアミンのアルミニウ
ム塩0.5部と混合攪拌し90℃に1時間加熱保持し
て粘度60ポイズ(25℃)のワニスCを得た。この
ワニスCを用いて以下の処方で実施例1と同様に
電子線硬化性組成物Cを調製した。 ワニスC 60部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12部 三菱カーボンブラツクMA8 (三菱化成工業(株)製カーボンブラツク) 10部 白艶華O(体質顔料) 18部 タツク値8.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物C
をブラシ研磨で粗面化した300μmの厚みのアルミ
板に実施例1と同様に皮膜厚10μmで印刷し、版
材Cとした。 次に実施例1と同様に版材Cを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例1と同様に版材Cを現
像、乾燥して刷版Cを製造した。 実施例 4 オレイン酸20部、トリメチロールプロパン47部
を4つ口フラスコ中、炭酸ガス気流下で240℃で
酸価5以下まで反応させる。その後無水フタル酸
33部を加え、同温度で反応し、酸価5以下に水酸
基当量180のアルキツド樹脂を得る。次にこのア
ルキツド樹脂71.5部、ベンゼン10.0部を還流器、
撹拌機付4つ口フラスコに仕込み、90℃に加熱
し、アクリル酸28.5部、p−トルエンスルフオン
酸1.0部、ハイドロキノン0.1部を85〜95℃で空気
を吹き込みながら滴下し、滴下後徐々に昇温し
100〜120℃で反応し、酸価5以下の時点でベンゼ
ンを除去し、汲み出した。これをワニスDとす
る。 このワニスDを用いて以下の処方で実施例1と
同様に電子線硬化性組成物Dを調製した。 ワニスD 51部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 35.9部 カーミン6B(T) (東洋インキ製造(株)紅顔料) 13部 ハイドロキノン 0.1部 タツク値11.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物D
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例1と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Dとした。 次に実施例1と同様に版材Dを線量20メガラド
で走査照射し、更に実施例1と同様に版材Dを現
像乾燥して刷版Dを製造した。 実施例 5 エピコート828(シエル石油(株)製エポキシ樹脂)
71.7部、アクリル酸28.3部、ハイドロキノン0.1
部、トリエチレンジアミン0.1部を還流管、攪拌
機付4つ口フラスコに仕込み、空気を吹きこみな
がら90〜110℃で15〜20時間反応させ酸価1以下
になつた時点で汲み出した。これをワニスEとす
る。 このワニスEを用いて以下の処方で実施例1と
同様に電子線硬化性組成物Eを調製した。 ワニスE 54部 ビスフエノールAエチレンオキサイド 付加体ジアクリレート 32.9部 カーミン6B(T) (東洋インキ製造(株)紅顔料) 13部 テトラメチルチウラムジサルフアイト 0.1部 タツク値11.0 フロー値16.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物E
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例1と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Eとした。 次に実施例1と同様に版材Eを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例1と同様に版材Eを現
像、乾燥して刷版Eを製造した。 実施例 6 ペンタエリスリトールトリアクリレート63.1部
を還流管付4つ口フラスコに仕込み、38〜40℃に
保ち、トルエンジイソシアネート36.9部を1時間
かけ滴下加える。残留イソシアネート基8.7%前
後で一定となつた時反応をやめ汲みだした。これ
をアクリル化イソシアネートAと称する。 次にオレイン酸20部、トリメチロールプロパン
47部を攪拌機付4つ口フラスコ中で、炭酸ガス気
流下240℃で酸価5以下になるまで反応させた。
その後無水フタル酸33部を加え同温度で3時間反
応させ、酸価5以下、水酸基当量180のアルキツ
ドを得た。 この水酸基当量180のアルキツド90部とトリメ
チロールプロパントリアクリレート40部とハイド
ロキノン0.1部を混合溶解し、上記アクリル化イ
ソシアネートA104.4部を添加し60〜70℃で7〜
9時間反応させ、残留イソシアネート基が0.27以
下になつた時汲みだした。これをワニスFとす
る。このワニスFを用いて以下の処方で実施例1
と同様に電子線硬化性組成物Fを調製した。 ワニスF 47部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 39.9部 カーミン6B(T) (東洋インキ製造(株)紅顔料) 13部 N−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミ
ニウム塩 0.1部 タツク値8.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物F
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例1と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Fとした。 次に実施例1と同様に版材Fを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例1と同様に版材Fを現
像、乾燥して刷版Fを製造した。 実施例 7 実施例1で得られた樹脂(A)−1を48.5部とメチ
ルエチルケトン51.5部を常法にて溶解してワニス
Gとする。このワニスGを用い以下の処方でボー
ルミルを用いて顔料の最大粒子が10μmとなるま
