JPH05298887A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH05298887A
JPH05298887A JP4097953A JP9795392A JPH05298887A JP H05298887 A JPH05298887 A JP H05298887A JP 4097953 A JP4097953 A JP 4097953A JP 9795392 A JP9795392 A JP 9795392A JP H05298887 A JPH05298887 A JP H05298887A
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JP
Japan
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word line
row decoder
line driver
semiconductor memory
precharge
Prior art date
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JP4097953A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Ito
英樹 伊東
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enlarge the driving force of a word line driver by freely arranging the word line driver through the use of a word line jump wiring by means of time division so as to enlarge an adjacent word line driver interval. CONSTITUTION:The output of a low decoder 24 and the output of the word line driver 10 are alternately transmitted by time division in the word line jump wiring WLJ so that the driver 10 can be arranged at the both sides of a cell without increasing the wiring. That is, the low decoder 24 directly executes the output to the wiring WLJ, but, at this point of time, connection to a line WL is interrupted by a transistor 28 controlled by the output CBS from a column block decoder 22. Therefore, the wiring WLJ only executes the transmission of the low decoder output. Then, the word line driver can be freely arranged and the adjacent word line driver interval is enlarged so that the driving force of the word line driver can be enlarged.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置、より具
体的にはダイナミックランダムアクセスメモリ(DRA
M)にけるワードラインの駆動回路と、HVCC(1/2
CC)によりセンスアンプのプリチャージを行うDRA
Mに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, more specifically a dynamic random access memory (DRA).
Drive circuit of the word line in M) and HV CC (1/2
DRA for precharging the sense amplifier by V CC )
Regarding M.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3は、DRAMにおけるワードライン
駆動回路部の従来技術を示したブロック図である。同図
において、ワードラインドライバ30A,30Bは、ワ
ードラインドライバ電源32より昇圧された電位を供給
されている。すなわち、これらワードラインドライバ3
0は、ロウデコーダ34により選択されると、選択され
たワードラインドライバ30からワードラインジャンプ
配線WLJ、ワードラインWLに対して昇圧された電位
が供給される。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a block diagram showing a conventional technique of a word line driving circuit portion in a DRAM. In the figure, the word line drivers 30A and 30B are supplied with a boosted potential from the word line driver power supply 32. That is, these word line drivers 3
When 0 is selected by the row decoder 34, the boosted potential is supplied from the selected word line driver 30 to the word line jump wiring WLJ and the word line WL.

【0003】ワードラインWLは通常Poly−Siな
ど高耐熱材料で形成されているが、この材質は抵抗が高
い為、金属によるジャンプ配線WLJで一定間隔毎にコ
ンタクトをつくり、全体として低抵抗化を行っている。
ジャンプ配線WLJはワードラインWLと同一ピッチで
配線する為、平行した他の配線をジャンプ配線WLJの
代わりに用いることは出来なかった。
The word line WL is usually formed of a high heat-resistant material such as Poly-Si, but since this material has a high resistance, the jump wiring WLJ made of metal makes contacts at regular intervals to reduce the resistance as a whole. Is going.
Since the jump wiring WLJ is arranged at the same pitch as the word line WL, another parallel wiring cannot be used in place of the jump wiring WLJ.

【0004】また、図9にはHVCCプリチャージ方式の
DRAMの基本回路の従来技術が示されている。同図に
示すようにDRAMの基本構成は、ビット線対BL,−
BL(以後、図面において符号上に“ ̄”の記されてい
る符号は、本明細書において符号の前に“−”を付して
示す)の電位差をなくすイコライザ50、メモリセルア
レイ52、メモリセルアレイ52とセンスアンプ62間
の接続を制御するトランスファゲートTG、ビット線対
BL/−BLのプリチャージ電位を供給するイコライザ
54及びセンスアンプ62より構成されている。
Further, FIG. 9 shows a prior art of a basic circuit of an HV CC precharge type DRAM. As shown in the figure, the basic structure of the DRAM is a bit line pair BL,-
An equalizer 50, a memory cell array 52, a memory cell array, which eliminates the potential difference of BL (hereinafter, a symbol having a symbol "-" in the drawings is attached with a symbol "-" in this specification) A transfer gate TG for controlling the connection between 52 and the sense amplifier 62, an equalizer 54 for supplying a precharge potential of the bit line pair BL / -BL, and a sense amplifier 62.

【0005】従来、DRAMにおけるセンスアンプ62
は、同図に示すようにCMOS回路によるフリップフロ
ップで構成される。図10には、このようなセンスアン
プ62における“0”読み出しと“1”読み出しのセン
ス時間とイコライズ電位VEQとの関係が示されている。
Conventionally, a sense amplifier 62 in a DRAM is used.
Is composed of a flip-flop formed of a CMOS circuit as shown in FIG. FIG. 10 shows the relationship between the sense time for "0" read and "1" read in the sense amplifier 62 and the equalize potential V EQ .

【0006】図10に示すように、“0”読み出しと
“1”読み出しのグラフが交差する点は、イコライズ電
位VEQがHVCCのときであり、このときのセンス速度が
最速となる。したがって、プリチャージ電位をHVCC
することでセンス速度の高速化を行っていた。
As shown in FIG. 10, the intersection of the "0" read graph and the "1" read graph is when the equalizing potential V EQ is HV CC , and the sense speed at this time is the fastest. Therefore, the sense speed is increased by setting the precharge potential to HV CC .

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】図3を用いて説明した
ワードライン駆動部の従来技術に戻って、この場合に
は、ワードラインWL,ワードラインジャンプ配線WL
Jにおける配線層の工程数の削減等により、ワードライ
ンドライバ30がメモリセルアレイ部14−1,14−
2に対して片側に配設されている。このようにドライバ
30が片側にのみ配設されると、高集積化の際に必然的
にワードラインピッチが狭くなる為、十分な駆動力を持
つワードラインドライバ30を設計することが難しい。
Returning to the prior art of the word line driving section described with reference to FIG. 3, in this case, the word line WL and the word line jump wiring WL are provided.
The word line driver 30 allows the memory cell array units 14-1 and 14- to reduce the number of wiring layer processes in J.
It is arranged on one side with respect to 2. If the driver 30 is arranged on only one side as described above, the word line pitch is inevitably narrowed in high integration, and it is difficult to design the word line driver 30 having a sufficient driving force.

