JPH05295262A - Aromatic polysulfone film - Google Patents

Aromatic polysulfone film

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JPH05295262A
JPH05295262A JP10458692A JP10458692A JPH05295262A JP H05295262 A JPH05295262 A JP H05295262A JP 10458692 A JP10458692 A JP 10458692A JP 10458692 A JP10458692 A JP 10458692A JP H05295262 A JPH05295262 A JP H05295262A
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知裕 深井
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康彦 永井
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject film useful for a flexible printed laminate, etc., having specific reduced viscosity, excellent heat resistance, chemical resistance and transparency, comprising a specific aromatic polyether sulfone having diphenyl structure, etc., and a polyether ketone. CONSTITUTION:A resin containing 51-100wt.% aromatic polysulfone having a diphenyl structure composed of a repeating unit of formula I or aromatic polysulfone containing 50-99mol% repeating unit of formula I and 50-1mol% at least one of repeating units of formula II, formula III, etc., having 0.35-0.6dl/g reduced viscosity in dimethylformamide at 1g/dl concentration at 30 deg.C and 49-0wt.% polyether imide or polyether ketone, is melted and extruded from an extruder at 400 deg.C die temperature, quenched by a rotary drum having 220 deg.C surface temperature, made into a film and wound to give the objective polysulfone film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性および耐薬品性
に優れ、透明性の良好な芳香族ポリスルホンを含有する
樹脂から主としてなる、芳香族ポリスルホンフィルムに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aromatic polysulfone film which is mainly composed of a resin containing an aromatic polysulfone having excellent heat resistance and chemical resistance and excellent transparency.

【0002】[0002]

【従来の技術】芳香族ポリスルホン樹脂は、耐熱性、力
学物性および電気的物性に優れた、非常にバランスの良
い物性を有する樹脂として知られており、自動車産業、
航空機産業および電気・電子産業等の分野において幅広
く用いられている。芳香族ポリスルホン樹脂の代表例と
しては、ビクトレックスPES(ICI社製)、および
ユーデルポリスルホン(ユニオンカーバイド社製)が挙
げられる。これらの芳香族ポリスルホン樹脂は、熱変形
温度がそれぞれ203℃および174℃で、耐熱性に優
れており、また曲げ特性および引張り特性等の力学物性
にも優れる。しかしながら、近年の電気・電子材料およ
び航空機関連産業においては、より高度な特性が要求さ
れるようになり、両樹脂の特性では充分でない用途が増
加している。例えば、フレキシブルプリント積層板用フ
ィルムにおいては、ハンダ耐熱性試験に耐える物性が要
求されるが、両樹脂を用いたフィルムの耐熱性は、これ
に充分ではなく、適用することはできない。さらに芳香
族ポリスルホン樹脂の耐薬品性においては、汎用的な溶
剤に対する耐性がないために、該樹脂を用いたフィルム
の応用用途が限られるという欠点も有している。
2. Description of the Related Art Aromatic polysulfone resins are known as resins having excellent heat resistance, mechanical properties, and electrical properties and a very well-balanced physical property.
Widely used in fields such as the aircraft industry and the electrical and electronic industries. Representative examples of the aromatic polysulfone resin include Victrex PES (manufactured by ICI) and Udel polysulfone (manufactured by Union Carbide). These aromatic polysulfone resins have heat distortion temperatures of 203 ° C. and 174 ° C., respectively, and are excellent in heat resistance, and are also excellent in mechanical properties such as bending properties and tensile properties. However, in the electric / electronic materials and aircraft related industries in recent years, more advanced properties are required, and the applications where the properties of both resins are not sufficient are increasing. For example, a film for a flexible printed laminate is required to have physical properties that can withstand a solder heat resistance test, but the heat resistance of a film using both resins is not sufficient and cannot be applied. Further, the chemical resistance of the aromatic polysulfone resin also has a drawback that the application of the film using the resin is limited because it has no resistance to a general-purpose solvent.