で練肉して電子線硬化性組成物Gを調製した。 ワニスG 96.9部 カーミン6B(T) (東洋インキ製造(株)紅顔料) 3部 N−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミ
ニウム塩 0.1部 得られた電子線硬化性組成物Gを粘度は、ザン
カツプ粘度計(No.4カツプ25℃)にて20秒を示し
た。 このようにして得られた電子線硬化性組成物G
を玉研ぎ法で粗面化した厚さ300μmのアルミ板
に、ロールコーターを用いて皮膜厚20μmとなる
ように塗布した。 塗布後の版材より常法によりメチルエチルケト
ンを蒸発除去し版材上に皮膜厚10μmの固型状の
電子線硬化性組成物を形成させ版材Gを製造し
た。 次に実施例1と同様に版材Gを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例1と同様に版材Gを現
像、乾燥して刷版Gを製造した。 実施例 8 実施例7と同様にして版材上に皮膜厚10μmの
固型状の電子線硬化性組成物を形成させた版材H
を製造した。 次に、版材Hを走査用の円筒ドラム表面に固定
し、電子線照射装置にチタン箔の窓を使用せずに
電子線照射装置内部と被走査照射部全体を同一の
高真空系に保ち、実施例7と同様に版材Hを線量
10メガラドで走査照射し、更に実施例7と同様に
版材Hを現像、乾燥して刷版Hを製造した。 次に比較例と実施例1〜8で得られた刷版P及
びA〜Hの網点再現性の比較を行つた結果と上記
刷版PおよびA〜Hを三菱重工製BBタイプ・オ
フ輪印刷機により印刷テストした結果を示す。 網点再現性:原稿のグレースケールよりアミ分解
されている比較例で得られた刷版P上のアミ
点スケールのアミ点%を各ステツプごとに測
定し同様に実施例1〜8で得られた刷版A〜
H上のアミ点スケールのアミ点%をステツプ
ごとに測定した。ここでアミ点スケールの同
一ステツプに関し刷版Pと刷版A〜Hのアミ
点%測定値を各ステツプごとに比較して従来
の製造方法により得られた刷版Pと本発明に
より得られた刷版A〜Hのアミ点再現性を比
較した。 なお、アミ点測定にはビユーバツク(東洋イン
キ製造(株)製)を使用した。 印刷テスト使用インキ:WK LTD藍A(東洋イ
ンキ製造(株)製オフ輪インキ) 紙:オフ輪用トツプコート紙(神崎製紙(株)製)B
サイズ66.5K 耐刷力:三菱重工製BBタイプ・オフ輪印刷機で
刷版P及びA〜Gを使用して印刷した結果で
示す。 インキ着肉性:上記のWK LTD藍Aで印刷した
場合の印刷物のインキの転を肉眼した判断し
た。
[Table] Next, 80 parts of resin ()-1, 20 parts of acrylic acid,
1.0 part of para-toluene sulfonic acid and 0.1 part of hydroquinone were added to a cooling machine with a side arm and a stirrer 4.
Pour into a neck flask and heat at 100℃ under reflux of benzene/methyl isobutyl ketone (MIBK) mixed solvent.
After reacting for 12 hours, benzene and MIBK were distilled off at 120°C to obtain resin (A)-1. Resin (A)-2 was also obtained by reacting Resin ()-1 with methacrylic acid at the same time as Resin ()-1. Next obtained resin (A)−
Varnish A and Varnish B were prepared by dissolving 70 parts each of 1 and (A)-2 in 30 parts of trimethylolpropane triacrylate. Furthermore, using the above varnish A, an electron beam curable composition A was prepared using a triple roll according to the following recipe. In addition, the tack value below is 400r.pm30℃
Flow values mean 60 seconds at 25°C. Varnish A 52 parts Bisphenol A ethylene oxide adduct diacrylate 33.9 parts Carmine 6B (T) (red pigment manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) 13 parts Organic pentonite 1 part N-nitrosophenylhydroxyamine aluminum salt 0.1 part Tack value: 12.0 Flow value: 17.0 The electrocurable composition A thus obtained was grained by electrolytic polishing using a so-called PS blank plate as an original plate, and then grained by electrolytic polishing. Plate material A was printed on a 300 μm thick oxidized aluminum plate with a film thickness of 5 μm. Next, from the multiple color transparent originals used in the comparative example, a color scanner (Chromagraph manufactured by Hell Inc.) was used.
