JPH05506739A

JPH05506739A - 部分的に拘束された最少エネルギー状態制御装置

Info

Publication number: JPH05506739A
Application number: JP91510840A
Authority: JP
Inventors: ジュデル，ネイル，エイチ．
Original assignee: ハンプシャー　インスツルメンツ，インコーポレイテッド
Priority date: 1990-05-21
Filing date: 1991-05-20
Publication date: 1993-09-30
Also published as: US5165094A; WO1991018333A1; KR930700893A; KR970002065B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】８、　半導体装置を接続する方法の１つの工程として一回に抵抗体被覆の半導体のウェファ−（２６）の１つの部分を露光させる信号を発生するリトグラフ機械（１０）において、前記機械（１０）が少なくとも１つの平らな表面を存するベース（Ｉ２）と、前記ベース（１２）および機械的な土台の間に固定されて前記ベース（１２）が成る減衰はね復帰力を有して土台に対して動き得るようになす絶縁装置ｔ　（３２）と、前記ベース（１２）に強固に固定され、与えられた通路に沿って露光エネルギーを発生する装置（２０）と、前記１つの表面上を動かされるように配置され、前記ウェファ−（２６）を保持するステッパー（１６）と、前記ベース（１２）および前記ステッパー（１６）に連結され、与えられる制御信号によって決定される運動を行うように前記ステッパー（Ｉ６）を前記ベース（１２）に対して相対的に初期位置から所望の位置に動かすモーター装置（１８）と、前記ステッパー（１６）の運動の終端において前記ステッパー（１６）および前記ベース（１２）の速度の差か零になるように前記制御信号を発生する装置（３４，３８，４０）とを有することを特徴とするリトグラフィー機械（１０）。

９、　前記制御信号を発生する装置（３４，３８，４０）かフィルターの式および前記ステッパー（１６）を前記所望の位置に動かすのに前記モーター装置（１８）によって消費されるエネルギーを減少させるようにして前記制御信号を発生させる軌道の式に応答するようになされていることを特徴とする請求の範囲第８項に記載された発明。

１０、前記制御信号を発生する装置（３４，３８，４０）が前記ステッパー（１６）および前記ベース（１２）の初期速度にば答するように定められていることを特徴とする請求の範囲第８項に記載された発明。

１１、前記制御信号を発生する装置（３４，３８，４０）が時間の変化するフィルターの式および前記ステッパー（１６）を前記所望の位置に動かすのに前記モーター装置（１８）によって消費されるエネルギーを減少させるようにして前記制御信号を発生させる軌道の式に応答し、前記フィルターの式が前記ステッパー（１６）および前記ベース（１２）の初期速度に基づくようになされていることを特徴とする請求の範囲第８項、第９項または第１０項に記載された発明。

１２、前記フィルターの式が前記ベース（１２）および前記ベース（１２）が同じ速度で運動する初期条件に基づくようになされていることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載された発明。

１３、固定されていないベース（１２）の１つの表面（１４）上で部材（１６）を動かす方法において、前記ベース（１２）に対して相対的な前記部材（１６）の位置を検出し、前記運動可能の部材（１６）を前記ベース（１２）上の所望の位置に動かすための制御信号を前記運動可能の部材（Ｉ６）に与える諸工程を有し、前記制御信号が、前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達する時に前記ベース（１２）および前記運動可能の部材（１６）の速度の相対的な差が零になるようになされていることを特徴とする方法。

１４、フィルターの式を与える工程を含み、前記制御信号が前記フィルターの式および前記検出された位置に応答して与えられるようになされていることを特徴とする請求の範囲第１３項に記載された方法。

１５、前記フィルターの式を与える工程が前記フィルター信号を計算して前記運動可能の部材（１６）の所望の移動および実際の移動の間の誤差を減少させ、前記計算された信号を制御信号を発生する装置（３４，３８，４０）に与えるようになされていることを特徴とする請求の範囲第１４項に記載された方法。

１６、前記フィルター信号を計算する工程か成る時間内に前記部材（１６）をこれの初期位置から前記所望の位置に動かすエネルギーを減少させることを含むよう（こなされていることを特徴とする請求の範［第１５項に記載された方法。

