JPH0534503A - 耐薬反射防止膜 - Google Patents
耐薬反射防止膜Info
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- JPH0534503A JPH0534503A JP3217896A JP21789691A JPH0534503A JP H0534503 A JPH0534503 A JP H0534503A JP 3217896 A JP3217896 A JP 3217896A JP 21789691 A JP21789691 A JP 21789691A JP H0534503 A JPH0534503 A JP H0534503A
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- antireflection film
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Abstract
(57)【要約】
［目的］ 内視鏡等の医療機器に用いる光学ガラスレン
ズに適用できるように、洗浄液，消毒液に対しての耐久
性を得る。 ［構成］ 基板側の第１層、第３層および第５層にＺｒ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物ま
たはＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層お
よび第４層にＭｇＦ2 を積層し、化学的に安定で、充填
率の高い膜材料、充填率を高められる手法を用いる。
ズに適用できるように、洗浄液，消毒液に対しての耐久
性を得る。 ［構成］ 基板側の第１層、第３層および第５層にＺｒ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物ま
たはＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層お
よび第４層にＭｇＦ2 を積層し、化学的に安定で、充填
率の高い膜材料、充填率を高められる手法を用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄液，消毒液に対し
て耐久性を有する耐薬反射防止膜に関する。
て耐久性を有する耐薬反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、化学部品は様々な分野において使
用されるようになってきている。その中でも医療機器に
用いられるレンズ，プリズム等は、医療機器に必要とさ
れる各種の洗浄液，消毒液にさらされても最低限の化学
性能を維持することが要求される。特に、医療用内視鏡
は、生体器官等からの分泌物などがレンズ表面に付着す
るために頻繁に洗浄をする必要がある。
用されるようになってきている。その中でも医療機器に
用いられるレンズ，プリズム等は、医療機器に必要とさ
れる各種の洗浄液，消毒液にさらされても最低限の化学
性能を維持することが要求される。特に、医療用内視鏡
は、生体器官等からの分泌物などがレンズ表面に付着す
るために頻繁に洗浄をする必要がある。
【０００３】通常使用される洗浄液，消毒液は、酸性か
らアルカリ性までの幅広い薬品で構成されている。この
ために、従来、内視鏡の先端部等の直接洗浄液にさらさ
れる部分のレンズには、化学的に安定したガラス硝材を
用いるのが一般的であった。一方、通常の反射防止膜
は、例えば特開昭６０−１３０７０３号公報に開示され
るように、空気と接する最表層を低屈折率材料であるＭ
ｇＦ2 やＳｉＯ2 により形成している。ところが、医療
機器に用いられるレンズ等では、ＭｇＦ2 は膜の密度が
低いこと、ＳｉＯ2 はアルカリ性に弱いことから、洗浄
液，消毒液に侵されて膜がはげ落ちるとともに、一般に
使われている真空蒸着では膜の充填率（密度）が低く水
分や溶液が膜中を浸透し、膜の界面や基板との間で化学
反応を起こすという問題があったために、反射防止膜は
施されていなかった。
らアルカリ性までの幅広い薬品で構成されている。この
ために、従来、内視鏡の先端部等の直接洗浄液にさらさ
れる部分のレンズには、化学的に安定したガラス硝材を
用いるのが一般的であった。一方、通常の反射防止膜
は、例えば特開昭６０−１３０７０３号公報に開示され
るように、空気と接する最表層を低屈折率材料であるＭ
ｇＦ2 やＳｉＯ2 により形成している。ところが、医療
機器に用いられるレンズ等では、ＭｇＦ2 は膜の密度が
低いこと、ＳｉＯ2 はアルカリ性に弱いことから、洗浄
液，消毒液に侵されて膜がはげ落ちるとともに、一般に
使われている真空蒸着では膜の充填率（密度）が低く水
分や溶液が膜中を浸透し、膜の界面や基板との間で化学
反応を起こすという問題があったために、反射防止膜は
施されていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、少しでも光
学系を細くして小型化を図りたい内視鏡においては、反
射防止膜をレンズに施すことができれば透過光量を増や
すことが可能になり、設計上大いに有利に働く。しか
し、従来は、上述のように内視鏡レンズの先端部分には
反射防止膜が施されておらず、光学性能上や機能上から
の問題があった。
学系を細くして小型化を図りたい内視鏡においては、反
射防止膜をレンズに施すことができれば透過光量を増や