【0008】これを回避する為、ロウデコーダ34から
メモリセル14の反対側に配線することができれば、ワ
ードラインドライバ30をメモリセル14の両側に配置
することができる。例えば特開平3−203892及び
特開平3−203085には、このような点を考慮しワ
ードラインドライバ30をメモリセル14の両側に配置
することで、ワードラインドライバ30の配置ピッチを
ワードラインピッチの2倍に広げる従来技術が開示され
ている。
To avoid this, if wiring can be provided from the row decoder 34 to the opposite side of the memory cell 14, the word line driver 30 can be arranged on both sides of the memory cell 14. For example, in JP-A-3-203892 and JP-A-3-203085, the word line driver 30 is arranged on both sides of the memory cell 14 in consideration of such a point, so that the arrangement pitch of the word line driver 30 can be set to the word line pitch. A conventional technique for doubling is disclosed.

【0009】しかしながら、これら従来技術ではワード
ラインジャンプ配線WLJについては特に記載されてい
ないが、たとえば図3に示したようなワードラインジャ
ンプ配線WLJを用いる場合には配線層を追加する必要
があり、工程数の増加を招くという欠点があった。これ
は、単にメモリセル14の両側にワードラインドライバ
30を配設すると、ロウデコーダ34からワードライン
ドライバ30への出力を伝える信号線として、ワードラ
インWL、ワードラインジャンプ配線WLJのどちらの
配線層も用いることができないためである。
However, although the word line jump wiring WLJ is not particularly described in these conventional techniques, if the word line jump wiring WLJ as shown in FIG. 3 is used, it is necessary to add a wiring layer. There is a drawback in that the number of steps is increased. This is because when the word line drivers 30 are simply arranged on both sides of the memory cell 14, either the word line WL or the word line jump wiring WLJ is used as a signal line for transmitting the output from the row decoder 34 to the word line driver 30. Because it cannot be used.

【0010】また、図9を用いて説明したHVCCプリチ
ャージ方式の従来のDRAMでは、メモリセルにNチャ
ネルトランジスタを用いている。したがって、図11に
示すようにHigh側信号“1”は接合リークにより急
激なカーブを描き電位を失いやすく、Low側信号
“0”は緩いカーブのため電位を失い難いという特性を
持っている。このように、メモリセルに記憶されている
信号の電位は、書き込みから読み出しの間の時間によっ
て、HVCCのプリチャージレベルに対して非対称となっ
てしまうという問題が生じる。
Further, in the conventional DRAM of the HV CC precharge system described with reference to FIG. 9, N channel transistors are used as memory cells. Therefore, as shown in FIG. 11, the High-side signal "1" has a characteristic that it draws a sharp curve due to a junction leak and tends to lose the potential, and the Low-side signal "0" has a gentle curve and thus loses the potential easily. As described above, the potential of the signal stored in the memory cell becomes asymmetric with respect to the precharge level of HV CC depending on the time between writing and reading.

【0011】また、この従来技術では、書き込みから読
み出しまでの時間が長くなると“1”の記憶電位Vm
低下し、この記憶電位Vm がセンスアンプ動作可能電位
HVCC+ΔVm より低下すると、読み出しエラーが起き
る。この不良をホールドタイム不良という。
Further, in this prior art, it reduces the stored potential V m of the time from writing to reading longer "1", when the storage potential V m becomes lower than the sense amplifier operation enable potential HV CC + [Delta] V m, Read error occurs. This defect is called a hold time defect.

【0012】ホールドタイム不良の発生を抑制する為に
は、“1”読み出しのセンス時間を少なくすれば良いた
め、図10に示すようにプリチャージレベルVEQをHV
CCより低い電位とすればかなりの効果がある。しかし、
このようにHVCCをグランドレベルに近づけた場合に
は、“0”読み出し時のセンス時間が長くなるため、
“0”読み出し時の読み出しエラーが起きやすくなると
いう欠点が生じる。
In order to suppress the occurrence of the hold time failure, it is sufficient to reduce the sense time for "1" read. Therefore, as shown in FIG. 10, the precharge level V EQ is set to HV.
If the potential is lower than CC, there is a considerable effect. But,
In this way, when HV CC is brought close to the ground level, the sensing time at "0" read becomes long,
There is a drawback that a read error is likely to occur when reading "0".

【0013】さらに従来技術では、ビット線対BL/−
BLが直接センスアンプ62に接続されているので、ビ
ット線容量は、センスアンプ容量をふくむ大きなものと
なり読み出し出力の減少をまねいていた。
Further, in the prior art, the bit line pair BL /-
Since the BL is directly connected to the sense amplifier 62, the bit line capacitance becomes large including the sense amplifier capacitance, and the read output is reduced.

【0014】本発明はこれら半導体記憶装置の従来技術
の欠点を解消し、ワードラインドライバの配置ピッチを
ワードラインピッチの2倍に広げることにより駆動力を
向上させ、かつ、配線層増加による工程数増加のない半
導体記憶装置の提供と、HVCCプリチャージ方式を用い
た半導体記憶装置において信頼性が高く、センスアンプ
動作速度が高速に行える半導体記憶装置を提供すること
を目的とする。
The present invention solves the drawbacks of the prior art of these semiconductor memory devices, improves the driving force by widening the arrangement pitch of the word line drivers to twice the word line pitch, and increases the number of steps by increasing the wiring layers. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that does not increase and a semiconductor memory device that uses the HV CC precharge method and has high reliability and a high sense amplifier operating speed.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、ワードラインドライバ電源により昇圧さ
れた電位をロウデコーダにより選択されたワードライン
に供給するワードラインドライバを有し、このドライバ
より入力したアドレス信号に該当するメモリセルを選択
する半導体記憶装置は、ワードラインドライバとロウデ
コーダはワードラインジャンプ配線を介して接続され、
ワードラインジャンプ配線は、アドレス信号におけるカ
ラム側の情報により制御されるスイッチを介してワード
ラインに接続され、ロウデコーダからの選択出力をワー
ドラインドライバに通知するとともに、このワードライ
ンドライバ出力を前記スイッチを介してワードラインに
伝達する。ロウデコーダはメモリセルの一方の側に配置
され、ワードラインドライバはメモリセルに対して両側
に実質的に配置されるようロウデコーダ側とこれとその
反対側に配置され、ロウデコーダの反対側に配置された
ワードラインドライバは前記ワードラインジャンプ配線
によりロウデコーダと接続される。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has a word line driver for supplying a potential boosted by a word line driver power supply to a word line selected by a row decoder. In a semiconductor memory device that selects a memory cell corresponding to an address signal input from a driver, a word line driver and a row decoder are connected via a word line jump wiring,
The word line jump wiring is connected to the word line through a switch controlled by information on the column side in the address signal, notifies the word line driver of the selection output from the row decoder, and outputs the word line driver output to the switch. To the word line via. The row decoders are arranged on one side of the memory cells, and the word line drivers are arranged on the row decoder side and the opposite side thereof so as to be substantially arranged on both sides of the memory cells, and on the opposite side of the row decoder. The arranged word line driver is connected to the row decoder by the word line jump wiring.

