JPH0547171A - Bloch line memory - Google Patents

Bloch line memory

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JPH0547171A
JPH0547171A JP3201914A JP20191491A JPH0547171A JP H0547171 A JPH0547171 A JP H0547171A JP 3201914 A JP3201914 A JP 3201914A JP 20191491 A JP20191491 A JP 20191491A JP H0547171 A JPH0547171 A JP H0547171A
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magnetic
stripe
film pattern
magnetized
domain
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Toru Suzuki
徹 鈴木
Shin Funada
伸 舩田
Minoru Kono
稔 河野
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Sony Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide the memory which allows the formation of both magnetic films on the same element and can be easily produced by constituting intra- surface magnetized film patterns and perpendicularly magnetized film patterns by varying the coercive forces thereof. CONSTITUTION:Plural striped magnetic domains 16 are parallel formed on a magnetic thin film 2 having perpendicular magnetic anisotropy and the perpendicular Bloch lines formed on the magnetic walls of such striped magnetic domains 16 are determined as a memory information unit. Guide magnetic domains 17 are formed on one end side in the extension direction of the striped magnetic domains 16. The striped magnetic domains 16 and the guide magnetic domains 17 are stabilized by the perpendicularly magnetized film patterns 7 laminated on the magnetic thin film 2. The recording bit positions on the striped magnetic domains 16 are stabilized by the intra-surface magnetized film patterns 4. The coercive forces of the intra-surface magnetized film patterns 4 and the perpendicularly magnetized film pattern 7 are varied. Both the magnetized films are stably magnetized in this way.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【産業上の利用分野】本発明はストライプ磁区の磁壁中
に存在する垂直ブロッホラインを情報担体とする磁気記
憶素子いわゆるブロッホラインメモリに係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called Bloch line memory, which is a magnetic storage element having a vertical Bloch line existing in a domain wall of a stripe domain as an information carrier.

【0001】[0001]

【従来の技術】ブロッホラインメモリについては、例え
ば日経エレクトロニクス1983年 8月15日号第 141〜 167
頁の記事や、特開昭60−113389号公開公報等に
その開示があり、この種のブロッホラインメモリは、磁
気バブルを細長く引き伸ばしたS=0のストライプ磁区
の磁壁中に存在する負の垂直ブロッホライン(以下−V
BLという)を情報の担体とするもので、高密度記録媒
体として脚光を浴びるに到っている。
2. Description of the Related Art Bloch line memories are described in, for example, Nikkei Electronics, August 15, 1983, Issue 141-167.
This is disclosed in the article on page and in Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-113389, and this type of Bloch line memory has a negative perpendicularity present in a domain wall of a stripe domain of S = 0 in which a magnetic bubble is elongated and elongated. Bloch line (below -V
BL) is used as an information carrier and has come into the limelight as a high-density recording medium.

【0002】ブロッホラインメモリは、図4にその一例
の略線的拡大平面図を示すように、例えば5mm四方の
非磁性ガーネット等より成る基体1上に、磁性ガーネッ
ト膜等より成る磁性薄膜2が設けられて成り、これにス
トライプ磁区16の磁壁即ちマイナーループが平行配列
されて成るマイナーループ部18と、その一端部に対向
してメジャーライン19とが設けられる。メジャーライ
ン19は、例えば対の磁気バブル転送導体(図において
は1本のみを示している)が配置された磁気バブル転送
手段11を有して成る。そしてマイナーループ部18と
メジャーライン19との間に例えば2条のチョッピング
導体12が形成されて成る。これらマイナーループ部1
8とメジャーライン19とを全体的に囲んだその周囲に
溝5いわゆるフェンスグルーブが設けられる。
As shown in FIG. 4 which is an enlarged schematic plan view of a Bloch line memory, a magnetic thin film 2 made of a magnetic garnet film or the like is formed on a substrate 1 made of non-magnetic garnet or the like having a size of 5 mm. A minor loop portion 18 formed by arranging the magnetic domain walls of the stripe magnetic domains 16, that is, minor loops in parallel with each other, and a major line 19 facing one end portion thereof are provided. The major line 19 has a magnetic bubble transfer means 11 in which, for example, a pair of magnetic bubble transfer conductors (only one is shown in the drawing) are arranged. Then, for example, two chopping conductors 12 are formed between the minor loop portion 18 and the major line 19. These minor loop parts 1
A groove 5, a so-called fence groove, is provided around the entire circumference of 8 and the major line 19.

【0003】またマイナーループ部18とメジャーライ
ン19との間には、後述する記録再生時のストライプ磁
区16の引き伸ばしを適切に行うためのガイド溝14
が、各ストライプ磁区16間に対応する位置に設けられ
る。
Further, between the minor loop portion 18 and the major line 19, a guide groove 14 for appropriately extending the stripe magnetic domain 16 at the time of recording / reproducing described later is provided.
Are provided at positions corresponding to the stripe magnetic domains 16.

【0004】そしてストライプ磁区16上には、情報の
担体となる−VBL即ちビットをストライプ磁区16の
磁壁に沿って規則正しく配列させるビット安定化手段と
して、例えば各ブロッホライン配列位置に対応するパタ
ーンの面内磁化膜パターン4、即ち磁性薄膜2面内に磁
化容易軸を有し、面内方向に着磁された磁化膜を、例え
ばストライプ磁区16を横切る方向に延長するパターン
として設ける方法がある。このように面内磁化膜パター
ン4によってビットを安定化する方法は、例えば特開昭
59−98384号公開公報において開示されている。
On the stripe magnetic domains 16, as a bit stabilizing means for regularly arraying -VBL, which is a carrier of information, that is, bits along the magnetic domain walls of the stripe magnetic domains 16, for example, a surface of a pattern corresponding to each Bloch line array position is formed. There is a method of providing an inner magnetized film pattern 4, that is, a magnetized film having an easy axis of magnetization in the surface of the magnetic thin film 2 and magnetized in the in-plane direction, for example, as a pattern extending in a direction crossing the stripe magnetic domain 16. Such a method of stabilizing the bit by the in-plane magnetized film pattern 4 is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 59-98384.

