JPH0566411B2 - - Google Patents
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、プラスチツクフイルムへの細孔の形
成方法に関し、さらに詳しくは、孔径を小さくコ
ントロールすることができるとともに孔の配置を
もコントロールすることができるようなプラスチ
ツクフイルムへの細孔の形成方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to a method for forming pores in a plastic film. The present invention relates to a method for forming pores in a plastic film.
発明の技術的背景ならびにその問題点
プラスチツクフイルムに通気性を付与したり、
あるいはプラスチツクフイルムを通過する気体に
方向性を付与したりすることが、求められる場合
がある。たとえば農作業用手袋、台所用手袋、サ
ポータ、指サツク、通気性粘着テープなどを形成
するプラスチツクフイルムは、通気性を有するこ
とが望まれている。Technical background of the invention and its problems Adding breathability to plastic film,
Alternatively, it may be required to impart directionality to the gas passing through the plastic film. For example, plastic films used to form agricultural gloves, kitchen gloves, supports, finger pads, breathable adhesive tapes, etc. are desired to have breathability.
プラスチツクフイルムに通気性を付与するため
には、プラスチツクフイルムに細孔の多数形成す
ればよいことが知られており、プラスチツクフイ
ルムに細孔を形成するための方法も従来多数提案
されている。たとえばプラスチツクフイルム中に
充填剤を配合して延伸成形する方法、あるいはプ
ラスチツクフイルムに針付きロールなどを用いて
機械的に穿孔する方法、プラスチツクフイルムに
レーザーを照射する方法、プラスチツクフイルム
に直接コロナ放電処理を施す方法などが知られて
いる。ところがプラスチツクフイルム中に充填剤
を配合して延伸成形する方法は、充填剤の種類に
よつてあるいは充填剤条件によつて形成される孔
の大きさにバラツキが生じたり、また充填剤の配
合工程が必要になるため製造工程に手間がかかる
という問題点があつた。またプラスチツクフイル
ムに機械的に穿孔する方法あるいはレーザーを照
射する方法では、やはり形成される孔の大きさあ
るいは形状を正確にコントロールすることはでき
ず、しかも装置自体も高価でありかつ生産性が悪
いという問題点があつた。さらにプラスチツクフ
イルムに直接コロナ放電処理を施す方法では、形
成される孔の大きさあるいは形状を正確にコント
ロールすることができないという問題点があつ
た。また上記の方法では、小さくかつ揃つた孔径
を有する細孔を形成することは特に困難であつ
た。 It is known that in order to impart air permeability to a plastic film, it is sufficient to form a large number of pores in the plastic film, and many methods for forming pores in the plastic film have been proposed. For example, a method of blending a filler into a plastic film and stretching it, a method of mechanically perforating the plastic film using a roll with needles, a method of irradiating the plastic film with a laser, a method of directly corona discharge treatment of the plastic film, etc. There are known methods to do this. However, in the method of blending a filler into a plastic film and stretching it, the size of the pores formed varies depending on the type of filler or filler conditions, and the process of blending the filler may vary. There was a problem in that the manufacturing process was time-consuming because it required Furthermore, with the method of mechanically perforating plastic film or the method of irradiating it with laser, it is not possible to accurately control the size or shape of the holes formed, and the equipment itself is expensive and has poor productivity. There was a problem. Furthermore, the method of directly subjecting a plastic film to a corona discharge treatment has the problem that the size or shape of the pores formed cannot be accurately controlled. Further, with the above method, it is particularly difficult to form pores having small and uniform pore diameters.
本発明者らは、上記のような問題点を解決する
ため鋭意研究したところ、プラスチツクフイルム
に特定の処理を加えた後に放電処理を施し、次い
で該プラスチツクフイルムを加熱収縮させれば、
形成される孔の形状あるいは配置状態を正確にコ
ントロールしうるとともに、非常に孔径が小さく
しかも大きさの揃つた孔を形成しうることを見出
して、本発明を完成するに至つた。 The inventors of the present invention have conducted extensive research to solve the above-mentioned problems, and have found that if a plastic film is subjected to a specific treatment, then subjected to an electric discharge treatment, and then the plastic film is heated and shrunk,
The present invention was completed by discovering that it is possible to precisely control the shape or arrangement of the holes to be formed, and also to form holes with extremely small diameters and uniform sizes.
