JPH0572172A - Enzyme electrode - Google Patents

Enzyme electrode

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JPH0572172A
JPH0572172A JP3238177A JP23817791A JPH0572172A JP H0572172 A JPH0572172 A JP H0572172A JP 3238177 A JP3238177 A JP 3238177A JP 23817791 A JP23817791 A JP 23817791A JP H0572172 A JPH0572172 A JP H0572172A
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JP
Japan
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electrode
enzyme
insulating
sensitive part
working electrode
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JP3238177A
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Japanese (ja)
Inventor
Masato Arai
Hideki Endo
Satoshi Nakajima
Koichi Takizawa
聡 中嶋
耕一 滝沢
真人 荒井
英樹 遠藤
Original Assignee
Omron Corp
オムロン株式会社
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide an enzyme electrode of which formation of a sensitive part does not require use of photolithography technique, an exclusive manufacturing device is dispensable, dispersion of electrode output is little, responsive speed is high, measuring accuracy is high, and the price is cheap. CONSTITUTION:The enzyme electrode is constituted of an insulating electrode supporting base plate 1, a bed electrode 2 consisting of a working electrode 21 and a reference electrode 22 membrane-likely formed on the insulating electrode supporting base plate 1, and an immobilized enzyme membrane 3 formed on the insulating electrode supporting base plate 1 containing the bed electrode 2. At least the pattern width of the lead part 21b of the won-king electrode 21 is set smaller than the pattern width of the sensitive part 21a.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】この発明は、酵素電極に関し、フォトリソグラフィー技術を使用せずに下地電極の感応部を形成し得る酵素電極に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to enzyme electrodes, relates to an enzyme electrode capable of forming a sensitive part of the base electrode without using a photolithography technique.

【0002】 [0002]

【従来の技術】図11は、従来の酵素電極を示す斜視図である。 BACKGROUND ART FIG. 11 is a perspective view showing a conventional enzyme electrodes. このプレーナ型酵素電極は、絶縁性電極支持基板1と、この絶縁性電極支持基板1上に形成された下地電極2と、この下地電極2を含む絶縁性支持基板1上に形成される絶縁性保護膜(感光性樹脂)6と、この絶縁性保護膜6上に形成される固定化酵素膜3とから成る。 The planar enzyme electrode includes an insulating electrode support substrate 1, the base electrode 2 formed on the insulating electrode support substrate 1, an insulating formed on the insulating supporting substrate 1 including the base electrode 2 a protective film (photosensitive resin) 6, consisting of the immobilized enzyme membrane 3 which is formed on the insulating protective film 6.
上記下地電極2は、リード部21bを介して一端を接続部21cとし、他端を感応部21aとする作用電極21 The base electrode 2, the working electrode 21 at one end to the connecting portion 21c via a lead portion 21b, the other end with the sensitive part 21a
と、この作用電極21に対し平行状に配備される参照電極22とから成る。 When, made from the reference electrode 22 for being deployed in parallel form to the working electrode 21. また、前記固定化酵素膜3は、図1 Further, the immobilized enzyme membrane 3, FIG. 1
2で示すように、電極2側の第一の高分子膜31と、中間層である固定化酵素層32と、表面側の第二の高分子膜33の三層で構成されている。 As shown in 2, the first polymeric film 31 of the electrode 2 side, the immobilized enzyme layer 32 is an intermediate layer, and a three-layer of the second polymer film 33 on the surface side.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】上記、従来のプレーナ型酵素電極は、絶縁性電極支持基板1と固定化酵素膜(第一の高分子膜)3との間に、絶縁性保護膜6が介在させてある。 The [0005], the conventional planar enzyme electrode, between the immobilized enzyme membrane (first polymer film) 3 and the insulating electrode support substrate 1, the insulating protective film 6 It is interposed therebetween. この絶縁性保護膜6は、電極支持基板1上に感光性樹脂を塗布し、フォトマスクをかけて露光し、 The insulating protective film 6, the photosensitive resin is applied on the electrode support substrate 1 is exposed over a photomask,
現像、リンスすることにより電極支持基板1の接続部2 Development, the connecting portion 2 electrode support substrate 1 by rinsing
1c、22c及び作用電極21の感応部21aと参照電極22の感応部22aを除いて形成される。 1c, formed by eliminating 22c and sensitive part 22a of the sensing portion 21a and the reference electrode 22 of the working electrode 21.