１７、前記制御信号が、前記運動可能の部材（１６）および前記ベース（１２）の速度が、前記運動可能の部材（１６）か前記所望の位置に達する時に育成であるように前記運動可能の部材（１６）を動かすようになされていることを特徴とする請求の範囲第１６項に記載された方法。

１８、前記制御信号が、前記運動可能の部材（１６）および前記ベース（１２）の速度が、前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達する時に育成であるように前記運動可能の部材（１６）を動かすようになされていることを特徴とする請求の範囲第１３項、第１４項または第１５項に記載された方法。

明　細　書部分的に拘束された最少エネルギー状態制御装置本発明はモーターの制御装置に関し、さらに詳しくは、１つの機素を土台の運動から絶縁されるベース上のリトグラフのステッパーのような浮遊する第２の機素上を動かして、最少限のエネルギーしか利用しないで、与えられた時間内にこれらの２つの機素を相対的な静止状態になすために使用されるサーボ装置を存する制御装置に関られた著しく重い、１つの甚だ平らな平滑な表面を有する堅固なブロックを含む大きいベースを利用して構成されていた。大抵のリトグラフ装置は、別々の工程にてウェファ−を堅固なベースの平らな表面上に保持して動かし、−回にウェファ−の１つの部分がエネルギーを受けるようになすための通常ステッパーとして知られる機構を含んでいる。過去において、選択されていたエネルギーは紫外線であった。しかし、最近の半導体技術の進歩は、ウェファ−上にさらに一層小さい形状のパターンを作るためにＸ線のような短い波長のエネルギーを利用することを必要とするようになって来た。

半導体のウェファ−上に小さいパターンを作る能力はリトグラフ装置に対する全体的に新しい一連の拘束条件を生じさせたのである。このような拘束条件の１つは、半導体の製造工程で必要となる高度の精密性のために堅固なブロックを簡単な日常の土台の運動から絶縁することを必要とする。例えばこのような運動はリトグラフ機械が使用されている場所に近接した大型トラックまたは列車のような車輌から生じる恐れがある。伝統的なリトグラフ機械の構成によれば、極く僅かな土台の運動でさえ直接に機械に伝達されて、今日の精密機械に誤整合またはその他の問題を生じさせる恐れがあるのである。さらに、点光源のＸ線リトグラフ装置の場合には、マスクおよびウェファ−の間の間隙が重要で、通常２０ミクロンに保持されるのである。従って、極く僅かな土台の運動もウェファ−に対するマスクの間隙の完全性を保持するのに問題を生じさせる恐れがある。

上述のような土台の運動の問題に対する１つの解決方法は、大重量の車輌に使用される衝撃吸収装置と構造が同様の絶縁脚部によって堅固なベースを土台から絶縁する４とである。しかし、これらの衝撃吸収装置を有することはステッパーが動かされる時に何時でも堅固なベースに減衰振動を生じる新しい問題を生じさせるのである。

過去において、サーボ制御装置がこれらの問題を解決するために使用され、ベースの振動を減少させるために、運動体に対して逆の加速信号を与えることによって大体作動するようになっていた。しかし、これらの技術は全体の装置を静止させて役立たせるようになすために著しい時間及びエネルギーを必要としたのである。現在要望されているものは、さらに頻繁な運動を許し、しかも利用するエネルギーを少なくできるさらに都合のよい装置である。

本発明の■つの特徴によって、固定されていないベースの表面上を制置可能の動かす装置によって動かされる運動可能の部材を有し、ベースに対して相対的な前記動かす装置の位置を示す信号を与える位置検出装置をさらに有する制御装置において、前記動かす装置をベース上の所望の位置に動かすために運動可能の部材に対して制御信号を与える装置を有することを特徴とする制御装置が提供されるのである。この制御信号は、ベースおよび運動可能の部材の速度の相対的な差が、運動可能の部材が所望の位置に達した時に零になるような信号である。