すことが可能になり、設計上大いに有利に働く。しか
し、従来は、上述のように内視鏡レンズの先端部分には
反射防止膜が施されておらず、光学性能上や機能上から
の問題があった。
【０００５】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、医療用機器、特に内視鏡に用いられる光
学ガラスレンズに適用でき、洗浄液，消毒液に対して耐
久性を有する耐薬反射防止膜を提供することを目的とす
る。
されたもので、医療用機器、特に内視鏡に用いられる光
学ガラスレンズに適用でき、洗浄液，消毒液に対して耐
久性を有する耐薬反射防止膜を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】空気と接する最表層をＭ
ｇＦ2 やＳｉＯ2 に形成した一般的な反射防止膜が、洗
浄液，消毒液に侵されて膜が剥離する現象は、膜と膜と
の界面またはガラス基板表面と膜との界面に起因してい
ることが研究の結果判明した。そして、この現象は、ポ
ーラス（密度が低い）な膜の場合に、洗浄液である酸，
アルカリ溶液が膜中を浸透して、膜界面の不純物を溶融
するため、またガラスの主成分である酸化珪素と反応し
てガラス基板表面と膜との界面でガラスが溶融するため
に生じていることがわかった。このことは、同じ条件で
同じ膜を酸化珪素の含有率の異なるガラス基板に成膜し
て比較したところ、明らかに酸化珪素の含有率の少ない
ガラス硝材ほど薬品に対する耐久性が高いこと、および
化学的に安定している蒸着材料でも膜密度が低い物ほど
耐久性が低いことを検討した実験の結果確かめられた。
ｇＦ2 やＳｉＯ2 に形成した一般的な反射防止膜が、洗
浄液，消毒液に侵されて膜が剥離する現象は、膜と膜と
の界面またはガラス基板表面と膜との界面に起因してい
ることが研究の結果判明した。そして、この現象は、ポ
ーラス（密度が低い）な膜の場合に、洗浄液である酸，
アルカリ溶液が膜中を浸透して、膜界面の不純物を溶融
するため、またガラスの主成分である酸化珪素と反応し
てガラス基板表面と膜との界面でガラスが溶融するため
に生じていることがわかった。このことは、同じ条件で
同じ膜を酸化珪素の含有率の異なるガラス基板に成膜し
て比較したところ、明らかに酸化珪素の含有率の少ない
ガラス硝材ほど薬品に対する耐久性が高いこと、および
化学的に安定している蒸着材料でも膜密度が低い物ほど
耐久性が低いことを検討した実験の結果確かめられた。
【０００７】そこで、上記目的を達成するために、本発
明は、基板側の第１層，第３層および第５層にＺｒ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物ま
たはＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層お
よび第４層にＭｇＦ2 を積層している。
明は、基板側の第１層，第３層および第５層にＺｒ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合物ま
たはＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２層お
よび第４層にＭｇＦ2 を積層している。
【０００８】
【作用】上記構成では、空気と接する層に化学的に安定
で、充填率（膜の密度）の高い膜材料、充填率を高めら
れる手法を用い、空気と接する最表層および中間層に
は、化学的に安定しているＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5，Ｔｉ
Ｏ2 またはこれらの混合物を用い、充填率を高められる
蒸着手法であるイオン銃を用いたイオンビーム・アシス
ト蒸着（ＩＡＤ）を使って成膜することで、洗浄液，消
毒液が膜表面からその下の膜やさらにはガラス基板に浸
透するのを防ぐことができる。
で、充填率（膜の密度）の高い膜材料、充填率を高めら
れる手法を用い、空気と接する最表層および中間層に
は、化学的に安定しているＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5，Ｔｉ
Ｏ2 またはこれらの混合物を用い、充填率を高められる
蒸着手法であるイオン銃を用いたイオンビーム・アシス
ト蒸着（ＩＡＤ）を使って成膜することで、洗浄液，消
毒液が膜表面からその下の膜やさらにはガラス基板に浸
透するのを防ぐことができる。
【０００９】また、高屈折率材料（ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ
5 ，ＴｉＯ2 ）と低屈折率材料（ＭｇＦ2 ，ＳｉＯ2 ）
からなる５層構造の多層膜とすることにより可視光の広
い波長領域での反射防止が可能となっている。
5 ，ＴｉＯ2 ）と低屈折率材料（ＭｇＦ2 ，ＳｉＯ2 ）
からなる５層構造の多層膜とすることにより可視光の広
い波長領域での反射防止が可能となっている。
【００１０】
【実施例１】図２は本発明に使用される真空蒸着装置を
示し、真空チャンバー１内に回転ドーム２が矢印方向に
回転するように設けられており、回転ドーム２には耐薬
反射防止膜を形成するための基板３が保持されている。
この回転ドーム２に対向する下方には、上面に蒸着材料
４がセットされた電子銃５が設けられると共に、ガス導
入バルブ７を有したイオン銃８が設けられている。ま
た、真空チャンバー１は真空排気系６により、内部が減