【0004】ところで、図10は、作用電極21の感応部21aと参照電極22の感応部22aの面積比の応答速度に対する影響を示す説明図である。 [0004] FIG. 10 is an explanatory diagram showing the effect on the response speed of the sensing portion 22a area ratio of the sensitive part 21a and the reference electrode 22 of the working electrode 21. 図示例では、作用電極の感応部21aを「1」としたときの参照電極の感応部22aの面積比を横軸にとり、応答速度を縦軸にとっている。 In the illustrated example, the horizontal axis of the area ratio of the sensitive portion 22a of the reference electrode when the sensing portion 21a of the working electrode and the "1", taking the response speed on the vertical axis. この説明図より、作用電極の感応部21a From this illustration, the working electrode sensitive part 21a
と参照電極の感応部22aの面積比が、1:1の時は応答速度が約40秒と遅く、作用電極の感応部21aの面積が「1」に対し参照電極の感応部22aの面積が「2」以上である時、応答速度が約20秒と速いことが明らかとなっている。 And the area ratio of the sensitive portion 22a of the reference electrode, 1: slow response of about 40 seconds when the 1, the area of ​​the sensitive portion 22a of the reference electrode area of ​​the sensitive portion 21a of the working electrode with respect to "1" when it is equal to or larger than "2", it has become clear that the response speed is fast and about 20 seconds. したがって、迅速な応答速度を得るためには、作用電極感応部の面積に対し参照電極感応部の面積比を「2」以上とする必要がある。 Therefore, in order to obtain a rapid response speed, the area ratio of the reference electrode sensing portion to the area of ​​the working electrode sensitive part it is required to be "2" or more. そこで、従来の酵素電極では、微細な感応部を定めるのに最適とされるフォトリソグラフィー技術を採用している。 Therefore, in the conventional enzyme electrode, it employs a photolithographic technique which is ideal for determining the fine sensing unit.

【0005】ところが、このフォトリソグラフィ技術を用いる場合は、工程が非常に煩雑で時間を要する。 [0005] However, when using this photolithographic technique, process takes a very cumbersome and time. 更に、専用の製造装置が必要となる許かりでなく、フォトリソグラフィー工程が歩留り劣化の一因をなし、コストダウンの妨げとなる。 Furthermore, rather than allowed hunting dedicated manufacturing equipment is required, a photolithography process without a cause of yield deterioration hinders cost reduction. また、従来の作用電極では、リード部と感応部との幅が同一に設定してある(単位長さ当たりのパターン幅が同一に設定してある)。 Further, in the conventional working electrode width is set to the same and the sensitive part lead part (pattern width per unit length is set to the same). 従って、仮に作用電極感応部を形成する際(感応部設定時)に僅かな差異が生じた場合、露出するリード部により電極出力に大きな影響を与えることとなる。 Therefore, if when a slight difference in occurs when forming the working electrode sensitive part (at the sensitive part set), and thus a major impact on the electrode output by lead portion exposed. また、リンスの不徹底による作用電極感応部面への各種物質付着により、電極出力の低下や電極間の特性のバラツキを増大させ、測定精度に悪影響を及ぼす等の不利があった。 Furthermore, the various substances adhered to the working electrode sensitive part surfaces due to non-thorough rinsing, increasing the variation in characteristics between reduction and the electrodes of the electrode output was a disadvantage such as an adverse effect on measurement accuracy.