【0005】ビットの安定位置は、−VBLの近傍のエ
ネルギーが最小になる場所であり、この場合ストライプ
磁区16の磁壁に沿った方向に面内磁界振幅を与えるも
のである。上述したように面内磁化膜パターン4を設け
る場合、その面内方向の磁界によって、図5Aにその略
線的拡大断面図を示すように、面内磁化膜パターン4の
漏れ磁界によって矢印mで示すように周期的に面内磁界
が発生して、図5Bに示すように、磁性薄膜2内に面内
磁化膜パターン4のピッチに対応する周期的面内磁界に
よる周期的ポテンシャルが生じる。この周期的面内磁界
の極小部2hでは、−VBL対の静磁気的なエネルギー
が低いために、−VBL対が安定して位置することとな
る。このようにして面内磁化膜パターン4によってビッ
ト位置の安定化をはかることができ、これによりビット
を順次転送させるいわゆるシフトレジスター型のメモリ
を得ることができる。
The stable position of the bit is the place where the energy in the vicinity of -VBL becomes the minimum, and in this case, the in-plane magnetic field amplitude is applied in the direction along the domain wall of the stripe magnetic domain 16. When the in-plane magnetized film pattern 4 is provided as described above, the magnetic field in the in-plane direction causes the leakage magnetic field of the in-plane magnetized film pattern 4 to cause an arrow m as shown in FIG. 5A. As shown in FIG. 5B, the in-plane magnetic field is periodically generated, and a periodic potential due to the periodic in-plane magnetic field corresponding to the pitch of the in-plane magnetized film pattern 4 is generated in the magnetic thin film 2. At the minimum portion 2h of the periodic in-plane magnetic field, the -VBL pair has a low magnetostatic energy, so that the -VBL pair is stably positioned. In this way, the in-plane magnetized film pattern 4 can stabilize the bit position, whereby a so-called shift register type memory for sequentially transferring bits can be obtained.

【0006】このような構成における記録方法について
図4を参照して説明する。図4においては、図4におけ
る最上列のストライプ磁区16の先端部16aのみがメ
ジャーライン19に向かって引き伸ばされた状態を示
す。
A recording method with such a configuration will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows a state in which only the tip portion 16a of the stripe magnetic domain 16 in the uppermost row in FIG. 4 is extended toward the major line 19.

【0007】先ず、磁気バブル転送手段11によって磁
気バブルをメジャーライン19に沿って転送し、一方ス
トライプ磁区16を図4に示すように伸長させると、磁
気バブルが存在しない場合はストライプ磁区16がメジ
ャーライン19にまでチョッピング導体12下を横切っ
て延長されるが、磁気バブルが存在する場合はこのバブ
ルによる反発によってストライプ磁区16は延長されな
い。従って、引き伸ばされたストライプ磁区16のみを
チョッピング導体12によって切断することができ、こ
れによって引き伸ばされたストライプ磁区16のマイナ
ーループ部18内にのみ−VBL対を形成することがで
きる。このようにして、磁気バブルの有無を対の−VB
Lの有無に変換した2値情報の例えば“0”と“1”を
書き込むようにすることができる。
First, the magnetic bubbles are transferred along the major line 19 by the magnetic bubble transfer means 11, while the stripe magnetic domains 16 are expanded as shown in FIG. 4. If the magnetic bubbles do not exist, the stripe magnetic domains 16 are measured. The stripe magnetic domain 16 is extended up to the line 19 under the chopping conductor 12, but in the presence of a magnetic bubble, the stripe magnetic domain 16 is not extended due to the repulsion of the bubble. Therefore, only the stretched stripe magnetic domain 16 can be cut by the chopping conductor 12, whereby the -VBL pair can be formed only in the minor loop portion 18 of the stretched stripe magnetic domain 16. In this way, the presence / absence of magnetic bubbles is determined by -VB of the pair.
For example, "0" and "1" of the binary information converted to the presence / absence of L can be written.

【0008】また読出方法としては、例えば同様にスト
ライプ磁区16を引き伸ばしてチョッピング導体12
に、この引き伸ばしたマイナーループ部18内に−VB
Lが存在する場合にのみ切断される所要の読出電流を印
加して、−VBLの有無を磁気バブルの有無に変換して
その読み出しを行うようにすることができる。
As a reading method, for example, similarly, the stripe magnetic domain 16 is stretched and the chopping conductor 12 is expanded.
In the stretched minor loop part 18, -VB
It is possible to apply a required read current that is cut off only when L is present, and convert the presence or absence of -VBL into the presence or absence of a magnetic bubble to perform the read.

【0009】上述したようにブロッホラインメモリにお
いては、その情報を蓄積する場としてストライプ磁区1
6が使われ、このストライプ磁区16を所定位置に規則
正しく配列させることが必要となる。このストライプ磁
区安定化手段としては、従来例えばグルーブ(溝)によ
って安定化する方法や、磁性薄膜2上にこのストライプ
磁区16に対応して垂直磁化膜パターンを設け、この垂
直磁化膜パターンから生ずる浮遊磁場によって安定化す
る方法が例えば特開昭60−76080号公開公報に開
示されている。
As described above, in the Bloch line memory, the stripe magnetic domain 1 is used as a field for storing the information.
6 is used, and it is necessary to regularly arrange the stripe magnetic domains 16 at predetermined positions. As the stripe magnetic domain stabilizing means, conventionally, for example, a method of stabilizing with a groove (groove), or a perpendicular magnetic film pattern provided on the magnetic thin film 2 corresponding to the stripe magnetic domain 16 and floating caused by the vertical magnetic film pattern are provided. A method of stabilizing by a magnetic field is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-76080.

【0010】しかしながら、上述したような面内磁化膜
パターンによるビット位置安定化手段と、前述したよう
な垂直磁化膜パターンによるストライプ磁区16の位置
安定化手段とを共に設ける場合、垂直磁化膜パターンと
面内磁化膜パターンとは着磁する方向が異なるため適切
な着磁を行い難く、実際上同一素子内に形成することが
できなかった。
However, when both the bit position stabilizing means by the in-plane magnetic film pattern as described above and the position stabilizing means for the stripe magnetic domain 16 by the perpendicular magnetic film pattern as described above are provided together, a perpendicular magnetic film pattern is obtained. Since the direction of magnetization is different from that of the in-plane magnetized film pattern, it is difficult to perform proper magnetization, and it has not been practically possible to form the pattern in the same element.