発明の目的
本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題
点を一挙に解決しようとするものであつて、プラ
スチツクフイルムに形成される孔の大きさ、形状
あるいはその配置状態を正確にコントロールする
ことができるとともに非常に孔径の小さい細孔を
形成でき、しかも生産性に優れているとともに高
価な装置を必要としないような、プラスチツクフ
イルムへの細孔の形成方法を提供することを目的
としている。Purpose of the Invention The present invention aims to solve all of the problems associated with the prior art as described above, and aims to accurately control the size, shape, and arrangement of holes formed in a plastic film. The purpose of the present invention is to provide a method for forming pores in plastic film that can be controlled and form pores with extremely small diameters, has excellent productivity, and does not require expensive equipment. It is said that
発明の概要
本発明に係るプラスチツクフイルムへの細孔の
形成方法は、プラスチツクフイルムを弾性限度以
上に延伸した後、このプラスチツクフイルムにエ
ンボス加工を加えてエンボスされた部分のフイル
ム厚をエンボスされていない部分のフイルム厚の
1/2〜1/5とし、次いで、このプラスチツクフイル
ムに放電処理を施してプラスチツクフイルムのエ
ンボスされていない部分に細孔を形成した後、プ
ラスチツクフイルムを加熱処理して収縮させるこ
とを特徴としている。Summary of the Invention The method of forming pores in a plastic film according to the present invention involves stretching a plastic film beyond its elastic limit and then applying embossing to the plastic film to reduce the thickness of the embossed portion of the film. The thickness of the plastic film is set to 1/2 to 1/5 of the film thickness of the part, and then the plastic film is subjected to electrical discharge treatment to form pores in the non-embossed parts of the plastic film, and then the plastic film is heated and shrunk. It is characterized by
本発明に係るプラスチツクフイルムへの細孔の
形成方法によれば、プラスチツクフイルムを弾性
限度以上に延伸した後、このプラスチツクフイル
ムにエンボス加工を加えてエンボスされた部分の
フイルム厚をエンボスされていない部分のフイル
ム厚の1/2〜1/5とした後、プラスチツクフイルム
に放電処理を施して細孔を形成し、次いでこのプ
ラスチツクフイルムを加熱処理して収縮させてい
るので、形成される細孔の形状あるいはその配置
状態を正確にコントロールすることができるとと
もに非常に孔径の小さい細孔を形成でき、しかも
生産性に優れているとともに高価な装置を必要と
しない。 According to the method of forming pores in a plastic film according to the present invention, after the plastic film is stretched beyond its elastic limit, the plastic film is embossed, and the thickness of the embossed part is reduced to the thickness of the non-embossed part. After reducing the film thickness to 1/2 to 1/5 of the film thickness, the plastic film is subjected to electrical discharge treatment to form pores, and then the plastic film is heated to shrink, so that the pores formed are It is possible to precisely control the shape and arrangement of the pores, form pores with very small diameters, have excellent productivity, and do not require expensive equipment.
発明の具体的説明
以下本発明に係るプラスチツクフイルムへの細
孔の形成方法について具体的に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The method for forming pores in a plastic film according to the present invention will be specifically described below.
プラスチツクフイルム
本発明に係るプロセスによつて細孔が形成され
るプラスチツクフイルムとしては、具体的には、
ポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフイル
ム、ポリ塩化ビニルフイルム、ポリスチレンフイ
ルム、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポ
リカーボネートフイルム、ポリイミドフイルム、
ナイロン系フイルム、ポリ塩化ビニリデンフイル
ム、ポリビニルアルコールフイルムなどの従来プ
ラスチツクフイルムとして知られているものが広
く用いられる。Plastic Film Specifically, the plastic film in which pores are formed by the process according to the present invention includes:
Polyethylene film, polypropylene film, polyvinyl chloride film, polystyrene film, polyethylene terephthalate film, polycarbonate film, polyimide film,
Conventionally known plastic films such as nylon film, polyvinylidene chloride film, and polyvinyl alcohol film are widely used.
