JPH0565691A - Method for electroplating aluminum sheet and aluminum alloy sheet - Google Patents
Method for electroplating aluminum sheet and aluminum alloy sheetInfo
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- JPH0565691A JPH0565691A JP25838291A JP25838291A JPH0565691A JP H0565691 A JPH0565691 A JP H0565691A JP 25838291 A JP25838291 A JP 25838291A JP 25838291 A JP25838291 A JP 25838291A JP H0565691 A JPH0565691 A JP H0565691A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、アルミニウム板およ
びアルミニウム合金板上への電気めっき方法、特に、密
着性に優れためっき被膜を得ることができる、アルミニ
ウム板およびアルミニウム合金板上への電気めっき方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for electroplating on an aluminum plate and an aluminum alloy plate, and more particularly, an electroplating on an aluminum plate and an aluminum alloy plate, which can obtain a plating film having excellent adhesion. It is about the method.
【0002】[0002]
【従来の技術】冷延鋼板および表面処理鋼板は、自動車
および家電用として広く使用されている。しかし、近
年、比重が鉄と比べて1/3 と大幅に小さいアルミニウム
およびアルミニウム合金板の使用が、軽量化および耐食
性の向上を図る目的で検討されている。しかし、アルミ
ニウム板およびアルミニウム合金板上には、大気中にお
いても容易に酸化被膜が形成される。この酸化被膜によ
って、アルミニウム板およびアルミニウム合金板には、
優れた耐食性が付与されるが、一方で、めっきを施した
際のめっき密着性に問題が生じ、また、塗装前処理とし
て施されるリン酸塩処理性に問題が生じる。2. Description of the Related Art Cold-rolled steel sheets and surface-treated steel sheets are widely used for automobiles and home appliances. However, in recent years, the use of aluminum and aluminum alloy plates, whose specific gravity is significantly smaller than that of iron, by 1/3, has been studied for the purpose of reducing weight and improving corrosion resistance. However, an oxide film is easily formed on the aluminum plate and the aluminum alloy plate even in the atmosphere. With this oxide film, aluminum plate and aluminum alloy plate,
Although excellent corrosion resistance is imparted, on the other hand, there arises a problem in plating adhesion when plating is applied, and also a problem in phosphate treatment that is carried out as a pretreatment for coating.
【0003】これらの問題を解決するために、特開昭63
-166964 号公報には、蒸着法によって亜鉛めっきをアル
ミニウム板およびアルミニウム合金板の表面に形成する
方法が開示され、特開平3-104895 号公報には、電気め
っき法によりパルス通電を行い、表面酸化物層を溶解し
つつ、密着性に優れためっき被膜を得る方法が開示され
ている。In order to solve these problems, Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-63
-166964 discloses a method of forming zinc plating on the surface of an aluminum plate and an aluminum alloy plate by a vapor deposition method, and Japanese Patent Laid-Open No. 3-104895 discloses a method of performing pulsed current by electroplating method for surface oxidation. A method for obtaining a plating film having excellent adhesion while dissolving the material layer is disclosed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ジンケ
ート処理方法は、設備的に複雑であり、操業上種々の問
題があった。そこで、通常の定電流電気めっき法によっ
て、めっき密着性に優れた被膜を得ることができる方法
の提案が望まれているが、かかる方法は、未だ提案され
ていない。従って、この発明の目的は、通常の定電流電
気めっき法によって、密着性に優れためっき被膜を得る
ことができる電気めっき方法を提供することにある。However, the zincate treatment method is complicated in terms of equipment and has various operational problems. Therefore, there is a demand for a method capable of obtaining a coating film having excellent plating adhesion by a normal constant current electroplating method, but such a method has not been proposed yet. Therefore, an object of the present invention is to provide an electroplating method capable of obtaining a plating film having excellent adhesion by a usual constant current electroplating method.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】この発明は、フッ化物イ
オンを10ppm 以上含有するめっき液を使用して電気めっ
きを施すことに特徴を有するものである。The present invention is characterized by performing electroplating using a plating solution containing 10 ppm or more of fluoride ions.