【0011】また上述したストライプ磁区16の安定化
手段として、グルーブをこのストライプ磁区16に沿っ
て配置する構成を採る場合は、その製造工程が煩雑にな
るという問題があった。
Further, when the groove is arranged along the stripe magnetic domain 16 as a means for stabilizing the stripe magnetic domain 16 described above, there is a problem that the manufacturing process is complicated.

【0012】同様に、ストライプ磁区16の伸長方向を
規制するガイド溝14においても、その製造工程が複雑
で、また実際上満足な溝形状が得られないという問題が
あった。
Similarly, in the guide groove 14 that regulates the extending direction of the stripe magnetic domain 16, there is a problem that the manufacturing process is complicated and that a practically satisfactory groove shape cannot be obtained.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】一方本出願人は、先に
特願平2−264610号出願において、図6にその一
例の略線的拡大平面図を示すように、ストライプ磁区1
6の伸長方向の一端側に交互にストライプ状のガイド磁
区17を形成し、これらストライプ磁区16及びガイド
磁区17を磁性薄膜2上に積層した垂直磁化膜パターン
7によって安定化する構造を提案した。図示の例におい
ては、記録再生過程において隣接するストライプ磁区1
6をそれぞれ左右に引き伸ばし、マイナーループ部18
の両端にメジャーライン19、即ち磁気バブル転送手段
11及びチョッピング導体12を設けて、それぞれ両端
のメジャーライン19上で記録再生を行うようになす場
合である。
On the other hand, the applicant of the present invention previously filed Japanese Patent Application No. 2-264610, and as shown in FIG.
A structure is proposed in which stripe-shaped guide magnetic domains 17 are alternately formed on one end side in the extending direction of 6 and the stripe magnetic domains 16 and the guide magnetic domains 17 are stabilized by the perpendicular magnetization film pattern 7 laminated on the magnetic thin film 2. In the illustrated example, stripe magnetic domains 1 adjacent to each other in the recording / reproducing process.
6 is stretched to the left and right, and the minor loop 18
In this case, the major lines 19, that is, the magnetic bubble transfer means 11 and the chopping conductors 12 are provided at both ends of each of the lines, and recording and reproduction are performed on the major lines 19 at both ends.

【0014】このような構成とすることによって、スト
ライプ磁区16の伸長を、隣接するストライプ磁区16
の一端側に設けられたガイド磁区17間の磁場ポテンシ
ャルによってガイドさせることができ、ストライプ磁区
16の長手方向に規制することができるようになすもの
である。そしてこのガイド磁区17は、ストライプ磁区
16と同様に垂直磁化膜パターン7の浮遊磁場によって
安定化されるため、例えば記録再生時の切断用の局所磁
場によって切断されることがなく、そのままの形状が保
たれるものである。
With such a structure, the extension of the stripe magnetic domain 16 can be controlled by the adjacent stripe magnetic domain 16
It can be guided by the magnetic field potential between the guide magnetic domains 17 provided at one end of the stripe magnetic domain 16 and can be regulated in the longitudinal direction of the stripe magnetic domain 16. Since the guide magnetic domain 17 is stabilized by the stray magnetic field of the perpendicular magnetization film pattern 7 like the striped magnetic domain 16, the guide magnetic domain 17 is not cut by the local magnetic field for cutting at the time of recording / reproducing and has the same shape as it is. It is what is kept.

【0015】本発明は、上述したような垂直磁化膜パタ
ーンによるストライプ磁区の安定化手段と、面内磁化膜
パターンによるビット位置安定化手段とを同一素子内に
合せもち、製造工程が簡易なブロッホラインメモリを得
ることを目的とする。
According to the present invention, the stripe magnetic domain stabilizing means by the perpendicular magnetization film pattern as described above and the bit position stabilizing means by the in-plane magnetization film pattern are combined in the same element, and the manufacturing process is simple. Aim to get line memory.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明ブロッホラインメ
モリの一例の略線的拡大平面図を図1に示す。本発明
は、図1に示すように、垂直磁気異方性を有する磁性薄
膜2に複数のストライプ磁区16が並列形成され、この
ストライプ磁区16の磁壁に形成された垂直ブロッホラ
インを記憶情報単位とするブロッホラインメモリにおい
て、ストライプ磁区16の伸長方向の一端側にガイド磁
区17が形成され、これらストライプ磁区16及びガイ
ド磁区17が磁性薄膜2上に積層される垂直磁化膜パタ
ーン7によって安定化され、ストライプ磁区16上の記
録ビット位置が面内磁化膜パターン4によって安定化さ
れ、この面内磁化膜パターン4と垂直磁化膜パターン7
の保磁力を異ならしめて構成する。
FIG. 1 is a schematic enlarged plan view showing an example of a Bloch line memory according to the present invention. According to the present invention, as shown in FIG. 1, a plurality of stripe magnetic domains 16 are formed in parallel on a magnetic thin film 2 having perpendicular magnetic anisotropy, and a vertical Bloch line formed on a domain wall of the stripe magnetic domains 16 is used as a storage information unit. In the Bloch line memory, the guide magnetic domain 17 is formed on one end side in the extending direction of the stripe magnetic domain 16, and the stripe magnetic domain 16 and the guide magnetic domain 17 are stabilized by the perpendicular magnetization film pattern 7 laminated on the magnetic thin film 2. The recording bit position on the stripe magnetic domain 16 is stabilized by the in-plane magnetic film pattern 4, and the in-plane magnetic film pattern 4 and the perpendicular magnetic film pattern 7 are formed.
The coercive force of is different.

【0017】[0017]

【作用】上述したように、本発明ブロッホラインメモリ
においては、その面内磁化膜パターン4と垂直磁化膜パ
ターン7との保磁力を異ならしめて設けたことにより、
このような着磁方向の異なる磁化膜パターンを同一素子
上に簡単にかつ安定に設けることができた。
As described above, in the Bloch line memory of the present invention, the in-plane magnetization film pattern 4 and the perpendicular magnetization film pattern 7 are provided with different coercive forces.
It was possible to easily and stably provide such magnetic film patterns having different magnetization directions on the same element.