このようなプラスチツクフイルムは、その膜厚
が10〜100μm好ましくは20〜60μm程度であるこ
とが望ましい。 It is desirable that such a plastic film has a thickness of about 10 to 100 .mu.m, preferably about 20 to 60 .mu.m.
延伸処理
上記のようなプラスチツクフイルムには、ま
ず、弾性限度以上の延伸処理が加えられる。プラ
スチツクフイルムの延伸処理は、従来公知の装置
および条件下で二軸方向あるいは一軸方向に行な
われるが、その延伸倍率は2倍以上好ましくは3
〜8倍であることが好ましい。Stretching Treatment The plastic film described above is first subjected to a stretching treatment beyond its elastic limit. The plastic film is stretched biaxially or uniaxially under conventionally known equipment and conditions, and the stretching ratio is at least 2 times, preferably 3 times.
It is preferable that it is ~8 times.
また延伸時の温度は、プラスチツクフイルムの
融点以下であることが好ましく、ポリエチレンフ
イルムの場合には115〜127℃好ましくは120〜125
℃程度の低温であることが望ましい。 The temperature during stretching is preferably below the melting point of plastic film, and in the case of polyethylene film, it is preferably 115 to 127 degrees Celsius, preferably 120 to 125 degrees Celsius.
It is desirable that the temperature be as low as ℃.
エンボス加工
上記のようにして延伸処理がなされたプラスチ
ツクフイルムには、エンボス加工が加えられる。
プラスチツクフイルムにエンボス加工を加える
と、このプラスチツクフイルムにはエンボスされ
た部分(以下エンボス部ということがある)とエ
ンボスされていない部分(以下非エンボス部とい
うことがある)とが形成される。Embossing The plastic film that has been stretched as described above is then subjected to embossing.
When embossing is applied to a plastic film, an embossed portion (hereinafter sometimes referred to as an embossed portion) and a non-embossed portion (hereinafter sometimes referred to as a non-embossed portion) are formed on the plastic film.
プラスチツクフイルムのエンボス部は、非エン
ボス部と比較してその部分の厚みは薄くなる。プ
ラスチツクフイルムの非エンボス部の厚みをtと
すると、エンボス部の厚みは1/2〜1/5t好ましく
は1/3〜1/5tとなることが望ましい。 The embossed portions of the plastic film are thinner than the non-embossed portions. Assuming that the thickness of the non-embossed part of the plastic film is t, the thickness of the embossed part is preferably 1/2 to 1/5t, preferably 1/3 to 1/5t.
プラスチツクフイルムにエンボス加工を加える
には、従来公知の方法を広く採用することができ
る。たとえばプラスチツクフイルムを、加熱しな
がら一対の型押ロールとゴムロールとの間に通過
させ、型押ロールの凸部形状に対応したエンボス
部をプラスチツクフイルムに形成すればよい。 A wide variety of conventionally known methods can be used to emboss a plastic film. For example, a plastic film may be passed between a pair of embossing rolls and a rubber roll while being heated, and embossed portions corresponding to the shape of the convex portions of the embossing rolls may be formed on the plastic film.
後述するように、プラスチツクフイルムのエン
ボス部にコロナ放電処理により細孔が形成され
る。したがつてプラスチツクフイルムにどのよう
な形状および密度でエンボス部を形成するかによ
つて、プラスチツクフイルムに形成される細孔の
密度をコントロールすることができる。またプラ
スチツクエンボス加工する際に、エンボス部に方
向性を与えれば、後に形成される細孔にも方向性
が与えられ、この細孔を通過する気体にも方向性
が与えられる。 As will be described later, pores are formed in the embossed portions of the plastic film by corona discharge treatment. Therefore, the density of the pores formed in the plastic film can be controlled by determining the shape and density of the embossed portions formed in the plastic film. Furthermore, when plastic is embossed, if the embossed portion is given directionality, the pores that will be formed later will also be given directionality, and the gas passing through these pores will also be given directionality.
