JPH05506036A - Method for producing 3,3-didetero-2-fluoroacrylate and tridutetero-2-fluoroacrylate and their uses - Google Patents

Method for producing 3,3-didetero-2-fluoroacrylate and tridutetero-2-fluoroacrylate and their uses

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JPH05506036A
JPH05506036A JP91514725A JP51472591A JPH05506036A JP H05506036 A JPH05506036 A JP H05506036A JP 91514725 A JP91514725 A JP 91514725A JP 51472591 A JP51472591 A JP 51472591A JP H05506036 A JPH05506036 A JP H05506036A
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ダッペルフェルト・シュテフェン
ホイミュラー,ルドルフ
ヴィルト,マンフレート
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ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 3.3−ジデュテロー2−フルオロアクリル とトリデュテロー2−フルオロア クリル 塩との ゛ 法 びそれ−の 途ハロゲン化アクリル酸のエステル、特 に2−フルオロアクリレート酸のフッ素含有エステルは特別な性質を有するプラ スチックの製造における重要な中間体である。[Detailed description of the invention] 3.3-Didutelow 2-fluoroacrylic and tridutelow 2-fluoroacryl During the process with crylic salts, esters of halogenated acrylic acid, especially Fluorine-containing esters of 2-fluoroacrylate acid are plastics with special properties. It is an important intermediate in the production of sticks.

例えばフェニル、ブチル、トリフルオロイソプロピル又はヘキサフルオロイソプ ロピルエステルのような、文献から公知の2−フルオロアクリル酸エステルは重 合可能であり、室温において透明もしくはクリヤーな固体であるか又は半透明無 色の固体であり、放射線感受性の保護層として又は光学繊維の被覆材料として用 いられるポリマーの製造に役立つ。For example phenyl, butyl, trifluoroisopropyl or hexafluoroisopropyl 2-fluoroacrylic acid esters known from the literature, such as lopyl ester, are It can be a transparent or clear solid or a translucent solid at room temperature. colored solid, used as a radiation-sensitive protective layer or as a coating material for optical fibers It is useful for producing polymers that can be used.

フッ素含有ポリマーの製造のための中間体として役立つ、2−フルオロアクリル 酸のへキサフルオロイソプロピルエステルの合成は、ヨーロッパ特許出願第02 03462号に述べられている。2-Fluoroacrylics serve as intermediates for the production of fluorine-containing polymers The synthesis of hexafluoroisopropyl esters of acids is described in European Patent Application No. 02 No. 03462.

この合成の場合には、酸とアルコールは直接エステル化することができないが、 出発物質として、2−フルオロアクリル酸、好ましくはそのアンモニウム塩を用 いて、2−フルオロアクリロイルクロリドを製造し、次の工程で、これをヘキサ フルオロイソプロパツールによってエステル化して、ヘキサフルオロイソプロピ ル2−フルオロアクリレートを得る。In this synthesis, the acid and alcohol cannot be directly esterified, but Using 2-fluoroacrylic acid, preferably its ammonium salt, as a starting material. 2-fluoroacryloyl chloride is produced, and in the next step, it is converted to hexane. Esterified with fluoroisopropanol to give hexafluoroisopropyl 2-fluoroacrylate is obtained.

合物中の水素原子をデュテリウム原子によって置換すると、これらのポリマーの 透過性が異常に増加することが知られている。例えば、ポリメチルメタクリレー トから製造されるポリマー光学導波管によってデータが伝達される距離は約15 0mである。然るに、過デュテリウム化ポリメチルメタクリレートはx、5km の距離にわたるデータ伝達を可能にする(Chem、−In、g、−Tech− 59(1987)643)。この理由から、ヨーロッパ特許出願第128517 号は、光学繊維の製造への3.3−ジデュテロー2−フルオロアクリル酸エステ ルの使用を採り上げている。Replacement of hydrogen atoms in compounds by deuterium atoms leads to It is known that permeability increases abnormally. For example, polymethyl methacrylate The distance over which data can be transmitted by a polymer optical waveguide made from It is 0m. However, perdeuterated polymethyl methacrylate is x, 5km enables data transmission over distances of (Chem, -In, g, -Tech- 59 (1987) 643). For this reason, European Patent Application No. 128517 No. 3,3-didutero-2-fluoroacrylic acid ester for the production of optical fibers. This paper focuses on the use of