【0006】この発明において、密着性に優れためっき
被膜が得られるのは、次の理由による。即ち、フッ化物
イオンの存在によって、アルミニウム板またはアルミニ
ウム合金板の表面上に形成された酸化物被膜が均一に除
去される。このために、めっき金属は、アルミニウム酸
化物上ではなく、アルミニウム金属上に析出する。この
結果、優れた密着性が得られる。これに対して、フッソ
化物イオンを添加しないめっき浴においては、酸化物被
膜が除去されないばかりか、めっき前の酸洗処理で除去
された酸化物被膜が再度生成されて、密着性が著しく劣
る。In the present invention, the reason why a plated coating having excellent adhesion can be obtained is as follows. That is, due to the presence of the fluoride ions, the oxide film formed on the surface of the aluminum plate or the aluminum alloy plate is uniformly removed. Because of this, the plating metal is deposited on the aluminum metal, not on the aluminum oxide. As a result, excellent adhesion is obtained. On the other hand, in the plating bath to which the fluoride ion is not added, not only the oxide film is not removed, but also the oxide film removed by the pickling treatment before plating is regenerated, resulting in extremely poor adhesion.
【0007】添加するフッソ化物イオン濃度は、10ppm
以上に限定する必要がある。これは、フッソ化物イオン
濃度が10ppm 未満では、酸化物被膜を均一に溶解するの
に長時間を要するからである。フッソ化物イオン濃度の
上限は特に限定しないが、10g/l 程度が好ましい。これ
は、酸化物被膜の溶解効果がこの濃度域において飽和
し、さらに、廃液処理の観点からフッ化物イオン濃度
は、低い方が好ましいからである。Fluoride ion concentration added is 10 ppm
It is necessary to limit the above. This is because when the fluoride ion concentration is less than 10 ppm, it takes a long time to uniformly dissolve the oxide film. The upper limit of the fluorine ion concentration is not particularly limited, but is preferably about 10 g / l. This is because the dissolution effect of the oxide film is saturated in this concentration range, and the fluoride ion concentration is preferably low from the viewpoint of waste liquid treatment.
【0008】[0008]
【実施例】次に、この発明を実施例によって、さらに詳
細に説明する。アルミニウム板とマグネシウムを4.5wt.
% 含有したアルミニウム合金板とを、80℃、40g/l のオ
ルソケイ酸ソーダ中で10秒間、10A/dm2 の条件で電解脱
脂を行った。次いで、50℃、50g/l の硫酸中で10秒間、
酸洗した。次いで、表1に示した成分組成を有するめっ
き液により、アルミニウム板およびアルミニウム合金板
上に20g/mm2 の亜鉛めっき、亜鉛−鉄合金めっき(鉄含
有量15wt.%)、亜鉛−ニッケル合金めっき(Ni含有量13
wt.%)および純ニッケルめっきを施した。めっき条件
は、めっき液流速が2m/sec、温度が50℃、そして、電流
密度が55A/dm2 であった。EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to Examples. Aluminum plate and magnesium 4.5 wt.
The aluminum alloy plate containing 10% was electrolytically degreased at 80 ° C. in 40 g / l of sodium orthosilicate for 10 seconds under the condition of 10 A / dm 2 . Then, at 50 ° C in 50g / l sulfuric acid for 10 seconds,
Pickled. Then, with a plating solution having the composition shown in Table 1, 20 g / mm 2 of zinc plating, zinc-iron alloy plating (iron content 15 wt.%), Zinc-nickel alloy plating was performed on the aluminum plate and the aluminum alloy plate. (Ni content 13
wt.%) and pure nickel plating. The plating conditions were a plating solution flow rate of 2 m / sec, a temperature of 50 ° C., and a current density of 55 A / dm 2 .
【0009】以上のようにして製造したサンプルを、図
1および図2に示すゼローティ曲げ後のセロテープによ
るめっき被膜密着試験に供した。この結果を表1に示
す。表1のめっき被膜密着試験の評価において、◎印
は、平面部および折曲げ部ともに、被膜の剥離は一切認
められず、極めて優れた密着性を有していることを示
し、○印は、平面部には全く剥離は認められないが、折
曲げ部に若干の剥離が認められ、優れた密着性を有して
いることを示し、△印は、平面部には全く剥離は認めら
れないが、折曲げ部が1/4 以上剥離し、密着性に問題が
あることを示し、そして、×印は、平面部および折曲げ
部ともに剥離が認められ、密着性が劣悪であることを示
す。The samples produced as described above were subjected to a plating film adhesion test with cellophane tape after zero-ty bending shown in FIGS. 1 and 2. The results are shown in Table 1. In the evaluation of the plating film adhesion test in Table 1, the mark ⊚ indicates that no peeling of the film was observed in both the flat surface portion and the bent portion, and that the adhesiveness was extremely excellent. No peeling was observed on the flat surface, but slight peeling was observed on the bent portion, indicating excellent adhesion. △ indicates no peeling on the flat surface. Shows that there is a problem with the adhesiveness because the bent part peels more than 1/4, and the x mark indicates that the flat part and the bent part are peeled off and the adhesiveness is poor. ..
