JPH0564787B2 - - Google Patents
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- JPH0564787B2 JPH0564787B2 JP61115983A JP11598386A JPH0564787B2 JP H0564787 B2 JPH0564787 B2 JP H0564787B2 JP 61115983 A JP61115983 A JP 61115983A JP 11598386 A JP11598386 A JP 11598386A JP H0564787 B2 JPH0564787 B2 JP H0564787B2
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- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は感光材料処理機に係り、特に各部の温
度調節を円滑に行なうための感光材料処理機の温
度調節装置に関する。
［従来技術及び発明が解決しようとする問題点］
一般に写真処理機には現像部、定着部、水洗
部、乾燥部等が設けられている。露光処理が終了
した後に搬送される帯状又はシート状の感光材料
は、これらの各部でそれぞれの処理が順次連続的
になされ、必要に応じて単位画像毎に切断される
ようになつている。
写真処理機には、現像液や定着液等を循環させ
るポンプ、補充液を補充するポンプ等の複数の負
荷部品が設置されており、その中でも例えば現像
液の温度調節や乾燥部の温度調節等に使用される
ヒータは消費電力が多く、これらを同時に制御さ
せるとピーク電流を上げる原因となる。
このため、各々のヒータに予め優先順位を設定
し一方の温度が設定温度に達した後に他方のヒー
タへの給電を開始したり、所定時間毎にヒータへ
の給電を切り替えたりして、制御を行なうように
している。これにより、ピーク電流を下げること
ができる。
しかしながら、このような装置では各部の温度
が所定の温度（実用可能温度の範囲内）に達する
時間に差が生じ、制御されていない側の温度が低
下し、このため温度調節精度を低下させることに
なる。
本発明は上記事実を考慮し、処理液と乾燥部と
を相対的に比較可能な値を用いて、第１又は第２
のヒータへの通電を選択し、第１及び第２のヒー
タを重複して通電させず、かつそれぞれの温度を
処理可能な温度範囲に保持することができる感光
材料処理機の温度調節装置を得ることが目的であ
る。
［問題点を解決するための手段及び作用］
本発明に係る感光材料処理機の温度調節装置
は、処理液槽の処理液の温度を測定する第１の温
度センサと、この処理液を加温するための第１の
ヒータと、感光材料を乾燥する乾燥部の温度を測
定する第２の温度センサと、この乾燥部の温度を
加温する第２のヒータと、前記処理液の最適温度
及びこの最適温度を中心として均等に振り分けら
れる上限値又は下限値と前記最適温度との差の第
１の絶対値並びに乾燥部における最適温度及びこ
の最適温度を中心として均等に振り分けられる上
限値と下限値と前記最適温度との差の第２の絶対
値を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶さ
れた第１の絶対値に対する前記処理液における実
測温度と最適温度との温度差の割合を演算する第
１の演算手段と、前記記憶手段に記憶された第２
の絶対値に対する前記乾燥部における実測温度と
最適温度との温度差の割合を演算する第２の演算
手段と、予め定められた通電切換時期に、前記第
１及び第２の演算手段で演算された割合の内大き
い側に対応する前記第１のヒータ又は第２のヒー
タへ給電する制御手段と、を有している。
本発明によれば、処理液及び乾燥部では最適温
度が定められ、この最適温度を中心として均等に
振り分けられた処理可能の温度範囲が定められて
おり、処理液の温度及び乾燥部の温度をこの処理
可能温度内に保つ必要がある。
処理液及び乾燥部の昇温時、単に時分割で第１
のヒータ及び第２のヒータを切り換えながら行つ
ていると、処理液及び乾燥部の処理可能温度範囲
の差等によつて、何れかが処理可能温度から逸脱
する恐れがある。
そこで、第１の演算手段によつて記憶手段に記
憶された第１の絶対値に対する処理液実測温度と
最適温度との温度差の割合（仮に、R1とする）
を演算すると共に、第２の演算手段によつて記憶
手段に記憶された第２の絶対値に対する乾燥部実
測温度と最適温度との温度差の割合（仮に、R2
とする）を演算する。
この割合R1とR2は、それぞれの処理可能な温
度範囲に基づいて得られる値であり、例えば、実
測値が最適値と一致していれば、割合R2とR1は
０となり、実測値が処理可能な温度範囲の下限値
と一致してれば、割合R1とR2は１となるため、
この割合は最適温度を目標とする温度調節の未達
成率ということができる。
従つて、この割合R1とR2を単純比較すること
が可能となり、制御手段では、割合の大きい側、
すなわち、処理可能な温度範囲の下限値に近い方
を優先して昇温させるべく、第１のヒータ又は第
２のヒータへ給電する。
例えば、処理液が最適温度に近く、乾燥部の温
度が下限値に近い場合は、切換時期がきても連続
して第２のヒータへ給電することにより、乾燥部
の温度を急速に昇温させる。
このように、処理可能な温度範囲を逸脱する側
を優先させて昇温させるようにしたので、第１の
ヒータ及び第２のヒータを重複させて給電できな
い場合でも、安定した温度調節を行うことができ
る。
［実施例］
第１図には本発明の実施例に係る感光材料処理
機１０が示されている。
露光処理が終了した感光材料１２は現像液槽１
４へと搬送され、現像液１６に浸漬されるように
なつている。
現像液槽１４には第１の温度センサ１８が配設
されている。第２図に示される如く、この第１の
温度センサ１８による測定値はマルチプレクサ１
７及びＡ／Ｄコンバータ１９を介してマイクロコ
ンピユータ２０の入力ポート２１へ送信するよう
になつている。また、現像液１６には第１のヒー
タ２２が浸漬され、この第１のヒータ２２へマイ
クロコンピユータ２０の制御により給電すること
で現像液１６を加温することができるようになつ
ている。
マイクロコンピユータ２０には、図示しない温
度設定器により、予め所定温度が設定、入力され
ており、この設定温度と現像液１６の実測温度と
が比較され、出力ポート３１から出力される信号
で第１のヒータ２２への給電が制御されている。
現像処理が終了した感光材料１２は、図示しな
い定着液槽での定着工程及び水洗槽での水洗工程
を経て、乾燥部２４へと搬送されるようになつて
いる。
乾燥部２４には、図示しないフアンと第２のヒ
ータ２６が配設され、乾燥部２４内を加温し、通
過する感光材料１２へ温風を当てて、乾燥するよ
うになつている。
また、この乾燥部２４には第２の温度センサ２
８が配設されている。第２の温度センサ２８によ
る測定値は前記マルチプレクサ１７及びＡ／Ｄコ
ンバータ１９を介してマイクロコンピユータ２０
の入力ポート２１へ送信するようになつている。
マイクロコンピユータ２０には、前述と同様に
温度設定器により、予め乾燥部２４内の適温が設
定されており、この設定温度と乾燥部２４内の実
測温度とが比較され、出力ポート３１から出力さ