【0018】このことについて説明すると、ストライプ
磁区及びガイド磁区の安定化手段として垂直磁化膜パタ
ーンを設け、またストライプ磁区のビット安定化手段と
して面内磁化膜パターンを設けて各磁化膜の保磁力を異
ならしめて構成することによって、このような着磁方向
の異なる磁化膜を近接して設けても、2つの異なる保磁
力のうち大なる保磁力以上の磁界を印加して、一旦両磁
化膜を一方向に着磁させた後、次に比較的小なる保磁力
以上で上述の大なる保磁力未満の磁界を印加して、小な
る保磁力を有する磁化膜のみを上述の磁界印加方向とは
異なる方向に着磁させることができ、両磁化膜を確実に
安定して着磁させることができる。従って、従来実現で
きなかったこれら両磁化膜を同一素子内に形成すること
ができる。
To explain this, a perpendicular magnetic film pattern is provided as a stabilizing means for the stripe magnetic domain and the guide magnetic domain, and an in-plane magnetic film pattern is provided as a bit stabilizing means for the stripe magnetic domain to improve the coercive force of each magnetic film. Even if such magnetized films having different magnetization directions are provided close to each other, the magnetic fields having a larger coercive force than the two different coercive forces are applied so that the two magnetized films are temporarily made to have a different magnetic field. After being magnetized in the direction, a magnetic field having a relatively small coercive force and a magnitude less than the above-mentioned large coercive force is applied next, and only a magnetic film having a small coercive force is different from the above magnetic field application direction. It is possible to magnetize in both directions, and it is possible to reliably and stably magnetize both magnetized films. Therefore, it is possible to form both of these magnetization films, which could not be realized conventionally, in the same element.

【0019】[0019]

【実施例】以下図1及び図2の要部の分解斜視図、更に
図3の略線的拡大断面図を参照して本発明ブロッホライ
ンメモリの一例をその製造工程と共に詳細に説明する。
図1において、図4及び図6に対応する部分には同一符
号を付して示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of the Bloch line memory according to the present invention will be described in detail below with reference to manufacturing steps thereof with reference to the exploded perspective views of the essential portions of FIGS. 1 and 2 and the schematic cross-sectional enlarged view of FIG.
In FIG. 1, parts corresponding to those in FIGS. 4 and 6 are designated by the same reference numerals.

【0020】この例においても、垂直磁気異方性を有す
る磁性薄膜2上に、周囲と磁化の方向が逆方向であるス
トライプ磁区16と、例えばストライプ状のガイド磁区
17が形成される。そして図4及び図6において説明し
た例と同様に、S=0のストライプ磁区16の磁壁に沿
って存在する垂直ブロッホライン対の有無によって2値
情報の“0”、“1”を記録するものである。
Also in this example, on the magnetic thin film 2 having perpendicular magnetic anisotropy, the stripe magnetic domains 16 whose magnetization directions are opposite to those of the surroundings and the guide magnetic domains 17 having a stripe shape, for example, are formed. As in the example described with reference to FIGS. 4 and 6, binary information “0” and “1” are recorded depending on the presence / absence of a pair of vertical Bloch lines existing along the domain wall of the stripe magnetic domain 16 with S = 0. Is.

【0021】図1においては便宜上4本のストライプ磁
区16が並列形成された場合を示すが、通常のブロッホ
ラインメモリにおいては、数百〜数千本のストライプ磁
区16が並列形成される。
Although FIG. 1 shows the case where four stripe magnetic domains 16 are formed in parallel for convenience, several hundred to several thousand stripe magnetic domains 16 are formed in parallel in a normal Bloch line memory.

【0022】またこの例においては、ガイド磁区17が
図6において説明した例と同様に、ストライプ磁区16
の長手方向の一端側に交互に設けられる。即ち隣接する
ストライプ磁区16においては、その伸長方向は互いに
反対側に設けられたガイド磁区17に沿って、互いに左
右逆向きに引き伸ばされるようになす。
Further, in this example, the guide magnetic domain 17 is similar to the example described with reference to FIG.
Are alternately provided on one end side in the longitudinal direction. That is, the stripe magnetic domains 16 adjacent to each other are stretched in opposite lateral directions along the guide magnetic domains 17 provided on the opposite sides.

【0023】そして、これらストライプ磁区16の配列
されたマイナーループ部18の図1において左右の両側
に、磁気バブル転送手段11とチョッピング導体12と
が設けられて、左右にメジャーライン19が設けられ
る。
The magnetic bubble transfer means 11 and the chopping conductors 12 are provided on both the left and right sides of the minor loop portion 18 in which the stripe magnetic domains 16 are arranged in FIG. 1, and the major lines 19 are provided on the left and right sides.

【0024】そしてこれらストライプ磁区16とガイド
磁区17の輪郭に沿うパターンとして、図1において破
線vで示すように、磁性薄膜2上に垂直磁化膜パターン
7を設け、この垂直磁化膜パターン7の浮遊磁場によっ
てストライプ磁区16及びガイド磁区17を安定化する
ようになす。
As a pattern along the contours of the stripe magnetic domain 16 and the guide magnetic domain 17, a perpendicular magnetization film pattern 7 is provided on the magnetic thin film 2 as shown by a broken line v in FIG. 1, and the perpendicular magnetization film pattern 7 floats. The stripe magnetic domain 16 and the guide magnetic domain 17 are stabilized by the magnetic field.

【0025】また、ストライプ磁区16上即ち磁性薄膜
2上には、ビット位置安定化手段として、面内磁化膜パ
ターン4がこれらストライプ磁区16を横切る方向に、
所要の幅及びピッチをもってパターン形成されて成る。
On the stripe magnetic domains 16, that is, on the magnetic thin film 2, as a bit position stabilizing means, the in-plane magnetized film pattern 4 crosses these stripe magnetic domains 16.
It is formed by patterning with a required width and pitch.

【0026】この例においては、図2に示すように、磁
性薄膜2上に絶縁層(図示せず)等を介して矢印Hh
示す面内方向に着磁された面内磁化膜パターン4を設
け、更に絶縁層(図示せず)等を介してこの面内磁化膜
パターン4を横切る方向に延長する矢印Hv で示す垂直
方向に着磁された垂直磁化膜パターン7を設ける構成を
採る場合で、その製造工程を、図2におけるA−A線上
の略線的拡大断面図を示す図3を参照して説明する。
In this example, as shown in FIG. 2, an in-plane magnetized film pattern 4 magnetized in the in-plane direction indicated by arrow H h on the magnetic thin film 2 via an insulating layer (not shown) or the like. And a vertically magnetized film pattern 7 magnetized in the vertical direction indicated by an arrow H v extending in a direction traversing the in-plane magnetized film pattern 4 via an insulating layer (not shown) or the like. In that case, the manufacturing process will be described with reference to FIG. 3 showing an enlarged schematic sectional view taken along the line AA in FIG.