圧状態に保持されるようになっている。
示し、真空チャンバー１内に回転ドーム２が矢印方向に
回転するように設けられており、回転ドーム２には耐薬
反射防止膜を形成するための基板３が保持されている。
この回転ドーム２に対向する下方には、上面に蒸着材料
４がセットされた電子銃５が設けられると共に、ガス導
入バルブ７を有したイオン銃８が設けられている。ま
た、真空チャンバー１は真空排気系６により、内部が減
圧状態に保持されるようになっている。
【００１１】このような真空蒸着装置の回転ドーム２に
ＢＫガラス基板をセットし、基板温度を３００℃に設定
して排気を開始した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達
したとき、装置内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１
０-5Ｔｏｒｒとした。そして、Ｏ2 イオンビームを８０
０Ｖ（イオン電流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３
分間照射し、Ｏ2 イオンビームを基板に照射しながら第
１層のＺｒＯ2 を電子銃により表１に示す膜厚となるま
で蒸着した。第２層の成膜はＯ2 ガスの導入を停止し、
電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ2 を表１に示す
膜厚となるまで蒸着させることにより行った。以下、同
様な手段により表１に示す膜厚となるまで第３層のＺｒ
Ｏ2 層、第４層のＭｇＦ2 ，第５層のＺｒＯ2 層を順に
蒸着した。
ＢＫガラス基板をセットし、基板温度を３００℃に設定
して排気を開始した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達
したとき、装置内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１
０-5Ｔｏｒｒとした。そして、Ｏ2 イオンビームを８０
０Ｖ（イオン電流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３
分間照射し、Ｏ2 イオンビームを基板に照射しながら第
１層のＺｒＯ2 を電子銃により表１に示す膜厚となるま
で蒸着した。第２層の成膜はＯ2 ガスの導入を停止し、
電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ2 を表１に示す
膜厚となるまで蒸着させることにより行った。以下、同
様な手段により表１に示す膜厚となるまで第３層のＺｒ
Ｏ2 層、第４層のＭｇＦ2 ，第５層のＺｒＯ2 層を順に
蒸着した。
【００１２】
【表１】
【００１３】次に、このようにして成膜した試料をステ
リハイドＬ（丸石製薬（株）製）、ソナサイド（Ａｙｅ
ｓｔ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＩＮＣ製）、イソジ
ン（明治製薬（株）製），ウエスコダイン（ＡＭＳＣＯ
ＭＥＤＩＣＡＬＰＲＯＤＵＣＴ製）、サイデックス
（ジョンソン・アンド・ジョンソン（株）製）の各洗浄
液に浸漬して耐薬試験を行った。結果を表２に示すが、
本実施例の耐薬反射防止膜はいずれの洗浄液に対しても
全く変化が見られなかった。
リハイドＬ（丸石製薬（株）製）、ソナサイド（Ａｙｅ
ｓｔ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ ＩＮＣ製）、イソジ
ン（明治製薬（株）製），ウエスコダイン（ＡＭＳＣＯ
ＭＥＤＩＣＡＬＰＲＯＤＵＣＴ製）、サイデックス
（ジョンソン・アンド・ジョンソン（株）製）の各洗浄
液に浸漬して耐薬試験を行った。結果を表２に示すが、
本実施例の耐薬反射防止膜はいずれの洗浄液に対しても
全く変化が見られなかった。
【００１４】
【表２】
【００１５】また、本実施例の耐薬反射防止膜の反射率
特性を図１に示した。図１は縦軸に反射率を、横軸に波
長をそれぞれとったもので、本実施例の耐薬反射防止膜
は良好な反射率特性を有していた。
特性を図１に示した。図１は縦軸に反射率を、横軸に波
長をそれぞれとったもので、本実施例の耐薬反射防止膜
は良好な反射率特性を有していた。
【００１６】
【実施例２】ＢＫガラス基板を図２に示す真空蒸着装置
にセットし、基板温度を３００℃に設定して排気を開始
した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、装置
内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１０-5Ｔｏｒｒと
した。そして、Ｏ2 イオンビームを８００Ｖ（イオン電
流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３分間照射し、Ｏ
2 イオンビームを基板に照射しながら第１層のＴａ2 Ｏ
5 を電子銃により表１に示す膜圧となるまで蒸着した。
第２層の成膜はＯ2 ガスの導入を停止し、電子銃を使っ
た通常の真空蒸着でＭｇＦ2 を表１に示す膜厚となるま
で蒸着させることにより行った。以下、同様な手段によ
り表１に示す膜厚となるまで第３層のＴａ2 Ｏ5 層、第
４層のＭｇＦ2 、第５層のＴａ2 Ｏ5 層を順に蒸着し
た。
にセットし、基板温度を３００℃に設定して排気を開始