3.3−ジデュテロー2−フルオロアクリル酸とトリデステロ−2−フルオロア クリル酸とは、ヨーロッパ特許出願第0280120号に述べられている方法に よって、3.3−ジクロロ−2−フルオロアクリル酸の塩素原子をデュテリウム 原子によって置換することにより製造することができる。3.3-Dydestero-2-fluoroacrylic acid and tridestero-2-fluoro-acrylic acid Acrylic acid is used according to the method described in European Patent Application No. 0280120. Therefore, the chlorine atom of 3,3-dichloro-2-fluoroacrylic acid is converted into deuterium. It can be produced by substituting atoms.

3.3−ジデュテロー2−フルオロアクリル酸とトリデステロ−2−フルオロア クリル酸とのフッ素化エステルは、対応アンモニウム塩又はアルカリ金属塩から 簡単な方法で製造する′ことができる。3.3-Dydestero-2-fluoroacrylic acid and tridestero-2-fluoro-acrylic acid Fluorinated esters with acrylic acid can be prepared from the corresponding ammonium or alkali metal salts. It can be manufactured by a simple method.

それ故、デュテリウム化2−フルオロアクリル酸誘導体の合成の開始剤物質とし て使用可能であるこれらの塩を簡単かつ経済的な方法で製造するという目的は、 先行技術に由来していた。Therefore, it can be used as an initiator material for the synthesis of deuterated 2-fluoroacrylic acid derivatives. The objective was to produce these salts in a simple and economical manner that could be used in It was derived from prior art.

他の利点は、敏感な(sens i t 1ve)酸を化学的に安定で、そのた めに貯蔵可能な塩に転化することである。Another advantage is that sensitive acids are chemically stable and therefore It is converted into a storable salt.

それ故、本発明は3,3−ジデュテロー2−フルオロアクリル酸とトリデュテ°  ロー2−フルオロアクリル酸の塩の製造方法と、透明なポリマー物質の製造へ のそれらの利用とに関する。Therefore, the present invention provides 3,3-didutero-2-fluoroacrylic acid and trideutero-2-fluoroacrylic acid. Method for producing salts of rho-2-fluoroacrylic acid and production of transparent polymer substances and their use.

本発明による方法は式(■): [式中、nxl、2又は3]で示される化合物を簡単かつ経済的に好ましい方法 で製造することを可能にする。遊離2−フルオロアクリル酸の誘導体とは対照的 に、この方法で得られる最終生成物は化学的に安定であるので、本発明によって 製造される化合物を、これらの化合物がさらに他の反応を受ける前に、長期間に わたって貯蔵する可能性が存在する。式■化合物の例を次に挙げる:3.3−ジ デュテロー2−フルオロアクリル酸のリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネ シウム、カルシウム及びバリウム塩、アンモニウムとデュテロアンモニウム塩、 及びまたメチル−、エチル−1n−プロピル−、イソプロピル−及び異性体のブ チル−、ペンチルー、ヘキシル−1n−才クチル−、デシル−、ドデシル−、テ トラデシル−、ヘキサデシル−、オクタデシル−、ベンジル−、フェニルエチル −及びフリルメチルアンモニウム塩、ジー及びトリメチル−1−エチル−1−プ ロピル−1−ブチル−1−ペンチル−1−へキシル−1−才クチル−1−デシル −1−ドデシル−1−テトラデシル−1−ヘキサデシル−及び−オクタデシルア ンモニウム塩、テトラメチル−、テトラエチル−、テトラ−n−プロピル−及び テトラ−n−ブチルアンモニウム塩及びアニリン塩及びピリジニウム塩、並びに 異性体のメチルピリジニウムもしくはジメチルピリジニウム、ピロリジニウム、 ピペリジニウム及びモルホリニウム塩。The method according to the present invention is expressed by the formula (■): A simple and economically preferable method for preparing the compound represented by [formula, nxl, 2 or 3] enables manufacturing. In contrast to derivatives of free 2-fluoroacrylic acid Moreover, since the final product obtained by this method is chemically stable, the present invention The compounds being produced are subjected to extended periods of time before these compounds undergo further reactions. There is the possibility of storing over a period of time. Examples of compounds of formula ■ are: 3.3-di Deutero 2-fluoroacrylic acid lithium, sodium, potassium, magne sium, calcium and barium salts, ammonium and deuteroammonium salts, and also methyl-, ethyl-1n-propyl-, isopropyl- and isomeric butyl Tyl-, pentyl-, hexyl-1n-cutyl-, decyl-, dodecyl-, te tradecyl, hexadecyl, octadecyl, benzyl, phenylethyl - and furylmethylammonium salts, di- and trimethyl-1-ethyl-1- Lopyl-1-butyl-1-pentyl-1-hexyl-1-ctyl-1-decyl -1-dodecyl-1-tetradecyl-1-hexadecyl- and -octadecyl- ammonium salts, tetramethyl-, tetraethyl-, tetra-n-propyl- and Tetra-n-butylammonium salts and aniline salts and pyridinium salts, and Isomers of methylpyridinium or dimethylpyridinium, pyrrolidinium, Piperidinium and morpholinium salts.