C299) and a layout scanner (Response 300 manufactured by Sci-Tex) to obtain image information output as an electrical signal for the indigo ink printing plate that has already been laid out, and send the electrical signal to the electron beam irradiation device via an interface. The electron beam was inputted and radiated out of the electron beam irradiation device through a titanium foil window, and the plate material A fixed on the surface of a cylindrical scanning drum was scanned and irradiated with a dose of 5 megarads. The surface of the plate material to be irradiated with the electron beam was replaced with nitrogen gas to prevent so-called air inhibition. Next, using a sponge impregnated with cellosol acetate, the surface of plate material A scanned and irradiated with an electron beam was wiped to remove the uncured electron beam curable composition, and then residual development was performed in a conventional manner. The solvent was removed by evaporation to produce a blue ink printing plate A. Example 2 Using varnish B obtained in Example 1, electron beam curable composition B was prepared in the same manner as in Example 1 with the following formulation. Varnish B 40 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 31.9 parts Lionol Blue KL (indigo pigment manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) 3 parts Hakuenka-O (extender pigment) 25 parts Tetramethylthiraum disulfide 0.1 part Tack value 10.0 Flow Value 16.0 The thus obtained electron beam curable composition B was printed on a 300 μm thick aluminum plate whose surface had been roughened by the grinding method to a film thickness of 5 μm in the same manner as in Example 1.
And so. Next, as in Example 1, the plate material B was scanned and irradiated at a dose of 10 megarads, and the plate material B was further developed and dried in the same manner as in Example 1 to produce a printing plate B. Example 3 60 parts of diallyl phthalate prepolymer was mixed with 39.5 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, N-
The mixture was mixed with 0.5 part of aluminum salt of nitrosophenylhydroxyamine, stirred, and heated and maintained at 90°C for 1 hour to obtain Varnish C with a viscosity of 60 poise (25°C). Using this varnish C, an electron beam curable composition C was prepared in the same manner as in Example 1 using the following formulation. Varnish C 60 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 12 parts Mitsubishi Carbon Black MA8 (carbon black manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) 10 parts Hakuenka O (extender pigment) 18 parts Tack value 8.0 Flow value 17.0 Electrons obtained in this way Line curable composition C
This was printed on a 300 μm thick aluminum plate roughened by brush polishing with a film thickness of 10 μm in the same manner as in Example 1 to obtain plate material C. Next, as in Example 1, the plate material C was scanned and irradiated at a dose of 10 megarads, and then the plate material C was developed and dried in the same manner as in Example 1 to produce a printing plate C. Example 4 20 parts of oleic acid and 47 parts of trimethylolpropane are reacted in a four-necked flask under a carbon dioxide gas stream at 240°C until the acid value reaches 5 or less. Then phthalic anhydride
Add 33 parts and react at the same temperature to obtain an alkyd resin with an acid value of 5 or less and a hydroxyl equivalent of 180. Next, 71.5 parts of this alkyd resin and 10.0 parts of benzene were added to a reflux vessel.
Pour into a four-necked flask with a stirrer, heat to 90°C, add 28.5 parts of acrylic acid, 1.0 part of p-toluenesulfonic acid, and 0.1 part of hydroquinone dropwise at 85 to 95°C while blowing air. temperature rises
The reaction was carried out at 100 to 120°C, and when the acid value reached 5 or less, benzene was removed and the mixture was pumped out. This is called varnish D. Using this varnish D, an electron beam curable composition D was prepared in the same manner as in Example 1 using the following formulation. Varnish D 51 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 35.9 parts Carmine 6B (T) (Toyo Ink Seizo Co., Ltd. Red Color) 13 parts Hydroquinone 0.1 part Tack value 11.0 Flow value 17.0 Electron beam curable composition thus obtained D
was polished with a brush to give it a grain, and then printed on a 300 μm thick anodized aluminum plate with a film thickness of 10 μm in the same manner as in Example 1 to obtain plate material D. Next, the plate material D was scanned and irradiated with a dose of 20 megarads in the same manner as in Example 1, and then the plate material D was developed and dried in the same manner as in Example 1 to produce a printing plate D. Example 5 Epicote 828 (epoxy resin manufactured by Ciel Sekiyu Co., Ltd.)