本発明の１つの望ましい実施例が次に示す図面を特に参照して以下に説明されるが、これらの図面の肉筆１図はリトグラフ装置の種々の機素の機械的な構成図であり、第２（ａ）図および第２（ｂ）図は従来技術の制御装置を利用した力Ｆに応答して第１図に示されるステッパー組立体によって動かされる距離ｄの時間に対する一対の線図を構成する図面であり、第３（ａ）図および第３（ｂ）図は本発明の制御装置を利用した時の力Ｆに応答して第１図に示されるステッパー組立体によって動かされる距離ｄの時間に対する一対の線図を構成する図面である。

さて第１図を参照すれば、リトグラフ機械１ｏの機械的な構成図が示されている。例えばリトグラフ機械１０はロバート・ディー・フランケルその池の名前の、「リトグラフ機械のための間隔感知／直接装置および方法」と題する米国特許第４，８７０，６６８号に記載されているＸ線リトグラフ機械と同様のものになし得る。機械ＩＯが組立られる基本的な構造機素は甚だ平らで平滑になるように磨かれた上面１４を有する堅固なブロックのような大型で重量のあるベース１２である。ステッパー組立体Ｉ６が、内蔵されている空気軸受によってこの表面１４上を運動可能に配置されている。従って、このステッパー組立体１６および表面１４の間には極く小さい、一定の量の摩擦しか存在しない。誘導モーター１８がさらにベース１２上に取付けられていて、通常の方法で１４ス勢されて、ステッパー組立体１６をＸおよびＹの両方向に駆動し得るようになっている。

エネルギー供給源２０もまたこのリトグラフ機械ｌ。

に含まれている。この供給源２０は前記フランケルその他の特許に記載されているようなＸＪｉＲ供給源になすことができ、または紫外線供給源になすこともできる。この供給源２０は供給源２０およびベース１２の同の破線によって示されるようにベース１２に対して機械的に固定されている。この供給源２０はマスク２２を含んでいて、このマスクを通してＸ線２４のようなエネルギーが通過して１つのパターンを抵抗体被覆のウェファ−２６上に露光させるようになっている。このマスク２２はウェファ−２６上に１ミクロンの半分のような小さい点が露光され得るようなものでなければならない。半導体装置はこのようなものの種々の層によって作られているから、マスク２２をウェファ−２６に対して１ミクロンの十分の一以内またはそれ以下で整合させ得ることが必要である。さらに、リトグラフ機械ＩＯがｘｍｕ式のリトグラフ機械である場合には、マスク２２およびウェファ−２６の間の間隙を精密な一定の値に保持することが重要である。

ベース１２の表面１４上にはまた干渉計２８が配置され、この干渉計に組合されるミラー３０がステッパー組立体１６上に配置されている。第１図にはそれぞれ１つだけしか示されていないが、実際上、それぞれ１つがＸ方向で池の１つがＹ方向に対するようになされた２つの干渉計２８および２つのミラー３０が設けられるのである。公知のように、干渉計およびこれに組合されるミラーは距離を甚だ正確に測定するようになっている。従って、ステッパー組立体１６の初期位置を知ることによって、ステッパー組立体１６の運動を監視できるのである。

ベース１２は土台の上方に６つ（３つだけしか示されていない）の絶縁脚部３２によって保持されるようになっている。それぞれの脚部３２はサーボ弁助勢のガスばね（ｓｅｒｖｏ　ｖａｌｖｅ　ａｓｓｉｓｔｅｄ　ｇａｓ　ｓｐｒｉｎｇ　）を含むことができ、これらの脚部３２は２７２４ｋｇ（６０００１ｂ）またはそれ以上の重量までの負荷を支持できるように設計されている。それぞれの脚部３２がベース１２に固定される時に、父およびＹの両方の横方向の減衰運動が生じ得るようになっている。従って、ベース１２は土台から絶縁されるのである。

これらの脚部３２の目的は、土台の運動を吸収し、これにより、このような土台の運動が半導体の構成要素を製造するのに必要な精密性に悪影響を与えるのを阻止することである。

ステッパー組立体１６はモーター１８によって動かされ、またモーター１８は主モータ−・干渉計制帥装置３４によって与えられる信号によって制御されるようになっている。この主制御装置３４はまた干渉計２８から信号を受取り、この干渉計２８により示される情報およびその他の以下に説明される情報を利用してモーター１８に与える適当なモーター制御信号を決定するようになっている。