した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、装置
内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１０-5Ｔｏｒｒと
した。そして、Ｏ2 イオンビームを８００Ｖ（イオン電
流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３分間照射し、Ｏ
2 イオンビームを基板に照射しながら第１層のＴａ2 Ｏ
5 を電子銃により表１に示す膜圧となるまで蒸着した。
第２層の成膜はＯ2 ガスの導入を停止し、電子銃を使っ
た通常の真空蒸着でＭｇＦ2 を表１に示す膜厚となるま
で蒸着させることにより行った。以下、同様な手段によ
り表１に示す膜厚となるまで第３層のＴａ2 Ｏ5 層、第
４層のＭｇＦ2 、第５層のＴａ2 Ｏ5 層を順に蒸着し
た。
【００１７】このようにして成膜した本実施例の反射防
止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示した。
表２から判るように、本実施例の反射防止膜は、５種類
の洗浄液に対して全く変化が見られなかった。また、本
実施例の反射防止膜は、実施例１と同様に図１に示すよ
うな良好な反射率特性を有していた。
止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示した。
表２から判るように、本実施例の反射防止膜は、５種類
の洗浄液に対して全く変化が見られなかった。また、本
実施例の反射防止膜は、実施例１と同様に図１に示すよ
うな良好な反射率特性を有していた。
【００１８】
【実施例３】ＢＫ７ガラス基板を図２に示す真空蒸着装
置にセットし、基板温度を３００℃に設定して排気を開
始した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、装
置内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１０-5Ｔｏｒｒ
とした。そして、Ｏ2 イオンビームを８００Ｖ（イオン
電流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３分間照射し、
Ｏ2 イオンビームを基板に照射しながらＺｒＯ2 とＴａ
2 Ｏ5 を重量比で８：２に混合した材料を電子銃により
表１に示す膜厚となるまで蒸着して第１層のＺｒＯ2 と
Ｔａ2 Ｏ5 との混合層を成膜した。第２層の成膜はＯ2
ガスの導入を停止し、電子銃を使った通常の真空蒸着で
ＭｇＦ2 を表１に示す膜厚となるまで蒸着させることに
より行った。以下、同様な手段により表１に示す膜厚と
なるまで第３層のＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の混合層、第４
層のＭｇＦ2 、第５層のＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の混合層
を順に蒸着した。
置にセットし、基板温度を３００℃に設定して排気を開
始した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、装
置内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１０-5Ｔｏｒｒ
とした。そして、Ｏ2 イオンビームを８００Ｖ（イオン
電流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３分間照射し、
Ｏ2 イオンビームを基板に照射しながらＺｒＯ2 とＴａ
2 Ｏ5 を重量比で８：２に混合した材料を電子銃により
表１に示す膜厚となるまで蒸着して第１層のＺｒＯ2 と
Ｔａ2 Ｏ5 との混合層を成膜した。第２層の成膜はＯ2
ガスの導入を停止し、電子銃を使った通常の真空蒸着で
ＭｇＦ2 を表１に示す膜厚となるまで蒸着させることに
より行った。以下、同様な手段により表１に示す膜厚と
なるまで第３層のＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の混合層、第４
層のＭｇＦ2 、第５層のＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 の混合層
を順に蒸着した。
【００１９】このようにして成膜した本実施例の耐薬反
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
【００２０】
【実施例４】ＢＫ７ガラス基板を図２に示す真空蒸着装
置にセットし、基板温度を３００℃に設定して排気を開
始した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、装
置内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１０-5Ｔｏｒｒ
とした。そして、Ｏ2 イオンビームを８００Ｖ（イオン
電流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３分間照射し、
Ｏ2 イオンビームを基板に照射しながらＺｒＯ2 とＴｉ
Ｏ2 を重量比で９：１で混合した材料を電子銃により表
１に示す膜厚となるまで蒸着して第１層のＺｒＯ2 とＴ
ｉＯ2 の混合層を成膜した。第２層の成膜はＯ2 ガスの