【0016】また、本発明によれば、HVCCをセンスア
ンプにプリチャージする半導体記憶装置は、ビット線側
のプリチャージレベルをHVCCより低いプリチャージレ
ベルVEQでプリチャージする第1のイコライズ手段と、
センスアンプのプリチャージレベルをHVCCにする第2
のイコライズ手段とを有し、第1および第2のプリチャ
ージ手段によりビット線側のプリチャージとセンスアン
プのプリチャージを行う。
Further, according to the present invention, in the semiconductor memory device for precharging HV CC to the sense amplifier, the first equalize for precharging the precharge level on the bit line side at the precharge level V EQ lower than HV CC. Means and
Second to set the precharge level of the sense amplifier to HV CC
And equalizing means for precharging the bit line side and the sense amplifier by the first and second precharging means.

【0017】さらに、本発明によれば、HVCCをセンス
アンプにプリチャージする半導体記憶装置は、HVCC
リチャージレベルと、このHVCCプリチャージレベルよ
り低いプリチャージレベルVEQを入力し、選択信号に従
ってこれらプリチャージレベルの何れかを出力するプリ
チャージ電位出力手段と、プリチャージ電位出力手段よ
り出力されたプリチャージ電位を入力し、イコライズ信
号に従ってビット線のプリチャージを行うイコライズ手
段と、第1のトランスファゲートと第2のトランスファ
ゲートとを有し、プリチャージ電位出力手段、イコライ
ズ手段、第1のトランスファゲートおよび第2のトラン
スファーゲートにより、ビット線側はプリチャージレベ
ルVEQによりプリチャージされ、センスアンプはVCC
よりプリチャージされる。
Further, according to the present invention, the semiconductor memory device for precharging HV CC to the sense amplifier is selected by inputting the HV CC precharge level and the precharge level V EQ lower than the HV CC precharge level. Precharge potential output means for outputting any of these precharge levels in accordance with a signal, equalization means for inputting the precharge potential output from the precharge potential output means, and precharging the bit line according to the equalization signal, It has a first transfer gate and a second transfer gate, and the bit line side is precharged by the precharge level V EQ by the precharge potential output means, the equalizing means, the first transfer gate and the second transfer gate. , the sense amplifier is pre-charged by the V CC It is.

【0018】また、本発明によれば、ワードラインドラ
イバ電源より昇圧された電位をロウデコーダにより選択
されたワードラインに供給するワードラインドライバを
有し、このドライバにより入力したアドレス信号に該当
するメモリセルを選択するHVCCをセンスアンプにプリ
チャージする半導体記憶装置は、ワードラインドライバ
と前記ロウデコーダはワードラインジャンプ配線を介し
て接続される。このワードラインジャンプ配線は、アド
レス信号におけるカラム側の情報により制御されるスイ
ッチを介してワードラインに接続され、ロウデコーダか
らの選択出力をワードラインドライバに通知するととも
に、このワードラインドライバ出力をスイッチを介して
前記ワードラインに伝達し、ロウデコーダはメモリセル
の一方の側に配置され、ワードラインドライバは実質的
にメモリセルに対して両側に配置されるようロウデコー
ダ側とその反対側に配置され、ロウデコーダの反対側に
配置されたワードラインドライバはワードラインジャン
プ配線により接続される。また、この発明ではビット線
側のプリチャージレベルをHVCCより低いプリチャージ
レベルVEQでプリチャージするとともに、センスアンプ
のプリチャージレベルをHVCCにプリチャージする。
Further, according to the present invention, there is provided a word line driver for supplying the potential boosted by the word line driver power source to the word line selected by the row decoder, and the memory corresponding to the address signal inputted by this driver. In a semiconductor memory device in which HV CC for selecting a cell is precharged to a sense amplifier, a word line driver and the row decoder are connected via a word line jump wiring. The word line jump wiring is connected to the word line through a switch controlled by the information on the column side in the address signal, notifies the word line driver of the selection output from the row decoder, and switches the output of the word line driver. The row decoder is arranged on one side of the memory cell, and the word line drivers are arranged on the row decoder side and the opposite side so as to be substantially arranged on both sides of the memory cell. The word line drivers arranged on the opposite side of the row decoder are connected by word line jump wiring. Further, in the present invention, the precharge level on the bit line side is precharged at the precharge level V EQ lower than HV CC , and the precharge level of the sense amplifier is precharged to HV CC .

【0019】[0019]

【作用】本発明によれば、カラム側の情報により制御さ
れるスイッチがオフのとき、ロウデコーダからの出力は
ワードラインジャンプ配線を介してワードラインドライ
バに伝達される。次に、ワードラインドライバ電源から
の信号がワードラインドライバに入力され、そのワード
ラインドライバが選択されていると、当該ワードライン
ドライバはラッチ状態に入ってワードラインを駆動する
電位までワードラインジャンプ配線を昇圧する。ワード
ラインドライバがラッチ状態になり、カラム側の情報に
よりスイッチがオンになると、昇圧されたワードライン
ジャンプ配線とワードラインとが接続され、このワード
ラインに接続されているメモリセルが動作を開始する。
According to the present invention, when the switch controlled by the information on the column side is off, the output from the row decoder is transmitted to the word line driver via the word line jump wiring. Next, when the signal from the word line driver power supply is input to the word line driver and the word line driver is selected, the word line driver enters the latch state and reaches the potential for driving the word line. Boost. When the word line driver is latched and the switch is turned on by the information on the column side, the boosted word line jump wiring and the word line are connected, and the memory cell connected to this word line starts operating. ..

【0020】また、本発明によれば、トランスファゲー
トよりセンスアンプ側に位置する第2のイコライズ手段
によりセンスアンプのイコライズが行われ、またトラン
スファゲートよりメモリセル側に配置された第1のイコ
ライズ手段によりビット線側のプリチャージを行なう。
According to the present invention, the sense amplifier is equalized by the second equalizing means located closer to the sense amplifier than the transfer gate, and the first equalizing means arranged closer to the memory cell than the transfer gate. Precharges the bit line side.

【0021】さらに本発明によれば、プリチャージ電位
出力手段は、選択信号に従ってセンスアンプのイコライ
ズ期間にはHVCCプリチャージレベルを、ビット線のイ
コライズ期間にはこのHVCCプリチャージレベルより低
いプリチャージレベルVEQをイコライズ手段に出力す
る。また、センスアンプのイコライズ期間には第1のト
ランスファゲートがオン状態になり、センスアンプはH
CCプリチャージレベルにプリチャージされる。さら
に、ビット線のイコライズ期間には第2のトランスファ
ゲートがオン状態になりビット線はプリチャージレベル
EQにプリチャージされる。
Furthermore, according to the present invention, the precharge potential output means sets the HV CC precharge level during the equalization period of the sense amplifier according to the selection signal and the precharge level lower than the HV CC precharge level during the equalization period of the bit line. The charge level V EQ is output to the equalizing means. Also, during the equalizing period of the sense amplifier, the first transfer gate is turned on, and the sense amplifier is set to H level.
Precharged to V CC precharge level. Further, during the equalizing period of the bit line, the second transfer gate is turned on and the bit line is precharged to the precharge level V EQ .