【0006】この発明では、以上のような課題を解消させ、感応部の形成にフォトリソグラフィー技術を使用せず、専用の製造装置が不要であり、電極出力のバラツキが少なく、応答速度が速く、且つ測定精度の高い安価な酵素電極を提供することを目的とする。 [0006] In the present invention, to solve the above problems, without using a photolithography technique to form the sensitive part, it is not required a dedicated production equipment, with few variations in electrode output, fast response speed, and an object thereof to provide a high measurement accuracy inexpensive enzyme electrode.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段及び作用】この目的を達成させるために、この発明の酵素電極では、次のような構成としている。 Means and operation for solving the Problems] In order to achieve this object, the enzyme electrode of the present invention are configured as follows. 酵素電極は、絶縁性電極支持基板と、この絶縁性電極支持基板上に形成された作用電極及び参照電極とから成る下地電極と、この下地電極を含む絶縁性電極支持基板上に形成された固定化酵素膜とから成る酵素電極において、少なくとも作用電極のリード部パターン幅を感応部パターン幅より小さく設定したことを特徴としている。 Fixed enzyme electrode, an insulating electrode support substrate, which this and the underlying electrode comprising a working electrode and a reference electrode on an insulating electrode support substrate, is formed on an insulating electrode support substrate including the underlying electrode reduction in the enzyme electrode consisting of enzyme membrane is characterized in that set smaller than the sensitive part pattern width lead part pattern width of at least the working electrode.

【0008】このような構成を有する酵素電極では、絶縁性電極支持基板上に形成した下地電極(作用電極及び参照電極)上に、直接、固定化酵素膜を形成している。 [0008] In the enzyme electrodes having such a configuration, on the base electrode formed on an insulating electrode support substrate (working electrode and reference electrode), directly, to form an immobilized enzyme membrane.
また、少なくとも作用電極(リード部の一端に接続部、 Further, connected to one end of at least the working electrode (lead portion unit,
他端に感応部をもつ)は、リード部のパターン幅を感応部のパターン幅より極端に小さく設定している。 Other end with a sensitive part) is extremely smaller set than the pattern width of the sensitive part of the pattern width of the lead portion. 従って、作用電極感応部の形成において、感応部面積(感応部設定時における感応部対応窓孔面積)に誤差が生じたとしても、露出するリード部の面積が極めて小さく、電極出力に大きな影響を与えることが防止できる。 Thus, in the formation of the working electrode sensitive part, even an error in the sensitive part area (the sensitive part corresponding window hole area during the sensitive part setting) occurs, is extremely small area of ​​the lead portion exposed, a great impact on the electrode output giving can be prevented. これにより、従来のように感応部の形成に時間がかかり作業が煩瑣で、専用の装置を必要とするフォトリソグラフィー技術を使用する必要がない。 Thus, the work takes a long time to form the sensitive part as in the prior art cumbersome and does not require the use of photolithographic techniques requiring special equipment. 従って、作用電極感応部面への各種物質の付着がない。 Therefore, there is no adhesion of various materials to the working electrode sensitive part surfaces. また、作用電極の感応部の面積に対し、参照電極の感応部の面積比率を予め2倍以上にパターニングしておくことで、極めて迅速な応答速度を得ることができる。 Further, with respect to the area of ​​the sensitive portion of the working electrode, the area ratio of the sensitive portion of the reference electrode by leaving patterned beforehand more than doubled, it is possible to obtain a very rapid response speed.

【0009】 [0009]

【実施例】図1は、この発明に係る酵素電極の具体的な一実施例を示す斜視図である。 DETAILED DESCRIPTION FIG. 1 is a perspective view showing a specific example of an enzyme electrode according to the present invention.

【0010】実施例の酵素電極は、血液中のグルコース濃度測定用のもので、絶縁性電極支持基板1と、この電極支持基板1上に形成された下地電極2と、絶縁性支持基板1上に対し、下地電極2の接続部を除いて直接一体に被覆形成された固定化酵素膜3とから成る。 [0010] Enzyme electrode embodiment is intended for measuring the glucose concentration in the blood, an insulating electrode support substrate 1, the base electrode 2 formed on the electrode support substrate 1, an insulating support substrate 1 to consist of the immobilized enzyme membrane 3 which is covered formed directly integrally with the exception of the connection portion of the base electrode 2. この酵素電極は、下地電極2の感応部21a、22aを露出させる窓孔5を備えた、且つ接続部21c、22cを露出させる長さの保持部材4に収納される。 The enzyme electrode is sensitive part 21a of the base electrode 2, with a window hole 5 for exposing the 22a, and connecting portion 21c, is accommodated in the holding member 4 in length to expose the 22c.