【0027】図3に示すように、例えば非磁性ガーネッ
トGd3Ga5O12 より成る基体1上に、エピタキシャル成長
によって例えば磁性ガーネット(YSmLuCa)3(FeGe)5O12
り成り垂直磁化を有する磁性薄膜2を例えば厚さ4μm
として被着形成する。磁性薄膜2の周縁部には、図4及
び図6において説明した例と同様に、例えば基体1を露
出させる溝いわゆるフェンスグルーブ(図示せず)を設
ける。
As shown in FIG. 3, a magnetic thin film made of, for example, magnetic garnet (YSmLuCa) 3 (FeGe) 5 O 12 and having perpendicular magnetization is formed by epitaxial growth on a substrate 1 made of, for example, non-magnetic garnet Gd 3 Ga 5 O 12. 2 is, for example, 4 μm in thickness
To be deposited. In the peripheral portion of the magnetic thin film 2, for example, a groove so-called a fence groove (not shown) that exposes the base body 1 is provided as in the example described in FIGS. 4 and 6.

【0028】そしてこの磁性薄膜2上に、例えば磁区観
察用のAl等より成る反射膜3を厚さ例えば0.1μm
としてスパッタリング等により被着して、Co80Pt20
(原子%)等より成り、例えばその保磁力Hcが1〜1
0kOeの例えば1kOeとされた面内磁化膜パターン
4をスパッタリング等により被着した後、フォトリソグ
ラフィ等の適用によって所要のパターンに形成する。こ
のパターンは例えば図1に示すように、ストライプ磁区
16を横切る方向に延長し、その幅が例えば0.1〜
0.2μm、ピッチが例えば0.2〜0.4μm程度の
パターンとする。そしてこの面内磁化膜パターン4上に
ポリイミド等より成る平坦化膜5を厚さ0.5μm程度
として全面的に塗布して平坦化し、更にSiO2 等より
成る絶縁層6を厚さ例えば0.1μmとしてスパッタリ
ング等により全面的に被着形成する。
On the magnetic thin film 2, for example, a reflective film 3 made of Al or the like for observing magnetic domains has a thickness of, for example, 0.1 μm.
Co 80 Pt 20
(Atomic%) etc., and its coercive force Hc is 1 to 1, for example.
After the in-plane magnetized film pattern 4 of 0 kOe, for example, 1 kOe is deposited by sputtering or the like, it is formed into a desired pattern by application of photolithography or the like. For example, as shown in FIG. 1, this pattern extends in a direction crossing the stripe magnetic domain 16 and has a width of, for example, 0.1 to 10.
The pattern is 0.2 μm and the pitch is, for example, about 0.2 to 0.4 μm. The in-plane magnetization film pattern planarized entirely coated with the flattening film 5 made of polyimide or the like as the thickness of 0.5μm order of over 4, further having a thickness of, for example, 0 an insulating layer 6 made of SiO 2 or the like. The thickness is 1 μm, and the entire surface is deposited by sputtering or the like.

【0029】そしてこの絶縁層6上にTbCo等より成
り保磁力Hcが例えば10kOeとされた垂直磁化膜パ
ターン7を、スパッタリング等により厚さ例えば0.1
μmとして被着した後所要のパターン、例えば図1に示
すように、ストライプ磁区16とガイド磁区17にほぼ
沿うパターンにフォトリソグラフィ等の適用によって形
成する。
A perpendicular magnetic film pattern 7 made of TbCo or the like and having a coercive force Hc of, for example, 10 kOe is formed on the insulating layer 6 by sputtering or the like to have a thickness of, for example, 0.1.
After deposition as μm, a desired pattern, for example, as shown in FIG. 1, is formed by applying photolithography or the like to a pattern substantially along the stripe magnetic domain 16 and the guide magnetic domain 17.

【0030】この場合、ストライプ磁区16を構成する
部分においては、例えば幅5μm、ピッチを例えば12
〜14μmとして形成する。ガイド磁区17を構成する
部分においては、上述したようにこれらストライプ磁区
16の伸長方向の一端側に交互に、例えば幅5μm、ピ
ッチを12〜14μmとして構成する。
In this case, in the portion forming the stripe magnetic domain 16, for example, the width is 5 μm and the pitch is 12, for example.
˜14 μm. In the portion forming the guide magnetic domains 17, as described above, the stripe magnetic domains 16 are alternately arranged on one end side in the extending direction, for example, with a width of 5 μm and a pitch of 12 to 14 μm.

【0031】そしてこの上にポリイミド等より成る平坦
化膜8を例えば厚さを0.5μmとして塗布して平坦化
し、更にこの上にSiO2 等より成る絶縁層9をスパッ
タリング等により被着する。
Then, a flattening film 8 made of polyimide or the like is applied thereon to have a thickness of 0.5 μm for flattening, and an insulating layer 9 made of SiO 2 or the like is deposited thereon by sputtering or the like.

【0032】そして、図1に示すように、両左右端のメ
ジャーライン19上に、例えばそれぞれ対の磁気バブル
転送導体(図においては1本のみを示している)が配置
された磁気バブル転送手段11を設け、またマイナール
ープ部18の左右のメジャーライン19との間には例え
ばそれぞれ2条のチョッピング導体12を形成する。こ
の磁気バブル転送手段11及びチョッピング導体12
は、例えば絶縁層9上に、厚さ例えば0.02μmのT
i等と、厚さ例えば0.5μmのAu等より成る積層膜
を被着した後、所要のパターンにパターニングして形成
する。
As shown in FIG. 1, magnetic bubble transfer means in which, for example, a pair of magnetic bubble transfer conductors (only one is shown in the figure) are arranged on the major lines 19 at both left and right ends. 11 are provided, and two chopping conductors 12 are formed between the left and right major lines 19 of the minor loop portion 18, respectively. The magnetic bubble transfer means 11 and the chopping conductor 12
Is, for example, on the insulating layer 9 and has a thickness of, for example, 0.02 μm.
After forming a laminated film of i or the like and Au or the like having a thickness of 0.5 μm, for example, it is formed by patterning into a desired pattern.

【0033】そしてこの被着形成された素子に対して、
先ず膜面に垂直な方向に例えば15kOeの磁界を印加
して、垂直磁化膜パターン7を垂直方向に着磁する。そ
してこの後、磁性薄膜2の面内方向に沿い、ストライプ
磁区16の長手方向、即ち面内磁化膜パターン4のビッ
トパターンを横切る方向に例えば2kOeの磁界を印加
して面内磁化膜パターン4を面内方向に着磁する。この
とき垂直磁化膜パターン7は上述したようにこの面内印
加磁界に比して大なる10kOeの保磁力を有するた
め、面内磁界に影響を受けることなく、垂直磁化を保持
することができる。また面内磁化膜パターン4は、一旦
垂直方向の磁界によって垂直方向に着磁されるが、その
保磁力が小なるため、後の面内方向の磁界によって面内
方向に着磁される。
Then, with respect to the element formed by deposition,
First, a magnetic field of, for example, 15 kOe is applied in the direction perpendicular to the film surface to magnetize the perpendicular magnetization film pattern 7 in the perpendicular direction. Then, after that, a magnetic field of, for example, 2 kOe is applied along the in-plane direction of the magnetic thin film 2 in the longitudinal direction of the stripe magnetic domains 16, that is, in the direction crossing the bit pattern of the in-plane magnetized film pattern 4 to form the in-plane magnetized film pattern 4. Magnetize in the in-plane direction. At this time, since the perpendicular magnetization film pattern 7 has a coercive force of 10 kOe, which is larger than the in-plane applied magnetic field as described above, the perpendicular magnetization can be maintained without being affected by the in-plane magnetic field. Further, the in-plane magnetized film pattern 4 is once magnetized in the vertical direction by the vertical magnetic field, but since its coercive force is small, it is magnetized in the in-plane direction by the subsequent in-plane magnetic field.

【0034】このようにして、各磁化膜パターン4及び
7の着磁を簡単かつ確実に行うことができて、磁性薄膜
2のストライプ磁区16をこの垂直磁化膜パターン7の
下部に安定に位置させることができ、かつ−VBLの転
送に有効なビットポテンシャルを得て、−VBLを所要
の間隔をもってストライプ磁区16の磁壁中に配列させ
ることができる。またこの場合、垂直磁化膜パターン7
によってガイド磁区17をも、この垂直磁化膜パターン
7の下部に安定に位置させることができる。図1におい
て上方のストライプ磁区16は、その先端部16aが、
隣接するストライプ磁区16の延長上に形成されたガイ
ド磁区17によって、図1において左方向のメジャーラ
イン19上に引き伸ばされている状態を示す。
In this way, the magnetization film patterns 4 and 7 can be easily and surely magnetized, and the stripe magnetic domains 16 of the magnetic thin film 2 are stably positioned below the perpendicular magnetization film pattern 7. It is possible to obtain the bit potential effective for the transfer of −VBL, and it is possible to arrange −VBL in the domain wall of the stripe magnetic domain 16 at a required interval. In this case, the perpendicular magnetization film pattern 7
Thus, the guide magnetic domain 17 can be stably positioned below the perpendicular magnetic film pattern 7. In the upper striped magnetic domain 16 in FIG.
FIG. 1 shows a state in which a guide magnetic domain 17 formed on an extension of an adjacent stripe magnetic domain 16 is extended to the left major line 19 in FIG.

【0035】尚、上述の例においては、垂直磁化膜パタ
ーン7の材料としてTbCoを用いたが、その他例えば
TbFe、TbFeCo、GdCo、GdTbFe、C
75Pt25、CoCr等の磁性材料を用いることができ
る。
Although TbCo is used as the material of the perpendicular magnetization film pattern 7 in the above example, other materials such as TbFe, TbFeCo, GdCo, GdTbFe and C are used.
A magnetic material such as o 75 Pt 25 or CoCr can be used.

【0036】また面内磁化膜パターン4の材料として
は、上述のCo80Pt20に限ることなく、その他例えば
CoNi、CoNiCr、CoCrTa、SmCo等の
磁性材料を用いることができる。
The material of the in-plane magnetized film pattern 4 is not limited to the above-mentioned Co 80 Pt 20 , but other magnetic materials such as CoNi, CoNiCr, CoCrTa and SmCo can be used.

【0037】また更に、上述の実施例においては、垂直
磁化膜パターン7の保磁力を10kOe、面内磁化膜パ
ターン4の保磁力を1kOeとして構成したが、これら
両磁化膜の保磁力の大小関係は逆としてもよく、またそ
の差は2〜3kOe程度以上であればよい。即ちこのよ
うに選定した場合においても、上述したように、先ず比
較的大なる保磁力を有する磁化膜に対応して、この保磁
力を越える磁界をもって一方向に磁界を印加し、次に比
較的小なる保磁力を有する磁化膜に対応してその保磁力
を越え、かつ比較的大なる保磁力を越えない磁界を印加
して他の方向に着磁することによって、各磁性膜を確実
にかつ安定に、異なる方向に着磁させることができる。
Furthermore, in the above-mentioned embodiment, the coercive force of the perpendicular magnetic film pattern 7 is set to 10 kOe and the coercive force of the in-plane magnetic film pattern 4 is set to 1 kOe. May be reversed, and the difference may be about 2 to 3 kOe or more. That is, even in the case of selecting in this way, as described above, the magnetic film having a relatively large coercive force is first applied with a magnetic field exceeding this coercive force in one direction, and then the magnetic field is relatively increased. By applying a magnetic field that exceeds the coercive force of the magnetized film having a small coercive force and does not exceed a relatively large coercive force to magnetize in the other direction, each magnetic film can be reliably and It can be stably magnetized in different directions.