71.7 parts, acrylic acid 28.3 parts, hydroquinone 0.1
1 part and 0.1 part of triethylenediamine were charged into a four-necked flask equipped with a reflux tube and a stirrer, and reacted at 90 to 110°C for 15 to 20 hours while blowing air. When the acid value reached 1 or less, the mixture was pumped out. This is called varnish E. Using this varnish E, an electron beam curable composition E was prepared in the same manner as in Example 1 using the following formulation. Varnish E 54 parts Bisphenol A ethylene oxide adduct diacrylate 32.9 parts Carmine 6B (T) (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Red Color) 13 parts Tetramethylthiuram disulfite 0.1 part Tack value 11.0 Flow value 16.0 In this way Obtained electron beam curable composition E
was polished with a brush to give it a grain, and then printed on a 300 μm thick anodized aluminum plate with a film thickness of 10 μm in the same manner as in Example 1 to obtain plate material E. Next, the plate material E was scanned and irradiated with a dose of 10 megarads in the same manner as in Example 1, and the plate material E was developed and dried in the same manner as in Example 1 to produce a printing plate E. Example 6 63.1 parts of pentaerythritol triacrylate is placed in a four-necked flask equipped with a reflux tube, maintained at 38 to 40°C, and 36.9 parts of toluene diisocyanate is added dropwise over 1 hour. When the residual isocyanate groups reached a constant level of around 8.7%, the reaction was stopped and the mixture was pumped out. This is called acrylated isocyanate A. Then 20 parts of oleic acid, trimethylolpropane
47 parts were reacted in a four-necked flask with a stirrer at 240°C under a carbon dioxide gas stream until the acid value became 5 or less.
Thereafter, 33 parts of phthalic anhydride was added and reacted at the same temperature for 3 hours to obtain an alkyd with an acid value of 5 or less and a hydroxyl equivalent of 180. 90 parts of this alkyd with a hydroxyl equivalent of 180, 40 parts of trimethylolpropane triacrylate, and 0.1 part of hydroquinone were mixed and dissolved, 104.4 parts of the above acrylated isocyanate A was added, and the mixture was heated at 60 to 70°C for 7 to 70 minutes.
The reaction was allowed to proceed for 9 hours, and the solution was pumped out when the residual isocyanate group became 0.27 or less. This is called varnish F. Example 1 using this varnish F with the following recipe
Electron beam curable composition F was prepared in the same manner. Varnish F 47 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 39.9 parts Carmine 6B (T) (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Red Color) 13 parts N-nitrosophenylhydroxyamine aluminum salt 0.1 part Tack value 8.0 Flow value 17.0 Obtained in this way Electron beam curable composition F
was polished with a brush to give it a grain, and then printed on a 300 μm thick anodized aluminum plate with a film thickness of 10 μm in the same manner as in Example 1 to obtain plate material F. Next, the plate material F was scanned and irradiated with a dose of 10 megarads in the same manner as in Example 1, and then the plate material F was developed and dried in the same manner as in Example 1 to produce a printing plate F. Example 7 Varnish G was prepared by dissolving 48.5 parts of resin (A)-1 obtained in Example 1 and 51.5 parts of methyl ethyl ketone in a conventional manner. Using this varnish G, an electron beam curable composition G was prepared by milling the varnish G according to the following recipe using a ball mill until the maximum particle size of the pigment was 10 μm. Varnish G 96.9 parts Carmine 6B (T) (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Red Color) 3 parts N-nitrosophenylhydroxyamine aluminum salt 0.1 part The viscosity of the obtained electron beam curable composition G was measured using a Zankup viscometer ( No. 4 cup (25°C) for 20 seconds. Electron beam curable composition G thus obtained
was coated on a 300 μm thick aluminum plate, which had been roughened by a grinding method, using a roll coater to give a film thickness of 20 μm. Methyl ethyl ketone was removed by evaporation from the coated plate material by a conventional method to form a solid electron beam curable composition with a film thickness of 10 μm on the plate material, thereby producing plate material G. Next, the plate material G was scanned and irradiated with a dose of 10 megarads in the same manner as in Example 1, and then the plate material G was developed and dried in the same manner as in Example 1 to produce a printing plate G. Example 8 Plate material H in which a solid electron beam curable composition with a film thickness of 10 μm was formed on the plate material in the same manner as in Example 7
was manufactured. Next, plate material H is fixed on the surface of a cylindrical drum for scanning, and the inside of the electron beam irradiation device and the entire scanning irradiation area are kept in the same high vacuum system without using a titanium foil window in the electron beam irradiation device. , the plate material H was dosed in the same manner as in Example 7.