【0011】図3乃至図5は、実施例酵素電極の製造工程を示す説明図である。 [0011] FIGS. 3 to 5 are explanatory views showing a manufacturing process of Example enzyme electrode. 絶縁性電極支持基板1は、例えば50×50mm、厚さ100μのポリイミドフィルムが用いられる。 Insulating electrode support substrate 1, for example, 50 × 50 mm, a polyimide film having a thickness of 100μ is used. このプラスチックフィルム等の絶縁性電極支持基板1上に、作用電極21と参照電極22が形成され、作用電極21と参照電極22とで一対の下地電極2が構成され、この下地電極2が多数絶縁性支持基板1 On an insulating electrode support substrate 1 of the plastic film, are formed the reference electrode 22 and working electrode 21, a pair of base electrode 2 is composed of a reference electrode 22 and working electrode 21, the base electrode 2 are many insulation sex supporting substrate 1
上に形成される。 It is formed on the top. この下地電極2は、スパッタリング、 The base electrode 2, sputtering,
真空蒸着、イオンプレーティング等の手段を用いて、白金を帯状に膜形成する。 Vacuum deposition, using a means such as ion plating, forming a film of platinum on the strip. 実施例では、下地電極2は2m In an embodiment, the base electrode 2 is 2m
m×20mm、厚さ1500Åの膜形成が行われている。 m × 20 mm, film thickness of 1500Å is being performed. この下地電極2の電極材料としては、白金に限定されず、且つ形成手段もメッキや箔の粘着等で実施ても良い。 As the electrode material of the base electrode 2 is not limited to platinum, and forming means may also be implemented in the adhesive or the like of the plating or foil. 更に、電極支持基板1上には、接続部21c、22 Further, on the electrode support substrate 1, the connecting portions 21c, 22
cを除いて酵素膜3が形成される。 Enzyme membrane 3 is formed except or c. この酵素膜3は、図5で示すように、電極2側の第一の高分子膜31と、中間層である固定化酵素層32と、表面側の第二の高分子膜33を積層した三層構造とされる。 The enzyme membrane 3, as shown in Figure 5, a first polymeric film 31 of the electrode 2 side, the immobilized enzyme layer 32 is an intermediate layer, it was laminated second polymer film 33 on the surface side It is a three-layer structure. 実施例では、第一の高分子膜31及び第二の高分子膜33は、ナフィオンを採用している。 In an embodiment, the first polymer layer 31 and the second polymer film 33 is adopted Nafion. ナフィオン(Nafion)は、アメリカ・デュポン車の商品名で、陽イオン交換性の高分子、Polyperfluorosulfuric a Nafion (Nafion) is, under the trade name of the United States, DuPont car, cation exchange of the polymer, Polyperfluorosulfuric a
cidである。 It is a cid. このナフィオンは、5%溶液(溶媒は低級アルコール)が市販されており、膜形成が容易である。 The Nafion 5% solution (solvent is a lower alcohol) are commercially available, film forming is easy. 本実施例では、ディップコーティングにより膜形成している。 In this embodiment, it is film formed by dip coating. この際、図4のように、電極支持基板1を半分に切断してディップコーテティングする。 At this time, as shown in FIG. 4, the coating dip Cote by cutting the electrode support substrate 1 in half. また、酵素膜32は酵素液よりディップコーティングして膜形成される。 Further, the enzyme layer 32 is formed layer by dip coating from an enzyme solution. 酵素液は、0.1モルのリン酸緩衝液(pH7. Enzyme solution, 0.1 mol of phosphoric acid buffer solution (pH 7.
0)に、酵素グルコースオキシダーゼ(GOD)10 To 0), the enzyme glucose oxidase (GOD) 10
%、牛血清アルブミン7.5%及びグルタルアルデヒド0.5%の濃度になるように調整して実施される。 %, Adjusted to be implemented to a concentration of 7.5% bovine serum albumin and 0.5% glutaraldehyde. 酵素膜3装着後、一個の酵素電極に切り取って使用する(図1参照)。 After enzyme membrane 3 attached, for use in cut into one of the enzyme electrode (see FIG. 1).

