JPH0545499A - X-ray generator - Google Patents

X-ray generator

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JPH0545499A
JPH0545499A JP3230783A JP23078391A JPH0545499A JP H0545499 A JPH0545499 A JP H0545499A JP 3230783 A JP3230783 A JP 3230783A JP 23078391 A JP23078391 A JP 23078391A JP H0545499 A JPH0545499 A JP H0545499A
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JP
Japan
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ray
laser light
rays
mirror
optical axis
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JP3230783A
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Japanese (ja)
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Hiroyuki Kondo
洋行 近藤
Hisao Fujisaki
久雄 藤崎
Hiroshi Nagata
浩 永田
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make it possible to use an X-ray of large intensity by separating the X-ray on or near the optical axis of a laser light from the laser light. CONSTITUTION:A laser light 5 emitted from a light source is passed through a lens 6 and a window part 7 and led into a vacuum vessel 8, and after passing through an opening 1a of an X-ray reflector 1 with the opening, it is condensed on a target object 4. Out of the X-rays generated from plasma produced by condensation of light, the X-ray radiated in a solid angle in view of the reflector 1 on and near the optical axis of the laser light 5 is reflected by the X-ray reflector 1 and also made to be a parallel light and is applied as the parallel light 9 onto an X-ray optical element 11. According to this constitution, the X-ray on the optical axis of the laser light can be separated from the laser light and it becomes possible to use the ray of large intensity on the optical axis of the laser light.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は例えば、X線顕微鏡やX
線露光装置等に用いるものである。
The present invention relates to, for example, an X-ray microscope and an X-ray microscope.
It is used for a line exposure device and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】X線顕微鏡等の光学装置では、レーザ光
を固体標的上に集光して生成したプラズマより発生する
X線を利用する。このようなX線発生装置において、X
線発生源から発生するX線の空間的な強度分布は、例え
ばレーザ光を垂直に固体標的に入射させた場合、そのレ
ーザ光軸上が最もX線強度が大きい。そして、レーザ光
軸からの角度が大きくなるほどX線強度は小さくなる。
2. Description of the Related Art An optical device such as an X-ray microscope utilizes X-rays generated from plasma generated by focusing laser light on a solid target. In such an X-ray generator, X
As for the spatial intensity distribution of the X-ray generated from the ray generation source, for example, when the laser light is vertically incident on the solid target, the X-ray intensity is highest on the laser optical axis. The X-ray intensity decreases as the angle from the laser optical axis increases.

【0003】従来、前記光学装置では、被照射物体、X
線光学素子及びそれらの保持器具等がレーザ光の一部を
遮らないようにレーザ光軸から大きな角度方向のX線を
使用していた。
Conventionally, in the above optical device, an object to be illuminated, X
X-rays having a large angle from the laser optical axis have been used so that the linear optical elements and their holding devices do not block a part of the laser light.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来の光学装置では、使用するX線はレーザ光
軸から大きな角度方向のものであったため強度が不十分
であった。また、レーザ光の出力を上げれば得られるX
線の強度も上がるが、この場合、装置が大型化してしま
うという問題がある。さらに、発生するX線は指向性が
なく固体標的の四方に放射するため、無駄になるX線も
増加し効率が悪かった。
However, in the conventional optical device as described above, the intensity of the X-ray used is insufficient because the X-ray used is in the direction of a large angle from the laser optical axis. In addition, X obtained by increasing the output of the laser light
Although the strength of the wire increases, in this case, there is a problem that the device becomes large. Further, the generated X-rays have no directivity and radiate in all directions of the solid target, so that wasted X-rays increase and the efficiency is poor.

【0005】本発明は、前記問題を解消し、X線強度の
大きいものが利用できるX線発生装置を得ることを目的
とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to obtain an X-ray generator which can use one having a high X-ray intensity.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載のX線発生装置では、レーザ光を固
体標的上に集光して生成したプラズマよりX線を発生す
るX線発生装置において、前記レーザ光の光軸上または
光軸近傍のX線を前記レーザ光から分離する分離手段を
備えた。
In order to achieve the above object, in the X-ray generator according to claim 1, X-rays are generated from plasma generated by focusing laser light on a solid target. The generator includes a separating means for separating X-rays on or near the optical axis of the laser light from the laser light.

【0007】また、請求項2に記載のX線発生装置で
は、前記請求項1に記載のX線発生装置において、前記
分離手段を、レーザ光に対して高透過率を有した、又は
レーザ光を通過させる開口を有したX線反射ミラーとし
たものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an X-ray generator according to the first aspect, wherein the separating means has a high transmittance for laser light or laser light. The X-ray reflection mirror has an opening that allows light to pass therethrough.

【0008】また、請求項3に記載のX線発生装置で
は、前記請求項1に記載のX線発生装置において、前記
分離手段を、レーザ光に対して高反射率を有し、X線に
対しては高い透過率を有する部材としたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an X-ray generator according to the first aspect, wherein the separating means has a high reflectance with respect to a laser beam and emits X-rays. On the other hand, it is a member having a high transmittance.

【0009】[0009]

【作用】本発明においては、レーザ光軸上のX線をレー
ザ光から分離する手段を備えたものであるため、例え
ば、レーザ光を固体標的に垂直に入射させてX線を発生
させた場合、そのレーザ光軸上の最も強度の大きいX線
をレーザ光から分離し利用することが可能となる。従っ
て、被照射物体上のX線強度を上げることができる。
In the present invention, since means for separating X-rays on the laser optical axis from the laser light is provided, for example, when X-rays are generated by vertically injecting laser light into a solid target. The X-ray having the highest intensity on the laser optical axis can be separated from the laser light and used. Therefore, the X-ray intensity on the irradiated object can be increased.

【0010】また、前記分離手段としてX線ミラーを用
いるため、その形状や構成によっては、X線を集光させ
X線強度を高めること、X線の単色化、又はミラー構成
元素の吸収端を利用してX線の特定波長領域の選択等が
可能となる。さらに、ミラーによって、プラズマより飛
散するイオンや中性粒子等が被照射物体、又はX線光学
素子に到達するのを防ぐことも可能である。
Further, since the X-ray mirror is used as the separating means, depending on its shape and configuration, the X-ray is condensed to increase the X-ray intensity, the X-ray is monochromatic, or the absorption edge of the mirror constituent element is changed. It is possible to select a specific wavelength region of X-rays by utilizing the above. Further, the mirror can prevent ions or neutral particles scattered from the plasma from reaching the irradiated object or the X-ray optical element.

【0011】[0011]

【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。図1
は、本発明の第1の実施例としてのX線発生装置を示す
図である。本実施例のX線発生装置の構成は、光源(図
示せず)から出射されたレーザ光5を集光するレンズ6
と、レーザ5が透過する窓部7を備えた真空容器8とか
らなり、真空容器8内には開口部1aを有するX線反射
ミラー1と、レーザ照射によってプラズマを生成させる
標的物体4と、X線光学素子11とが配置されている。
なお、X線反射ミラー1は、回転放物面状に形成され、
入射したX線を平行光で反射させるように設定してあ
る。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. Figure 1
FIG. 1 is a diagram showing an X-ray generator as a first embodiment of the present invention. The structure of the X-ray generator according to the present embodiment has a lens 6 that condenses the laser light 5 emitted from a light source (not shown).
And an X-ray reflection mirror 1 having an opening 1a in the vacuum container 8 and a target object 4 for generating plasma by laser irradiation. The X-ray optical element 11 is arranged.
The X-ray reflection mirror 1 is formed in a paraboloid of revolution,
It is set so that incident X-rays are reflected by parallel light.

【0012】上記構成において、光源から出射されたレ
ーザ光5は、レンズ6を介し、窓部7を通過して真空容
器8の中へ導びかれ、反射ミラー1の開口部1aを通っ
た後標的物体4上に集光する。該集光により生成された
プラズマから発生したX線のうち、レーザ光5の光軸上
および光軸近傍でミラー1を見込む立体角内に放射され
たX線がX線反射ミラー1によって反射されるとともに
平行光化され、平行光9としてX線光学素子11上に照
射する。
In the above structure, the laser light 5 emitted from the light source passes through the lens 6, passes through the window 7 and is guided into the vacuum container 8, and after passing through the opening 1a of the reflection mirror 1. The light is focused on the target object 4. Of the X-rays generated from the plasma generated by the condensing, the X-rays emitted within the solid angle of the mirror 1 on and near the optical axis of the laser light 5 are reflected by the X-ray reflection mirror 1. The parallel light is converted into parallel light, and the parallel light 9 is irradiated onto the X-ray optical element 11.

【0013】ここで、X線反射ミラーに多層膜ミラーを
用いれば、X線の単色化が可能である。また、この多層
膜ミラーの形状は任意であり、放物面とは限らず、平
面、凹面や、回転双曲面、回転楕円体の一部を成すもの
等でもよい。さらに、多層膜ミラーに限らず、斜入射鏡
等でもよい。このように、X線反射が可能なものならば
様々なものが広く用いられる。
If a multi-layer film mirror is used as the X-ray reflection mirror, it is possible to make the X-ray monochromatic. The shape of the multilayer mirror is not limited to a paraboloid, and may be a flat surface, a concave surface, a hyperboloid of revolution, a part of a spheroid, or the like. Further, it is not limited to the multilayer film mirror, and an oblique incidence mirror or the like may be used. As described above, various materials are widely used as long as they can reflect X-rays.

【0014】本発明の第2の実施例を図2をもって説明
する。本実施例においては、X線反射ミラーに第1の実
施例で示したような開口部1aを設ける代りに、X線反
射ミラー2をレーザ光5に対して高い透過率を有する物
質により形成してある。その他は、第1の実施例と同様
の構成である。
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, instead of providing the opening 1a in the X-ray reflecting mirror as in the first embodiment, the X-ray reflecting mirror 2 is made of a material having a high transmittance for the laser light 5. There is. Others are the same as those in the first embodiment.

【0015】図2において、光源から出射されたレーザ
光5は、レンズ6を介し、窓部7を通過して真空容器8
の中へ導びかれ、X線反射ミラー2を透過した後標的物
体4上に集光する。該集光により生成されたプラズマか
ら発生したX線のうち、レーザ光5の光軸上および光軸
近傍でミラー2を見込む立体角内に放射されたX線がX
線反射ミラー2によって反射されるとともに平行光化さ
れ、平行光9としてX線光学素子11上に照射する。
In FIG. 2, the laser light 5 emitted from the light source passes through the lens 6 and the window portion 7, and passes through the vacuum vessel 8.
To the target object 4 after passing through the X-ray reflecting mirror 2. Of the X-rays generated from the plasma generated by the condensing, the X-rays emitted within the solid angle that looks into the mirror 2 on and near the optical axis of the laser light 5 are X-rays.
The X-ray optical element 11 is irradiated with parallel light 9 after being reflected by the line reflection mirror 2 and converted into parallel light.

【0016】X線反射ミラー2の形状は、第1の実施例
の場合と同様に放物面に限らず任意であり、また、ミラ
ーの構成も多層膜ミラーに限らず、レーザ光透過および
X線反射が可能なものが広く用いられる。
The shape of the X-ray reflection mirror 2 is not limited to the paraboloidal shape as in the case of the first embodiment, and the configuration of the mirror is not limited to the multi-layered film mirror, and the laser light transmission and the X-ray transmission are possible. Those capable of line reflection are widely used.

【0017】本発明の第3の実施例を図3に示す。本実
施例は、レーザ光軸上および光軸近傍のX線をレーザ光
から分離する手段として、レーザ光に対しては高い反射
率を有し、かつX線は透過するミラー3を用いたもので
ある。
A third embodiment of the present invention is shown in FIG. In this embodiment, as a means for separating X-rays on and near the optical axis of the laser from the laser light, a mirror 3 having a high reflectance for the laser light and transmitting the X-ray is used. Is.

【0018】光源から射出されたレーザ光5は、窓部7
から真空容器8内に導かれ、ミラー3によって反射され
標的物体4上に集光される。これにより生成したプラズ
マから発生するX線のうち、レーザ光軸上およびレーザ
光軸近傍方向のミラーを見込む立体角内に放射されたX
線10が、ミラー3を透過して被照射物体(図示せず)
またはX線光学素子11上に照射される。
The laser light 5 emitted from the light source receives the window 7
Is guided to the inside of the vacuum container 8, is reflected by the mirror 3, and is condensed on the target object 4. Of the X-rays generated from the plasma generated as a result, the X-rays radiated within the solid angle on the laser optical axis and in the direction close to the laser optical axis, looking into the mirror
Line 10 passes through mirror 3 and is illuminated by an object (not shown)
Alternatively, the X-ray optical element 11 is irradiated.

【0019】ミラー3は、レーザ光は反射しX線は透過
させろことが可能なものが広く用いられる。ミラー3を
透過するX線10は、ミラー3を構成する元素の吸収端
に挟まれた波長領域のものであることから、用いる構成
元素によってX線の波長を選択することも可能である。
The mirror 3 is widely used as one that can reflect laser light and allow X-rays to pass through. Since the X-rays 10 that pass through the mirror 3 are in the wavelength region sandwiched by the absorption edges of the elements that make up the mirror 3, it is possible to select the wavelength of the X-rays depending on the constituent elements used.

【0020】また、硬X線を利用する場合は、ミラーを
金属膜とすれば該金属を広い範囲から選択できる。な
お、ミラー3の形状は放物面に限らず任意であり、レー
ザ光5を集光させるためにミラーとは別に集光レンズを
設けても良い。以上の実施例において、レーザ光5の標
的物体4への入射角は任意である。
When hard X-rays are used, the metal can be selected from a wide range by forming the mirror with a metal film. The shape of the mirror 3 is not limited to a paraboloid, and may be arbitrary, and a condenser lens may be provided separately from the mirror to condense the laser light 5. In the above embodiments, the incident angle of the laser light 5 on the target object 4 is arbitrary.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明は、レーザ
光軸上のX線をレーザ光から分離する手段を備えたもの
であるため、例えば、レーザ光を固体標的に垂直に入射
させてX線を発生させた場合、そのレーザ光軸上の最も
強度の大きいX線を利用することが可能となる。従っ
て、被照射物体上のX線強度を上げることができる。
As described above, the present invention is provided with a means for separating X-rays on the laser optical axis from the laser light. When a line is generated, the X-ray having the highest intensity on the laser optical axis can be used. Therefore, the X-ray intensity on the irradiated object can be increased.

【0022】また、前記分離手段としてX線ミラーを用
いるため、その形状や構成によっては、X線を集光させ
X線強度を高めること、X線の単色化、又はミラー構成
元素の吸収端を利用して特定波長領域のX線のみを利用
すること等が可能となる。さらに、ミラーによって、プ
ラズマより飛散するイオンや中性粒子等が被照射物体、
又は他のX線光学素子に到達するのを防ぐことも可能で
ある等の効果がある。
Further, since the X-ray mirror is used as the separating means, depending on its shape and configuration, the X-ray may be condensed to increase the X-ray intensity, the X-ray may be monochromatic, or the absorption edge of the mirror constituent element may be changed. It is possible to use only X-rays in a specific wavelength region by utilizing the above. Furthermore, the mirror allows ions and neutral particles scattered from the plasma to be irradiated on the object,
Alternatively, there is an effect that it is possible to prevent it from reaching another X-ray optical element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るX線発生装置の説明
図。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an X-ray generator according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係るX線発生装置の説明
図。
FIG. 2 is an explanatory diagram of an X-ray generator according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例に係るX線発生装置の説明
図。
FIG. 3 is an explanatory diagram of an X-ray generator according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:開口付X線反射ミラー 2:レーザ光透過X線反射ミラー 3:レーザ光反射X線透過ミラー 4:標的物体 5:レーザ光 6:レンズ 7:窓部 8:真空容器 9:ミラーより反射されたX線 10:ミラーを透過したX線 11:X線光学素子 1: X-ray reflection mirror with aperture 2: Laser light transmission X-ray reflection mirror 3: Laser light reflection X-ray transmission mirror 4: Target object 5: Laser light 6: Lens 7: Window 8: Vacuum container 9: Reflected from mirror X-rays 10: X-rays transmitted through a mirror 11: X-ray optical element

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光を固体標的上に集光して生成し
たプラズマよりX線を発生するX線発生装置において、
前記レーザ光の光軸上または光軸近傍のX線を前記レー
ザ光から分離する分離手段を備えたことを特徴とするX
線発生装置。
1. An X-ray generator for generating X-rays from plasma generated by concentrating laser light on a solid target,
X comprising a separating means for separating X-rays on or near the optical axis of the laser light from the laser light.
Line generator.
【請求項2】 前記分離手段を、レーザ光に対して高透
過率を有した、又はレーザ光を通過させる開口を有した
X線反射ミラーとしたことを特徴とする請求項1に記載
のX線発生装置。
2. The X-ray reflection mirror according to claim 1, wherein the separating means is an X-ray reflection mirror having a high transmittance for laser light or having an opening through which the laser light passes. Line generator.
【請求項3】 前記分離手段を、レーザ光に対して高反
射率を有し、X線に対しては高い透過率を有する部材と
したことを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
3. The X-ray generator according to claim 1, wherein the separating means is a member having a high reflectance for laser light and a high transmittance for X-rays. apparatus.
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