【0003】この要求に答えるために、芳香族ポリスル
ホン樹脂を、ポリエーテルケトンおよびポリフェニレン
スルフィド樹脂などと共に押し出して、多層フィルムを
製造する方法が、特開昭62−238737号公報、お
よび特開昭62−238738号公報に開示されている
が、この方法によると、得られるフィルムは耐熱性およ
び耐薬品性が向上するものの、接着界面の剥離現象が発
生したり、透明性が損なわれる等の欠点があり、またF
PCフィルム等に要求される耐熱性には充分ではなく、
実用性に満足し得るものではない。
In order to meet this demand, a method for producing a multilayer film by extruding an aromatic polysulfone resin together with a polyetherketone and a polyphenylene sulfide resin is disclosed in JP-A-62-238737 and JP-A-62-237737. According to this method, although the heat resistance and chemical resistance of the obtained film are improved, there are drawbacks such as peeling phenomenon of the adhesive interface and deterioration of transparency. Yes, F
The heat resistance required for PC film etc. is not sufficient,
Not practically satisfactory.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の実情
に着目してなされたものであり、従来の芳香族ポリスル
ホン樹脂フィルムと比較して、耐熱性および耐薬品性に
優れ、かつ透明性を有する芳香族ポリスルホンフィルム
を得ることを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made by paying attention to the above circumstances, and is superior in heat resistance and chemical resistance to a conventional aromatic polysulfone resin film and is transparent. An object is to obtain an aromatic polysulfone film having

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するため、鋭意研究を行った結果、特定の構造
を有する芳香族ポリスルホン樹脂から主としてなるフィ
ルムが、透明性、耐熱性および耐薬品性に優れることを
見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a film mainly composed of an aromatic polysulfone resin having a specific structure has transparency and heat resistance. Further, they have found that they have excellent chemical resistance, and have completed the present invention.

【0006】本発明の芳香族ポリスルホンフィルムは、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位からなる芳香
族ポリスルホン、あるいは下記一般式(I)で示される
繰り返し単位を50〜99モル%、および下記一般式
(II)〜(XVI)で示される繰り返し単位のうちいずれ
か1つを50〜1モル%含有する芳香族ポリスルホンで
あって、ジメチルホルムアミド中、濃度1g/dl、温
度30℃において測定した還元粘度が、0.35dl/
g以上0.6dl/g以下である芳香族ポリスルホンを
51〜100重量%含有し、ポリエーテルケトンあるい
はポリエーテルイミドを49〜0重量%含有する樹脂か
らなることを特徴とする。
The aromatic polysulfone film of the present invention is
Aromatic polysulfone comprising a repeating unit represented by the following general formula (I), or 50 to 99 mol% of the repeating unit represented by the following general formula (I), and represented by the following general formulas (II) to (XVI) An aromatic polysulfone containing 50 to 1 mol% of any one of repeating units, having a reduced viscosity of 0.35 dl / in dimethylformamide at a concentration of 1 g / dl and a temperature of 30 ° C.
It is characterized by comprising a resin containing 51 to 100% by weight of aromatic polysulfone having a content of g or more and 0.6 dl / g or less and containing 49 to 0% by weight of polyetherketone or polyetherimide.

【0007】[0007]

【化3】 [Chemical 3]

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】本発明で使用される芳香族ポリスルホンの
好適な製造方法としては、アルカリ金属塩の存在下、極
性溶媒中で、水酸基およびハロゲン基を末端に有するモ
ノマーを重合する求核置換重縮合法が用いられ、例え
ば、アルカリ金属炭酸塩の存在下、非プロトン性極性溶
媒中で重合する方法が挙げられる。
A preferred method for producing the aromatic polysulfone used in the present invention is a nucleophilic substitution polycondensation method in which a monomer having a hydroxyl group and a halogen group at the terminals is polymerized in the presence of an alkali metal salt in a polar solvent. Is used, and examples thereof include a method of polymerizing in an aprotic polar solvent in the presence of an alkali metal carbonate.

【0010】上記アルカリ金属炭酸塩は、上記一般式
(I)、あるいは(I)および(II)〜(XVI)で示され
る繰り返し単位を形成するためのモノマーのうちの水酸
基を有するモノマーと反応してアルカリ金属塩を形成し
得るもので、具体的には炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ルビジウムおよび炭酸セシウム等が挙げられる
が、特に好ましくは炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウ
ムである。上記アルカリ金属炭酸塩の使用量は、高分子
ポリマーを得るため、および重合反応速度を高めるため
に、上記水酸基を有するモノマーの合計モル量に対して
過剰モル量とすることが好ましい。アルカリ金属炭酸塩
の使用量が少ない場合には、フリーな水酸基が多く存在
するために低分子量の生成物しか得られないので好まし
くない。
The alkali metal carbonate reacts with a monomer having a hydroxyl group among the monomers for forming the repeating units represented by the general formula (I) or (I) and (II) to (XVI). It is possible to form an alkali metal salt by way of example, and specific examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate and cesium carbonate, but sodium carbonate or potassium carbonate is particularly preferable. The amount of the alkali metal carbonate used is preferably an excessive molar amount with respect to the total molar amount of the monomers having a hydroxyl group in order to obtain a polymer and to increase the polymerization reaction rate. When the amount of the alkali metal carbonate used is small, a large amount of free hydroxyl groups are present and only a low molecular weight product is obtained, which is not preferable.

【0011】上記極性溶媒としては、スルホラン、ジフ
ェニルスルホンおよびジメチルスルホキシド等のスルホ
ン系の溶媒もしくは、ジメチルアセトアミド、ジメチル
イミダゾリン等のアミド系溶媒が好適に用いられる。
As the polar solvent, sulfone-based solvents such as sulfolane, diphenyl sulfone and dimethyl sulfoxide, or amide-based solvents such as dimethylacetamide and dimethylimidazoline are preferably used.

【0012】重合温度は通常80〜400℃の範囲であ
り、好ましくは100〜350℃の範囲で実施される。
上記の温度範囲より反応速度が低い場合には、目的とす
る重合反応は実用に耐える速度で進行せず、必要とする
分子量の重合体を得ることが困難である。一方、上記の
範囲より反応速度が高い場合には、目的とする重合反応
以外の副反応が無視できなくなり、得られる重合体の着
色も著しくなる。重合反応に要する時間は反応原料成分
の種類、重合反応の形式等により変化するが、通常10
分〜100時間であり、好ましくは1時間〜24時間の
範囲で実施される。
The polymerization temperature is usually in the range of 80 to 400 ° C, preferably 100 to 350 ° C.
When the reaction rate is lower than the above temperature range, the intended polymerization reaction does not proceed at a practically practical rate, and it is difficult to obtain a polymer having a required molecular weight. On the other hand, when the reaction rate is higher than the above range, side reactions other than the intended polymerization reaction cannot be ignored, and the resulting polymer is significantly colored. The time required for the polymerization reaction varies depending on the type of raw material components of the reaction, the type of polymerization reaction, etc.
The time is from minutes to 100 hours, and preferably from 1 hour to 24 hours.

【0013】さらに重合に際してモノマーの配合は、該
モノマーが有する全水酸基に対して全ハロゲン基が90
〜110モル%の範囲内で使用するのが好ましい。より
高分子量の芳香族ポリスルホンを得るためには95〜1
05モル%の範囲内で使用するのが好ましい。
Further, in the polymerization, the monomers are mixed such that all the halogen groups are 90% of the total hydroxyl groups of the monomers.
It is preferably used within the range of 110 mol%. 95 to 1 to obtain higher molecular weight aromatic polysulfone
It is preferably used within the range of 05 mol%.

【0014】本発明に使用される芳香族ポリスルホンフ
ィルムは、上記芳香族ポリスルホンを単独もしくは過半
数有する樹脂、すなわち51〜100重量%含有し、ポ
リエーテルイミドあるいはポリエーテルケトンを49〜
0重量%含む樹脂から形成される。この場合、より好ま
しくは芳香族ポリスルホンが60〜100重量%、ポリ
エーテルイミドあるいはポリエーテルケトンが40〜0
重量%である樹脂から形成される。芳香族ポリスルホン
が51重量%未満である場合には、耐熱性が低下し、例
えば電子材料用フィルムとして要求される物性を満たさ
なくなり好ましくない。
The aromatic polysulfone film used in the present invention contains the above-mentioned aromatic polysulfone alone or in a resin having a majority, ie, 51 to 100% by weight, and contains 49 to 100% of polyetherimide or polyetherketone.
It is formed from a resin containing 0% by weight. In this case, the aromatic polysulfone is more preferably 60 to 100% by weight, and the polyetherimide or polyether ketone is 40 to 0%.
It is formed from a resin that is weight percent. When the amount of aromatic polysulfone is less than 51% by weight, heat resistance is lowered and, for example, physical properties required as a film for electronic materials are not satisfied, which is not preferable.

【0015】上記樹脂に必要に応じて含有されるポリエ
ーテルイミドは、下記一般式(XVII)で表されるものを
使用することができる。
As the polyether imide optionally contained in the above resin, those represented by the following general formula (XVII) can be used.

【0016】[0016]

【化5】 [Chemical 5]

【0017】(上記一般式中、aは1以上の整数であ
り、好ましくは10〜10,000であり、基−O−R
1<は、
(In the above general formula, a is an integer of 1 or more, preferably 10 to 10,000, and the group -OR
1 <is

【0018】[0018]

【化6】 [Chemical 6]

【0019】から選択される。ここでR4は水素、低級
アルキル基または低級アルコキシ基であり、好ましくは
ポリエーテルイミドは下記式(XVII')
Is selected from Here, R 4 is hydrogen, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, preferably polyetherimide is represented by the following formula (XVII ′)

【0020】[0020]

【化7】 [Chemical 7]

【0021】であるように、R4が水素である、第3番
目の−O−R1<を含む。−O−R2−O−の2価結合
は、上記式(XVII')中の2つのフェニル基に対し、
3,3’;3,4’;4,3’あるいは4,4’位置に
あり、R2は2価の有機基からなる、(1)群
And a third —O—R 1 <where R 4 is hydrogen. The divalent bond of —O—R 2 —O— is the same as the two phenyl groups in the above formula (XVII ′),
3,3 ';3,4'; 4,3 'or 4,4', and R 2 is a divalent organic group, group (1)

【0022】[0022]

【化8】 [Chemical 8]

【0023】および(2)群And group (2)

【0024】[0024]

【化9】 [Chemical 9]

【0025】から選択される。(2)群において、R5
は下記の群
Is selected from In group (2), R 5
Is the following group

【0026】[0026]

【化10】 [Chemical 10]

【0027】から選択され、bは0あるいは1であり、
cは1〜5の整数である。R3は、(a)炭素原子数6
〜20を有する芳香族炭化水素基およびそれらのハロゲ
ン化誘導体;(b)炭素原子数2〜20を有するアルキ
レン基およびシクロアルキレン基、および炭素数2〜3
を有するアルキレン基が末端に位置する、ポリジオルガ
ノシロキサン;および(c)下記式
Selected from, b is 0 or 1,
c is an integer of 1 to 5. R 3 is (a) 6 carbon atoms
Aromatic hydrocarbon groups having 20 to 20 and halogenated derivatives thereof; (b) alkylene groups and cycloalkylene groups having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 3 carbon atoms.
A polydiorganosiloxane in which an alkylene group having is located at the terminal; and (c) the following formula

【0028】[0028]

【化11】 [Chemical 11]

【0029】で表され、R6が下記の群And R 6 is

【0030】[0030]

【化12】 [Chemical 12]

【0031】から選択され、dが1〜5の整数である2
価の有機基;のいずれかである)。
2 selected from and d is an integer from 1 to 5
A valent organic group;).