脚部３２およびベース１２の間の連結のため、および成る大きさの摩擦がステッパー組立体１６および表面１４の間にあることによって、ステッパー組立体１６が動く度毎に成る大きさの力がベース１２に伝達され、これによってベース１２がステッパー組立体１６の運動方向に動くようになされるのである。ベース１２の運動は勿論絶縁脚部３２があることを考えれば判る通り土台に強固に固定されていないことによるのである。ベース１２の運動はまた力がステッパー組立体１６に伝達され、これによってステッパー組立体１６の附加的な運動を生じさせるのである。勿論、伝達された運動は時間に対して減衰され、最後にはリトグラフ機械１０が静止して安定した状態になるのである。

ステッパー組立体１６を所望の位置に動かして、パターンをウェファ−２６の所望の部分に露光させるためには全体の装置が静止するまで待ち、その後でステッパー組立体１６に対する調節を行ってステッパー組立体Ｉ６およびベース１２の間を伝達される力によって生じた運動に対する修正を行わなければならない。静止するまでの時間は勿論モーター１８のトルク定数、ステッパー組立体１６およびベース１２の質量、絶縁脚部３２のばね定数復帰力および減衰復帰力およびその他の装置の共鳴のような装置の物理的特性に関係する。勿論これらの特性はそれぞれ測定でき、モーター１８に与えられるエネルギーの正しい量はリトグラフ装置ｔ１０を最も早（静止させるように計算することができる。このような場合、外部の制御装置３８がフィルター信号を発生し、モーター＋８を制御するために使用される信号を発生する時に主制御装置３４によって使用されるフィルター信号を主制御装置３４に与えるために使用できるのである。

本発明によって、モーター１８に与えられるエネルギーは、与えられた時間内に与えられて静止させるのを可能になすエネルギーを最少限になすために計算されることができる。さらに詳しくは、本発明はステッパー組立体１６が追従すべき通路および許された時間内に表面１４上の正しい位置にステッパー組立体１６を到達させる正しいモーター制御信号を発生させるのに使用されるフィルターの形態を選択することを含んでいる。

最近の制御理論においては、装置の状態は次のようなベクトルとして説明されることができる。すなわちもし絶縁脚部３２の横方向のばね復帰力がＫとして定義され、絶縁脚部３２の横方向のばね減衰復帰力がＤとして定義され、ステッパー組立体１６の質量がＭｓとして、ベースの質量がＭｂとして定義される場合には、ここでＵはモーター１８に与えられる力で、実際上、上述のベクトル等式は、装置の別々の時間サンプル（ｄｉｓｃｒｅｔｅ　ｔｉｍｅ　ｓａｍｐｌｅ）が使用されることを考慮して計算されなければならないので、従って次の形態になるのである。すなわちｘ　（ｎ）　＝Ｍｘ　（ｎ　−１）　＋１３ｕ　（ｎ）制引装＃３４のような近代的な状態制御装置を使用する場合には、装置の最初の状態はＸ　（０）であって、目標は、時間の最終の瞬間、ｎ＝Ｎｆにて所望の最終状態Ｘｆを生じさせるモーター制御信号ｕ　（ｎ）の順序を見出すことである。通常この最終状態Ｘｆは、に選ばれるのである。

このような拘束条件において、所望の結果を得るために装置に与えられ得る最少エネルギーは、これが次の等式を導き出すのである。すなわちｕ　（ｋ）　＝ＢＴ　（Ｍ　（Ｎｆ−ｋ）　）　ＴＧ・　これは制御理論のよく知られた結果である。

ステッパー組立体１６を所望の位置に動かすための上述の解を使用するに際し、ベース１２を原位置の静止位置に戻し、同時にステッパー組立体１６を所望の位置に達するようになすことは時間および／またはエネルギー・　両方において無駄が多いのである。しかし、上述で説明したリトグラフへの応用のためには、余計な条件は必要がない。必要なことは、露光が行なわれる時に、ステッパー組立体１６の相対的位置がベース１２上の所望の位置にあって、ステッパー組立体１６およびベース１２が互いに対して静止状態にあることである。このことは最終的な拘束条件と考えられることができる。すなわちＫ　（Ｘｆ−Ｘｄ）＋０ここでＸｆは装置の最終的状態で、また一般に、もしＫが縦の行が横の列の数に等しい何れかのマトリックスである場合には、部分的な拘束状態におけるエネルギーの最少化が次のラグランシュ乗数法（Ｌａｇｒａｎｇｉａｎ　ｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒｓ）によって解かれることができる。すなわち但し拘束条件Ｋ　（Ｘｆ−Ｘｄ）＝０この等式は直線マトリックスに解かれることができる。