放電処理
上記のようにしてプラスチツクフイルムにエン
ボス加工を加えて、プラスチツクフイルムにエン
ボス部と非エンボス部とを形成した後、このプラ
スチツクフイルムに放電処理を施してエンボス部
に選択的に細孔を形成する。この際非エンボス部
には細孔は形成されない。Discharge treatment After adding embossing to the plastic film as described above to form embossed areas and non-embossed areas, the plastic film is subjected to electric discharge treatment to selectively form pores in the embossed areas. do. At this time, no pores are formed in the non-embossed portions.
放電処理は、従来公知の装置を用いて行なわれ
るが、放電の条件は、プラスチツクフイルムのエ
ンボス部には細孔が形成され、非エンボス部には
細孔が形成されないような条件が採用される。た
とえば膜厚30μmのポリエチレンに延伸処理をし
た後エンボス加工を加えてエンボス部の膜厚が
10μmであり非エンボス部の膜厚が20μmである
ような場合には、電極間の距離を1mmとし、約
7KVの電圧をかけて放電処理を施せばよい。 The discharge treatment is carried out using a conventionally known device, and the discharge conditions are such that pores are formed in the embossed portions of the plastic film and no pores are formed in the non-embossed portions. . For example, after stretching polyethylene with a film thickness of 30 μm, embossing is added to increase the film thickness at the embossed part.
If the thickness of the film is 10 μm and the thickness of the non-embossed part is 20 μm, the distance between the electrodes is 1 mm, and approximately
All you have to do is apply a voltage of 7KV and perform discharge treatment.
放電処理に際して、電極としては、たとえば、
銅線を複数本束ねたものをプラス極として用い、
またマイナス極としては平面状のものを用い、プ
ラス極のそれぞれの銅線から放電を発生させるこ
とができる。具体的には直径0.21mmに銅線をプラ
ス極とし、平板状の銅板をマイナス極として放電
処理をプラスチツクフイルムに施すと、プラスチ
ツクフイルムのエンボス部には約0.12〜0.17mmの
細孔が形成される。 For example, as an electrode during discharge treatment,
Using a bundle of multiple copper wires as the positive electrode,
Further, by using a flat negative electrode, discharge can be generated from each copper wire of the positive electrode. Specifically, when a plastic film with a diameter of 0.21 mm is subjected to electrical discharge treatment using a copper wire as the positive pole and a flat copper plate as the negative pole, pores of approximately 0.12 to 0.17 mm are formed in the embossed part of the plastic film. Ru.
加熱収縮処理
上記のようにして放電処理が加えられて、エン
ボス部に細孔が形成されたプラスチツクフイルム
は、次いで加熱ロールと接触せしめられたり、加
熱室を通過せしめられるなどして加熱されて収縮
される。この加熱は、プラスチツクフイルムの融
点以下の温度で行なわれ、ポリエチレンなどのポ
リオレフインフイルムの場合には、115〜120℃程
度であることが好ましい。Heat shrinkage treatment The plastic film that has been subjected to the discharge treatment as described above and has pores formed in the embossed portions is then brought into contact with a heating roll or passed through a heating chamber to be heated and shrink. be done. This heating is carried out at a temperature below the melting point of the plastic film, and in the case of polyolefin films such as polyethylene, it is preferably about 115 to 120°C.
プラスチツクフイルムは、すでに延伸処理が加
えられているので、加熱されるとかなり収縮し
て、放電によつて形成された細孔の大きさは小さ
くなり、微細でしかも孔径の揃つた細孔が形成さ
れる。たとえば加熱前の孔径が0.12〜0.17mmであ
る場合には、加熱収縮処理によつて0.08〜0.1mm
程度となる。 Plastic film has already undergone a stretching process, so it shrinks considerably when heated, and the pores formed by the discharge become smaller, forming fine pores with uniform diameters. be done. For example, if the pore diameter before heating is 0.12 to 0.17 mm, it will be reduced to 0.08 to 0.1 mm by heat shrinkage treatment.
It will be about.
本発明に係るプラスチツクフイルムへの細孔の
形成方法は、各工程を別々に行なつてもよいが、
一連のプロセスを連続的に行なつてもよい。 In the method for forming pores in a plastic film according to the present invention, each step may be performed separately, but
A series of processes may be performed continuously.