式Iにおいて、A”はNH4’→又はNFI、D”1基、金属M1町、好ましく はアルカリ金属又はアルカリ土類金属、又は式(II):で示される第一、第二 、第三もしくは第四アンモニウムイオンである。In formula I, A" is NH4'→ or NFI, one D" group, metal M1, preferably is an alkali metal or an alkaline earth metal, or the first or second represented by formula (II): , a tertiary or quaternary ammonium ion.

この式において、R1,R2、R3及びR4は相互に同じ又は異なる基であり、 水素もしくはデュテリウム原子、直鎖もしくは分枝鎖C,−C,。アルキル基又 は置換もしくは非置換アリールもしくはアルアルキルラジカルである。In this formula, R1, R2, R3 and R4 are the same or different groups, Hydrogen or deuterium atoms, straight or branched C, -C,. Alkyl group is a substituted or unsubstituted aryl or aralkyl radical.

式IIのアンモニウムイオンの例を次に挙げる:メチルー、エチル−1n−プロ ピル−、イソプロピル−及び異性体のブチル−、ペンチルー、ヘキシル−、オク チル−、デシル−、ドデシル−、テトラデシル−、ヘキサデシル−、オクタデシ ル−、ベンジル−、フェニルエチル−及びフリルメチルアンモニウムイオン、ジ ー及びトリメチル−1−エチル−1−プロピル−1−ブチル−1−ペンチルー、 −へキシル−1−オクチル−1−デシル−1−ドデシル−1−テトラデシル−1 −ヘキサデシル−及び−オクタデジルアンモニウムイオン、並びにテトラメチル −、テトラエチル−、テトラ−n−プロピル−及びテトラ−n−ブチルアンモニ ウムイオン。Examples of ammonium ions of formula II are: methyl-, ethyl-1n-pro Pyl-, isopropyl- and isomeric butyl-, pentyl-, hexyl-, octyl- Chyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl -, benzyl-, phenylethyl- and furylmethylammonium ions, di- - and trimethyl-1-ethyl-1-propyl-1-butyl-1-pentyl, -hexyl-1-octyl-1-decyl-1-dodecyl-1-tetradecyl-1 -hexadecyl- and -octadedylammonium ions, and tetramethyl -, tetraethyl-, tetra-n-propyl- and tetra-n-butylammony Umu ion.