【0012】図6乃至図9は、作用電極21と参照電極22のパターン例を示している。 [0012] Figure 6 to 9 show an example pattern of the reference electrode 22 and working electrode 21. 図6に示す電極パターン例では、図1と同様に、作用電極21及び参照電極2 The electrode pattern example shown in FIG. 6, similarly to FIG. 1, the working electrode 21 and reference electrode 2
2が共に、一本の細いリード部(リード線状)21b、 2 are both thin lead portion of one (like lead wire) 21b,
22bを介して、それぞれ感応部21a、22aと接続部21c、22cを導通させている。 Through 22b, respectively sensitive part 21a, 22a and the connecting portion 21c, to conduct 22c. そして、参照電極22の感応部22a面積を、作用電極21の感応部21 Then, the sensitive part 22a area of ​​the reference electrode 22, sensitive part 21 of the working electrode 21
a面積の2倍に設定してある。 It is set to 2 times that of a area. 図7に示す電極パターン例は、作用電極21のリード部21bを一本のリード線状とし、感応部21aと接続部21cを導通させ、参照電極22については、感応部22aとリード22b、リード部22bと接続部22cの境においてパターン幅の変化がない例を示している。 Electrode pattern example shown in Figure 7, the lead portion 21b of the working electrode 21 and one of the lead-shaped, is made conductive connection portion 21c and the sensing portion 21a, the reference electrode 22, sensing portion 22a and the lead 22b, the lead It shows an example there is no change in the pattern width at the boundary parts 22b and the connecting portion 22c. 参照電極22の場合は、リード部22bと感応部22aとのパターン幅に差異がなくとも殆ど精度に影響を与えないため、これで充分であることによる。 For the reference electrode 22, since that does not affect the most accuracy without the difference in pattern width of the lead portion 22b and the sensing portion 22a, due to this in sufficient. また、図8に示す電極パターン例では、 Further, the electrode pattern example shown in FIG. 8,
作用電極21のリード部21bを感応部21aに接続する部分を幅狭に設定し、感応部21aと接続部21cとを導通している。 Set the portions connecting lead portion 21b of the working electrode 21 to the sensitive part 21a narrower, it is conducting and a connecting portion 21c and the sensing portion 21a. 参照電極については、感応部22aとリード部22b、リード部22bと接続部22cの境においてパターン幅の変化のない例を示している。 For the reference electrode, the sensitive portion 22a and the lead portion 22b, shows an example with no change in the pattern width at the boundary of the lead portion 22b and the connecting portion 22c. 更に、 In addition,
図9の電極パターン例は、作用電極21については、二本の細いリード部(リード線状)21b、21bで感応部21aと接続部21cを導通させ、参照電極については感応部22aとリード部22b、リード部22bと接続部22cとの境においてパターン幅の変化のない例を示している。 Electrode pattern example of Figure 9, the working electrode 21, a thin lead portions of the two (like lead wire) 21b, a connection portion 21c is electrically connected to the sensing portion 21a at 21b, the reference electrode sensing portion 22a and a lead portion 22b, it shows an example with no change in the pattern width at the boundary between the connecting portion 22c and the lead portion 22b. 図7乃至図9の例は、いずれも参照電極2 7 to the example of FIG. 9, the reference neither electrode 2
2の感応部22aが、作用電極21の感応部21aの面積の二倍以上となるように設定してある。 2 of the sensitive portion 22a, is set so that two or more times the area of ​​the sensitive portion 21a of the working electrode 21.

【0013】この酵素電極は、図1及び図2で示すように、各感応部21a、22aが露出した状態で保持部材4に封入される。 [0013] The enzyme electrode, as shown in FIGS. 1 and 2, the sensitive part 21a, 22a is enclosed in the holding member 4 in a state of being exposed.