発明の効果
本発明に係るプラスチツクフイルムへの細孔の
形成方法によれば、プラスチツクフイルムを弾性
限度以上に延伸した後、このプラスチツクフイル
ムにエンボス加工を加えてエンボスされた部分の
フイルム厚をエンボスされていない部分のフイル
ム厚の1/2〜1/5とした後、プラスチツクフイルム
に放電処理を施して細孔を形成し、次いでこのプ
ラスチツクフイルムを加熱処理して収縮させてい
るので、形成される細孔の形状あるいはその配置
状態を正確にコントロールするとができるととも
に非常に孔径の小さい細孔を形成でき、しかも生
産性に優れているとともに高価な装置を必要とし
ない。Effects of the Invention According to the method for forming pores in a plastic film according to the present invention, after the plastic film is stretched beyond its elastic limit, the plastic film is embossed to reduce the thickness of the embossed portion. After reducing the thickness of the film to 1/2 to 1/5 of the unfilled part, the plastic film is subjected to electrical discharge treatment to form pores, and then the plastic film is heat-treated to shrink. The shape of the pores or their arrangement can be precisely controlled, pores with a very small diameter can be formed, and the productivity is excellent and expensive equipment is not required.
以下本発明を実施例により説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
実施例 1
膜厚50μmのポリエチレンフイルムを延伸倍率
3に1軸延伸した後、このポリエチレンフイルム
にエンボス加工を加えて、エンボス部の膜厚が
10μmであり、非エンボス部の膜厚が20μmとな
るようにした。Example 1 After uniaxially stretching a polyethylene film with a film thickness of 50 μm to a stretching ratio of 3, embossing was added to the polyethylene film to increase the film thickness at the embossed part.
The thickness of the film was 10 μm, and the film thickness of the non-embossed portion was 20 μm.
次にエンボス加工が加えられたプラスチツクフ
イルムに放電処理を施した。放電処理は、プラス
極として直径0.21mmの銅線を複数本用い、マイナ
ス極として平板状の銅板を用いて、両電極間距離
を1mmとして約7KVの電圧をかけることによつ
て行なつた。 Next, the embossed plastic film was subjected to electrical discharge treatment. The discharge treatment was carried out by using a plurality of copper wires with a diameter of 0.21 mm as the positive electrode and a flat copper plate as the negative electrode, and applying a voltage of about 7 KV with the distance between the two electrodes being 1 mm.
プラスチツクフイルムの非エンボス部には細孔
は形成されなかつたが、エンボス部には直径約
0.12〜0.17mmの細孔が複数個形成されていた。 No pores were formed in the non-embossed part of the plastic film, but there were pores in the embossed part with a diameter of approx.
Multiple pores of 0.12 to 0.17 mm were formed.
次に放電処理が加えられたプラスチツクフイル
ムを115℃に加熱して収縮させたところ、細孔の
直径は約0.08mmとなつた。 When the plastic film that had been subjected to the electrical discharge treatment was then heated to 115°C to shrink, the pores had a diameter of approximately 0.08 mm.
Claims (1)
した後、このプラスチツクフイルムにエンボス加
工を加えてエンボスされた部分のフイルム厚をエ
ンボスされていない部分のフイルム厚の1/2〜1/5
とし、次いでこのプラスチツクフイルムに放電処
理を施してプラスチツクフイルムのエンボスされ
た部分に細孔を形成した後、プラスチツクフイル
ムを加熱処理して収縮させることを特徴とするプ
ラスチツクフイルムへの細孔の形成方法。 2 プラスチツクフイルムが、ポリエチレンフイ
ルムまたはポリプロピレンフイルムである特許請
求の範囲第1項に記載の方法。[Scope of Claims] 1. After stretching the plastic film beyond its elastic limit, the plastic film is embossed, and the thickness of the embossed part is 1/2 to 1/2 of the thickness of the non-embossed part. Five
A method for forming pores in a plastic film, which comprises: applying electrical discharge treatment to the plastic film to form pores in the embossed portions of the plastic film, and then heating the plastic film to shrink it. . 2. The method according to claim 1, wherein the plastic film is a polyethylene film or a polypropylene film.
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