れる信号で駆動回路２７及びリレー２９による第
２のヒータ２６への給電が制御されている。
マイクロコンピユータ２０では、これらの制御
順序が設定温度へ実測温度が達するまでの時間が
かかる方からなされるようになつている。
すなわち、マイクロコンピユータ２０では現像
液１６の実測温度T1と設定温度T2とにより、現
像液１６の設定温度への未達成率R1が演算され
るようになつている。
これと同様に、乾燥部２４の実測温度T3と設
定温度T4により、乾燥部２４の設定温度への未
達成率R2が演算され、これらの未達成率R1，R2
が比較処理されて、温度制御順序が決められるよ
うになつている。
この未達成率R1，R2は本実施例では、設定温
度を中間値とする処理可能な温度範囲を定め、設
定温度から処理可能な温度の上限又は下限温度を
引いた値の絶対値を基準として、設定温度から実
測温度を引いた値の割合を比較するようにしてい
る。従つて、処理可能な温度の最低温度では、こ
の未達成率が１となり、実測温度が設定温度に対
して、誤差が大きい程この値が大きくなる。
以下に本実施例の作用を説明する。
露光処理がなされた露光材料１２は、現像液槽
１４へと搬送される。
現像液槽１４内の現像液１６は、第１の温度セ
ンサ１８により、その温度が測定され（第４図フ
ローチヤート図のステツプ118）、マイクロコンピ
ユータ２０へ入力される。次にステツプ119で予
め設定され入力されている設定値を読み込み、こ
れらが比較され（ステツプ120）、実測温度が設定
温度よりも低い場合はステツプ122へ移行して第
１のヒータ２２をオンとし、それ以外はステツプ
124へ移行して第１のヒータ２２をオフとするこ
とにより、現像液１６の温度が調節されるので、
常に一定の温度を保持することができる。
感光材料１２は、現像液１６へ浸漬されて現像
処理が行なわれた後、定着液槽及び水洗槽を経
て、乾燥部２４へと至る。
乾燥部２４では、第２のヒータ２６で加温され
た温風が感光材料１２へ当てられ、感光材料１２
は乾燥される。ここで、乾燥部２４の温度も前記
現像液１６の温度制御と同様に第２の温度センサ
２８で測定される（第５図フローチヤートのステ
ツプ126）。
次にステツプ127で設定温度が読み込まれ、測
定された実測温度はマイクロコンピユータ２０で
設定温度と比較され（ステツプ128）、実測温度が
設定温度よりも低い場合はステツプ130で第２の
ヒータをオンさせ、それ以外はステツプ132へ移
行して第２のヒータ２６をオフさせることによ
り、乾燥部２４内の温度を一定に保持することが
できる。
このマイクロコンピユータ２０では、上記２種
の温度制御順序を温度未達成率R1，R2の比較に
よつて決めている。これにより、第１のヒータ２
２と第２のヒータ２８へ同時に給電されることは
なく、ピーク電流を下げることができる。
以下に第３図のフローチヤートに従い、前記優
先順位の制御を説明する。
まず、ステツプ100で第１の温度センサ１８に
より、現像液１６の温度T1を測定する。次にス
テツプ102で現像液１６の設定温度未達成率R1を
演算し、ステツプ104へ移行する。
ステツプ104では、乾燥部２４の温度T3を第２
の温度センサ２８により測定し、ステツプ106へ
移行して、乾燥部２４の設定温度未達成率R2を
演算する。これらの演算式を下記に示す。
R1＝T2−T1／｜T2−（使用可能限界温度）｜
R2＝T4−T3／｜T4−（使用可能限界温度）｜
ここで、T1：現像液実測温度
T2：現像液の設定温度
T3：乾燥部の実測温度
T4：乾燥部の設定温度
R1：現像液の設定温度未達成率
R2：乾燥部の設定温度未達成率
次に、ステツプ102及びステツプ106で演算され
たR1，R3をステツプ108で比較する。ここで、R1
＜R2の場合は、乾燥部２４の温度未達成率が大
きく、実測温度T3と設定温度T4との差が現像液
１６の温度差よりも大きいと判断し、ステツプ
110で第１のヒータ２２への給電を遮断した後、
ステツプ112の乾燥部２４の温度制御サブルーチ
ンへ移行する。
これにより、乾燥部２４の温度が優先的に制御
され、ステツプ100へ移行する。
ステツプ108で、R1＜R2ではない場合、すなわ
ち現像液１６の温度未達成率が大きく、実測温度
T1と設定温度T2との差が乾燥部２４の温度差よ
りも大きいか、又はこれらが等しい（R1＝R2）
場合、ステツプ114へ移行する。
ここで、R1＝R2とは、例えば初期制御時にお
ける優先順位を決めるものであり、本実施例で
は、現像液１６の温度制御を先に始めるようにし
たが、これとは逆に乾燥部２４の温度制御を先に
始めるようにしてもよい。
ステツプ114では、第２のヒータ２８への給電
を遮断し、次にステツプ116で現像液１６の温度
制御を実行する。
このように、設定温度までの温度差に基づいて
得られる現像液１６と乾燥部２４の未達成率が大
きい方を優先して通電制御するようにしているの
で定期的に切り替えて行なう制御等に比べて現像
液１６と乾燥部２４の温度を平均的に上げていく
ことができ、精度も向上する。
（実験例）
下表（第１表）は、現像液及び乾燥部の設定温
度の具体例が示されている。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a photosensitive material processing machine, and more particularly to a temperature control device for a photosensitive material processing machine for smoothly controlling the temperature of each part. [Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] Generally, a photographic processing machine is provided with a developing section, a fixing section, a washing section, a drying section, and the like. The strip-shaped or sheet-shaped photosensitive material conveyed after the exposure process is sequentially and continuously processed at each of these parts, and is cut into unit images as necessary. A photographic processing machine is equipped with multiple load parts, such as a pump that circulates the developer and fixer, and a pump that replenishes the replenisher. The heaters used for this purpose consume a lot of power, and controlling them at the same time causes