もしＸｎ　（ＧＫＴＫ）＋ＭＮｆ　ｘ　（０）であるならば、但して、Ｑ＝　（ＫＧＫ’Ｔ）　−１（ＫＸｄ−ＫＭＮｆＸ　（０）であるならば、第１図を再度参照すれば、最良のエネルギー／時間性）　能を得る方法が主制御装置１１ｊ３４に接続される外部の開園装置３８を設けることによって行われるのである。主制御装置３４は駆動モーター１８に対して与えられる信号に対する修正因数を与えるためのデジタルフィルターを含んでいる。外部制御装置３８はデジタルフィルターの式を計算してこの式を主制御装置１３４のデジタルフィルターに与えるのに使用される。さらに、この外部制御装置１１３８はステッパー組立体１６の運動に必要な軌道を計算するのである。運動に対して要求される時間に、主制御装置３４は外部制御装置３８からの計算されたフィルター情報および軌道ｔＲ報を受取ってモーター１８に正しいモーター制御信号を与えるのである。

さて、第２　（ａ）図、第２（ｂ）図、第３（ａ）図および第３（ｂ）図を参照すれば、ステッパー組立体１６の移動（ｄ）の時間（１）に対する曲線およびこのような移動を生じさせるのに必要な力（Ｆ）が示されている。詳しくは、第２（ａ）図は軌道、すなわちステッパー組立体！６の運動が第２（ｂ）図に示されるように最少のカまたはエネルギー量を利用する場合にステッパー組立体１６が距離りの運動に接近する時のミラー３ｏおよび干渉計２８の間の相対的な距離を示している。この図にて判るように、総ての運動が停止されるのに必要な時間は主としてベース１２の運動のために比較的長い。第３（ａ）図は附加的なエネルギーを使用するが、遥かに短い軌道を必要とする場合のステッパー組立体１６の運動に対する軌道を示している。この図から判るように、この軌道は比較的平滑で、時ｒＩ！ＩＴにて所望の位置りに接近する。第３（ａ）図の軌道を運動するためにモーター１８に与えられる力Ｆ（エネルギー）の曲線が第３　（ｂ）図に示されている。図示されるように、大体型まれる方向の小さいカがあり、その後にこの望まれる方向とは反対の負のカが続き、最後に望まれる方向の大きいカが続くのである。一般に、Ｔが小さい程消費されるエネルギーの全量が大きくなるのである。従って、所望の時間内に所望の運動を得るのに必要な最少のエネルギーしか利用しないようにするためには外部の制御装置１３８によって最後の与えられた等式の計算を行うのに正しい値のＴを使用するようにしなければならないのである。

若干の例においては、許容されない大量のエネルギーが消費されるようになる程時１ｆｆｆＴが短くなるのである。

エネルギーを減少させるために、この計算は実際の情況の組合せを考慮するように修正されることができる。ステッパー組立体１６か露光の前に完全に静止するような簡単な情況においては、計算は基礎的であって、外部制御装置１３８内の通常のマイクロプロセッサ−によって処理されることができる。しかし、時間Ｔが短くなるにつれて、他の因子が考慮されなければならなくなる。例えば、運動の間にステッパー組立体１６は土台に対して相対的に完全に静止状態になることは必要がない。ステッパー組立体が所望の位置に達して、ステッパー組立体１６およびベース１２の間の相対速度が零になることだけが必要なのである。従って、ベースＩ２およびステッパー組立体１６の両者が、マスク２２およびウェファ −２６の正しい部分が整合されて露光される時に一体的に動き得ることが可能になる。