さらに、A1″1は式(111) [式中、R’、aR”は上記意味を有し、R5は次のラジカル−fCHz)a− s−z −(CFhh−x−(CEIzh−(式中、X−NH,O又はS)の1 つである]で示されるラジカルでありうるか、又は式(TV) : λ8 [式中、R@〜R”は同じ又は異なる基であり、相互から独立的に水素原子、分 枝鎖もしくは直鎖の任意にハロゲン置換したCl−C4アルキル基、/10ゲン 原子、分枝鎖もしくは直鎖C,−C,アルコキシ基、又はNCh、CO2R”も しくは5OsR”(式中、R”はC,−C,アルキル基又はアルカリ金属もしく はアルカリ土類金属イオンである)であることができる]で示される化合物であ ることができる。式IIIの例は特にピロリジニウム、ピペリジニウム及びモル ホリニウムラジカルである。Furthermore, A1″1 is the formula (111) [In the formula, R', aR'' have the above meanings, and R5 is the following radical -fCHz)a- 1 of s-z-(CFhh-x-(CEIzh-(in the formula, X-NH, O or S) or of the formula (TV): λ8 [In the formula, R@~R'' are the same or different groups, and independently of each other, a hydrogen atom, a Branched or straight chain optionally halogen-substituted Cl-C4 alkyl group, /10 gen Atom, branched or straight chain C, -C, alkoxy group, or NCh, CO2R'' or 5OsR" (wherein R" is C, -C, an alkyl group or an alkali metal or is an alkaline earth metal ion). can be done. Examples of formula III include in particular pyrrolidinium, piperidinium and mole It is a phorinium radical.

さらに、2つの隣接ラジカルR6〜RI0が一緒に−C,H,−基又はCs H jN−基を形成することも可能である。Furthermore, two adjacent radicals R6 to RI0 together form a -C,H,- group or a CsH It is also possible to form a jN-group.

式(T)化合物の製造に用いられる出発物質は式V(式中、−R”=水素又はデ ュテリウム)。The starting materials used in the preparation of compounds of formula (T) are those of formula V (wherein -R"=hydrogen or auterium).

で示される化合物である。This is a compound represented by

これらの部分的又は完全なデュテリウム化2−フルオロアクリル酸の塩は、水中 もしくは有機溶剤中で又は水と1種以上の有機溶剤との混合物中で酸を塩基と反 応させることによって製造される。These partially or fully deuterated 2-fluoroacrylic acid salts are or by reacting an acid with a base in an organic solvent or in a mixture of water and one or more organic solvents. It is manufactured by making it correspond.

好ましい有機溶剤は酸及び/又は塩基が溶解可能であり、生ずる塩が不溶であっ て、結晶形でもしくは油状物として得られるような溶剤である。Preferred organic solvents are those in which acids and/or bases are soluble and the resulting salts are insoluble. It is a solvent that can be obtained in crystalline form or as an oil.

適切な溶剤は特に下記のものである: C,−C,脂肪族エーテル、環状エーテル、C3−C,□脂肪族、Cs −Cl o芳香族及びCa −C1o芳香脂肪族(araliphatic)の直鎖、分 枝鎖もしくは環状炭化水素類、C,−Cシ10ゲン化炭化水素項、Cl−CSカ ルボン酸のC,−C。Suitable solvents are in particular: C, -C, aliphatic ether, cyclic ether, C3-C, □ aliphatic, Cs -Cl o Aromatic and Ca-C1o araliphatic straight chain, minute Branched or cyclic hydrocarbons, C, -C silylhydrocarbon term, Cl-CS term C, -C of rubonic acid.

アルキルエステル類、C2−C,カルボン酸のニトリル類、ClC5カルボン酸 の、アミド類、環状アミド類並びに直鎖、分枝鎖もしくは環状C,−C,脂肪族 アルコール又は対称的もしくは非対称的Cs−Cmケトン類。Alkyl esters, C2-C, carboxylic acid nitriles, ClC5 carboxylic acid , amides, cyclic amides, and linear, branched or cyclic C, -C, aliphatic Alcohols or symmetric or asymmetric Cs-Cm ketones.