Scanning irradiation was performed at 10 megarads, and the plate material H was further developed and dried in the same manner as in Example 7 to produce a printing plate H. Next, the results of comparing the halftone reproducibility of the printing plates P and A to H obtained in Comparative Example and Examples 1 to 8 and the above printing plates P and A to H were obtained using Mitsubishi Heavy Industries' BB type off-rings. The results of a printing test using a printing machine are shown. Dot reproducibility: The dot percentage of the dot scale on the printing plate P obtained in the comparative example where the dots were resolved from the gray scale of the original was measured for each step, and the dots obtained in Examples 1 to 8 in the same manner. Printing version A~
The tint % of the tint scale on H was measured step by step. Here, for the same step of the tint point scale, the measured values of the tint percentage of printing plate P and printing plates A to H are compared for each step, and the printing plate P obtained by the conventional manufacturing method and the printing plate obtained by the present invention are compared. The tint reproducibility of printing plates A to H was compared. Note that a Beuvac (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) was used for the tint point measurement. Printing test ink used: WK LTD Indigo A (off-wheel ink manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) Paper: Top-coated paper for off-circle (manufactured by Kanzaki Paper Co., Ltd.) B
Size 66.5K Printing durability: Shown as the result of printing using printing plates P and A to G on a BB type off-wheel printing machine manufactured by Mitsubishi Heavy Industries. Ink receptivity: Ink transfer on printed matter printed with the above WK LTD Indigo A was visually judged.

【表】【table】

【表】 以上により本発明にて実施して製造した刷版
は、通常使用されている市販のPS版と比較して、
耐刷力、アミ点再現性インキ着肉性において、遜
色のない性能を有していることがわかる。
[Table] The printing plate manufactured according to the present invention as described above has the following characteristics compared to the commonly used commercially available PS plate:
It can be seen that it has comparable performance in terms of printing durability, dot reproducibility, and ink receptivity.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の刷版の製造工程のうち、原
稿から、版材への電子ビーム走査照射部までを示
した構成概略図である。第2図は、電子線照射装
置にチタン箔の窓を使用せず、電子線照射装置と
被走査照射部全体を同一の高真空系に保ち製版す
る場合の本発明の構成概略図である。 図中の各記号は次のとおりである。1……カラ
ースキヤナ、2……原稿走査部、3……原稿、4
……画像処理部、5……レイアウトスキヤナ画像
処理部、6……インターフエース、7……コント
ローラー、8……ブランキングユニツト、9……
電子レンズ、10……高電圧発生装置、11……
電子線銃、12……加速管部、13……真空ポン
プ、14……チタン箔、15……電子ビーム、1
6……走査照射部、17……版材、18……窒素
ガス循環装置。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of the printing plate manufacturing process of the present invention, from the original to the electron beam scanning irradiation unit onto the plate material. FIG. 2 is a schematic diagram of the configuration of the present invention in the case where a titanium foil window is not used in the electron beam irradiation device, and the electron beam irradiation device and the entire scanned irradiation area are kept in the same high vacuum system for plate making. Each symbol in the figure is as follows. 1...Color scanner, 2...Document scanning section, 3...Document, 4
...Image processing unit, 5...Layout scanner image processing unit, 6...Interface, 7...Controller, 8...Blanking unit, 9...
Electronic lens, 10... High voltage generator, 11...
Electron beam gun, 12... Acceleration tube section, 13... Vacuum pump, 14... Titanium foil, 15... Electron beam, 1
6... Scanning irradiation section, 17... Plate material, 18... Nitrogen gas circulation device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 エチレン性不飽和結合を有する硬化性樹脂を
含む電子線硬化性組成物を施した版用基材上に、
レイアウトスキヤナより得られた電気信号化され
た画像情報出力で制御された電子ビームを走査照
射することを特徴とするオフセツト印刷用刷版の
製造方法。
1. On a plate base material coated with an electron beam curable composition containing a curable resin having an ethylenically unsaturated bond,
A method for producing a printing plate for offset printing, characterized by scanning and irradiating with an electron beam controlled by image information output converted into an electric signal obtained from a layout scanner.
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