このような附加的な拘束条件が除去されると、さらに短い時間Ｔを可能になすフィルターの式が計算できるようになる。しかし、このことは変化可能の初期条件に関係して時間が変化する式および軌道の変化する状態で計算を行うことを含むようになる。この計算に対する計算上の負荷は通常のマイクロプロセッサ−の容量を超過するようになり、これらの計算を助けるために浮遊点協働プロセッサー（ｆｌｏａｔｆｎｇ　ｃｏ−ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ　）　４０が設けられるのである。この協働プロセッサー４０は主制御装置３４に直接に接続され、実際時間の干渉計２８の位置の読みを与えられる。この情報によって、協働プロセッサー４０は必要な軌道およびフィルターの式を計算し、この情報を主制御装置３４に与えるのである。

ＦＩＧ、　２（ａ）　ＦＩＧ、２（Ａ）要　約　書絶縁脚部（３２）を使用して土台に取付けられた堅固なブロック（１２）上にあるステッパー（１６）を有するリトグラフ装置（１０）は、ステッパー（１６）と組合されたモーター（１８）に信号を与えて、その運動を制御するサーボ制御装置（３４，３８，４０）を含んでいる。この制御装置（３４，３８，４０）は前記制御信号を発生させるのに使用されるフィルターの式を計算する装置（３８，４０）を含み、この式がステッパー（１６）の初期速度および別々の運動の間の成る時間に応答して計算されて、最少限の量のエネルギーしか利用しないようになしている。このフィルターの式は前記ベース（１２）および前記ステッパー（１６）の速度の差が、前記ステッパー（１６）が最終位置に達する時に零になることを要求するようになっている。時間が短い状態では、前記ベース（Ｉ２）および前記ステッパー（１６）が最初同じ速度で動き、同じ速度で運動を終了するようになされていて、アレープロセッサー（４０）が時間が変化するフィルターの式を計算するようになっている。