好ましい溶剤を次に挙げる: 例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、 t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサンのようなエーテ ル類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、デカリン、ベンゼン、トルエン、 異性体キシレン及びテトラリンのような炭化水素類、例えばジー、トリーもしく はテトラクロロメタン又はジー、トリーもしくはテトラクロロエタンのようなハ ロゲン化炭化水素類、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドもし くはN−メチル−2−ピロリジノンのようなアミド類、例えばアセトニトリルも しくはプロピオニトリルのようなニトリル類、例えばメタノール、エタノール及 び異性体プロパツールもしくはブタノールのようなアルコール類、並びに例えば アセトンもしくはメチルイソブチルケトンのようなケトン類。Preferred solvents are listed below: For example, diethyl ether, diisopropyl ether, di-n-butyl ether, Ethers such as t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran or dioxane such as pentane, hexane, heptane, decalin, benzene, toluene, Hydrocarbons such as isomeric xylenes and tetralins, e.g. is a halide such as tetrachloromethane or di-, tri- or tetrachloroethane. Chlorogenated hydrocarbons, such as dimethylformamide, dimethylacetamide, or amides such as N-methyl-2-pyrrolidinone, e.g. acetonitrile. or nitriles such as propionitrile, e.g. methanol, ethanol and and isomeric propatools or alcohols such as butanol, as well as e.g. Ketones such as acetone or methyl isobutyl ketone.

酸と塩基との反応は、等モル量の2成分を反応溶液の凝固点から沸点までの温度 において加え合わせることによって実施される。好ましい反応温度は0℃〜40 ℃である。In the reaction between an acid and a base, equimolar amounts of the two components are mixed at a temperature between the freezing point and the boiling point of the reaction solution. This is carried out by adding them together. The preferred reaction temperature is 0°C to 40°C. It is ℃.

反応溶液の処理は通常の方法を用いて実施される。Work-up of the reaction solution is carried out using conventional methods.

結晶生成物は反応混合物から簡単な方法で吸引濾過することかできるか、油状塩 は最良には相分離又は抽出と、次の蒸留による溶剤の除去とによって得ることが できる。The crystalline product can be filtered with suction from the reaction mixture in a simple manner or as an oily salt. is best obtained by phase separation or extraction followed by removal of the solvent by distillation. can.

寒施倒 下記に挙げる3、3−ジデュテロー2−フルオロアクリル酸とトリデステロ−2 −フルオロアクリル酸(1′によって特徴づける)との塩は、酸0.2gを含む 溶剤5mlを水もしくは溶剤5ml中の塩基の溶液もしくは懸濁液に潤油するこ とによって製造した。Cold treatment 3,3-didutero-2-fluoroacrylic acid and tridestero-2 listed below - the salt with fluoroacrylic acid (characterized by 1') contains 0.2 g of acid Lubricate 5 ml of solvent with water or a solution or suspension of the base in 5 ml of solvent. Manufactured by.

処理に関しては、結晶生成物は吸引濾過し、ジエチルエーテルによって洗浄し、 乾燥させた。油状生成物は溶媒をデカント除去することによって得た。水は20 0mbarの圧力下、50℃において回転蒸発器において留去した。Regarding processing, the crystalline product is filtered with suction, washed with diethyl ether, Dry. An oily product was obtained by decanting the solvent. water is 20 It was distilled off in a rotary evaporator at 50° C. under a pressure of 0 mbar.

生成物はそれらの融点又は内部基準としてのCFClMの存在下のD6−シメチ ルスルホキシドもしくはD20(によって表示)中での”F NMRスペクトル によって特徴づけた。The products are determined by their melting point or by D6-cymethycin in the presence of CFClM as an internal standard "F" NMR spectrum in Rusulfoxide or D20 (indicated by) characterized by.

下記表は、融点及び/又は”F NMRスペクトルによって特徴づける、3゜3 −ジデュテロー2−フルオロアクリル酸とトリデステロ−2−フルオロアクリル 酸の塩の選択を含む。The table below lists the 3°3 -Dydestero-2-fluoroacrylic acid and tridestero-2-fluoroacrylic acid Including the selection of acid salts.

畿 −〜 −−r /l %a ゞ − −ロ − 要約書 3.3−ジデュテロー2−フルオロアクリル酸とトリデステロ−2−フルオロア クリル酸の塩の製造方法及びそれらの用途を開示する。Ki −〜 −−r /l %aゞ − −B − abstract 3.3-Dydestero-2-fluoroacrylic acid and tridestero-2-fluoro-acrylic acid Disclosed are methods for producing salts of acrylic acid and their uses.

C式中、n=1.2又は3] で示される化合物の製造方法において、式(V): C式中、R12は水素又はデュテリウム原子である]で示される化合物を等モル 量の塩基と、水もしくは有機溶剤中で又は水とiNI以上の有機溶剤との混合物 中で、反応溶液の凝固点から沸点までの範囲内の温度において反応させることに よる製造方法。In formula C, n=1.2 or 3] In the method for producing a compound represented by formula (V): In the formula C, R12 is hydrogen or deuterium atom] equimolar amount of base in water or an organic solvent or in a mixture of water and an organic solvent of iNI or higher. In this process, the reaction is carried out at a temperature within the range from the freezing point to the boiling point of the reaction solution. Manufacturing method.

A(りはNH,”基もしくはNH3D”’基、金属Mむ1、好ましくはアルカリ 金属もしくはアルカリ土類金属、又は式(II):C式中、R1、R2、R3及 びR4は相互に同じ又は異なる基であり、水素もしくはデュテリウム原子、i鎖 もしくは分枝鎖C1−Cooアルキル基又は置換もしくは非置換アリールもしく はアルアルキルラジカルである)で示される第一、第二、第三もしくは第四アン モニウムイオンであるか、又はA(◆)は式(目■): (式中、R1とR2は上記意味を有し、R5は次のラジカルニー(CII21a −s−、−(C1Izh−X−(CIlz)z−(式中、x=NH,O又はS) の1つであるか、又一式(IV):(式中、R6、R7、R8、R9及びR”は 同じ又番よ異なる基であり、相互力)ら独立的に水素原子、分枝鎖もしくは直鎖 の任意1こ/hロゲン置換したClC4アルキル接ラジカルR6〜R”が−緒に 一C 4 H 4−基又&よーC s H s N−基を形成する)で示される 化合物である)で示されるラジカルである。A (represents NH, "group" or "NH3D" group, metal M, preferably alkali) metal or alkaline earth metal, or formula (II): in formula C, R1, R2, R3 and and R4 are the same or different groups, hydrogen or deuterium atom, i chain or a branched C1-Coo alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group or is an aralkyl radical). Is the monium ion or A (◆) has the formula (■): (In the formula, R1 and R2 have the above meanings, and R5 is the following radical (CII21a -s-, -(C1Izh-X-(CIlz)z- (in the formula, x = NH, O or S) or one of formula (IV): (wherein R6, R7, R8, R9 and R'' are Hydrogen atoms, branched or straight chain, independently from mutual forces) Any one/h of the chlorine-substituted ClC4 alkyl tangential radical R6~R'' is 1C4H4-group also forms a &yo-CsHsN-group) It is a radical represented by a compound).

補正書の翻訳文提出書 平成 5年 3月12日Submission of translation of written amendment March 12, 1993

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.式(I): ▲数式、化学式、表等があります▼(I)[式中、n=1、2又は3; A(+)はNH4(+)基もしくはNH3D(+)基、金属M(+)、好ましく はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、又は式(II):▲数式、化学式、 表等があります▼(II)(式中、R1、R2、R3及びR4は相互に同じ又は 異なる基であり、水素もしくはデュテリウム原子、直鎖もしくは分枝鎖C1−C 20アルキル基又は置換もしくは非置換アリールもしくはアルアルキルラジカル である)で示される第一、第二、第三もしくは第四アンモニウムイオンであるか 、又はA(+)は式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III)(式中、R1とR2は上記意味を 有し、R5は次のラジカル:−(CH2)4−6−,−(CH2)2−X−(C H2)2−(式中、X=NH、O又はS)の1つであるか、又は式(IV):▲ 数式、化学式、表等があります▼(IV)(式中、R6、R7、R8、R9及び R10は同じ又は異なる基であり、相互から独立的に水素原子、分枝鎖もしくは 直鎖の任意にハロゲン置換したC1−C4アルキル基、ハロゲン原子、分枝鎖も しくは直鎖C1−C4アルコキシ基、又はNO2、CO2R11もしくはSO3 R11(式中、R11はC1−C6アルキル基又はアルカリ金属もしくはアルカ リ土類金属イオンである)であるか、又は各場合に、2つの隣接ラジカルR6〜 R10が一緒に−C4H4−基又は−C3H3N−基を形成する)で示される化 合物である)で示されるラジカルである]で示される化合物の製造方法において 、式(V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V)[式中、R12は水素又はデュテリウ ム原子である]で示される化合物を等モル量の塩基と、水もしくは有機溶剤中で 又は水と1種以上の有機溶剤との混合物中で、反応溶液の凝固点から沸点までの 範囲内の温度において反応させることによる製造方法。1. Formula (I): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) [In the formula, n = 1, 2 or 3; A(+) is NH4(+) group or NH3D(+) group, metal M(+), preferably is an alkali metal or alkaline earth metal, or formula (II): ▲ mathematical formula, chemical formula, There are tables etc. ▼ (II) (In the formula, R1, R2, R3 and R4 are the same or different groups, hydrogen or deuterium atoms, straight or branched C1-C 20 alkyl group or substituted or unsubstituted aryl or aralkyl radical Is it a primary, secondary, tertiary or quaternary ammonium ion indicated by , or A(+) is the formula (III): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(III) (In the formula, R1 and R2 have the above meanings. and R5 is the following radical: -(CH2)4-6-, -(CH2)2-X-(C H2) 2- (wherein X=NH, O or S), or formula (IV): ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) (In the formula, R6, R7, R8, R9 and R10 are the same or different groups, independently of each other a hydrogen atom, a branched chain or Straight-chain optionally halogen-substituted C1-C4 alkyl groups, halogen atoms, and branched chains or a straight chain C1-C4 alkoxy group, or NO2, CO2R11 or SO3 R11 (wherein R11 is a C1-C6 alkyl group, an alkali metal or an alkali group) or in each case two adjacent radicals R6~ R10 together form a -C4H4- group or a -C3H3N- group) In the method for producing the compound represented by the radical represented by , formula (V): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(V) [In the formula, R12 is hydrogen or deuterium. A compound represented by the following formula is mixed with an equimolar amount of a base in water or an organic solvent. or in a mixture of water and one or more organic solvents from the freezing point to the boiling point of the reaction solution. A method of production by reaction at a temperature within a range. 2.用いる有機溶剤が好ましくはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、 ジ−n−ブチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ オキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、デカリン、ベンゼン、トルエン、キ シレン類、テトラリン、ジ−、トリ−もしくはテトラクロロメタン又はジ−、ト リ−もしくはテトラクロロエタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ ド、N−メチル−2−ピロリジノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、メタ ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、又はアセトンもしくはメチル イソブチルケトンである請求項1記載の方法。2. The organic solvent used is preferably diethyl ether, diisopropyl ether, Di-n-butyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, di- Oxane, pentane, hexane, heptane, decalin, benzene, toluene, Silenes, tetralin, di-, tri- or tetrachloromethane or di-, tri- - or tetrachloroethane, dimethylformamide, dimethylacetamide do, N-methyl-2-pyrrolidinone, acetonitrile, propionitrile, meth alcohol, ethanol, propanol, butanol, or acetone or methyl The method according to claim 1, wherein the isobutyl ketone is isobutyl ketone. 3.上記式(I)におけるA(+)がNH3D(+)である請求項1記載の方法 。3. The method according to claim 1, wherein A(+) in the above formula (I) is NH3D(+). . 4.透明なポリマー物質の製造への請求項1記載の化合物の使用。4. Use of a compound according to claim 1 for the production of transparent polymeric materials.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3485903T2 (en) * 1983-06-10 1993-04-15 Daikin Ind Ltd OPTICAL MATERIAL.
EP0203462B1 (en) * 1985-05-25 1990-08-01 Hoechst Aktiengesellschaft Alpha-fluoroacrylic-acid esters and their polymers
DE3704915A1 (en) * 1987-02-17 1988-08-25 Hoechst Ag ELECTROCHEMICAL METHOD FOR REPLACING HALOGENATOMS IN AN ORGANIC COMPOUND

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006001236A1 (en) * 2004-06-25 2006-01-05 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Method for deuterating haloacrylic acid or its salt

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