an increase in peak current. For this reason, control can be controlled by setting priorities for each heater in advance and starting power supply to the other heater after the temperature of one heater reaches the set temperature, or by switching power supply to the heaters at predetermined intervals. I try to do it. This allows the peak current to be lowered. However, in such a device, there is a difference in the time it takes for the temperature of each part to reach a predetermined temperature (within a practical temperature range), and the temperature on the side that is not being controlled decreases, which reduces the accuracy of temperature control. become. In consideration of the above facts, the present invention uses relatively comparable values for the processing liquid and the drying section to obtain the first or second
To obtain a temperature control device for a photosensitive material processing machine, which can select the energization of the first and second heaters, avoid redundant energization of the first and second heaters, and maintain each temperature within a processable temperature range. That is the purpose. [Means and effects for solving the problems] A temperature control device for a photosensitive material processing machine according to the present invention includes a first temperature sensor that measures the temperature of the processing liquid in the processing liquid tank, and a sensor that heats the processing liquid. a first heater for measuring the temperature of the drying section for drying the photosensitive material; a second temperature sensor for measuring the temperature of the drying section for drying the photosensitive material; a second heater for heating the temperature of the drying section; The first absolute value of the difference between the upper limit value or lower limit value that is evenly distributed around this optimal temperature and the above-mentioned optimal temperature, the optimal temperature in the drying section, and the upper and lower limit values that are evenly distributed around this optimal temperature. storage means for storing a second absolute value of the difference between the temperature and the optimum temperature; and calculating a ratio of the temperature difference between the actual measured temperature and the optimum temperature in the processing liquid to the first absolute value stored in the storage means. a first calculation means for calculating a second calculation value stored in the storage means;
a second calculation means that calculates the ratio of the temperature difference between the actual measured temperature and the optimum temperature in the drying section to the absolute value of and control means for supplying power to the first heater or the second heater corresponding to the larger one of the ratios. According to the present invention, an optimum temperature is determined for the processing liquid and the drying section, and a temperature range that can be processed is determined evenly distributed around this optimum temperature, so that the temperature of the processing liquid and the temperature of the drying section are controlled. It is necessary to keep it within this processable temperature. When the temperature of the processing liquid and drying section is increased, the first
If this process is performed while switching between the second heater and the second heater, there is a risk that one of them will deviate from the processable temperature due to differences in the processable temperature ranges of the processing liquid and the drying section. Therefore, the ratio of the temperature difference between the actual measured temperature of the processing liquid and the optimum temperature to the first absolute value stored in the storage means by the first calculation means (temporarily, R 1 )
At the same time, the ratio of the temperature difference between the actual measured temperature of the drying section and the optimum temperature to the second absolute value stored in the storage means by the second calculation means (temporarily, R 2
) is calculated. These ratios R 1 and R 2 are values obtained based on the respective processable temperature ranges. For example, if the actual measured value matches the optimal value, the ratios R 2 and R 1 will be 0, and the actual If the value matches the lower limit of the processable temperature range, the ratios R 1 and R 2 will be 1, so
This ratio can be said to be the rate at which temperature control aimed at the optimum temperature has not been achieved. Therefore, it is possible to simply compare the ratios R 1 and R 2 , and the control means selects the side with the larger ratio,
That is, power is supplied to the first heater or the second heater in order to raise the temperature of the heater closer to the lower limit of the processable temperature range preferentially. For example, if the processing liquid is close to the optimum temperature and the temperature of the drying section is close to the lower limit, the temperature of the drying section can be rapidly raised by continuously supplying power to the second heater even when it is time to switch. . In this way, the temperature is raised with priority given to the side that deviates from the processable temperature range, so even if the first heater and the second heater cannot be fed redundantly, stable temperature control can be performed. I can do it. [Embodiment] FIG. 1 shows a photosensitive material processing machine 10 according to an embodiment of the present invention. The photosensitive material 12 after the exposure process is placed in the developer tank 1.
4 and is immersed in a developer 16. A first temperature sensor 18 is provided in the developer tank 14 . As shown in FIG. 2, the measured value by this first temperature sensor 18 is
7 and an A/D converter 19 to an input port 21 of a microcomputer 20. Further, a first heater 22 is immersed in the developer 16, and the developer 16 can be heated by supplying power to the first heater 22 under the control of the microcomputer 20. A predetermined temperature is set and input in advance to the microcomputer 20 by a temperature setting device (not shown), and this set temperature is compared with the actually measured temperature of the developer 16, and the first signal is output from the output port 31. The power supply to the heater 22 is controlled. After the development process has been completed, the photosensitive material 12 is conveyed to the drying section 24 through a fixing process in a fixer tank (not shown) and a washing process in a washing tank (not shown). The drying section 24 is provided with a fan (not shown) and a second heater 26 to heat the inside of the drying section 24 and apply hot air to the photosensitive material 12 passing therethrough, thereby drying it. In addition, a second temperature sensor 2 is installed in this drying section 24.
8 are arranged. The measured value by the second temperature sensor 28 is sent to the microcomputer 20 via the multiplexer 17 and the A/D converter 19.
The data is transmitted to the input port 21 of. In the microcomputer 20, an appropriate temperature inside the drying section 24 is preset by the temperature setting device as described above, and this set temperature is compared with the actual temperature inside the drying section 24, and the temperature is output from the output port 31. The power supply to the second heater 26 by the drive circuit 27 and the relay 29 is controlled by the signal. In the microcomputer 20, these controls are performed in the order that takes the longest time for the measured temperature to reach the set temperature. That is, the microcomputer 20 calculates the rate of failure of the developer 16 to reach the set temperature R 1 based on the measured temperature T 1 of the developer 16 and the set temperature T 2 . Similarly, the unachieved rate R 2 of the drying unit 24 to the set temperature is calculated based on the measured temperature T 3 and the set temperature T 4 of the drying unit 24, and these unachieved rates R 1 , R 2
are compared to determine the temperature control order. In this example, the non-achievement rates R 1 and R 2 are determined by defining a processable temperature range with the set temperature as the intermediate value, and calculating the absolute value of the value obtained by subtracting the upper or lower limit of the processable temperature from the set temperature. As a standard, the ratio of the value obtained by subtracting the measured temperature from the set temperature is compared. Therefore, at the lowest processable temperature, this non-achievement rate is 1, and the greater the error between the measured temperature and the set temperature, the greater this value becomes. The operation of this embodiment will be explained below. The exposed material 12 that has been exposed to light is transported to a developer tank 14 . The temperature of the developer 16 in the developer tank 14 is measured by the first temperature sensor 18 (step 118 in the flowchart of FIG. 4), and is input to the microcomputer 20. Next, in step 119, the preset and input setting values are read, and these are compared (step 120). If the measured temperature is lower than the set temperature, the process moves to step 122, and the first heater 22 is turned on. , otherwise step
By moving to step 124 and turning off the first heater 22, the temperature of the developer 16 is adjusted.
A constant temperature can be maintained at all times. After the photosensitive material 12 is immersed in a developer 16 and subjected to development processing, it passes through a fixer tank and a washing tank, and then reaches a drying section 24. In the drying section 24 , warm air heated by the second heater 26 is applied to the photosensitive material 12 .
is dried. Here, the temperature of the drying section 24 is also measured by the second temperature sensor 28 in the same way as the temperature control of the developer 16 (step 126 in the flowchart of FIG. 5). Next, the set temperature is read in step 127, and the measured actual temperature is compared with the set temperature in the microcomputer 20 (step 128). If the actual temperature is lower than the set temperature, the second heater is turned on in step 130. Otherwise, the process proceeds to step 132 and the second heater 26 is turned off, thereby making it possible to maintain the temperature inside the drying section 24 constant. In this microcomputer 20, the above-mentioned two types of temperature control order are determined by comparing the temperature non-achievement rates R1 and R2 . As a result, the first heater 2
2 and the second heater 28 at the same time, the peak current can be reduced. The control of the priority order will be explained below according to the flowchart shown in FIG. First, in step 100, the temperature T1 of the developer 16 is measured by the first temperature sensor 18. Next, in step 102, the set temperature failure rate R1 of the developer 16 is calculated, and the process proceeds to step 104. In step 104, the temperature T3 of the drying section 24 is set to a second temperature.
The temperature is measured by the temperature sensor 28, and the process proceeds to step 106, where the set temperature failure rate R2 of the drying section 24 is calculated. These calculation formulas are shown below. R 1 = T 2 - T 1 / | T 2 - (Usable limit temperature) | R 2 = T 4 - T 3 / | T 4 - (Usable limit temperature) | Here, T 1 : actual measured temperature of developer T 2 : Set temperature of the developer T 3 : Actual measured temperature of the drying section T 4 : Set temperature of the drying section R 1 : Rate of failure to achieve the set temperature of the developer R 2 : Rate of failure to achieve the set temperature of the drying section Next, step In step 108, R 1 and R 3 calculated in steps 102 and 106 are compared. Here, R 1
< R2 , it is determined that the temperature failure rate of the drying section 24 is large and the difference between the measured temperature T3 and the set temperature T4 is larger than the temperature difference of the developer 16, and the step
After cutting off the power supply to the first heater 22 at 110,
The process moves to step 112, a subroutine for controlling the temperature of the drying section 24. As a result, the temperature of the drying section 24 is controlled preferentially, and the process moves to step 100. In step 108, if R 1 < R 2 does not hold, that is, the temperature failure rate of the developer 16 is large, and the actual measured temperature
The difference between T 1 and the set temperature T 2 is greater than the temperature difference in the drying section 24, or they are equal (R 1 = R 2 )
If so, proceed to step 114. Here, R 1 = R 2 determines the priority at the time of initial control, for example. In this embodiment, the temperature control of the developer 16 is started first, but in contrast to this, the drying The temperature control of the section 24 may be started first. In step 114, the power supply to the second heater 28 is cut off, and then in step 116, the temperature of the developer 16 is controlled. In this way, since the power supply control is performed with priority given to the one with the larger non-achievement rate of the developing solution 16 and the drying section 24 based on the temperature difference up to the set temperature, it is possible to perform control that is periodically switched. In comparison, the temperatures of the developer 16 and the drying section 24 can be raised evenly, and accuracy is also improved. (Experimental Example) The table below (Table 1) shows specific examples of temperature settings for the developer and the drying section.
【表】
この第１表に従つて、定常時の温度調節特性及
び各ヒータオンオフ状態を第６図に示す。
第６図に示される如く、矢印Ａでの未達成率
R1は40（％）、R2は80（％）となつており、乾燥部
側の方が未達成率が高い。従つて、乾燥部加温用
のヒータ（第２のヒータ２６）がオンされ、現像
液加温用のヒータ（第１のヒータ２２）はオフと
なる。
一方、矢印Ｂでは、未達成率R1は20（％）、R2
は０（％）となつており、現像液側の方が未達成
率が高い。従つて、現像液加温用のヒータ（第１
のヒータ２２）がオンされ、乾燥部加温用のヒー
タ（第２のヒータ２６）はオフとなる。
なお、この実験例では、各部の温度が設定値以
上の場合は両者共にオフするように制御した。
また、この実験例では、各部の温度が立ち上げ
後の定常温度に達したときの温度制御について説
明したが、立ち上げ時の温度制御に適用してもよ
い。
なお、本実施例では現像液１６と乾燥部２４の
各ヒータを制御対象としているが、本発明は現像
液１６の代りに、定着液、水洗水、スクイズ液等
の他の処理液を加熱するヒータとしてもよい。
［発明の効果］
以上説明した如く、本発明に係る感光材料処理
機の温度調節装置は、処理液と乾燥部とを相対的
に比較可能な値を用いて、第１又は第２のヒータ
へ通電を選択し、第１及び第２のヒータを重複し
て通電させず、かつそれぞれの温度を処理可能な
温度範囲に保持することができるという優れた効
果を有する。[Table] According to this Table 1, the temperature control characteristics during steady state and each heater on/off state are shown in FIG. As shown in Figure 6, the non-achievement rate at arrow A
R 1 is 40 (%), R 2 is 80 (%), and the non-achievement rate is higher on the drying section side. Therefore, the heater for warming the drying section (second heater 26) is turned on, and the heater for warming the developer (first heater 22) is turned off. On the other hand, in arrow B, the non-achievement rate R 1 is 20 (%) and R 2
is 0 (%), and the non-achievement rate is higher on the developer side. Therefore, the heater (first
(heater 22) is turned on, and the heater for heating the drying section (second heater 26) is turned off. In this experimental example, control was performed so that both parts were turned off when the temperature of each part was higher than a set value. Further, in this experimental example, temperature control was explained when the temperature of each part reached a steady temperature after startup, but it may also be applied to temperature control at startup. In this embodiment, the heaters of the developing solution 16 and the drying section 24 are controlled, but in the present invention, instead of the developing solution 16, other processing solutions such as fixing solution, washing water, squeeze solution, etc. are heated. It can also be used as a heater. [Effects of the Invention] As explained above, the temperature control device for a photosensitive material processing machine according to the present invention uses a value that allows the processing liquid and the drying section to be relatively compared, and controls the temperature of the processing liquid to the first or second heater. This has an excellent effect in that it is possible to select the energization, avoid redundant energization of the first and second heaters, and maintain the respective temperatures within a processable temperature range.
第１図は本実施例に係る感光材料処理機の構成
図、第２図は制御ブロツク図、第３図は温度調節
の優先順位を決める制御フローチヤート図、第４
図は現像液の温度制御フローチヤート図、第５図
は乾燥部の温度制御フローチヤート図、第６図は
第１表に基づく具体的数値で実験した場合の定常
時の温度調節及び各ヒータオンオフ状態を示す特
性図である。
１０……感光材料処理機、１６……現像液、１
８……第１の温度センサ、２０……マイクロコン
ピユータ、２２……第１のヒータ、２４……乾燥
部、２６……第２のヒータ、２８……第２の温度
センサ。
Fig. 1 is a block diagram of the photosensitive material processing machine according to this embodiment, Fig. 2 is a control block diagram, Fig. 3 is a control flowchart for determining the priority order of temperature adjustment, and Fig. 4
The figure is a flowchart for temperature control of the developer, Figure 5 is a flowchart for temperature control of the drying section, and Figure 6 is a temperature control during steady state and each heater on/off when tested with specific values based on Table 1. It is a characteristic diagram showing the state. 10...Photosensitive material processor, 16...Developer, 1
8...First temperature sensor, 20...Microcomputer, 22...First heater, 24...Drying section, 26...Second heater, 28...Second temperature sensor.
Claims (1)
度センサと、 この処理液を加温するための第１のヒータと、 感光材料を乾燥する乾燥部の温度を測定する第
２の温度センサと、 この乾燥部の温度を加温する第２のヒータと、 前記処理液の最適温度及びこの最適温度を中心
として均等に振り分けられる上限値又は下限値と
前記最適温度との差の第１の絶対値並びに乾燥部
における最適温度及びこの最適温度を中心として
均等に振り分けられる上限値と下限値と前記最適
温度との差の第２の絶対値を記憶する記憶手段
と、 前記記憶手段に記憶された第１の絶対値に対す
る前記処理液における実測温度と最適温度との温
度差の割合を演算する第１の演算手段と、 前記記憶手段に記憶された第２の絶対値に対す
る前記乾燥部における実測温度と最適温度との温
度差の割合を演算する第２の演算手段と、 予め定められた通電切換時期に、前記第１及び
第２の演算手段で演算された割合の内大きい側に
対応する前記第１のヒータ又は第２のヒータへ給
電する制御手段と、 を有する感光材料処理機の温度調節装置。[Claims] 1. A first temperature sensor for measuring the temperature of the processing liquid in the processing liquid tank; a first heater for heating the processing liquid; and a first temperature sensor for measuring the temperature of the drying section for drying the photosensitive material. a second temperature sensor for measuring; a second heater for heating the temperature of the drying section; an optimum temperature of the processing liquid; an upper limit value or a lower limit value evenly distributed around this optimum temperature; and the optimum temperature. storage means for storing a first absolute value of the difference between the optimum temperature and the optimum temperature in the drying section, and a second absolute value of the difference between the optimum temperature and an upper limit value and a lower limit value equally distributed around the optimum temperature; , a first calculation means for calculating a ratio of a temperature difference between an actual measured temperature and an optimum temperature in the processing liquid to a first absolute value stored in the storage means; and a second absolute value stored in the storage means. a second calculation means for calculating the ratio of the temperature difference between the actual measured temperature and the optimum temperature in the drying section to the value; and a ratio calculated by the first and second calculation means at a predetermined energization switching time. A temperature control device for a photosensitive material processing machine, comprising: a control means for supplying power to the first heater or the second heater corresponding to the larger one of the heaters.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11598386A JPS62272249A (en) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | Temperature adjuster for photosensitive material processor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11598386A JPS62272249A (en) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | Temperature adjuster for photosensitive material processor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62272249A JPS62272249A (en) | 1987-11-26 |
| JPH0564787B2 true JPH0564787B2 (en) | 1993-09-16 |
Family
ID=14675970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11598386A Granted JPS62272249A (en) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | Temperature adjuster for photosensitive material processor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62272249A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6419351A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-23 | Dainippon Screen Mfg | Method for controlling dry part temperature of photosensitive material processor |
| JPH0654374B2 (en) * | 1987-11-27 | 1994-07-20 | 富士写真フイルム株式会社 | Processing method of silver halide light-sensitive material |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6032049A (en) * | 1983-08-03 | 1985-02-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Control device of heater in photosensitive material processing equipment |
-
1986
- 1986-05-20 JP JP11598386A patent/JPS62272249A/en active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6032049A (en) * | 1983-08-03 | 1985-02-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Control device of heater in photosensitive material processing equipment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62272249A (en) | 1987-11-26 |
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