導入を停止し、電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ
2 を表１に示す膜厚となるまで蒸着させることにより行
った。以下、同様な手段により表１に示す膜厚となるま
で第３層のＺｒＯ2 とＴｉＯ2 の混合層、第４層のＭｇ
Ｆ2 、第５層のＺｒＯ2 とＴｉＯ2 の混合層を順に蒸着
した。
置にセットし、基板温度を３００℃に設定して排気を開
始した。真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒに達したとき、装
置内にＯ2 ガスを導入して真空度を３×１０-5Ｔｏｒｒ
とした。そして、Ｏ2 イオンビームを８００Ｖ（イオン
電流１００ｍＡ）で発生させて成膜前に３分間照射し、
Ｏ2 イオンビームを基板に照射しながらＺｒＯ2 とＴｉ
Ｏ2 を重量比で９：１で混合した材料を電子銃により表
１に示す膜厚となるまで蒸着して第１層のＺｒＯ2 とＴ
ｉＯ2 の混合層を成膜した。第２層の成膜はＯ2 ガスの
導入を停止し、電子銃を使った通常の真空蒸着でＭｇＦ
2 を表１に示す膜厚となるまで蒸着させることにより行
った。以下、同様な手段により表１に示す膜厚となるま
で第３層のＺｒＯ2 とＴｉＯ2 の混合層、第４層のＭｇ
Ｆ2 、第５層のＺｒＯ2 とＴｉＯ2 の混合層を順に蒸着
した。
【００２１】このようにして成膜した本実施例の耐薬反
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
射防止膜を５種類の洗浄液に浸漬した結果を表２に示し
た。表２から判るように、本実施例の耐薬反射防止膜
は、５種類の洗浄液に対して全く変化が見られなかっ
た。また、本実施例の耐薬反射防止膜は、実施例１と同
様に図１に示すような良好な反射率特性を有していた。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、本発明の耐薬反射防止膜
によれば、洗浄液，消毒液に対して耐久性を有し、膜剥
離を生じることがない。したがって、内視鏡先端レンズ
に反射防止膜を施すことができ、内視鏡画面のコントラ
スト向上、透過光量増加による光学系の精細化による内
視鏡本体の外径の縮小化に大きな効果をもたらす。
によれば、洗浄液，消毒液に対して耐久性を有し、膜剥
離を生じることがない。したがって、内視鏡先端レンズ
に反射防止膜を施すことができ、内視鏡画面のコントラ
スト向上、透過光量増加による光学系の精細化による内
視鏡本体の外径の縮小化に大きな効果をもたらす。
【図１】本発明の実施例１〜４の多層反射防止膜の反射
率特性を示すグラフである。
率特性を示すグラフである。
【図２】本発明の製造に使用される真空蒸着装置の断面
図である。
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板側の第１層，第３層および第５層に
ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＺｒＯ2 とＴａ2 Ｏ5 との混合
物またはＺｒＯ2 とＴｉＯ2 との混合物を積層し、第２
層および第４層にＭｇＦ2 を積層したことを特徴とする
耐薬反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3217896A JPH0534503A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 耐薬反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3217896A JPH0534503A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 耐薬反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0534503A true JPH0534503A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16711458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3217896A Withdrawn JPH0534503A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 耐薬反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0534503A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006047924A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Olympus Corp | 反射防止膜 |
-
1991
- 1991-08-02 JP JP3217896A patent/JPH0534503A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006047924A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Olympus Corp | 反射防止膜 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |