JPH0559560A - Utilization of plasma reaction at atmos- pheric pressure and device therefor - Google Patents
Utilization of plasma reaction at atmos- pheric pressure and device thereforInfo
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- JPH0559560A JPH0559560A JP3218035A JP21803591A JPH0559560A JP H0559560 A JPH0559560 A JP H0559560A JP 3218035 A JP3218035 A JP 3218035A JP 21803591 A JP21803591 A JP 21803591A JP H0559560 A JPH0559560 A JP H0559560A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、大気圧プラズマ反応の
利用方法とその装置に関し、さらに詳しくは、大気圧下
の高安定性グロー放電プラズマにより高効率で粉体の表
面改質を行うことが可能な大気圧プラズマ反応の利用方
法及びその装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction and an apparatus therefor, and more specifically, to highly efficiently reform the surface of powder by high stability glow discharge plasma under atmospheric pressure. The present invention relates to a method of using an atmospheric pressure plasma reaction and an apparatus therefor.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、プラズマは、気体が強く電離し
てイオンと電子とに分離し、全体としてほぼ中性である
が、その特性が中性の気体とは異なるものをいうことは
周知の通りである。このプラズマは、通常、気体の放電
により人工的に得ることができる。2. Description of the Related Art Generally, it is well known that plasma is a substance which is strongly ionized and separated into ions and electrons and is almost neutral as a whole, but its characteristics are different from those of a neutral gas. On the street. This plasma can usually be obtained artificially by discharging a gas.
【0003】ところで、かかるプラズマの応用技術とし
て、低圧グロー放電プラズマを利用した製膜法や表面改
質法が広く知られており、産業的にも種々の分野に応用
されている。このような低圧グロー放電プラズマによる
表面処理方法の一つとして、いわゆる有機プラズマ方法
があり、この有機プラズマ方法は有機化合物気体をプラ
ズマ化することにより薄膜形成、表面改質するものであ
る。さらに、真空容器内におけるプラズマを利用して、
ダイヤモンド粉体、超微粒子粉体を製造し、あるいは表
面改質する方法も提案されている。By the way, as a technique for applying such plasma, a film forming method and a surface modification method utilizing low-pressure glow discharge plasma are widely known, and they are industrially applied to various fields. There is a so-called organic plasma method as one of the surface treatment methods using such low-pressure glow discharge plasma, and this organic plasma method is a method of forming a thin film and modifying the surface by converting an organic compound gas into plasma. Furthermore, using the plasma in the vacuum container,
A method for producing diamond powder or ultrafine particle powder or for surface modification has also been proposed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の低圧グロー放電プラズマによる表面処理法によれ
ば、いずれも10-5〜10-3〔Torr〕程度の真空下での
反応であるため、低圧真空装置及び当該設備が必要であ
り、かつ不連続処理(バッチ処理)等のため、製造に時
間がかかり、製造コストが高価なものとならざるを得な
いという欠点があった。また、粉体などの表面処理方法
の場合には、顔料等の表面を湿式法で樹脂または各種
酸、アルカリ、含界面活性剤溶液エーロゾル等で処理
し、乾燥、粉砕、分級等の行程を通す必要があることか
ら、設備、処理時間、処理行程等が相当複雑であり、し
かも廃液を処理する必要がある欠点があった。However, according to these conventional surface treatment methods using low-pressure glow discharge plasma, since all of them are reactions under a vacuum of about 10 -5 to 10 -3 [Torr], low pressure Since a vacuum device and the equipment are required, and discontinuous processing (batch processing) or the like, it takes time to manufacture and there is no choice but to increase the manufacturing cost. Further, in the case of a surface treatment method for powder or the like, the surface of a pigment or the like is treated by a wet method with a resin or various acids, alkalis, surfactant-containing surfactant solution aerosols, etc., and the process of drying, pulverizing, classifying, etc. is performed. Since it is necessary, there is a drawback that the equipment, the processing time, the processing process and the like are considerably complicated and the waste liquid needs to be processed.
【0005】そこで、本発明は、上記の問題点に鑑み、
大気圧下において反応活性が大きく、しかも高安定性の
反応ガスプラズマを利用し、気相方法でしかも安価に大
量の粉体表面を処理し得る大気圧プラズマ反応の利用方
法及びその装置を提供することを目的とする。In view of the above problems, the present invention has been made in view of the above problems.
(EN) Provided are a method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction and a device therefor capable of treating a large amount of powder surface by a gas phase method at a low cost by utilizing a highly stable reactive gas plasma having a large reaction activity under atmospheric pressure. The purpose is to
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明の大気圧プラズマ反応の利用方
法は、金属電極を誘電体で覆ってなる高電圧印加電極及
び接地電極から構成された反応容器内に、粉体を入れ、
希ガス、モノマー気体を単独又は混合して導入し、前記
高電圧印加電極及び接地電極に電力を供給して大気圧下
にプラズマ励起させ、前記粉体表面を処理することを特
徴とするものである。In order to achieve the above object, a method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction according to the invention of claim 1 is to use a high voltage applying electrode and a ground electrode which are formed by covering a metal electrode with a dielectric. Put powder in the configured reaction vessel,
A rare gas or a monomer gas is introduced alone or as a mixture, and electric power is supplied to the high-voltage applying electrode and the ground electrode to excite plasma under atmospheric pressure to treat the powder surface. is there.
【0007】また、請求項2記載の発明の大気圧プラズ
マ反応の利用方法は、金属電極を誘電体で覆ってなる高
電圧印加電極及び接地電極から構成された反応容器内
に、粉体を入れ、希ガス、モノマー気体を単独又は混合
して導入すると共に、他ガスを導入し、前記高電圧印加
電極及び接地電極に電力を供給して大気圧下にプラズマ
励起させ、前記粉体表面を処理することを特徴とするも
のである。請求項2記載の発明において、前記他ガス
は、溶剤ガスを使用するか、有機酸若しくは無機酸のガ
ス、その錯体ガス、又はアルカリ性ガスを使用するか、
あるいは含界面活性剤溶液エーロゾルを使用すればよ
い。In the method of utilizing the atmospheric pressure plasma reaction according to the second aspect of the present invention, the powder is put in a reaction container composed of a high voltage applying electrode and a ground electrode, which are formed by covering a metal electrode with a dielectric. A rare gas or a monomer gas is introduced alone or in a mixture, and another gas is introduced, and electric power is supplied to the high voltage applying electrode and the ground electrode to excite the plasma under atmospheric pressure to treat the powder surface. It is characterized by doing. In the invention according to claim 2, the other gas is a solvent gas, a gas of an organic acid or an inorganic acid, a complex gas thereof, or an alkaline gas,
Alternatively, a surfactant-containing solution aerosol may be used.
【0008】さらに、請求項6記載の発明の大気圧プラ
ズマ反応装置は、大気圧プラズマ反応を起こさせるため
の反応容器と、当該反応容器の少なくとも内部に設けら
れ、金属電極を誘電体で覆って構成した高電圧印加電極
及び接地電極と、前記反応容器の内部に稀ガスを導入す
る希ガス供給管と、前記反応容器の内部にモノマーガス
を導入するモノマーガス供給管と、前記反応容器の内部
に他ガスを導入する他ガス供給管と、前記反応容器から
一定のガスを放出する排気ガス管とを備えてなることを
特徴とするものである。そして、請求項6記載の発明に
おいて、前記高電圧印加電極及び接地電極の誘電体材料
としては、液体誘電体を単独あるいは固体誘電体と併用
して使用することが好ましい。Further, an atmospheric pressure plasma reactor according to the invention of claim 6 is provided with a reaction vessel for causing an atmospheric pressure plasma reaction, and is provided at least inside the reaction vessel, and a metal electrode is covered with a dielectric. A high voltage applying electrode and a ground electrode configured, a rare gas supply pipe for introducing a rare gas into the reaction container, a monomer gas supply pipe for introducing a monomer gas into the reaction container, and the inside of the reaction container Another gas supply pipe for introducing another gas into the chamber, and an exhaust gas pipe for discharging a certain gas from the reaction container are provided. In the invention according to claim 6, as the dielectric material of the high voltage applying electrode and the ground electrode, it is preferable to use a liquid dielectric alone or in combination with a solid dielectric.
【0009】[0009]
【作用】請求項1記載の発明では、金属電極を誘電体で
覆って構成した接地電極、高電圧印加電極を有する反応
容器の内部に、希ガスとモノマー気体とを単独又は混合
させて導入し、金属電極を誘電体で覆って構成した接地
電極、高電圧印加電極と導入ガスとの相互作用により大
気圧プラズマを安定に発生させて粉体表面を処理するよ
うにしている。これにより、粉体は、分散性、再分散
性、凝集性、沈降防止性、結束性、混練り性等が向上す
る。According to the first aspect of the present invention, the rare gas and the monomer gas are introduced into the reaction vessel having the ground electrode and the high voltage applying electrode, which are formed by covering the metal electrode with the dielectric, alone or as a mixture. The surface of the powder is treated by stably generating atmospheric pressure plasma by the interaction between the ground electrode constituted by covering the metal electrode with a dielectric, the high voltage applying electrode and the introduced gas. As a result, the powder has improved dispersibility, redispersibility, cohesiveness, anti-settling property, binding property, kneading property, and the like.
【0010】請求項2記載の発明では、金属電極を誘電
体で覆って構成した高電圧印加電極を有する反応容器の
内部に、希ガスとモノマー気体とを単独又は混合させて
導入すると共に、他ガスとして溶剤ガス、有機酸、無機
酸、含界面活性剤溶液エーロゾルの単独又は混合ガスを
適時導入し、金属電極を誘電体で覆って構成した接地電
極、高電圧印加電極と複数の導入ガスとの相互作用によ
り安定に大気圧プラズマ反応を起こさせて、粉体表面を
処理するようにしている。これにより、粉体は、分散
性、再分散性、凝集性、沈降防止性、結束性、混練り性
等が向上する。According to the second aspect of the present invention, the rare gas and the monomer gas are introduced individually or as a mixture into the reaction vessel having the high voltage applying electrode formed by covering the metal electrode with the dielectric material. Solvent gas as a gas, organic acid, inorganic acid, a single or mixed gas of surfactant-containing surfactant solution aerosol is introduced at appropriate times, a ground electrode constituted by covering a metal electrode with a dielectric, a high-voltage applying electrode and a plurality of introduction gases. The surface of the powder is treated by stably causing an atmospheric pressure plasma reaction due to the interaction of. As a result, the powder has improved dispersibility, redispersibility, cohesiveness, anti-settling property, binding property, kneading property, and the like.
【0011】また、請求項6記載の発明では、高電圧印
加電極又は接地電極を誘電体で被覆し、螺旋状に巻き上
げ電極とし、さらに、その極性の反対極性電極を誘電体
で被覆して螺旋状電極の中心に挿入して対極電極とす
る。そして、これらを反応容器の内部に設置し、希ガス
とモノマー気体とを単独又は混合させて導入し、及び又
は他ガスとして溶剤ガス、有機酸、無機酸、含界面活性
剤溶液エーロゾルの単独又は混合ガスを適時導入し、大
気圧下に高活性で高安定性のグロー放電プラズマによる
粉体の表面を処理できる。これにより、上記二つの処理
方法を実現することが可能になる。また、当該装置でそ
の処理方法を実現すると、粉体は、分散性、再分散性、
凝集性、沈降防止性、結束性、混練り性等の第一義的価
値を付加し、かつ粉体の他物質に対する添加、充填剤効
果を強大、強固にしその性能、機能が向上することにな
る。Further, according to the invention of claim 6, the high voltage applying electrode or the ground electrode is covered with a dielectric material to form a spirally wound electrode, and the opposite polarity electrode of the polarity is covered with a dielectric material to form a spiral. The counter electrode is inserted by inserting it in the center of the electrode. Then, these are installed inside the reaction vessel, and a rare gas and a monomer gas are introduced individually or in a mixed manner, and / or a solvent gas as another gas, an organic acid, an inorganic acid, or a surfactant-containing aerosol alone or. It is possible to treat the surface of the powder by glow discharge plasma having high activity and high stability under atmospheric pressure by introducing the mixed gas at appropriate times. This makes it possible to realize the above two processing methods. Further, when the treatment method is realized by the device, the powder has a dispersibility, a redispersibility,
To add primary value such as cohesiveness, anti-settling property, cohesiveness, kneading property, etc., to add to other substances in powder, to strengthen and strengthen the effect of filler, and to improve its performance and function. Become.
【0012】[0012]
【実施例】以下、本発明について以下に説明する。図1
は、本発明の大気圧プラズマ反応装置の一実施例を示す
構成図である。図1において、例えばパイレックス製の
ベルジャー反応容器からなる反応容器1は、下容器1a
の上に上容器1bが脱着可能となっており、使用時には
下容器1aと上容器1bとの間にOリング2を介在させ
てクランプ3によりジョイントできるようにしてある。
反応容器1は、その内部において、上容器1bの一部に
粉体の飛散防止のためのフィルター4を設置してあり、
さらに下容器1aの底部に粉体が容易に巻き上がり、し
かも粉体が底部に滞積し、処理の不都合を生じないよう
にメッシュ5が敷いてある。前記反応容器1には、真空
排気管6が接続してあり、当該反応容器1の使用時に、
その内部や粉体中の空気等を除去する必要があるとき
に、真空排気管6から内部空気等を排出し、10-3〔To
rr〕程度を得ている。なお、真空排気管6にトラップが
必要なときには、真空排気管6と真空ポンプ(図示せ
ず)との間に設置すればよい。The present invention will be described below. Figure 1
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma reactor of the present invention. In FIG. 1, for example, a reaction vessel 1 made of a Pyrex bell jar reaction vessel is a lower vessel 1a.
The upper container 1b is detachable on the upper part of the container, and when in use, the O-ring 2 is interposed between the lower container 1a and the upper container 1b so that they can be joined by the clamp 3.
Inside the reaction vessel 1, a filter 4 for preventing powder scattering is installed in a part of the upper vessel 1b.
Further, the powder is easily rolled up on the bottom of the lower container 1a, and the powder is accumulated on the bottom, and the mesh 5 is laid so as not to cause inconvenience in processing. A vacuum exhaust pipe 6 is connected to the reaction container 1, and when the reaction container 1 is used,
When it is necessary to remove air or the like in the interior or in the powder, the internal air or the like is exhausted from the vacuum exhaust pipe 6 and the pressure is reduced to 10 -3 [To
rr]. When the vacuum exhaust pipe 6 needs a trap, it may be installed between the vacuum exhaust pipe 6 and a vacuum pump (not shown).
【0013】上記反応容器1の内部中心には接地電極7
が直線状に設けてあり、この接地電極7の周囲に高電圧
印加電極8をら線状に設けている。また、上記反応容器
1の下容器1aの周囲には、接地電極9が設けてある。
なお、上記接地電極7、高電圧印加電極8、接地電極9
は、極性を逆にしても良く放電するが、上記した極性と
した方が好都合である。また、接地電極9は、スパイラ
ル状で良いが、ステンレス等の金属金網、さらには金網
に誘電体を両面ラミネートしたものを巻き付けるとさら
に良い。このときに使用する誘電体被覆材としては、ガ
ラス、セラミックス、プラスチック等が使用可能である
が、絶縁油を塗布しても良く、また絶縁油を各種ゴムに
練り混んだもの及び加硫化ゴム等と架橋反応させたもの
等が使用可能である。もちろん、絶縁油を基材等に含浸
させ、導電性金属等に巻き付け電極としても良い。さら
には、絶縁油を管中に注入し金属電極を挿入し、電極と
しても良い。これは、電極部分が発熱する時固体誘電体
が熱歪み等により変形破壊するのを防止し、絶縁油を使
用する事により循環冷却装置の使用が可能になり、電極
部分の発熱を制御することができ、しかも基材温度の上
昇に伴いアーク放電に移行するのを防止することも可能
である。また、液体誘電体を使用することにより、放電
電極部分の面積の拡大が容易であり、かつ加工、製造し
やすい等の利点もある。A ground electrode 7 is provided at the center of the inside of the reaction vessel 1.
Are provided in a straight line, and a high voltage applying electrode 8 is provided in a line around the ground electrode 7. A ground electrode 9 is provided around the lower container 1a of the reaction container 1.
The ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9
Discharges well even if the polarity is reversed, but it is more convenient to use the above-mentioned polarity. Further, the ground electrode 9 may have a spiral shape, but it is more preferable to wind a metal wire net such as stainless steel, or a wire net with a dielectric material laminated on both sides. As the dielectric coating material used at this time, glass, ceramics, plastics and the like can be used, but insulating oil may be applied, and various rubbers mixed with insulating oil and vulcanized rubber, etc. It is possible to use those obtained by crosslinking reaction with. Of course, an insulating oil may be impregnated into a base material and wound around a conductive metal to form an electrode. Furthermore, insulating oil may be injected into the tube and a metal electrode may be inserted to form an electrode. This is to prevent the solid dielectric from being deformed and destroyed by heat strain when the electrode part generates heat, and by using insulating oil, the circulation cooling device can be used and the heat generation of the electrode part can be controlled. It is also possible to prevent the transition to arc discharge as the substrate temperature rises. Further, by using the liquid dielectric, there are advantages that the area of the discharge electrode portion can be easily expanded, and the processing and manufacturing are easy.
【0014】希ガス供給管10は、流量計11a、バブ
リング装置12aを経由して反応容器1の底部に接続さ
れている。また、他ガス供給管13は、流量計11b、
バブリング装置12bを経由して反応容器1の底部に接
続されている。これら、希ガス供給管10、他ガス供給
管13により、単独あるいは混合で、ガスの供給が可能
である。また、モノマーガス供給管14は上記同様に流
量計11cを介して反応容器1の底部に接続されてお
り、希ガス供給管10とモノマーガス供給管14とによ
り、単独ガス若しくは混合ガスの供給が可能としてあ
る。これら希ガス供給管10、他ガス供給管13、及び
モノマーガス供給管14により、各供給ガスは、流量計
11a、11b、11cで流量を調整し、反応容器1の
内部に導入される。The rare gas supply pipe 10 is connected to the bottom of the reaction vessel 1 via a flow meter 11a and a bubbling device 12a. Further, the other gas supply pipe 13 includes a flow meter 11b,
It is connected to the bottom of the reaction vessel 1 via a bubbling device 12b. The rare gas supply pipe 10 and the other gas supply pipe 13 can supply the gas individually or in a mixture. In addition, the monomer gas supply pipe 14 is connected to the bottom of the reaction vessel 1 via the flowmeter 11c in the same manner as described above, and the rare gas supply pipe 10 and the monomer gas supply pipe 14 can supply a single gas or a mixed gas. It is possible. By the rare gas supply pipe 10, the other gas supply pipe 13, and the monomer gas supply pipe 14, the flow rate of each supply gas is adjusted by the flow meters 11a, 11b, and 11c, and the supply gas is introduced into the reaction vessel 1.
【0015】前記反応容器1の上容器1bには、排気ガ
ス管15が接続してあり、排気ガス管15の途中にはフ
ィルター16が設けてある。この排気ガス管15で外気
中に排気する際には、フィルター4は、排気ガスを通過
し粉体を通過させない大きさとすると良く、例えば0.01
〜250 〔ミクロン〕とすることが望ましい。特に、0.1
〜50〔ミクロン〕のものが望ましい。また、反応容器1
の内部において、He等希ガスを再利用する場合には、
フィルター4は、O.01〜5〔ミクロン〕のものを使用す
ることが望ましい。また、粉体サンプルは、メッシュ5
の中央部分に置き、供給ガスと供に反応容器1の内部に
拡散するようにする。An exhaust gas pipe 15 is connected to the upper container 1b of the reaction container 1, and a filter 16 is provided in the middle of the exhaust gas pipe 15. When the exhaust gas pipe 15 exhausts to the outside air, the filter 4 may have a size that allows the exhaust gas to pass and does not pass the powder, for example, 0.01
It is desirable to set it to 250 [micron]. In particular, 0.1
Approximately 50 [micron] is preferable. Also, the reaction container 1
When reusing rare gas such as He inside the
As the filter 4, it is desirable to use one having a diameter of 0.01 to 5 [micron]. The powder sample is mesh 5
Is placed in the central part of the reaction vessel 1 so as to diffuse inside the reaction vessel 1 together with the supply gas.
【0016】次に、接地電極7及び高電圧印加電極8の
構造について図2及び図3を使用して説明する。図2
は、上記反応容器1内で使用される接地電極7、高電圧
印加電極8の具体的構造を示す説明図である。図2にお
いて、接地電極7及び高電圧印加電極8は、金属電極1
7の周囲に誘電体被覆材18で被覆して構成されてい
る。ここで、誘電体被覆材としては、ガラス、セラミッ
クス、プラスチック等が使用可能である。図3は液体誘
電体を使用した際の接地電極7及び高電圧印加電極8の
具体的構成を示す説明図である。Next, the structures of the ground electrode 7 and the high voltage applying electrode 8 will be described with reference to FIGS. Figure 2
FIG. 3 is an explanatory view showing a specific structure of a ground electrode 7 and a high voltage applying electrode 8 used in the reaction container 1. In FIG. 2, the ground electrode 7 and the high voltage applying electrode 8 are the metal electrode 1
7 is covered with a dielectric coating material 18. Here, as the dielectric coating material, glass, ceramics, plastic, or the like can be used. FIG. 3 is an explanatory diagram showing a specific configuration of the ground electrode 7 and the high voltage applying electrode 8 when the liquid dielectric is used.
【0017】図3において、接地電極7及び高電圧印加
電極8は、金属電極17の周囲を容器19で覆い、その
容器19内部に液体誘電体20を封入して構成する。こ
こで、液体誘電体20として使用可能なものは、アルキ
ルベンゼン、ポリブデン、五塩化ジフェニール等に代表
される炭化水素系合成絶縁油、塩素化合成油、鉱油、シ
リコーン油、フッ素油等であり、これを単独使用する。
単独で使用する場合、金属電極17に使用する金属は、
銅よりもアルミニューム、マグネシューム、スズ、亜
鉛、ニッケル等の合金、あるいはステンレススティール
等が良い。In FIG. 3, the ground electrode 7 and the high-voltage applying electrode 8 are formed by covering the metal electrode 17 with a container 19 and enclosing the liquid dielectric 20 inside the container 19. Here, what can be used as the liquid dielectric 20 is a hydrocarbon-based synthetic insulating oil represented by alkylbenzene, polybutene, diphenyl pentachloride, etc., chlorinated synthetic oil, mineral oil, silicone oil, fluorine oil, etc. Used alone.
When used alone, the metal used for the metal electrode 17 is
Aluminum, alloys of alloys such as tin, zinc and nickel, or stainless steel are preferable to copper.
【0018】また、上記接地電極7及び高電圧印加電極
8において、金属電極17の周囲に設ける液体誘電体2
0は、適当な基材に含浸させてもよい。また、これらの
液体誘電体20は、他の樹脂やゴム等と練り混むか、架
橋硬膜したものでも良い。比較的低電力で使用する場合
には、高密度ポリエチレン、ニトリルゴム、ウレタンゴ
ム等のゴム系が取扱い易い。他にポリビニールアルコー
ル及びポリビニールアセタールの架橋タイプのものが使
用可能である。また、容器19の材料としては、パイレ
ックスガラス、アルミナ系セラミックス、チタンサンバ
リューム系セラミックス等がより実用的である。例え
ば、パイレックスガラス等の耐熱ガラスの管で構成した
容器19の中にシリコン(GE社、SF96)等を封入
して接地電極7あるいは高電圧印加電極8としてもよ
い。Further, in the ground electrode 7 and the high voltage applying electrode 8, the liquid dielectric 2 provided around the metal electrode 17 is provided.
0 may be impregnated into a suitable substrate. Further, these liquid dielectrics 20 may be kneaded with another resin, rubber or the like, or may be a crosslinked hard film. When used at a relatively low power, rubber systems such as high-density polyethylene, nitrile rubber, urethane rubber are easy to handle. Alternatively, a cross-linked type of polyvinyl alcohol and polyvinyl acetal can be used. Further, as the material of the container 19, Pyrex glass, alumina ceramics, titanium sun value ceramics, and the like are more practical. For example, silicon (GE 96, SF96) or the like may be enclosed in a container 19 made of a heat-resistant glass tube such as Pyrex glass to serve as the ground electrode 7 or the high-voltage applying electrode 8.
【0019】次に、上記構成の反応容器1の内部にて、
プラズマ放電させる動作を以下に説明する。まず、反応
容器1の内部に導入するガスは大気圧グロー放電の安定
化に重要な要素であり、以下に詳細に説明する。希ガス
としては、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴ
ン(Ar)、窒素(N2)等のガスが使用可能である。
モノマー気体としては、不飽和炭化水素、ハロゲンその
他の官能基を有し若しくは有しない炭化水素類が使用可
能である。特に、ハロゲン官能基を有する炭化水素類と
しては、例えばCF4、C2F4、C3F8、(CH3)3B
等のものが良い。Next, in the reaction vessel 1 having the above-mentioned structure,
The operation of plasma discharge will be described below. First, the gas introduced into the reaction vessel 1 is an important element for stabilizing atmospheric pressure glow discharge, and will be described in detail below. Gases such as helium (He), neon (Ne), argon (Ar), and nitrogen (N 2 ) can be used as the rare gas.
As the monomer gas, unsaturated hydrocarbons, halogens and other hydrocarbons having or not having a functional group can be used. In particular, the hydrocarbon compound having a halogen functional groups, for example CF 4, C 2 F 4, C 3 F 8, (CH 3) 3 B
Etc. are good.
【0020】他ガスとして使用する溶剤ガスの溶剤とし
ては、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アルコール、エ
ーテル、アセタール、ケトン、エステル、多価アルコー
ルとその誘導体、脂肪酸及びフェノール、窒素化合物、
イオウ、リンその他の化合物、無機溶剤等を含む。処理
する粉体の種類により前記他ガスを適時選択することが
できるが、これらの溶剤ガスを単体又は混合して使用す
ることも可能である。他ガスとして使用する有機酸とし
ては、カルボン酸(RCOOH)、スルホン酸(RSO
3)、スルフィン酸(RSO2 )、フェノール(ArO
H)、エノール(RCH=C(OH)R、チオフェノー
ル(ArSH)、イミド(RCONHCOR)、オキシ
ム(RCH=NOH)、芳香族スルホナミド(ArSO
2NH2)、ニトロ化合物(RCH2NO2R2CHN
O2)が使用可能であるが、ギ酸、マレイン酸、フマー
ル酸等の単独、あるいは、水、アルコール溶剤等の溶解
物が良い。無機酸としては、塩酸、硫酸、燐酸、硝酸等
が使用可能である。Solvents used as other gases As the solvent of the gas, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, acetals, ketones, esters, polyhydric alcohols and their derivatives, fatty acids and phenols, nitrogen compounds,
Includes sulfur, phosphorus and other compounds, and inorganic solvents. The other gas can be selected as appropriate depending on the type of powder to be treated, but these solvent gases can be used alone or in combination. Organic acids used as other gas include carboxylic acid (RCOOH) and sulfonic acid (RSO).
3 ), sulfinic acid (RSO 2 ), phenol (ArO
H), enol (RCH = C (OH) R, thiophenol (ArSH), imide (RCONHCOR), oxime (RCH = NOH), aromatic sulfonamide (ArSO)
2NH2), nitro compounds (RCH 2 NO 2 R 2 CHN
O 2 ) can be used, but formic acid, maleic acid, fumaric acid or the like alone or a dissolved product of water, an alcohol solvent or the like is preferable. As the inorganic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid or the like can be used.
【0021】他ガスとして使用する含界面活性剤溶液エ
ーロゾルとしては、カチオン系、アニオン系、ノニオン
系、シリコン系、フッ素及びフロロカーボン系、炭化水
素系、脂肪酸及びアミド系、エステル系、アルコール
系、金属セッケン等の単独又は水、溶剤等の溶解物が使
用される。添加量としては、0.001 〔ppm〕−50
〔%〕、好ましくは0.01〔ppm〕−5〔%〕の添加が
望ましい。Surfactant-containing solution aerosols used as other gases include cation type, anion type, nonion type, silicon type, fluorine and fluorocarbon type, hydrocarbon type, fatty acid and amide type, ester type, alcohol type and metal. A soap or the like alone or a dissolved product of water or a solvent is used. The addition amount is 0.001 [ppm] -50
[%], Preferably 0.01 [ppm] -5 [%] is desirable.
【0022】次に、処理可能な粉体について以下に説明
する。ここに、処理可能な粉体としては、有機物、無機
物の粉体なら何でも良い。まず、処理可能な粉体として
有機物粉体を説明すると、有機物粉体には、有機顔料、
有機染料、澱粉蛋白質粉、脂肪粉、炭水化物粉体、ビタ
ミン粉体、酵素粉体、樹脂微粉体、有機物炭化微粉体、
セルロース及びその誘導体粉体等が含まれる。特に、有
機顔料としては、a)中性型ニトロ系に、アゾ系、アン
トラキノン系、フタロシアニンン系、アジン系が、b)
陽イオン系に、トリフェニールメタン系、キサンテン系
が、c)陰イオン系に、アゾ系、トリフェノールメタン
系が、d)その他として、アントラキノン系、ジオキサ
ジン系、キナクリドン系が、e)カーボンブラック(ボ
ーンブラック)等が考えられる。一方、有機染料として
は、アゾ系、アゾメタル複合体、アゾメチン系、ダイア
リライド系、モノアゾ系、アンサンスロン系、ピランス
ロン系、ペリオン系、イソインドリノン系、キノフタロ
ン系、アンスラピリミデイン系、フタロシアニン系、イ
ンダンスロン系、ニグロシン、ペリノン系、キノリン
系、クマリン系、チオインデイゴ系等が含まれる。Next, the treatable powder will be described below. Here, as the powder that can be treated, any powder of an organic substance or an inorganic substance may be used. First, an organic powder will be described as a powder that can be treated.
Organic dye, starch protein powder, fat powder, carbohydrate powder, vitamin powder, enzyme powder, resin fine powder, organic carbonized fine powder,
Cellulose and its derivative powder are included. In particular, as organic pigments, a) neutral nitro pigments, azo pigments, anthraquinone pigments, phthalocyanine pigments, and azine pigments are used.
Cation type, triphenylmethane type, xanthene type, c) Anion type, azo type, triphenolmethane type, d) Others, anthraquinone type, dioxazine type, quinacridone type, e) carbon black ( Bone black) etc. are considered. On the other hand, as organic dyes, azo type, azo metal complex, azomethine type, diarylide type, monoazo type, anthanthrone type, pyranthrone type, perion type, isoindolinone type, quinophthalone type, anthrapyrimidein type, phthalocyanine type , Indanthrone, nigrosine, perinone, quinoline, coumarin, thioindigo and the like.
【0023】次に、処理可能な粉体として無機物粉体に
ついて説明すると、無機物粉体には、無機顔料、すなわ
ち無機化合物より構成されるところの白色顔料、炭酸カ
ルシウム(CaCo3)、酸化チタン(TiO2)、酸化
亜鉛(ZnO)、二酸化ケイ素(SiO2)、タルク、
酸化カルシウム(CaO)、燐酸カルシウム系、燐灰
石、バナジウム(V)、クロム(Cr)、マンガン(M
n)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(N
i)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、水銀
(Hg)、鉛(Pb)、アンチモン(Sb)等有色遷移
元素より構成された物、及び硫黄(S)、セレン(S
e)を含む顔料、金属微粉末等が含まれる。Next, the inorganic powder will be described as the processable powder. The inorganic powder includes inorganic pigments, that is, white pigments composed of inorganic compounds, calcium carbonate (CaCo 3 ), titanium oxide ( TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), silicon dioxide (SiO 2 ), talc,
Calcium oxide (CaO), calcium phosphate-based, apatite, vanadium (V), chromium (Cr), manganese (M
n), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (N
i), molybdenum (Mo), tungsten (W), mercury (Hg), lead (Pb), antimony (Sb), and other substances composed of colored transition elements, and sulfur (S), selenium (S).
Pigments containing e), fine metal powders, etc. are included.
【0024】さらに、処理可能な粉体として土壌一次鉱
物について説明すると、土壌一次鉱物には、a)正ケイ
酸塩として、白雲母、黒雲母、緑濂石、ジルコンが、
b)メタケイ酸塩として、透角閃石が、c)多ケイ酸と
して、正長石、曹長石、灰長石、斜長石、d)酸化物と
して、石英、磁鉄鉱、チタン鉄石が、f)リン酸塩とし
て燐灰石が、g)炭酸塩として石灰石が含まれる。加え
て、処理可能な粉体として土壌2次鉱物について説明す
ると、土壌2次鉱物には、粘土鉱物、カオリナイト、ハ
ロサイト、加水ハロイサイト、イライト、バーミキュラ
イット、モンモリロナイト、ハイデライト、ノンッロナ
イト、サポナイト、クロライト、アタパルジアイト、ギ
ブサイト、ヘマタイト、ゲータイト、ライモナイト、ピ
ロルサイト、アロフェン等が含まれる。Further, the soil primary minerals will be explained as the powders which can be treated. The soil primary minerals include a) orthosilicates of muscovite, biotite, glauconite and zircon.
b) Metamorphic acid silicates, c) Polysilicic acid, orthoclase, albite, anorthite, plagioclase; d) Quartz, magnetite, titanite as oxides, and f) Phosphates. A) and g) limestone as a carbonate. In addition, the soil secondary mineral will be described as a powder that can be treated. Examples of the soil secondary mineral include clay mineral, kaolinite, halosite, hydrohalloysite, illite, vermiculite, montmorillonite, hydelite, nonronite, saponite, It includes chlorite, attapulgite, gibbsite, hematite, goethite, limonite, pyrrolcite, allophane and the like.
【0025】また、処理可能な粉体としてセラミックス
について説明すると、セラミックスには、金属酸化物と
して、チタン酸バリウム(BaTiO3)系、酸化アル
ミニウム(Al2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ケイ
素(SiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化ベ
リリウム(BeO)、酸化トリウム(ThO2)、PL
ZT系、フェライト系、カルコゲン系、酸化物ガラス
系、希土類コバルト系、及びそれらの多相形セラミック
スが含まれる。さらに、処理可能な粉体として非酸化物
系について説明すると、非酸化物系には、炭素、炭化珪
素(SiC)系、炭化チタン(TiC)、窒化ホウ素
(BN)、硫化カドミウム(CdS)及びそれらの多相
系セラミックスが含まれる。なお、処理可能な粉体とし
てセメントについて説明すると、セメントには、ポルト
ランドセメント、マグネシアセメント、アルミナセメン
ト、シリカセメント等が含まれる。Further, ceramics will be described as the powder that can be treated. For the ceramics, the metal oxides include barium titanate (BaTiO 3 ) system, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), and oxide. Silicon (SiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), beryllium oxide (BeO), thorium oxide (ThO 2 ), PL
ZT-based, ferrite-based, chalcogen-based, oxide glass-based, rare earth-cobalt-based, and polyphase ceramics thereof are included. Further, a non-oxide type powder that can be treated will be described. Examples of non-oxide type powders include carbon, silicon carbide (SiC) type, titanium carbide (TiC), boron nitride (BN), cadmium sulfide (CdS) and These multi-phase ceramics are included. When cement is described as a powder that can be treated, the cement includes Portland cement, magnesia cement, alumina cement, silica cement and the like.
【0026】次に、上述した粉体を適当量秤量し、反応
容器1の上容器1bを外して反応容器1の下容器1aの
内部に装填しあるいは導入した後、上容器1bを下容器
1aに装着し、これら下容器1aに上容器1bをクラン
プ3でもってジョイントする。Next, the above-mentioned powder is weighed in an appropriate amount, the upper container 1b of the reaction container 1 is removed, and the lower container 1a of the reaction container 1 is loaded or introduced into the lower container 1a. Then, the upper container 1b is joined to the lower container 1a with the clamp 3.
【0027】また、必要なガスを、希ガス供給管10、
他ガス供給管13、及び又はモノマーガス供給管14を
介して反応容器1の内部に導入し、接地電極7、高電圧
印加電極8、接地電極9に電圧を印加することにより、
大気圧プラズマ処理を行った。第1処理方法について以
下に説明する。2〔g〕の処理品シリカ粉体を反応容器
1の内部に装填し、毎分2000〔ml〕の稀ガス(ヘ
リウム(He))を希ガス供給管10を介して反応容器
1の内部に導入し、接地電極7、高電圧印加電極8及び
接地電極9に電圧を印加して、大気圧プラズマ処理を1
0分間行った。この際に、接地電極7、高電圧印加電極
8等の誘電体としてPEを使用し、それら接地電極7、
高電圧印加電極8、接地電極9に周波数が23〔kHz〕
の交流電圧を印加した。このとき、放電開始電力は、1
50〔W〕であった。The required gas is supplied to the rare gas supply pipe 10,
By introducing the gas into the reaction vessel 1 through the other gas supply pipe 13 and / or the monomer gas supply pipe 14 and applying a voltage to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9,
Atmospheric pressure plasma treatment was performed. The first processing method will be described below. 2 [g] of the treated silica powder was loaded into the reaction container 1, and 2000 [ml] of a rare gas (helium (He)) was supplied into the reaction container 1 through the rare gas supply pipe 10. Then, a voltage is applied to the ground electrode 7, the high-voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9 to perform atmospheric pressure plasma treatment 1
It went for 0 minutes. At this time, PE is used as a dielectric for the ground electrode 7, the high-voltage applying electrode 8, etc.
The high voltage application electrode 8 and the ground electrode 9 have a frequency of 23 [kHz].
Was applied. At this time, the discharge start power is 1
It was 50 [W].
【0028】上述のようにして大気圧プラズマ処理を行
った結果についての評価は次のようにした。分散性の評
価については、0.2〔g〕の処理済みシリカ粉体を分散
瓶に採取し、20.0〔ml〕の蒸留水を添加してペイン
トセーカーで分散した。また、溶剤に対する分散沈降速
度については、0.2〔g〕の処理済みシリカ粉体を分散
瓶に採取し、20.0〔ml〕のMEK(メチルエチルケ
トン)を添加してペイントセーカーで分散した。メデイ
ア無添加、分散時間10分経過した後、分散液の一部を
採取し、石英セルに入れ、紫外、可視分光光度計で沈降
速度を測定した。分散程度の良いビヒクルは、顔料の沈
降速度が一般に遅く、透過率も低い値を相対的に示し
た。沈降速度が速いと、上澄み液は時間の経過に伴なっ
て透過率を増大させるので、透過率を時間の経過と共に
測定し、沈降速度とした。粉体の粒径、比重等により、
透過率は変化するので同じ粉体間での相対的比較とし
た。尚、透過率は顔料の種類、溶剤などにより異なる
が、設定後、9分、30分、90分ごとに透過率を測定
した。透過率の値は、波長700〔ミリミクロン〕にお
ける各時間での値を示してある。The results of the atmospheric pressure plasma treatment as described above were evaluated as follows. Regarding the evaluation of dispersibility, 0.2 [g] of the treated silica powder was sampled in a dispersion bottle, 20.0 [ml] of distilled water was added, and the dispersion was performed with a paint saker. With respect to the dispersion and sedimentation speed with respect to the solvent, 0.2 [g] of the treated silica powder was sampled in a dispersion bottle, and 20.0 [ml] of MEK (methyl ethyl ketone) was added and dispersed with a paint-saker. .. After the media was not added and the dispersion time was 10 minutes, a part of the dispersion was sampled, placed in a quartz cell, and the sedimentation rate was measured by an ultraviolet and visible spectrophotometer. Vehicles with good dispersion showed a relatively low pigment settling rate and low transmittance. When the sedimentation speed is high, the supernatant liquid increases the transmittance with the passage of time, so the transmittance was measured with the passage of time, and was set as the sedimentation rate. Depending on the particle size and specific gravity of the powder,
Since the transmittance changes, a relative comparison was made between the same powders. The transmittance varies depending on the type of pigment, solvent, etc., but after setting, the transmittance was measured every 9 minutes, 30 minutes, and 90 minutes. The transmittance value is a value at a wavelength of 700 [millimicron] at each time.
【0029】また、凝集性については、沈降後、分散液
中の粉体の凝集性を見た。さらに、再分散性について
は、沈降後、その分散液を振った後に、再分散性を見
た。無処理のシリカ粉体に関しても、同様な分散をし、
測定を行った。また、混煉り性に関しては、未処理粉及
び処理粉末を0.5〔g〕だけ秤量し、予め溶解していた
アクリトニトリルゴム溶液(固形部分20〔%〕のME
K溶液)の10〔g〕で混煉りし、グラインドゲージで
粒径を測定した。未処理の物と比較して、ヘリウム(H
e)処理したものは、水分散系で良好な分散性、再分散
性、凝集性、混煉り性が認められた。なお、上述した評
価及び処理条件については、表1に記載した。Regarding the cohesiveness, the cohesiveness of the powder in the dispersion was observed after sedimentation. Regarding redispersibility, the redispersibility was observed after shaking the dispersion after sedimentation. Similar dispersion is applied to untreated silica powder,
The measurement was performed. Regarding the blendability, the untreated powder and the treated powder were weighed by 0.5 [g], and the acrytonitrile rubber solution (solid portion 20 [%] ME
K solution) was mixed with 10 [g] and the particle size was measured with a grind gauge. Helium (H
e) The treated product showed good dispersibility, redispersibility, cohesiveness, and kneading property in an aqueous dispersion system. The evaluation and processing conditions described above are shown in Table 1.
【表1】 また、表1において、混練り評価基準(分散粒子径
〔μ〕ヘグマンゲージ)は、◎は5、○は5〜10、△は
10〜15、×は15〜25という基準で記載している。なお、
以下の表においても同様とする。[Table 1] In Table 1, kneading evaluation criteria (dispersed particle diameter [μ] Hegman gauge) are 5 for ⊚, 5 to 10 for ○, and Δ for
10 to 15 and x are described on the basis of 15 to 25. In addition,
The same applies to the tables below.
【0030】次に、第2処理方法について説明する。上
記第1処理方法と同様にしてシリカ粉体を反応容器1に
装填し、毎分2000〔ml〕の稀ガス(He)を希ガ
ス供給管10を介して反応容器1の内部に導入すると共
に、毎分2000〔ml〕のモノマーガス(CF4)を
モノマーガス供給管14を介して反応容器1の内部に導
入し、接地電極7、高電圧印加電極8及び接地電極9に
電圧を印加して、大気圧プラズマ処理を10分間行っ
た。この際に、接地電極7、高電圧印加電極8等の誘電
体としてPEを使用し、それら接地電極7、高電圧印加
電極8、接地電極9に周波数が25〔kHz〕の交流電圧
を印加した。このとき、放電開始電力は、150〔W〕
であった。上述のようにして大気圧プラズマ処理を行っ
た結果についての評価は、次のようにし、その結果を表
2に記載した。もちろん、表2には処理条件も記載され
ている。処理品シリカ粉体0.2〔g〕を分散瓶に秤量
し、蒸留水及びMEK20.0〔ml〕を添加し、第1処
理方法と同様に分散を行い評価した。CF4処理シリカ
粉体の場合は、表2からも分かるように、第1処理方法
とは逆に、溶剤、MEKに対する分散性、再分散性、凝
集性、混煉り性の向上が認められた。Next, the second processing method will be described. Silica powder was loaded into the reaction vessel 1 in the same manner as in the first treatment method, and 2000 [ml] of a rare gas (He) was introduced into the reaction vessel 1 through the rare gas supply pipe 10. , 2000 [ml] of monomer gas (CF 4 ) per minute is introduced into the reaction vessel 1 through the monomer gas supply pipe 14, and voltage is applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9. Then, the atmospheric pressure plasma treatment was performed for 10 minutes. At this time, PE was used as a dielectric for the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, and an AC voltage having a frequency of 25 [kHz] was applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9. .. At this time, the discharge start power is 150 [W]
Met. The results of the atmospheric pressure plasma treatment as described above were evaluated as follows, and the results are shown in Table 2. Of course, Table 2 also describes processing conditions. The treated silica powder 0.2 [g] was weighed in a dispersion bottle, distilled water and MEK 2 0.0 [ml] were added, and the dispersion was evaluated in the same manner as in the first treatment method. As can be seen from Table 2, in the case of the CF 4 treated silica powder, contrary to the first treatment method, improvement in dispersibility in solvent and MEK, redispersibility, cohesiveness and kneading property was observed. ..
【表2】 [Table 2]
【0031】さらに、第3処理方法について以下に説明
する。上記第1処理方法と同様にしてシリカ粉体を反応
容器1に装填し、毎分2000〔ml〕の稀ガス(H
e)を希ガス供給管10を介して反応容器1の内部に導
入すると共に、他ガスとしてギ酸をバブリング方法で他
ガス供給管13を介して反応容器内に導入し、接地電極
7、高電圧印加電極8及び接地電極9に電圧を印加し
て、大気圧プラズマ処理を10分間行った。この際に、
接地電極7、高電圧印加電極8等の誘電体としてガラス
容器19の内部に液体誘電体20を封入したものを使用
し、それら接地電極7、高電圧印加電極8、接地電極9
に周波数が28〔kHz〕の交流電圧を印加した。このと
き、放電開始電力は、75〔W〕であった。上述のよう
にして大気圧プラズマ処理を行った結果についての評価
は、次のようにし、その結果を表3に記載した。もちろ
ん、表3には処理条件も記載されている。上記第1の方
法と同様に蒸留水、MEKによる分散結果は、表3から
も分かるように、MEKにおいて、分散性、再分散性、
凝集性、混煉り性の向上が認められた。Further, the third processing method will be described below. Silica powder was loaded into the reaction vessel 1 in the same manner as in the first treatment method, and 2000 [ml] of rare gas (H 2
e) is introduced into the reaction container 1 through the rare gas supply pipe 10, and formic acid is introduced as another gas into the reaction container through the other gas supply pipe 13 by a bubbling method. A voltage was applied to the application electrode 8 and the ground electrode 9 to perform atmospheric pressure plasma treatment for 10 minutes. At this time,
As the dielectrics of the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, those in which a liquid dielectric 20 is enclosed in a glass container 19 are used, and the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9 are used.
An alternating voltage having a frequency of 28 [kHz] was applied to. At this time, the discharge start power was 75 [W]. The results of the atmospheric pressure plasma treatment as described above were evaluated as follows, and the results are shown in Table 3. Of course, Table 3 also describes processing conditions. Similar to the first method, the results of dispersion with distilled water and MEK show that, as can be seen from Table 3, in MEK, dispersibility, redispersibility,
Improvements in cohesiveness and blendability were observed.
【表3】 [Table 3]
【0032】なお、接地電極7あるいは高電圧印加電極
8は、図3に示すように、金属電極17としてアルミを
使用し、ガラス管19の中に液体誘電体20としてGE
社のシリコン油(SF96−100)を入れたものを使
用してプラズマ放電を行ったところ、均一なグロー放電
が安定して得られた。さらに、接地電極7、高電圧印加
電極8等に印加する電力として、200〔W〕に上げ、
30分連続処理を試みたところ、安定なグロー放電を維
持し続けた。放電終了後、接地電極7、高電圧印加電極
8等は、発熱も無いことから、液体誘電体の冷却効果が
あることがわかった。したがって、大出力プラズマ処理
する場合、液体誘電体を使用することにより、液体誘電
体自体を循環冷却装置で連続冷却をすることが可能にな
ることから、アーク放電への移行も防止可能になり、非
常に好都合である。加えて、上述した構成の接地電極7
あるいは高電圧印加電極8の場合、固体誘電体と金属電
極を張り合わす必要がなく、金属とガラス等のように熱
膨張率の違いによって生じる破壊も無く、安定したグロ
ー放電が長時間得られることが分かった。As shown in FIG. 3, the ground electrode 7 or the high voltage applying electrode 8 uses aluminum as the metal electrode 17, and GE as the liquid dielectric 20 in the glass tube 19.
When a plasma discharge was performed using a silicone oil (SF96-100) manufactured by the same company, a uniform glow discharge was stably obtained. Further, the power applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like is increased to 200 [W],
When a continuous treatment for 30 minutes was tried, a stable glow discharge was maintained. After the discharge was completed, the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like did not generate heat, and thus it was found that the liquid dielectric had a cooling effect. Therefore, in the case of high-power plasma processing, by using the liquid dielectric, it becomes possible to continuously cool the liquid dielectric itself with the circulation cooling device, and thus it is possible to prevent the transition to arc discharge. Very convenient. In addition, the ground electrode 7 having the above-described configuration
Alternatively, in the case of the high-voltage applying electrode 8, it is not necessary to bond the solid dielectric and the metal electrode together, and there is no destruction caused by the difference in coefficient of thermal expansion such as metal and glass, and stable glow discharge can be obtained for a long time. I understood.
【0033】加えて、第4処理方法について以下に説明
する。上記第1処理方法と同様にしてシリカ粉体を反応
容器1に装填し、毎分2000〔ml〕の稀ガス(H
e)を希ガス供給管10を介して反応容器1の内部に導
入すると共に、他ガスとしてフロロカーボン(スリーエ
ム社 FC431)の1%水溶液をHeガスでバブリング
(6mml/分)して他ガス供給管13を介して反応容
器内に導入し、接地電極7、高電圧印加電極8及び接地
電極9に電圧を印加して、大気圧プラズマ処理を10分
間行った。この際に、接地電極7、高電圧印加電極8等
の誘電体としてPEを使用し、それら接地電極7、高電
圧印加電極8、接地電極9に周波数が24〔kHz〕の交
流電圧を印加した。このとき、放電開始電力は、75
〔W〕であった。上述のようにして大気圧プラズマ処理
を行った結果についての評価は、次のようにし、その結
果を表4に記載した。もちろん、表4には処理条件も記
載されている。上記第1の方法と同様に蒸留水、MEK
による分散結果は、表3からも分かるように、MEKに
おいて、分散性、再分散性、凝集性、混煉り性の向上が
認められた。処理済みシリカ粉体を実施例−1と同様に
蒸留水、MEKで分散し測定した。表4からも分かるよ
うに、MEKに対して分散性、再分散性、凝集性、混煉
り性の向上が認められた。In addition, the fourth processing method will be described below. Silica powder was loaded into the reaction vessel 1 in the same manner as in the first treatment method, and 2000 [ml] of rare gas (H 2
e) is introduced into the reaction vessel 1 through the rare gas supply pipe 10, and a 1% aqueous solution of fluorocarbon (FC 431 manufactured by 3M) is bubbled (6 mml / min) with He gas as another gas to supply the other gas. It was introduced into the reaction vessel through the tube 13, and a voltage was applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9, and atmospheric pressure plasma treatment was performed for 10 minutes. At this time, PE was used as a dielectric material for the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, and an AC voltage having a frequency of 24 [kHz] was applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9. .. At this time, the discharge start power is 75
It was [W]. The results of the atmospheric pressure plasma treatment as described above were evaluated as follows, and the results are shown in Table 4. Of course, Table 4 also describes the processing conditions. Distilled water, MEK as in the first method
As can be seen from Table 3, the results of dispersion by MEK showed improvement in dispersibility, redispersibility, cohesiveness, and kneading property in MEK. The treated silica powder was dispersed and measured with distilled water and MEK in the same manner as in Example-1. As can be seen from Table 4, improvement in dispersibility, redispersibility, cohesiveness and brittleness was observed with respect to MEK.
【表4】 [Table 4]
【0034】また、第5処理方法について、以下に説明
する。上記第1処理方法と同様にして、2〔g〕のカー
ボンブラック粉体を反応容器1に装填し、毎分2000
〔ml〕の稀ガス(He)を希ガス供給管10を介して
反応容器1の内部に導入し、接地電極7、高電圧印加電
極8及び接地電極9に電圧を印加して、大気圧プラズマ
処理を10分間行った。この際に、接地電極7、高電圧
印加電極8等の誘電体としてPEを使用し、それら接地
電極7、高電圧印加電極8、接地電極9に周波数が22
〔kHz〕の交流電圧を印加した。このとき、放電開始電
力は、75〔W〕であった。このようにして処理済みカ
ーボンブラック粉体0.2〔g〕を分散瓶に採取し、蒸
留水20.0〔ml〕を添加し、ペイントセーカーで1
0分間分散した。以下、第1処理方法と同様に測定し
た。同時に未処理のカーボンブラックに対しても同様に
行い比較した。このような測定結果については、表5に
記載してある。表5からも分かるように、未処理のカー
ボンブラックに対し、He処理カーボンブラックは、著
しく分散性、再分散性、凝集性、混煉り性の向上が認め
られた。The fifth processing method will be described below. 2 [g] of carbon black powder was loaded into the reaction vessel 1 in the same manner as in the first treatment method described above, and 2000 g / min.
[Ml] rare gas (He) is introduced into the reaction vessel 1 through the rare gas supply pipe 10, and a voltage is applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9 to perform atmospheric pressure plasma. The treatment was carried out for 10 minutes. At this time, PE is used as a dielectric material for the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, and the frequency of 22 is applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9.
An alternating voltage of [kHz] was applied. At this time, the discharge start power was 75 [W]. 0.2 g of the carbon black powder thus treated was collected in a dispersion bottle, 20.0 ml of distilled water was added, and 1 with a paint-saker.
Dispersed for 0 minutes. Hereafter, it measured similarly to the 1st processing method. At the same time, the untreated carbon black was similarly compared and compared. The measurement results are shown in Table 5. As can be seen from Table 5, the He-treated carbon black was found to have remarkably improved dispersibility, redispersibility, cohesiveness, and brittleness as compared with untreated carbon black.
【表5】 [Table 5]
【0035】さらに、第6処理方法について、以下に説
明する。上記第1処理方法と同様にして、2〔g〕のカ
ーボンブラック粉体を反応容器1に装填し、毎分200
0〔ml〕の稀ガス(He)を希ガス供給管10を介し
て反応容器1の内部に導入すると共に、他ガスとしてメ
タノールをHeガスでバブリング(6mml/分)して
他ガス供給管13を介して反応容器内に導入し、接地電
極7、高電圧印加電極8及び接地電極9に電圧を印加し
て、大気圧プラズマ処理を10分間行った。この際に、
接地電極7、高電圧印加電極8等の誘電体としてPEを
使用し、それら接地電極7、高電圧印加電極8、接地電
極9に周波数が22〔kHz〕の交流電圧を印加した。こ
のとき、放電開始電力は、75〔W〕であった。その処
理条件及び処理結果を表6に記載した。処理済みカーボ
ンブラックの粉体0.2〔g〕を分散瓶に採取し、蒸留水
20.0〔ml〕を添加し、ペイントセーカーで10分間
分散した。以下、上記第1処理方法と同様に測定した。
これにより、表6からも分かるように、カーボンブラッ
ク粉体に対して、分散性、再分散性、凝集性、混煉り性
の向上が認められた。Further, the sixth processing method will be described below. In the same manner as in the first treatment method, 2 [g] of carbon black powder was loaded into the reaction vessel 1 and the reaction was performed at 200 minutes per minute.
0 [ml] of rare gas (He) is introduced into the reaction vessel 1 via the rare gas supply pipe 10, and methanol as another gas is bubbled with He gas (6 ml / min) to supply the other gas supply pipe 13. Was introduced into the reaction vessel via the, and a voltage was applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9, and atmospheric pressure plasma treatment was performed for 10 minutes. At this time,
PE was used as a dielectric material for the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, and an AC voltage having a frequency of 22 [kHz] was applied to the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9. At this time, the discharge start power was 75 [W]. The processing conditions and the processing results are shown in Table 6. The treated carbon black powder 0.2 [g] was sampled in a dispersion bottle, distilled water 20.0 [ml] was added, and the mixture was dispersed for 10 minutes with a paint saker. Hereinafter, the measurement was performed in the same manner as the first treatment method.
As a result, as can be seen from Table 6, improvement in dispersibility, redispersibility, cohesiveness and brittleness was observed with respect to the carbon black powder.
【表6】 [Table 6]
【0036】最後に、第7処理方法について、以下に説
明する。上記第1処理方法と同様にして、2〔g〕のア
パタイト粉体を反応容器1に装填し、毎分2000〔m
l〕の稀ガス(He)を希ガス供給管10を介して反応
容器1の内部に導入すると共に、他ガスとしてギ酸をH
eガスでバブリング(6mml/分)して他ガス供給管
13を介して反応容器1の内部に導入し、接地電極7、
高電圧印加電極8及び接地電極9に電圧を印加して、大
気圧プラズマ処理を10分間行った。この際に、接地電
極7、高電圧印加電極8等の誘電体としてガラスを使用
し、それら接地電極7、高電圧印加電極8、接地電極9
に周波数が24〔kHz〕の交流電圧を印加した。このと
き、放電開始電力は、75〔W〕であった。その処理条
件及び処理結果を表6に記載した。ギ酸処理したアパタ
イトは、表6からも分かるように、MEK分散において
分散性、再分散性、凝集性、混煉り性の向上が認められ
た。なお、未処理アパタイト粉体について、評価も表7
に記載した。Finally, the seventh processing method will be described below. 2 [g] of apatite powder was loaded into the reaction vessel 1 in the same manner as in the first treatment method described above, and 2000 [m] / min.
l] of the rare gas (He) is introduced into the reaction vessel 1 through the rare gas supply pipe 10 and at the same time, formic acid is added as H 2
Bubbling with e gas (6 ml / min) is introduced into the reaction vessel 1 through the other gas supply pipe 13, and the ground electrode 7,
A voltage was applied to the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9, and atmospheric pressure plasma treatment was performed for 10 minutes. At this time, glass is used as a dielectric for the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, and the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the ground electrode 9 are used.
An alternating voltage having a frequency of 24 [kHz] was applied to. At this time, the discharge start power was 75 [W]. The processing conditions and the processing results are shown in Table 6. As can be seen from Table 6, the formic acid-treated apatite was found to have improved dispersibility, redispersibility, cohesiveness, and kneading property in MEK dispersion. The untreated apatite powder was also evaluated in Table 7.
Described in.
【表7】 [Table 7]
【0037】以上のように代表的な粉体、稀ガス、モノ
マーガス、他ガスについての処理方法を説明し、かつそ
の処理結果の評価についても説明し、その結果等を各表
に示してある。以上の説明したように上記実施例では、
粉体の種類により、その処理ガスを変えることにより、
水系、溶剤系のどちらの系にも分散性、再分散性、凝集
性、混煉り性を向上させることが可能になる。これは、
従来の粉体の分散に対して、当該発明を適用することに
より従来分散不可能であったものが分散可能になること
を意味し、粉体の種類によっては溶解性をも改良可能で
あることを示し、簡単にその粉体表面の改質が可能とな
ることを示している。また、接地電極7、高電圧印加電
極8等に液体誘電体20を使用することにより、容易に
その放電電極部分の拡大が可能になり、しかも安価に製
造可能である。しかも、循環冷却装置の併用により、長
時間連続処理に対しても放電電極部分の温度が制御で
き、安定な放電が持続可能になり、一層応用範囲が広が
ることが期待できる。As described above, the processing method for the typical powder, rare gas, monomer gas, and other gas is explained, and the evaluation of the processing result is also explained, and the results are shown in each table. .. As described above, in the above embodiment,
By changing the processing gas depending on the type of powder,
It becomes possible to improve dispersibility, redispersibility, cohesiveness and brittleness in both water-based and solvent-based systems. this is,
By applying the invention, it is possible to disperse what could not be dispersed conventionally by dispersing the conventional powder, and it is possible to improve the solubility depending on the kind of powder. And that the surface of the powder can be easily modified. Further, by using the liquid dielectric 20 for the ground electrode 7, the high voltage applying electrode 8 and the like, the discharge electrode portion can be easily expanded and the manufacturing cost can be reduced. Moreover, the combined use of the circulation cooling device makes it possible to control the temperature of the discharge electrode portion even during continuous treatment for a long time, so that stable discharge can be sustained, and it can be expected that the range of application will be further expanded.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1及び2記
載の発明によれば、粉体の種類により、その処理ガスを
変えることにより、水系、溶剤系のどちらの系にも分散
性、再分散性、凝集性、混煉り性を向上させた粉体を得
ることが可能になり、かつ簡単にその粉体表面の改質が
可能となるという効果がある。As described above, according to the first and second aspects of the present invention, by changing the processing gas depending on the kind of powder, dispersibility in both water-based and solvent-based systems, It is possible to obtain a powder having improved redispersibility, cohesiveness and kneading property, and it is possible to easily modify the surface of the powder.
【0039】また、請求項6記載の発明によれば、粉体
の種類により、その処理ガスを変えることが可能とな
り、かつ水系、溶剤系のどちらの系にも分散性、再分散
性、凝集性、混煉り性を向上させた粉体を得る方法を実
現できる効果がある。Further, according to the invention of claim 6, the processing gas can be changed depending on the kind of the powder, and the dispersibility, redispersibility and aggregation in both the water system and the solvent system can be obtained. There is an effect that it is possible to realize a method for obtaining powder having improved properties and blendability.
【図1】本発明の大気圧プラズマ反応装置の実施例を示
す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma reactor of the present invention.
【図2】同実施例で使用される接地電極、高電圧印加電
極の一構成例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of a ground electrode and a high voltage applying electrode used in the same embodiment.
【図3】同実施例で使用される接地電極、高電圧印加電
極の他の構成例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing another configuration example of the ground electrode and the high voltage applying electrode used in the same embodiment.
1 反応容器 1a 下容器 1b 上容器 2 Oリング 3 クランプ 4 フィルター 5 メッシュ 7 接地電極 8 高電圧印加電極 9 接地電極 10 希ガス供給管 13 他ガス供給管 14 モノマーガス供給管 17 金属電極 18 誘電体被覆材 19 容器 20 液体誘電体 1 Reaction Vessel 1a Lower Vessel 1b Upper Vessel 2 O-ring 3 Clamp 4 Filter 5 Mesh 7 Grounding Electrode 8 High Voltage Application Electrode 9 Grounding Electrode 10 Rare Gas Supply Pipe 13 Other Gas Supply Pipe 14 Monomer Gas Supply Pipe 17 Metal Electrode 18 Dielectric Coating material 19 Container 20 Liquid dielectric
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 000122450 岡崎 幸子 東京都杉並区高井戸東2丁目20番11号 (71)出願人 390035932 小駒 益弘 埼玉県和光市下新倉843−15 (72)発明者 谷先 達三 広島県尾道市浦崎町甲247 (72)発明者 岡崎 幸子 東京都杉並区高井戸東二丁目20番11号 (72)発明者 小駒 益弘 埼玉県和光市下新倉843−15 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (71) Applicant 000122450 Sachiko Okazaki 2-20-11 Takaido East, Suginami-ku, Tokyo (71) Applicant 390035932 Masuhiro Ogoma 843-15 Shimoshinkura, Wako-shi, Saitama (72) Inventor Tani Previous Tatsuzo 247 Kou Urasaki-cho, Onomichi, Hiroshima Prefecture (72) Inventor Sachiko Okazaki 2-20-11 Takaido Higashi, Suginami-ku, Tokyo (72) Inventor Masuhiro Ogoma 843-15 Shimoshinkura, Wako-shi, Saitama
Claims (7)
加電極及び接地電極から構成された反応容器内に、粉体
を入れ、希ガス、モノマー気体を単独又は混合して導入
し、前記高電圧印加電極及び接地電極に電力を供給して
大気圧下にプラズマ励起させ、前記粉体表面を処理する
ことを特徴とする大気圧プラズマ反応の利用方法。1. A powder is placed in a reaction vessel composed of a high voltage applying electrode and a ground electrode, which is formed by covering a metal electrode with a dielectric, and a rare gas and a monomer gas are introduced individually or in a mixed manner, A method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction, characterized in that the powder surface is treated by supplying electric power to a high voltage applying electrode and a ground electrode to excite plasma under atmospheric pressure.
加電極及び接地電極から構成された反応容器内に、粉体
を入れ、希ガス、モノマー気体を単独又は混合して導入
すると共に、他ガスを導入し、前記高電圧印加電極及び
接地電極に電力を供給して大気圧下にプラズマ励起さ
せ、前記粉体表面を処理することを特徴とする大気圧プ
ラズマ反応の利用方法。2. A powder is placed in a reaction vessel composed of a high voltage applying electrode and a ground electrode, in which a metal electrode is covered with a dielectric, and a rare gas and a monomer gas are introduced individually or in a mixed manner, and A method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction, characterized in that another gas is introduced and electric power is supplied to the high voltage applying electrode and the ground electrode to excite plasma under atmospheric pressure to treat the powder surface.
徴とする請求項2記載の大気圧プラズマ反応の利用方
法。3. The method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction according to claim 2, wherein the other gas is a solvent gas.
ガスか、その錯体ガス、又はアルカリ性ガスであること
を特徴とする請求項2記載の大気圧プラズマ反応の利用
方法。4. The method of utilizing an atmospheric pressure plasma reaction according to claim 2, wherein the other gas is a gas of an organic acid or an inorganic acid, a complex gas thereof, or an alkaline gas.
ゾルであることを特徴とする請求項2記載の大気圧プラ
ズマ反応の利用方法。5. The method of utilizing the atmospheric pressure plasma reaction according to claim 2, wherein the other gas is a surfactant-containing solution aerosol.
反応容器と、当該反応容器の少なくとも内部に設けら
れ、金属電極を誘電体で覆って構成した高電圧印加電極
及び接地電極と、前記反応容器の内部に稀ガスを導入す
る希ガス供給管と、前記反応容器の内部にモノマーガス
を導入するモノマーガス供給管と、前記反応容器の内部
に他ガスを導入する他ガス供給管と、前記反応容器から
一定のガスを放出する排気ガス管とを備えてなることを
特徴とする大気圧プラズマ反応装置。6. A reaction container for causing an atmospheric pressure plasma reaction, a high-voltage applying electrode and a ground electrode which are provided at least inside the reaction container and are formed by covering a metal electrode with a dielectric, and the reaction container. A rare gas supply pipe for introducing a rare gas inside, a monomer gas supply pipe for introducing a monomer gas inside the reaction container, another gas supply pipe for introducing another gas inside the reaction container, and the reaction An atmospheric pressure plasma reactor comprising: an exhaust gas pipe for discharging a constant gas from a container.
体材料としては、液体誘電体を単独あるいは固体誘電体
と併用して使用することを特徴とする請求項6記載の大
気圧プラズマ反応装置。7. The atmospheric plasma reactor according to claim 6, wherein a liquid dielectric is used alone or in combination with a solid dielectric as the dielectric material of the high voltage applying electrode and the ground electrode. ..
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|
JP21803591A JP3478840B2 (en) | 1991-06-27 | 1991-08-05 | Atmospheric pressure plasma reactor |
US07/923,444 US5399832A (en) | 1991-08-05 | 1992-08-03 | Process and apparatus for using atmospheric-pressure plasma reactions |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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JP3-250141 | 1991-06-27 | ||
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP21803591A Expired - Lifetime JP3478840B2 (en) | 1991-06-27 | 1991-08-05 | Atmospheric pressure plasma reactor |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3478840B2 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007106888A (en) * | 2005-10-13 | 2007-04-26 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | Rubber composition |
KR100924723B1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-11-04 | 부산대학교 산학협력단 | Surface treatment system of nano-powder using atmospheric plasma |
JP2013176770A (en) * | 2005-04-25 | 2013-09-09 | Utec:Kk | Surface-fluorinated fine particle, surface fluorination apparatus, and method for producing surface-fluorinated fine particle |
KR101594904B1 (en) * | 2014-09-19 | 2016-02-18 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Coating apparatus using plasma |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP21803591A patent/JP3478840B2/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100924723B1 (en) * | 2007-12-14 | 2009-11-04 | 부산대학교 산학협력단 | Surface treatment system of nano-powder using atmospheric plasma |
KR101594904B1 (en) * | 2014-09-19 | 2016-02-18 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Coating apparatus using plasma |
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