【0014】このような構成を有する酵素電極では、絶縁性電極支持基板1上に形成した下地電極(作用電極2 [0014] In the enzyme electrodes having such a configuration, the base electrode (working electrode 2 formed on the insulating electrode support substrate 1
1及び参照電極22)2上に、直接、固定化酵素膜3を形成している。 On 1 and the reference electrode 22) 2, directly, to form an immobilized enzyme membrane 3. 従って、作用電極の感応部21a面と酵素層3がより密着し迅速な応答速度が得られる。 Thus, the sensitive portions 21a face and the enzyme layer 3 is more coherent rapid response speed of the working electrode is obtained. また、 Also,
少なくとも作用電極21は、リード部21bのパターン幅を感応部21aのパターン幅より極端に小さく設定している。 At least the working electrode 21 is extremely small set than the pattern width of the sensitive part 21a of the pattern width of the lead portion 21b. 従って、作用電極感応部21aの形成において、感応部21aに対応する開口部面積(保持部材4の開口窓孔5面積)に誤差が生じたとしても、露出するリード部21bの面積が極めて小さく、電極出力に大きな影響を与えることを防止できる。 Thus, in the formation of the working electrode sensitive part 21a, even an error occurs in the opening area (the opening window hole 5 area of ​​the holding member 4) corresponding to the sensitive part 21a, is extremely small area of ​​the lead portion 21b exposed, It can be prevented from greatly influencing the electrode output. これにより、従来のように感応部21aの形成に時間がかかり作業が煩瑣で、 Thus, it takes time to form a conventional manner sensitive part 21a work a cumbersome,
専用の装置を必要とするフォトリソグラフィー技術を使用する必要がない。 It is not necessary to use the photolithographic technique which requires special equipment. 従って、作用電極感応部21a面への各種物質の付着がない。 Therefore, there is no adhesion of various materials to the working electrode sensitive part 21a side. また、作用電極21の感応部21aの面積に対し、参照電極22の感応部22aの面積比率を予め2倍以上にパターニングしておくことで、 Further, since the relative area of ​​the sensitive portion 21a of the working electrode 21 in advance by patterning the area ratio of the sensitive portion 22a of the reference electrode 22 in advance more than doubled,
極めて迅速な応答速度を得ることができる。 It is possible to obtain a very fast response speed.

【0015】 [0015]

【発明の効果】この発明では、以上のように、絶縁性電極支持基板上に形成される膜状の下地電極の少なくとも作用電極のリード部幅を感応部の幅よりも小さく設定し、この下地電極の上面に接続部を除いて直接固定化酵素膜を形成することとしたから、フォトリソグラフィー工程が省略でき、製造時間の短縮は勿論、専用の製造装置が不要であり、大幅なコストダウンを実現できる。 [Effect of the Invention] In this invention, as described above, it is set to be smaller than the width of the sensitive part of the lead portion width of at least the working electrode of the film-like base electrode formed on an insulating electrode support substrate, the base since it was decided to form a direct immobilized enzyme film except the connection portion to the upper surface of the electrode, photolithography process can be omitted, of course, shorten the manufacturing time, it does not require a dedicated production equipment, a substantial cost reduction realizable. また、作用電極感応部面への各種物質の付着がなく、電極出力の低下や電極間の特性のバラツキがなくなり、測定精度を向上させ得る。 Further, there is no adhesion of various materials to the working electrode sensitive part surfaces, there is no variation in characteristics between reduction and the electrodes of the electrode output, can improve the measurement accuracy. 更に、作用電極感応部面と酵素層がより密着するため、迅速な応答速度が得られる。 Furthermore, since the working electrode sensitive part surfaces and the enzyme layer is closer contact, rapid response speed. また、作用電極のリード部幅は感応部幅に比較して小さいため、仮に保持部材の開口部にリード部が露出しても、 Further, since the lead portion width of the working electrode is small compared to the sensitive part width, even if exposed lead portion if the opening of the holding member,
電極出力に対するリード部の与える影響は非常に小さく無視できる。 Impact of the lead portion with respect to the electrode output is negligible very small. しかも、作用電極の感応部の面積に対し参照電極の面積比率を二倍以上としたから、極めて迅速な応答速度を得られる許かりでなく、この面積比を得るために複数の参照電極を採用しても良く、適用範囲の広い測定系が設定できる等、発明目的を達成した優れた効果を有する。 Moreover, adoption because was more than double the area ratio of the reference electrode with respect to the area of ​​the sensitive portion of the working electrode, not allowed hunting obtained a very rapid response speed, a plurality of reference electrodes in order to obtain the area ratio may be, it has an excellent effect that a wide measuring system of coverage and the like that can be set to achieve the invention objects.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】実施例酵素電極を示す斜視図である。 1 is a perspective view showing an example enzyme electrode.