【0022】[0022]

【実施例】次に添付図面を参照して本発明による半導体
記憶装置の実施例を詳細に説明する。
Embodiments of the semiconductor memory device according to the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0023】初めに、図1〜図5を用いて本発明による
半導体記憶装置の実施例を説明する。図1は、ワードラ
イン駆動回路に特徴のある半導体記憶装置として、DR
AMにおけるワードライン駆動回路の実施例を示す機能
ブロック図である。
First, an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a DR as a semiconductor memory device characterized by a word line driving circuit.
It is a functional block diagram which shows the Example of the word line drive circuit in AM.

【0024】同図では、入力したアドレス信号に対応し
たワードラインジャンプ配線WLJおよびワードライン
WLのワードライン駆動部として、ワードラインドライ
バ10A,10B、ワードラインドライバ電源12A,
12B、メモリセル14−1,14−2、イコライザ1
6、センスアンプ18、カラムデコーダ20、カラムブ
ロックデコーダ22、ロウデコーダ24およびロウプリ
デコーダ26が示されている。なお、本実施例では本発
明の理解を容易にするため、本発明に関する半導体記憶
装置の一部が示されている。すなわち、例えばメモリセ
ル14はビット線対BL/−BLとワードラインWLの
交点に2次元に複数配設されてメモリセルアレイを構成
している。
In the figure, word line drivers 10A and 10B, a word line driver power supply 12A, and a word line driver 10A and 10B are provided as word line driving units for the word line jump wiring WLJ and the word line WL corresponding to the input address signal.
12B, memory cells 14-1, 14-2, equalizer 1
6, a sense amplifier 18, a column decoder 20, a column block decoder 22, a row decoder 24 and a row predecoder 26 are shown. In addition, in this embodiment, in order to facilitate understanding of the present invention, a part of the semiconductor memory device according to the present invention is shown. That is, for example, a plurality of memory cells 14 are two-dimensionally arranged at the intersections of bit line pairs BL / -BL and word lines WL to form a memory cell array.

【0025】本実施例のワードライン駆動部では、ワー
ドラインドライバ10A,10Bは、メモリセル14−
1,14−2の両側に配設され、ロウデコーダ24に接
続されるとともに、それぞれ対応する参照符号のワード
ラインドライバ電源12A,12Bを介してロウプリデ
コーダ26に接続されている。本実施例ではまた、アド
レス信号を入力するカラムブロックデコーダ22が配設
され、このデコーダ22はワードラインWLとワードラ
インジャンプ配線WLJとを接続するトランジスタ28
−1および28−2のゲートに接続されている。
In the word line driver of this embodiment, the word line drivers 10A and 10B are the memory cells 14-
1 and 14-2 are arranged on both sides of the row decoder 24 and connected to the row decoder 24, and are also connected to the row predecoder 26 via the word line driver power supplies 12A and 12B having corresponding reference numerals. In this embodiment, a column block decoder 22 for inputting an address signal is also arranged, and this decoder 22 connects a transistor 28 for connecting a word line WL and a word line jump wiring WLJ.
-1 and 28-2 are connected to the gates.

【0026】本実施例では、ワードラインジャンプ配線
WLJを、ロウデコーダ24の出力の伝達とワードライ
ンドライバ10の出力の伝達とを時分割で交互に行うよ
うにすることで、図1に示すように配線層増加を伴うこ
と無く、メモリセル14の両側にワードラインドライバ
10を配置可能とした。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the word line jump wirings WLJ are arranged so that the output of the row decoder 24 and the output of the word line driver 10 are alternately transmitted in a time division manner. The word line driver 10 can be arranged on both sides of the memory cell 14 without increasing the number of wiring layers.

【0027】本実施例において、ロウデコーダ24から
の出力は直接ワードラインジャンプ配線WLJに対して
行なわれるが、この時点ではカラムブロックデコーダ2
2からの出力CBSによって制御されるトランジスタ2
8によりワードラインWLとの接続は断たれている。し
たがって、ワードラインジャンプ配線WLJはロウデコ
ーダ出力の伝達のみを行う。
In this embodiment, the output from the row decoder 24 is directly applied to the word line jump wiring WLJ, but at this time, the column block decoder 2 is used.
Transistor 2 controlled by output CBS from 2
8, the connection with the word line WL is cut off. Therefore, the word line jump wiring WLJ only transfers the row decoder output.

【0028】次に、ワードラインドライバ電源12から
の信号が、ワードラインドライバ10に入力され、かつ
そのワードラインドライバ10が、ロウデコーダ24に
より選択されたものである場合、ワードラインドライバ
10はラッチ状態に入り、ワードラインWLを駆動する
電位までワードラインジャンプ配線WLJを昇圧する。
Next, when the signal from the word line driver power supply 12 is input to the word line driver 10 and the word line driver 10 is selected by the row decoder 24, the word line driver 10 latches. The state is entered, and the word line jump wiring WLJ is boosted to a potential for driving the word line WL.

【0029】ワードラインドライバ10がラッチ状態に
なると、ロウデコーダ24は昇圧電位の影響をうけない
ように休止状態となり、カラムブロックデコーダ出力C
BSが出力され、ワードラインジャンプ配線WLJとワ
ードラインWLが接続されメモリセル14の動作が開始
する。
When the word line driver 10 is in the latch state, the row decoder 24 is in the rest state so as not to be affected by the boosted potential, and the column block decoder output C
BS is output, the word line jump wiring WLJ and the word line WL are connected, and the operation of the memory cell 14 is started.

【0030】ワードラインドライバ10は、ロウデコー
ダ出力とワードラインドライバ電源出力が同時期に入力
された時に動作状態に入り、ワードラインドライバ電源
出力が休止状態になる迄動作を続ける回路である。図2
には、図1に示した機能ブロックの一部回路例が示され
ており、同図に示すようにワードラインドライバ10は
それぞれ、CMOSフリップフロップで構成することが
できる。
The word line driver 10 is a circuit that enters an operating state when the row decoder output and the word line driver power supply output are input at the same time and continues the operation until the word line driver power supply output is in the idle state. Figure 2
1 shows an example of a partial circuit of the functional block shown in FIG. 1. As shown in FIG. 1, each word line driver 10 can be composed of a CMOS flip-flop.

【0031】本実施例の動作波形を図4に、図3に示し
た従来技術の動作波形を図5に示す。なお、同図におい
て、“H”はハイレベルを、“L”はロウレベルを、
“B”はブーストレベルをそれぞれ示している。従来例
ではワードラインWLがメモリセル駆動電位にある期間
はロウデコーダ34からの出力によって決定されている
が、本実施例では開始点はカラムブロックデコーダ出力
CBSによって、終了はワードラインドライバ電源出力
PWによって決定される。
FIG. 4 shows the operation waveforms of this embodiment, and FIG. 5 shows the operation waveforms of the prior art shown in FIG. In the figure, “H” is a high level, “L” is a low level,
“B” indicates the boost level, respectively. In the conventional example, the period during which the word line WL is at the memory cell drive potential is determined by the output from the row decoder 34, but in this embodiment, the starting point is the column block decoder output CBS and the ending point is the word line driver power supply output PW. Determined by

【0032】ワードラインジャンプ配線WLJをロウデ
コーダ出力の伝達に用いる期間T1は、ワードラインジ
ャンプ配線WLJがワードラインWLに接続されていな
いため、負荷容量が小さい。したがって、高速での信号
伝達が可能であるので、信号伝達時間を非常に短くする
ことができ、半導体記憶装置のアクセス速度への影響は
小さい。
During the period T 1 when the word line jump wiring WLJ is used for transmitting the row decoder output, the load capacitance is small because the word line jump wiring WLJ is not connected to the word line WL. Therefore, high-speed signal transmission is possible, so that the signal transmission time can be extremely shortened and the influence on the access speed of the semiconductor memory device is small.

【0033】本実施例ではカラムブロックデコーダ22
により制御されるワードラインジャンプ配線WLJとワ
ードラインWLを接続するトランジスタ28を必要とす
る。このため、ワードラインジャンプ配線WLJと接続
するワードラインWLを分割して接続することが出来る
ので、動作するメモリセル数を減少させることにより消
費電力の低減が可能である。
In this embodiment, the column block decoder 22 is used.
The transistor 28 connecting the word line jump wiring WLJ controlled by the word line WL and the word line WL is required. Therefore, since the word line WL connected to the word line jump wiring WLJ can be divided and connected, the power consumption can be reduced by reducing the number of operating memory cells.

【0034】また本実施例ではメモリセルアレイの両側
だけでなく、メモリセルアレイ内にもワードラインドラ
イバを配置可能であるので、ワードラインジャンプ配線
WLJに接続するワードラインドライバ数を増すことに
より駆動能力を向上させ、アクセス速度の短縮も可能と
なる。
In this embodiment, the word line driver can be arranged not only on both sides of the memory cell array but also in the memory cell array. Therefore, the driving capability can be improved by increasing the number of word line drivers connected to the word line jump wiring WLJ. It is possible to improve and shorten the access speed.

【0035】なお、本実施例で用いた図ではワードライ
ンジャンプ配線WLJに1つのワードラインドライバ1
0が接続されているが、たとえばワードラインジャンプ
配線WLJに複数のワードラインドライバ10が接続さ
れ、ロウデコーダ24と複数のワードラインドライバ1
0がワードラインジャンプ配線WLJにより接続されて
も良い。
In the drawing used in this embodiment, one word line driver 1 is provided for the word line jump wiring WLJ.
Although 0 is connected, a plurality of word line drivers 10 are connected to the word line jump wiring WLJ, for example, and the row decoder 24 and the plurality of word line drivers 1 are connected.
0 may be connected by the word line jump wiring WLJ.

【0036】次に、図6〜図11を用いてHVCCプリチ
ャージ方式を用いた半導体記憶装置の実施例を説明す
る。
Next, an embodiment of the semiconductor memory device using the HV CC precharge system will be described with reference to FIGS. 6 to 11.

【0037】図6にはHVCCプリチャージによりセンス
アンプをプリチャージする半導体記憶装置の実施例を示
す回路図が示されている。なお同図では、ビット線対B
L,−BLに接続される本実施例に直接関係のあるDR
AMのセンスアンプ周辺回路の一部が示されており、実
際には同図に示された回路が複数配列される。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device in which the sense amplifier is precharged by HV CC precharge. In the figure, bit line pair B
DR connected to L, -BL and directly related to this embodiment
A part of the peripheral circuit of the AM sense amplifier is shown, and in reality, a plurality of circuits shown in the figure are arranged.

【0038】本実施例における半導体記憶装置は、イコ
ライザ50、メモリセルアレイ52、イコライザ54、
センスアンプ56およびイコライザ58が、同図に示す
ようにビット線対BL,−BLに接続されている。本実
施例では、図9に示した従来技術と比較し、センスアン
プ56内にトランスファゲートが含まれ、イコライザ3
がデータ線側に配設されている。
The semiconductor memory device according to the present embodiment includes an equalizer 50, a memory cell array 52, an equalizer 54,
A sense amplifier 56 and an equalizer 58 are connected to the bit line pair BL, -BL as shown in the figure. In this embodiment, as compared with the conventional technique shown in FIG. 9, a transfer gate is included in the sense amplifier 56, and the equalizer 3 is provided.
Are arranged on the data line side.

【0039】すなわち、センスアンプ56は、従来のセ
ンスアンプ62に対し、対向するビットラインBL,−
BLの電位により制御されるPチャネルトランジスタP
1 ,P2 が信号線SAPとセンスアンプ56のノードN
/−N間を接続する。ノードN/−Nには信号線SAP
がHighでメモリセルアレイ52のメモリセル出力が
あった場合、トランジスタP1 2 の駆動力差によりセ
ンスすべき電位差があらわれる。
That is, the sense amplifier 56 is opposed to the conventional sense amplifier 62 by the bit lines BL,-.
P-channel transistor P controlled by the potential of BL
1 and P 2 are the signal line SAP and the node N of the sense amplifier 56.
Connect between / and N. The signal line SAP is connected to the node N / -N.
Is high and there is a memory cell output of the memory cell array 52, a potential difference to be sensed appears due to the driving force difference between the transistors P 1 and P 2 .

【0040】ビット線BL/−BLとノードN/−Nは
2つのトランジスタN1 2 によりセンス終了以前では
切断されている為、プリチャージレベルはBL/−BL
とN/−N間で別個に設定が可能である。センス終了
後、トランスファゲート信号TGをHighにすること
によりメモリセルアレイ52内のメモリセルの再書き込
みを行う。
Since the bit line BL / -BL and the node N / -N are disconnected by the two transistors N 1 N 2 before the end of sensing, the precharge level is BL / -BL.
And N / -N can be set separately. After the end of sensing, the transfer gate signal TG is set to High to rewrite the memory cells in the memory cell array 52.

【0041】トランスファゲートTGよりセンスアンプ
側にはHVCCを給電するイコライザ58があり、このゲ
ートTGよりメモリセル側にはHVCCよりも低い電位V
EQを給電するイコライザ54がある。
An equalizer 58 for supplying HV CC is provided on the sense amplifier side of the transfer gate TG, and a potential V lower than HV CC is provided on the memory cell side of the gate TG.
There is an equalizer 54 that powers the EQ .

【0042】VEQは以下に示す数式「数1」により表す
と、
V EQ can be expressed by the following mathematical expression "Equation 1":

【0043】[0043]

【数1】 [Equation 1]

【0044】このとき左辺はHigh側読み出し限度
で、右辺がLow側の読み出し限度である。High側
読み出しは実際にはキャパシタの自然放電により経時的
に低下するものであまり意味がない。VEQをLow側下
限にすることで、High側読み出しに自然放電に対す
る余裕ができる。図7には縦軸をメモリセルの出力に、
横軸を時間としたときのVEQのグラフが示されており、
同図実線はVEQ=HVCCを、点線はVEQ=ΔVC (CB
/CS +1)を、それぞれ示している。
At this time, the left side is the high-side read limit, and the right side is the low-side read limit. High-side reading is actually meaningless because it naturally deteriorates over time due to spontaneous discharge of the capacitor. By setting V EQ to the low-side lower limit, a margin for spontaneous discharge can be provided in the high-side reading. In FIG. 7, the vertical axis represents the output of the memory cell,
A graph of V EQ when the horizontal axis is time is shown,
The solid line in the figure indicates V EQ = HV CC , and the dotted line indicates V EQ = ΔV C (C B
/ C S +1) respectively.

【0045】これは、自然放電による消失電荷をQL
すると、VEQ=HVCCのとき、QL<VCCS /2−Δ
C (CS +CB )であるのに対し、VEQ=ΔVC (C
B /CS +1)のとき、QL <VCCS −2ΔVC (C
S +CB )であり、後者の場合約2倍の自然放電まで許
容できることがわかる。
[0045] This is because, if the loss charge due to natural discharge and Q L, when the V EQ = HV CC, Q L <V CC C S / 2-Δ
While V C (C S + C B ), V EQ = ΔV C (C
B / C S +1) when, Q L <V CC C S -2ΔV C (C
S + C B ), and in the latter case, it can be understood that about twice the spontaneous discharge can be tolerated.

【0046】このようにビット線側のプリチャージレベ
ルをHVCCより低くしても、本実施例ではセンスアンプ
56のプリチャージレベルをHVCCとすることができる
ので、センス動作に問題はない。
As described above, even if the precharge level on the bit line side is lower than HV CC, the precharge level of the sense amplifier 56 can be set to HV CC in the present embodiment, so there is no problem in the sensing operation.

【0047】さらに、図9の従来例ではビット線BL,
−BLとセンスアンプ62が、直接接続されていたの
で、実際のセル出力は、センスアンプ容量分だけ減少し
ていたが、本実施例ではセンスアンプ56とビット線B
L,−BLはトランジスタP1, P2 を介して接続され
ている為センスアンプ容量は無視できる。
Further, in the conventional example of FIG. 9, the bit lines BL,
Since -BL and the sense amplifier 62 were directly connected, the actual cell output was reduced by the sense amplifier capacitance, but in the present embodiment, the sense amplifier 56 and the bit line B
L, -BL the sense amplifier capacity because it has been connected through the transistor P 1, P 2 can be ignored.

【0048】VEQの値については他にノイズの問題があ
る為、ΔVC (CB /CS +1)よりも20%ほど大き
くしておく方が望ましく、また実際には回路バラツキが
ある為、ΔVC (CB /CS +1)<VEQ<ΔVC (C
B /CS +1)×1.4の範囲が実用的な値と考えられ
る。
Since there is another problem of noise in the value of V EQ , it is desirable to make it about 20% larger than ΔV C (C B / C S +1), and in reality there are circuit variations. , ΔV C (C B / C S +1) <V EQ <ΔV C (C
The range of B / C S +1) × 1.4 is considered to be a practical value.

【0049】図8にはHVCCプリチャージによりセンス
アンプをプリチャージする半導体記憶装置の他の実施例
が示されている。この実施例では図6で示した実施例に
比べ回路の省略化を行っている。すなわち、図6に示し
た実施例ではHVCC用とVEQ用のイコライザが別個にあ
ったものを、図8ではトランスファゲートを2個TG1
TG2 とすることで1個にまとめている。
FIG. 8 shows another embodiment of the semiconductor memory device in which the sense amplifier is precharged by HV CC precharge. In this embodiment, the circuit is omitted as compared with the embodiment shown in FIG. That is, in the embodiment shown in FIG. 6, the equalizer for HV CC and the equalizer for V EQ are provided separately, but in FIG. 8, two transfer gates TG 1 are used.
It is collected as one by making it TG 2 .

【0050】すなわち本実施例では、イコライザ50、
メモリセルアレイ52の他に、ゲート信号TG1 を入力
するトランスファゲート70、選択出力SEQによりH
CCまたはVEQの何れかをイコライズ72に供給するイ
コライズ電位供給回路76、センスアンプ74により構
成される。
That is, in this embodiment, the equalizer 50,
In addition to the memory cell array 52, the transfer gate 70 for inputting the gate signal TG 1 and the selection output SEQ make it H
It is composed of an equalizing potential supply circuit 76 for supplying either V CC or V EQ to the equalizing 72 and a sense amplifier 74.

【0051】これにより、ビット線BL,−BLのイコ
ライズ期間はTG1 がHigh、TG2 がLow、SE
QがLow、EQ2 がHighのときに行われる。ま
た、センスアンプ74のイコライズ期間はTG1 がLo
w、TG2 がHigh、SEQがHigh、EQ2 がH
ighとなる。このように本実施例でも、異なる電位の
プリチャージが可能である。
As a result, TG 1 is High, TG 2 is Low, and SE is equal during the equalizing period of the bit lines BL and -BL.
This is performed when Q is Low and EQ 2 is High. Further, TG 1 is Lo during the equalizing period of the sense amplifier 74.
w, TG 2 is High, SEQ is High, EQ 2 is H
It becomes high. As described above, also in this embodiment, it is possible to precharge different potentials.

【0052】なお、本実施例では、センスアンプ74も
センスアンプ56(図6)と比較しPチャネルトランジ
スタを2個省略してあるが、センス動作時の貫通電流の
増加を除けば、ほぼ同等の動作を行うことができる。
In the present embodiment, the sense amplifier 74 also has two P-channel transistors omitted as compared with the sense amplifier 56 (FIG. 6), but it is almost the same except for the increase of the through current during the sensing operation. The operation of can be performed.

【0053】図12には、図2に示した実施例と図6に
示した実施例を組み合わせることにより、これら実施例
で示した両方の利点を有する半導体記憶装置が示されて
いる。同図における説明は、既に行った説明と重複する
ので省略するが、この様に組み合わせることにより、半
導体記憶装置の高集積化を行った場合でも信頼性の高い
半導体記憶装置を提供することが可能となる。なお、図
12には図2と図6とを組み合わせた例を示したが、勿
論図2と図8とを組み合わせることも出来る。
FIG. 12 shows a semiconductor memory device having both advantages shown in these embodiments by combining the embodiment shown in FIG. 2 and the embodiment shown in FIG. The description in the same figure is omitted because it overlaps with the description already given, but by combining in this way, it is possible to provide a highly reliable semiconductor memory device even when the semiconductor memory device is highly integrated. Becomes Although FIG. 12 shows an example in which FIG. 2 and FIG. 6 are combined, it is of course possible to combine FIG. 2 and FIG.

【0054】[0054]

【発明の効果】このようにワードライン駆動部に特徴を
有する本発明の半導体記憶装置によれば、ワードライン
ジャンプ配線を時分割で用いることにより、ワードライ
ンドライバの配置が自由になり、隣接ワードラインドラ
イバ間隔を大きくできるため、ワードラインドライバの
駆動力を大きくすることができる。また、ワードライン
1本に対し複数のワードラインドライバを接続すること
も可能となり、ワードライン駆動力をさらに大きくする
ことができる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention having the feature of the word line driving section, the word line jump wirings are used in a time division manner so that the word line drivers can be arranged freely and the adjacent words can be arranged. Since the line driver interval can be increased, the driving force of the word line driver can be increased. Further, it becomes possible to connect a plurality of word line drivers to one word line, and the word line driving force can be further increased.

【0055】また、HVCCプリチャージを行う本発明の
半導体記憶装置によれば、ビット線のプリチャージレベ
ルを、ΔVC (CB /CS +1)にすることで、ホール
ドタイム不良を大巾に改善できるとともに、センスアン
プのプリチャージレベルをHVCCに保つことができる。
したがって、センス速度の低下がなく、ビット線容量と
センスアンプ容量が完全に切りはなされる為、実効的な
ビット線容量が軽減されメモリセル出力が大きくなるの
で、より安定動作が可能な半導体記憶装置を得ることが
できる。
Further, according to the semiconductor memory device of the present invention which performs HV CC precharge, the hold time defect is greatly increased by setting the precharge level of the bit line to ΔV C (C B / C S +1). The precharge level of the sense amplifier can be maintained at HV CC .
Therefore, since the bit line capacitance and the sense amplifier capacitance are completely cut off without lowering the sense speed, the effective bit line capacitance is reduced and the memory cell output is increased, so that a more stable operation of the semiconductor memory device is possible. Can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるワードライン駆動部に特徴を有す
る半導体記憶装置の実施例を示す機能ブロック図、
FIG. 1 is a functional block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device having a feature of a word line driver according to the present invention;

【図2】図1に示す半導体記憶装置の詳細内容を示した
回路図、
FIG. 2 is a circuit diagram showing details of the semiconductor memory device shown in FIG.

【図3】ワードライン駆動部に特徴を有する半導体記憶
装置の従来技術を示したブロック図、
FIG. 3 is a block diagram showing a conventional technique of a semiconductor memory device having a word line driving section;

【図4】図1の実施例における動作の一例を示した動作
波形図、
FIG. 4 is an operation waveform diagram showing an example of operation in the embodiment of FIG.

【図5】図3に示した従来技術の動作波形図、5 is an operation waveform diagram of the conventional technique shown in FIG.

【図6】本発明によるHVCCプリチャージ方式の半導体
記憶装置の実施例を示す回路図、
FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment of an HV CC precharge type semiconductor memory device according to the present invention;

【図7】図6の実施例におけるメモリセル出力と自然放
電の関係を示した説明図、
7 is an explanatory diagram showing the relationship between memory cell output and spontaneous discharge in the embodiment of FIG.

【図8】本発明によるHVCCプリチャージ方式を行う半
導体記憶装置の他の実施例を示す回路図、
FIG. 8 is a circuit diagram showing another embodiment of the semiconductor memory device which performs the HV CC precharge method according to the present invention;

【図9】従来技術におけるHVCCプリチャージ方式を行
う半導体記憶装置の回路図、
FIG. 9 is a circuit diagram of a semiconductor memory device that performs an HV CC precharge method in the related art;

【図10】“0”また“1”の読み出しにおけるセンス
時間とイコライザ電圧VEQの関係を示す説明図、
FIG. 10 is an explanatory diagram showing the relationship between the sense time and the equalizer voltage V EQ in reading “0” or “1”;

【図11】記憶電位Vm とこれが失われる時間の関係を
示した説明図、
FIG. 11 is an explanatory diagram showing the relationship between the storage potential V m and the time during which the storage potential V m is lost.