【0032】本発明の目的のため、特に好ましいポリエ
ーテルイミドは−O−R1<およびR2がそれぞれ
For the purposes of the present invention, particularly preferred polyetherimides are --O--R 1 <and R 2 respectively.

【0033】[0033]

【化13】 [Chemical 13]

【0034】であり、R3And R 3 is

【0035】[0035]

【化14】 [Chemical 14]

【0036】から選択されたポリエーテルイミドであ
る。R3がメタフェニレンであるポリエーテルイミドが
最も好ましい。
Is a polyetherimide selected from Most preferred are polyetherimides where R 3 is metaphenylene.

【0037】上記樹脂中に必要に応じて含有されるポリ
エーテルケトンとしては、下記式(XVIII)
The polyether ketone optionally contained in the above resin is represented by the following formula (XVIII)

【0038】[0038]

【化15】 [Chemical 15]

【0039】で表される反復単位、およびこれに下記に
示す他の反復単位
The repeating unit represented by, and other repeating units shown below

【0040】[0040]

【化16】 [Chemical 16]

【0041】を含む構造のものが挙げられるが、特に、
上記式(XVIII)の反復単位を単独で含むポリエーテル
ケトンが好適に用いられる。
Examples of the structure include
A polyetherketone containing solely the repeating unit of the above formula (XVIII) is preferably used.

【0042】本発明の芳香族ポリスルホンフィルムを製
造するには、通常の押出機により加熱溶融する、Tダイ
押出法、および有機溶剤に溶解した樹脂溶液を、流延法
により成膜してから該有機溶剤を揮発させる方法、を用
いればよい。ただし、芳香族ポリスルホンおよびポリエ
ーテルケトンから組成されるフィルムの製造において
は、ポリエーテルケトンを溶解する溶剤がないため、流
延法によるフィルム化はできない。
In order to produce the aromatic polysulfone film of the present invention, a resin solution dissolved in an organic solvent, which is heated and melted by an ordinary extruder, is cast into a film by casting the resin solution. A method of volatilizing the organic solvent may be used. However, in the production of a film composed of aromatic polysulfone and polyether ketone, a film cannot be formed by a casting method because there is no solvent that dissolves the polyether ketone.

【0043】押出法による、芳香族ポリスルホンを含む
樹脂のフィルム化においては、押出機のバレル温度は通
常、280〜420℃、好ましくは300〜400℃に
設定され、またダイ温度は通常、300〜450℃、好
ましくは320℃〜400℃に設定される。400℃以
上の高温では、芳香族ポリスルホンの分解が起こるた
め、400℃以下で成膜するのが好ましい。押出機から
押し出された高温フィルムは、回転ドラム等の移動表面
において100〜260℃の範囲の温度に急冷し、巻取
り装置へ送り込み、フィルムを得る。該巻取り装置の巻
取り速度は、製造装置の能力にもよるが、厚みにおける
精度に優れ、表面性の良好なフィルムを得るためには、
50m/min以下の速度が好ましく、より好ましくは
20m/min以下である。
In forming a resin containing an aromatic polysulfone into a film by an extrusion method, the barrel temperature of the extruder is usually set to 280 to 420 ° C., preferably 300 to 400 ° C., and the die temperature is usually 300 to 400 ° C. The temperature is set to 450 ° C, preferably 320 ° C to 400 ° C. At a high temperature of 400 ° C. or higher, decomposition of the aromatic polysulfone occurs, so it is preferable to form the film at 400 ° C. or lower. The high temperature film extruded from the extruder is rapidly cooled to a temperature in the range of 100 to 260 ° C. on the moving surface of a rotating drum or the like, and sent to a winding device to obtain a film. The winding speed of the winding device depends on the capacity of the manufacturing device, but in order to obtain a film having excellent thickness accuracy and good surface property,
The speed is preferably 50 m / min or less, more preferably 20 m / min or less.