【0038】また上述の実施例においては、面内磁化膜
パターン4を反射膜3上に形成し、これの上に平坦化膜
5及び絶縁層6を介して垂直磁化膜パターン7を設ける
構成としたが、このようにすることによって、垂直磁化
膜パターン7に比してその幅及びピッチが小とされた面
内磁化膜パターン4即ちビット安定化手段を、磁性薄膜
2に対し、より近接して設けることができ、即ちこのビ
ット安定化手段による微細な周期的磁界を高い分解能を
もって磁性薄膜2に生じさせることができるという利点
を有する。これに対し、垂直磁化膜パターン7即ちスト
ライプ磁区安定化手段は、比較的その幅及びピッチが大
なるため、面内磁化膜パターン4上に絶縁層等を介して
設ける構成としても、磁性薄膜2にその垂直磁化による
漏れ磁界を良好な分解能をもって作用させることができ
る。
In the above embodiment, the in-plane magnetized film pattern 4 is formed on the reflective film 3, and the perpendicular magnetized film pattern 7 is provided on the reflective film 3 with the flattening film 5 and the insulating layer 6 interposed therebetween. However, by doing so, the in-plane magnetized film pattern 4, that is, the bit stabilizing means whose width and pitch are smaller than that of the perpendicular magnetized film pattern 7, is closer to the magnetic thin film 2. That is, it has an advantage that a fine periodic magnetic field by the bit stabilizing means can be generated in the magnetic thin film 2 with high resolution. On the other hand, since the perpendicular magnetic film pattern 7, that is, the stripe magnetic domain stabilizing means has a relatively large width and pitch, the magnetic thin film 2 may be provided on the in-plane magnetic film pattern 4 via an insulating layer or the like. In addition, the leakage magnetic field due to the perpendicular magnetization can be applied with good resolution.

【0039】また本発明ブロッホラインメモリは、上述
のマイナーループ部及びメジャーラインの構成を採る場
合に限らず、例えばガイド磁区17を各ストライプ磁区
16の延長線上に対応する位置に挟み込まれるように設
ける等、種々の配置構成とすることができる。またスト
ライプ磁区16のビット安定化手段としての面内磁化膜
パターン4のパターンとしては、上述した各ストライプ
磁区16を横切るストライプ状配列構成の他、各ストラ
イプ磁区16の磁壁上に、この磁壁に沿って所要の幅、
長さ及びピッチをもってドット状に点在させる構成等、
種々の配置構成を採ることができる。
The Bloch line memory of the present invention is not limited to the case of adopting the above-mentioned configuration of the minor loop portion and the major line, but for example, the guide magnetic domain 17 is provided so as to be sandwiched at a position corresponding to the extension line of each stripe magnetic domain 16. Etc., various arrangement configurations can be adopted. As the pattern of the in-plane magnetized film pattern 4 as the bit stabilizing means of the stripe magnetic domains 16, in addition to the above-mentioned stripe-shaped arrangement structure that crosses each stripe magnetic domain 16, the stripe magnetic domains 16 are formed on and along the domain wall of each stripe magnetic domain 16. Required width,
Dot-like configuration with length and pitch, etc.
Various arrangement configurations can be adopted.

【0040】[0040]

【発明の効果】上述したように、本発明ブロッホライン
メモリによれば、ストライプ磁区及びガイド磁区の安定
化手段として垂直磁化膜パターンを設け、またストライ
プ磁区のビット安定化手段として面内磁化膜パターンを
設け、各磁化膜の保磁力を異ならしめて構成することに
よって、このような着磁方向の異なる磁化膜を近接して
設けても、2つの異なる保磁力のうち大なる保磁力以上
の磁界を印加して、一旦両磁化膜を一方向に着磁させた
後、次に比較的小なる保磁力以上で上述の大なる保磁力
未満の磁界を印加して、小なる保磁力を有する磁化膜の
みを、上述の磁界印加方向とは異なる方向に着磁させる
ことができ、両磁化膜を確実に安定して着磁させること
ができる。従って、従来実現できなかった、これら両磁
化膜を同一素子内に形成することができる。
As described above, according to the Bloch line memory of the present invention, the perpendicular magnetic film pattern is provided as the stabilizing means for the stripe magnetic domain and the guide magnetic domain, and the in-plane magnetic film pattern is provided as the bit stabilizing means for the stripe magnetic domain. By providing the magnetic films with different coercive forces, even if such magnetic films having different magnetization directions are provided close to each other, a magnetic field larger than the large coercive force of two different coercive forces is provided. After applying the magnetic field to magnetize both magnetic films in one direction, a magnetic field having a relatively small coercive force and smaller than the above large coercive force is applied to the magnetic film having a small coercive force. Only the magnetic field can be magnetized in a direction different from the above-mentioned magnetic field application direction, and both magnetized films can be magnetized reliably and stably. Therefore, both of these magnetic films, which could not be realized conventionally, can be formed in the same element.

【0041】またこの垂直磁化膜パターンと面内磁化膜
パターンとは、例えばストライプ磁区の安定化手段とし
てグルーブを設ける場合等、他のストライプ磁区安定化
手段及びビット位置安定化手段を設ける場合に比して、
格段にその製造工程の簡易化をはかることができ、生産
性の向上をはかることができる。
Further, the perpendicular magnetic film pattern and the in-plane magnetic film pattern are compared with the case where other stripe magnetic domain stabilizing means and bit position stabilizing means are provided, for example, when a groove is provided as a stabilizing means of the stripe magnetic domain. do it,
The manufacturing process can be remarkably simplified, and the productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明ブロッホラインメモリの一例の要部の略
線的拡大平面図である。
FIG. 1 is an enlarged schematic plan view of a main part of an example of a Bloch line memory of the present invention.

【図2】本発明ブロッホラインメモリの一例の要部の分
解斜視図である。
FIG. 2 is an exploded perspective view of a main part of an example of a Bloch line memory of the present invention.

【図3】本発明ブロッホラインメモリの一例の要部の略
線的拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged schematic cross-sectional view of a main part of an example of a Bloch line memory of the present invention.

【図4】従来のブロッホラインメモリの一例の略線的拡
大平面図である。
FIG. 4 is an enlarged schematic plan view of an example of a conventional Bloch line memory.

【図5】従来のブロッホラインメモリのビット安定化手
段の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a bit stabilizing unit of a conventional Bloch line memory.