【図12】図2に示した実施例と図6に示した実施例と
を組み合わせた本発明による半導体記憶装置の実施例で
ある。
12 is an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, which is a combination of the embodiment shown in FIG. 2 and the embodiment shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10A,10B ワードラインドライバ 12A,12B ワードラインドライバ電源 14−1,14−2 メモリセル 16 イコライザ 18 センスアンプ 20 カラムデコーダ 22 カラムブロックデコーダ WL ワードライン WLJ ワードラインジャンプ配線 50,54,58,72 イコライザ 52 メモリセルアレイ 56,74 センスアンプ 60,70 トランスファゲート 76 イコライズ電位供給回路 10A, 10B Word line driver 12A, 12B Word line driver power supply 14-1, 14-2 Memory cell 16 Equalizer 18 Sense amplifier 20 Column decoder 22 Column block decoder WL Word line WLJ Word line jump wiring 50, 54, 58, 72 Equalizer 52 memory cell array 56,74 sense amplifier 60,70 transfer gate 76 equalize potential supply circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワードラインドライバ電源により昇圧さ
れた電位をロウデコーダにより選択されたワードライン
に供給するワードラインドライバを有し、このドライバ
より入力したアドレス信号に該当するメモリセルを選択
する半導体記憶装置において、 前記ワードラインドライバと前記ロウデコーダはワード
ラインジャンプ配線を介して接続され、 前記ワードラインジャンプ配線は、前記アドレス信号に
おけるカラム側の情報により制御されるスイッチを介し
て前記ワードラインに接続され、前記ロウデコーダから
の選択出力を前記ワードラインドライバに通知するとと
もに、このワードラインドライバ出力を前記スイッチを
介して前記ワードラインに伝達し、 前記ロウデコーダは前記メモリセルの一方の側に配置さ
れ、前記ワードラインドライバは前記メモリセルに対し
て実質的に両側に配置されるよう前記ロウデコーダ側と
その反対側に配置され、前記ロウデコーダの反対側に配
置された前記ワードラインドライバは前記ワードライン
ジャンプ配線により前記ロウデコーダと接続されること
を特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory having a word line driver for supplying a potential boosted by a word line driver power supply to a word line selected by a row decoder, and selecting a memory cell corresponding to an address signal input from the driver. In the device, the word line driver and the row decoder are connected via a word line jump wiring, and the word line jump wiring is connected to the word line via a switch controlled by column-side information in the address signal. The word line driver is notified of the selected output from the row decoder, and the word line driver output is transmitted to the word line via the switch, and the row decoder is arranged on one side of the memory cell. The word line The drivers are arranged on the row decoder side and the opposite side so as to be arranged substantially on both sides of the memory cell, and the word line driver arranged on the opposite side of the row decoder is formed by the word line jump wiring. A semiconductor memory device connected to the row decoder.
【請求項2】 HVCCをセンスアンプにプリチャージす
る半導体記憶装置において、 ビット線側のプリチャージレベルをHVCCより低いプリ
チャージレベルVEQでプリチャージする第1のイコライ
ズ手段と、 前記センスアンプのプリチャージレベルをHVCCにする
第2のイコライズ手段とを有し、 前記第1および第2のプリチャージ手段により前記ビッ
ト線側のプリチャージとセンスアンプのプリチャージを
行うことを特徴とする半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device for precharging HV CC to a sense amplifier, comprising: first equalizing means for precharging a bit line side precharge level at a precharge level V EQ lower than HV CC; Second equalizing means for setting the precharge level of HV CC to HV CC , and precharging the bit line side and the sense amplifier by the first and second precharging means. Semiconductor memory device.
【請求項3】 HVCCをセンスアンプにプリチャージす
る半導体記憶装置において、 HVCCプリチャージレベルと、このHVCCプリチャージ
レベルより低いプリチャージレベルVEQを入力し、選択
信号に従ってこれらプリチャージレベルの何れかを出力
するプリチャージ電位出力手段と、 前記プリチャージ電位出力手段より出力されたプリチャ
ージ電位を入力し、イコライズ信号に従ってビット線の
プリチャージを行うイコライズ手段と、 第1のトランスファゲートと第2のトランスファゲート
とを有し、 前記プリチャージ電位出力手段、イコライズ手段、第1
のトランスファゲートおよび第2のトランスファーゲー
トにより、前記ビット線側はプリチャージレベルVEQ
よりプリチャージされ、前記センスアンプはHVCCによ
りプリチャージされることを特徴とする半導体記憶装
置。
3. A semiconductor memory device for precharging HV CC to a sense amplifier, wherein an HV CC precharge level and a precharge level V EQ lower than the HV CC precharge level are input and these precharge levels are input according to a selection signal. A precharge potential output unit for outputting any of the above, an equalizer unit for inputting the precharge potential output from the precharge potential output unit and precharging the bit line in accordance with the equalize signal, and a first transfer gate. A second transfer gate, the precharge potential output means, the equalizing means, the first
Of the semiconductor memory device, wherein the bit line side is precharged by a precharge level V EQ and the sense amplifier is precharged by HV CC by the transfer gate and the second transfer gate.
【請求項4】 請求項2および3に記載の半導体記憶装
置において、センスアンプ感度ΔVC 、ビットライン容
量CB 、メモリセル容量CS のとき、前記プリチャージ
レベルVEQは、ΔVC (CB /CS +1)より大きく、
ΔVC (CB/CS +1)×1.4より小さい値である
ことを特徴とする半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein when the sense amplifier sensitivity ΔV C , the bit line capacitance C B , and the memory cell capacitance C S , the precharge level V EQ is ΔV C (C B / C S +1),
A semiconductor memory device having a value smaller than ΔV C (C B / C S +1) × 1.4.
【請求項5】 ワードラインドライバ電源より昇圧され
た電位をロウデコーダにより選択されたワードラインに
供給するワードラインドライバを有し、このドライバに
より入力したアドレス信号に該当するメモリセルを選択
するHVCCをセンスアンプにプリチャージする半導体記
憶装置において、 前記ワードラインドライバと前記ロウデコーダはワード
ラインジャンプ配線を介して接続され、 前記ワードラインジャンプ配線は、前記アドレス信号に
おけるカラム側の情報により制御されるスイッチを介し
て前記ワードラインに接続され、前記ロウデコーダから
の選択出力を前記ワードラインドライバに通知するとと
もに、このワードラインドライバ出力を前記スイッチを
介して前記ワードラインに伝達し、 前記ロウデコーダは前記メモリセルの一方の側に配置さ
れ、前記ワードラインドライバは実質的に前記メモリセ
ルに対して両側に配置されるよう前記ロウデコーダ側と
その反対側に配置され、前記ロウデコーダの反対側に配
置された前記ワードラインドライバは前記ワードライン
ジャンプ配線により接続され、 ビット線側のプリチャージレベルをHVCCより低いプリ
チャージレベルVEQでプリチャージするとともに、前記
センスアンプのプリチャージレベルをHVCCにプリチャ
ージすることを特徴とする半導体記憶装置。
5. A HV CC having a word line driver for supplying a potential boosted by a word line driver power supply to a word line selected by a row decoder and selecting a memory cell corresponding to an address signal input by this driver. In a semiconductor memory device in which a word line driver and the row decoder are connected via a word line jump wiring, and the word line jump wiring is controlled by information on the column side in the address signal. The row decoder is connected to the word line through a switch, notifies the word line driver of a selection output from the row decoder, and transmits the word line driver output to the word line through the switch. The memory cell The word line drivers are arranged on one side and on the opposite side of the row decoder so as to be substantially arranged on both sides of the memory cell, and the word line drivers are arranged on the opposite side of the row decoder. the word line driver are connected by the word line jump wiring, precharging the precharge level of the bit line side with precharged at HV CC lower precharge level V EQ, the precharge level of the sense amplifier to the HV CC A semiconductor memory device comprising:
JP4097953A 1992-04-17 1992-04-17 Semiconductor memory Pending JPH05298887A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4097953A JPH05298887A (en) 1992-04-17 1992-04-17 Semiconductor memory

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5854562A (en) * 1996-04-17 1998-12-29 Hitachi, Ltd Sense amplifier circuit

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