【0044】押出機による、芳香族ポリスルホン、およ
びポリエーテルイミドあるいはポリエーテルケトンを含
む樹脂のフィルム化においては、芳香族ポリスルホン、
およびポリエーテルイミドおよびポリエーテルケトンを
それぞれ別々に押出機に供給するか、あるいはあらかじ
めこれらを溶融混合機で混合してから押出機に供給する
ことが可能である。
In forming a film of a resin containing aromatic polysulfone and polyetherimide or polyetherketone by an extruder, aromatic polysulfone,
It is possible to supply the polyetherimide and the polyetherketone separately to the extruder, or to mix them in advance with a melt mixer and then supply them to the extruder.

【0045】芳香族ポリスルホン−ポリエーテルアミド
の混合系における、押出機のバレル温度は通常、260
〜420℃、好ましくは280〜400℃に設定され、
ダイ温度は通常、300〜420℃、好ましくは320
〜400℃に設定される。その後、100〜220℃の
範囲に設定された回転ドラム等の移動表面に供給され、
急冷されてフィルムとなる。
In the aromatic polysulfone-polyetheramide mixed system, the extruder barrel temperature is usually 260.
~ 420 ° C, preferably 280-400 ° C,
The die temperature is usually 300 to 420 ° C., preferably 320.
Set to ~ 400 ° C. After that, it is supplied to the moving surface such as a rotating drum set in the range of 100 to 220 ° C.,
It is rapidly cooled to form a film.

【0046】芳香族ポリスルホン−ポリエーテルケトン
の混合系における、押出機のバレル温度は通常、330
〜420℃、好ましくは350〜400℃に設定され、
ダイ温度は通常、340〜420℃、好ましくは350
〜400℃に設定される。その後、100〜260℃の
範囲に設定された回転ドラム等の移動表面に供給され、
急冷されてフィルムとなる。
In the aromatic polysulfone-polyether ketone mixed system, the barrel temperature of the extruder is usually 330.
~ 420 ° C, preferably set to 350-400 ° C,
The die temperature is usually 340 to 420 ° C., preferably 350
Set to ~ 400 ° C. After that, it is supplied to a moving surface such as a rotating drum set in the range of 100 to 260 ° C,
It is rapidly cooled to form a film.

【0047】流延法による、芳香族ポリスルホンを含む
樹脂のフィルム化においては、有機溶剤として、クロロ
ホルム、塩化メチレンおよびジクロロエタン等のハロゲ
ン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドおよびN−メチルピロリドン等のアミド系溶剤が好適
に用いられるが、特に好ましくはジメチルホルムアミド
である。この場合、該有機溶剤に溶解する樹脂の濃度
は、目的とするフィルムの厚みにもよるが樹脂溶液中3
0重量%以下が好ましい。樹脂の溶解性および溶剤の作
業性を考慮すると、より好ましくは20重量%以下であ
る。該樹脂溶液は通常用いられるドラムコーターおよび
ベルトコーター上に流延され、乾燥後フィルム化され
る。乾燥温度は段階的に上昇させるのが好ましく、厳密
には、残留有機溶剤を含む樹脂のガラス転移温度を越え
ない温度で上昇させることにより、最も効率的なフィル
ム化が可能となる。さらに、該フィルムをコーターから
引き流し、該フィルムの両面に熱風を吹き付け乾燥さ
せ、残留溶剤を1重量%以下にする工程が必要である
が、この場合の熱風温度は、該フィルムのガラス転移温
度以上、好ましくは260〜280℃とする。残留溶剤
が1重量%以上残留すると、物性が低下するため、好ま
しくない。
In forming a film of a resin containing an aromatic polysulfone by a casting method, a halogen-based solvent such as chloroform, methylene chloride and dichloroethane, an amide-based solvent such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone are used as an organic solvent. A solvent is preferably used, but dimethylformamide is particularly preferable. In this case, the concentration of the resin dissolved in the organic solvent depends on the thickness of the target film, but is 3% in the resin solution.
It is preferably 0% by weight or less. Considering the solubility of the resin and the workability of the solvent, it is more preferably 20% by weight or less. The resin solution is cast on a commonly used drum coater and belt coater, dried and formed into a film. It is preferable to increase the drying temperature stepwise. Strictly speaking, the most efficient film formation is possible by increasing the drying temperature at a temperature not exceeding the glass transition temperature of the resin containing the residual organic solvent. Further, a step is required in which the film is drawn from a coater, hot air is blown to both sides of the film to dry the film, and the residual solvent is reduced to 1% by weight or less. As described above, the temperature is preferably 260 to 280 ° C. If the residual solvent remains at 1% by weight or more, the physical properties are deteriorated, which is not preferable.