【図6】ブロッホラインメモリの一例の略線的拡大平面
図である。
FIG. 6 is a schematic enlarged plan view of an example of a Bloch line memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基体 2 磁性薄膜 3 反射膜 4 面内磁化膜パターン 5 平坦化膜 6 絶縁層 7 垂直磁化膜パターン 8 平坦化膜 9 絶縁層 11 磁気バブル転送手段 12 チョッピング導体 14 ガイド溝 16 ストライプ磁区 17 ガイド磁区 18 マイナーループ部 19 メジャーライン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 Magnetic thin film 3 Reflective film 4 In-plane magnetized film pattern 5 Flattening film 6 Insulating layer 7 Perpendicular magnetic film pattern 8 Flattening film 9 Insulating layer 11 Magnetic bubble transfer means 12 Chopping conductor 14 Guide groove 16 Stripe magnetic domain 17 Guide magnetic domain 18 minor loops 19 major lines

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年12月17日[Submission date] December 17, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0001[Correction target item name] 0001

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0001】[0001]

【従来の技術】ブロッホラインメモリについては、例え
ば日経エレクトロニクス1983年 8月15日号第 141〜 167
頁の記事や、特開昭60−113389号公開公報等に
その開示があり、この種のブロッホラインメモリは、磁
気バブルを細長く引き伸ばしたストライプ磁区の磁壁中
に存在する負の垂直ブロッホライン(以下−VBLとい
う)を情報の担体とするもので、高密度記録媒体として
脚光を浴びるに到っている。
2. Description of the Related Art Bloch line memories are described in, for example, Nikkei Electronics, August 15, 1983, Issue 141-167.
Pages and articles, there is the disclosure of JP-A 60-113389 Patent Publication Laid Bloch line memory of this kind, the negative vertical Bloch lines existing in the magnetic wall of the elongated stretched stripe magnetic domains of magnetic bubble ( (Hereinafter referred to as "-VBL") is used as an information carrier and has come into the limelight as a high-density recording medium.

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0020[Correction target item name] 0020

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0020】この例においても、垂直磁気異方性を有す
る磁性薄膜2上に、周囲と磁化の方向が逆方向であるス
トライプ磁区16と、例えばストライプ状のガイド磁区
17が形成される。そして図4及び図6において説明し
た例と同様に、ストライプ磁区16の磁壁に沿って存在
する垂直ブロッホライン対の有無によって2値情報の
“0”、“1”を記録するものである。
Also in this example, on the magnetic thin film 2 having perpendicular magnetic anisotropy, the stripe magnetic domains 16 whose magnetization directions are opposite to those of the surroundings and the guide magnetic domains 17 having a stripe shape, for example, are formed. And like the example described in FIGS. 4 and 6, "0" of the binary information by the presence or absence of the vertical Bloch line pair present along the magnetic wall of the stripe magnetic domains 16 and records "1".

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0028[Correction target item name] 0028

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0028】そしてこの磁性薄膜2上に、例えば磁区観
察用のAl等より成る反射膜3を厚さ例えば0.1μm
としてスパッタリング等により被着して、Co80Pt20
(原子%)等より成り、例えばその保磁力Hcが1〜1
0kOeの例えば1kOeとされた面内磁化膜パターン
4をスパッタリング等により被着した後、フォトリソグ
ラフィ等の適用によって所要のパターンに形成する。こ
のパターンは例えば図1に示すように、ストライプ磁区
16を横切る方向に延長し、その幅が例えば1〜2μ
m、ピッチが例えば2〜4μm程度のパターンとする。
そしてこの面内磁化膜パターン4上にポリイミド等より
成る平坦化膜5を厚さ0.5μm程度として全面的に塗
布して平坦化し、更にSiO2 等より成る絶縁層6を厚
さ例えば0.1μmとしてスパッタリング等により全面
的に被着形成する。
On the magnetic thin film 2, for example, a reflective film 3 made of Al or the like for observing magnetic domains has a thickness of, for example, 0.1 μm.
Co 80 Pt 20
(Atomic%) etc., and its coercive force Hc is 1 to 1, for example.
After the in-plane magnetized film pattern 4 of 0 kOe, for example, 1 kOe is deposited by sputtering or the like, it is formed into a desired pattern by application of photolithography or the like. As shown in FIG. 1, this pattern extends in a direction crossing the stripe magnetic domain 16 and has a width of, for example, 1 to 2 μm.
The pattern has m and a pitch of, for example, about 2 to 4 μm.
The in-plane magnetization film pattern planarized entirely coated with the flattening film 5 made of polyimide or the like as the thickness of 0.5μm order of over 4, further having a thickness of, for example, 0 an insulating layer 6 made of SiO 2 or the like. The thickness is 1 μm, and the entire surface is deposited by sputtering or the like.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0030[Name of item to be corrected] 0030

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0030】この場合、ストライプ磁区16を構成する
部分においては、例えば幅5μm、ピッチを例えば12
〜14μmとして形成する。ガイド磁区17を構成する
部分においては、上述したようにこれらストライプ磁区
16の伸長方向の一端側に交互に、例えば幅5μm、ピ
ッチを24〜28μmとして構成する。
In this case, in the portion forming the stripe magnetic domain 16, for example, the width is 5 μm and the pitch is 12, for example.
˜14 μm. In the portion forming the guide magnetic domains 17, as described above, the stripe magnetic domains 16 are alternately arranged on one end side in the extending direction, for example, with a width of 5 μm and a pitch of 24 to 28 μm.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 垂直磁気異方性を有する磁性薄膜に複数
のストライプ磁区が並列形成され、該ストライプ磁区の
磁壁に形成された垂直ブロッホラインを記憶情報単位と
するブロッホラインメモリにおいて、 上記ストライプ磁区の伸長方向の一端側にガイド磁区が
形成され、 上記ストライプ磁区及び上記ガイド磁区が上記磁性薄膜
上に積層される垂直磁化膜パターンによって安定化さ
れ、 上記ストライプ磁区上の記録ビット位置が面内磁化膜パ
ターンによって安定化され、 上記面内磁化膜パターンと上記垂直磁化膜パターンの保
磁力を異ならしめたことを特徴とするブロッホラインメ
モリ。
1. A Bloch line memory in which a plurality of stripe magnetic domains are formed in parallel on a magnetic thin film having perpendicular magnetic anisotropy, and a vertical Bloch line formed on a domain wall of the stripe magnetic domains is a storage information unit. A guide magnetic domain is formed at one end side in the extending direction of the stripe magnetic domain, the stripe magnetic domain and the guide magnetic domain are stabilized by a perpendicular magnetization film pattern laminated on the magnetic thin film, and the recording bit position on the stripe magnetic domain is in-plane magnetized. A Bloch line memory, which is stabilized by a film pattern and has different coercive forces between the in-plane magnetized film pattern and the perpendicular magnetized film pattern.
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