Claims

【特許請求の範囲】専有所有権または特許権が申請される本発明の実施例は次のように限定される。１．固定されないベース（１２）の表面（１４）上を制御可能の動かす装置（１８）によって動かされるようになされた運動可能の部材（１６）を有する装置（１０）であって、前記装置（１０）がさらに前記ベース（１２）に対して相対的な前記運動可能の部材（１６）の位置を示す信号を発生する位置検出装置（２８）を有するようになされている前記装置（１０）において、前記運動可能の部材（１６）を前記ベース（１２）上の所望の位置に動かす制御信号をこの運動可能の部材（１６）に与える装置（３４、３８、４０）を有し、前記制御信号は、前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達した時に前記ベース（１２）および前記運動可能の部材（１６）の速度の相対的な差が零になるようになされていることを特徴とする装置（１０）。２．前記制御信号を与える装置（３４、３８、４０）がさらに前記制御信号を濾波するフィルター装置（３４）を含むようになされていることを特徴とする請求の範囲第１項に記載された発明。３．前記制御信号を与える装置（３４、３８、４０）が前記運動可能の部材（１６）の位置および前記制御信号を発生するフィルター信号に応答する装置（３４）および前記フィルター信号を計算して発生させ、或る時間内に前記運動可能の部材（１６）をこれの初期位置および前記所望の位置の間で動かすためのエネルギーを減少させ、前記計算された信号を前記制御信号を発生させる装置（３４）に与える装置（３８、４０）を含むようになされていることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載された発明。４．前記運動可能の部材（１６）および前記ベース（１２）の速度が前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達した時に有限であるようになされていることを特徴とする請求の範囲第３項に記載された発明。５．前記制御信号が前記運動可能の部材（１６）の所望の軌道および前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達するのに必要な時間に応答して発生されるようになされていることを特徴とする請求の範囲第１項に記載された発明。６．前記運動可能の部材（１６）および前記ベース（１２）の速度が、この運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達した時に有限であるようになされていることを特徴とする請求の範囲第１項、第２項または第５項に記載された発明。７．前記制御信号を与える装置（３４、３８、４０）が前記運動可能の部材（１６）および前記制御信号を発生するフィルター信号に応答する装置（３４）および前記フィルター信号を計算して発生させ、或る時間内に前記運動可能の部材（１６）をこれの初期位置および前記所望の位置の間で動かすためのエネルギーを減少させ、前記計算された信号を前記制御信号を発生させる装置（３４）に与える装置（３８、４０）を含むようになされていることを特徴とする請求の範囲第６項に記載された発明。８．半導体装置を接続する方法の１つの工程として一回に抵抗体被覆の半導体のウェファー（２６）の１つの部分を露光させる信号を発生するリトグラフ機械（１０）において、前記機械（１０）が少なくとも１つの平らな表面を有するベース（１２）と、前記ベース（１２）および機械的な土台の間に固定されて前記ベース（１２）が或る減衰ばね復帰力を有して土台に対して動き得るようになす絶縁装置（３２）と、前記ベース（１２）に強固に固定され、与えられた通路に沿って露光エネルギーを発生する装置（２０）と、前記１つの表面上を動かされるように配置され、前記ウェファー（２６）を保持するステッパー（１６）と、前記ベース（１２）および前記ステッパー（１６）に連結され、与えられる制御信号によって決定される運動を行うように前記ステッパー（１６）を前記ベース（１２）に対して相対的に初期位置から所望の位置に動かすモーター装置（１８）と、前記ステッパー（１６）の運動の終端において前記ステッパー（１６）および前記ベース（１２）の速度の差が零になるように前記制御信号を発生する装置（３４、３８、４０）とを有することを特徴とするリトグラフィー機械（１０）。９．前記制御信号を発生する装置（３４、３８、４０）がフィルターの式および前記ステッパー（１６）を前記所望の位置に動かすのに前記モーター装置（１８）によって消費されるエネルギーを減少させるようにして前記制御信号を発生させる軌道の式に応答するようになされていることを特徴とする請求の範囲第８項に記載された発明。１０．前記制御信号を発生する装置（３４、３８、４０）が前記ステッパー（１６）および前記ベース（１２）の初期速度に応答するように定められていることを特徴とする請求の範囲第８項に記載された発明。１１．前記制御信号を発生する装置（３４、３８、４０）が時間の変化するフィルターの式および前記ステッパー（１６）を前記所望の位置に動かすのに前記モーター装置（１８）によって消費されるエネルギーを減少させるようにして前記制御信号を発生させる軌道の式に応答し、前記フィルターの式が前記ステッパー（１６）および前記ベース（１２）の初期速度に基づくようになされていることを特徴とする請求の範囲第８項、第９項または第１０項に記載された発明。１２．前記フィルターの式が前記ベース（１２）および前記ベース（１２）が同じ速度で運動する初期条件に基づくようになされていることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載された発明。１３．固定されていないベース（１２）の１つの表面（１４）上で部材（１６）を動かす方法において、前記ベース（１２）に対して相対的な前記部材（１６）の位置を検出し、前記運動可能の部材（１６）を前記ベース（１２）上の所望の位置に動かすための制御信号を前記運動可能の部材（１６）に与える諸工程を有し、前記制御信号が、前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達する時に前記ベース（１２）および前記運動可能の部材（１６）の速度の相対的な差が零になるようになされていることを特徴とする方法。１４．フィルターの式を与える工程を含み、前記制御信号が前記フィルターの式および前記検出された位置に応答して与えられるようになされていることを特徴とする請求の範囲第１３項に記載された方法。１５．前記フィルターの式を与える工程が前記フィルター信号を計算して前記運動可能の部材（１６）の所望の移動および実際の移動の間の誤差を減少させ、前記計算された信号を制御信号を発生する装置（３４、３８、４０）に与えるようになされていることを特徴とする請求の範囲第１４項に記載された方法。１６．前記フィルター信号を計算する工程が或る時間内に前記部材（１６）をこれの初期位置から前記所望の位置に動かすエネルギーを減少させることを含むようになされていることを特徴とする請求の範囲第１５項に記載された方法。１７．前記制御信号が、前記運動可能の部材（１６）および前記ベース（１２）の速度が、前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達する時に有限であるように前記運動可能の部材（１６）を動かすようになされていることを特徴とする請求の範囲第１６項に記載された方法。１８．前記制御信号が、前記運動可能の部材（１６）および前記ベース（１２）の速度が、前記運動可能の部材（１６）が前記所望の位置に達する時に有限であるように前記運動可能の部材（１６）を動かすようになされていることを特徴とする請求の範囲第１３項、第１４項または第１５項に記載された方法。