【図2】実施例酵素電極を示す断面図である。 2 is a sectional view showing an example enzyme electrode.

【図3】実施例酵素電極の製造工程を示す説明図である。 3 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of Example enzyme electrode.

【図4】実施例酵素電極の製造工程を示す説明図である。 4 is an explanatory view showing a manufacturing step of Example enzyme electrode.

【図5】実施例酵素電極の製造工程を示す断面図である。 5 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of Example enzyme electrode.

【図6】実施例酵素電極の下地電極のパターン例を示す説明図である。 6 is an explanatory view showing a pattern example of the base electrode of Example enzyme electrode.

【図7】実施例酵素電極の下地電極の他のパターン例を示す説明図である。 7 is an explanatory view showing another pattern example of the base electrode of Example enzyme electrode.

【図8】実施例酵素電極の下地電極の更に他のパターン例を示す説明図である。 8 is an explanatory diagram showing still another pattern example of the base electrode of Example enzyme electrode.

【図9】実施例酵素電極の下地電極のパターン例を示す説明図である。 9 is an explanatory view showing a pattern example of the base electrode of Example enzyme electrode.

【図10】感応部の面積比による応答速度に対する影響を示す説明図である。 10 is an explanatory view showing the effect on the response speed due to the area ratio of the sensitive part.

【図11】従来の酵素電極を示す斜視図である。 11 is a perspective view showing a conventional enzyme electrodes.

【図12】従来の酵素電極を示す断面図である。 12 is a sectional view showing a conventional enzyme electrodes.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 絶縁性電極支持基板 2 下地電極 3 固定化酵素膜 21 作用電極 21 a感応部 21 bリード部 1 insulating electrode support substrate 2 base electrode 3 immobilized enzyme membrane 21 working electrode 21 a sensitive part 21 b leads

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 英樹 京都市下京区中堂寺南町17番地 サイエン スセンタービル 株式会社オムロンライフ サイエンス研究所内 (72)発明者 滝沢 耕一 京都市下京区中堂寺南町17番地 サイエン スセンタービル 株式会社オムロンライフ サイエンス研究所内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Hideki Endo Kyoto Shimogyo-ku Chudojiminami-cho, 17 address science Center Co., Ltd. Omron Life Science in the Institute (72) inventor Koichi Takizawa Kyoto Shimogyo-ku Chudojiminami-cho, 17 address Scientific scan Center Building Co., Ltd. Omron Life Science in the Institute

Claims (1)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】絶縁性電極支持基板と、この絶縁性電極支持基板上に膜状に形成された作用電極及び参照電極とから成る下地電極と、この下地電極を含む絶縁性電極支持基板上に形成された固定化酵素膜とから成る酵素電極において、 少なくとも作用電極のリード部パターン幅を感応部パターン幅より小さく設定したことを特徴とする酵素電極。 And 1. A insulating electrode support substrate, a lower electrode composed of the insulating electrode on a support substrate formed into a film shape the working electrode and the reference electrode, an insulating electrode support substrate including the underlying electrode in the enzyme electrode consisting of the formed immobilized enzyme membrane, an enzyme electrode, characterized in that the smaller than the sensitive part pattern width lead part pattern width of at least the working electrode.
JP3238177A 1991-09-18 1991-09-18 Enzyme electrode Granted JPH0572172A (en)

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