【0010】次に、比較例について説明する。アルミニ
ウム板とマグネシウムを4.5wt.% 含有したアルミニウム
合金板とを、80℃、40g/l のオルソケイ酸ソーダ中で10
秒間、10A/dm2 の条件で電解脱脂を行った。次いで、表
2に示す本発明範囲外のフッ化物イオン濃度を含有した
めっき液を使用して、アルミニウム板およびアルミニウ
ム合金板上に20g/mm2 の亜鉛めっき、亜鉛−鉄合金めっ
き(鉄含有量15wt.%)亜鉛−ニッケル合金めっき(Ni含
有量13wt.%)および純ニケッルめっきを施した。めっき
条件は、めっき液流速が2m/sec、温度が50℃、そして、
電流密度が55A/dm2 であった。以上のようにして製造し
たサンプルを、本発明実施例におけると同様に、ゼロー
ティ曲げ後のセロテープによるめっき被膜密着試験に供
した。この結果を表2に示す。表2に示す被膜密着試験
の評価方法は表2と同様であった。Next, a comparative example will be described. An aluminum plate and an aluminum alloy plate containing 4.5 wt.% Magnesium were placed at 80 ° C in 40 g / l sodium orthosilicate for 10 days.
Electrolytic degreasing was performed under the condition of 10 A / dm 2 for 2 seconds. Then, using a plating solution containing a fluoride ion concentration outside the scope of the present invention shown in Table 2, 20 g / mm 2 zinc plating, zinc-iron alloy plating (iron content 15 wt.%) Zinc-nickel alloy plating (Ni content 13 wt.%) And pure nickel plating. The plating conditions are as follows: plating solution flow rate is 2m / sec, temperature is 50 ℃, and
The current density was 55 A / dm 2 . The sample manufactured as described above was subjected to a plating film adhesion test using cellophane tape after zero-ty bending, as in the example of the present invention. The results are shown in Table 2. The evaluation method of the coating adhesion test shown in Table 2 was the same as in Table 2.
【0011】表1および表2の結果から明らかなよう
に、本発明実施例によれば、めっき被膜の剥離は殆ど生
じておらず、優れためっき密着性が得られることがわか
った。As is clear from the results of Tables 1 and 2, it was found that according to the examples of the present invention, peeling of the plating film hardly occurred, and excellent plating adhesion was obtained.
【0012】[0012]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、前処理としての酸洗を行わずとも、密着性に優れた
めっき被膜を得ることができるといった有用な効果がも
たらされる。As described above, according to the present invention, a useful effect such that a plating film having excellent adhesion can be obtained without performing a pickling as a pretreatment is brought about.
【図1】被膜密着試験用サンプルの部分斜視図である。FIG. 1 is a partial perspective view of a film adhesion test sample.
【図2】被膜密着試験用サンプルを延ばした状態を示す
平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a state in which a film adhesion test sample is extended.
【表1】 [Table 1]
【表2】 [Table 2]
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 哲弘 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 余村 吉則 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tetsuhiro Koike 1-2-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Nihon Kokan Co., Ltd. (72) Yoshinori Aomura 1-2-1 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Steel Tube Co., Ltd.
Claims (1)
っき液を使用して電気めっきを施すことを特徴とする、
アルミニウム板およびアルミニウム合金板上への電気め
っき方法。1. Electroplating is performed using a plating solution containing 10 ppm or more of fluoride ions.
Electroplating method on aluminum plate and aluminum alloy plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25838291A JPH0565691A (en) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | Method for electroplating aluminum sheet and aluminum alloy sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25838291A JPH0565691A (en) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | Method for electroplating aluminum sheet and aluminum alloy sheet |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0565691A true JPH0565691A (en) | 1993-03-19 |
Family
ID=17319470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25838291A Pending JPH0565691A (en) | 1991-09-09 | 1991-09-09 | Method for electroplating aluminum sheet and aluminum alloy sheet |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0565691A (en) |
-
1991
- 1991-09-09 JP JP25838291A patent/JPH0565691A/en active Pending
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