【0048】芳香族ポリスルホン−ポリエーテルイミド
の混合系においても、上記流延法と同様の方法によるフ
ィルム化が可能であり、有機溶剤としては、トリクロロ
エタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン等のハ
ロゲン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、N−メチルピロヒドリン等のアミド系溶剤が好
適に用いられるが、特に好ましくはジメチルアセトアミ
ドである。
Even in a mixed system of aromatic polysulfone-polyetherimide, a film can be formed by a method similar to the above casting method, and as the organic solvent, a halogen-based solvent such as trichloroethane, trichloromethane or tetrachloromethane is used. Amide solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrohydrin are preferably used, and dimethylacetamide is particularly preferable.

【0049】得られたフィルムは、必要に応じて延伸す
ることができる。押出法においては、押出速度と巻取り
速度をコントロールすることにより、任意の倍率に延伸
されたフィルムを得ることができる。市販の二軸延伸機
を用いた二軸延伸もまた可能である。延伸倍率は、目的
および用途にもよるが、加工性および厚みにおける精度
等を考慮すると5倍以下の延伸倍率が好ましい。
The obtained film can be stretched if necessary. In the extrusion method, a film stretched to an arbitrary ratio can be obtained by controlling the extrusion speed and the winding speed. Biaxial stretching using a commercially available biaxial stretching machine is also possible. Although the stretch ratio depends on the purpose and application, a stretch ratio of 5 times or less is preferable in consideration of workability and accuracy in thickness.

【0050】本発明における芳香族ポリスルホンフィル
ムの厚みは、目的および用途によって任意に選べるが、
制御および加工が可能な厚みの限界は、フィルムの製造
法による。押出法によるフィルム化においては、Tダイ
の開口部の幅、押出速度および巻取り速度を制御して、
任意の厚みを有するフィルムを得ることができるが、厚
みにおける、精度および表面性が充分に制御され、かつ
欠損のない良好なフィルムを安定に供給するには、1〜
500μmのフィルム厚にするのが好ましく、より好ま
しくは、5〜200μmである。流延法におけるフィル
ム化では、厚みが薄すぎるとコーターの上からフィルム
を引き剥す際、破損し易くなることや、また厚すぎると
残留溶剤が残り易くなることを考慮するとフィルム厚は
1〜200μmが好ましく、より好ましくは5〜100
μmである。
The thickness of the aromatic polysulfone film in the present invention can be arbitrarily selected depending on the purpose and application.
The limit of thickness that can be controlled and processed depends on the film manufacturing method. In the film formation by the extrusion method, the width of the opening of the T-die, the extrusion speed and the winding speed are controlled,
Although a film having an arbitrary thickness can be obtained, in order to stably supply a good film in which accuracy and surface property in thickness are sufficiently controlled and there is no defect, 1 to
The film thickness is preferably 500 μm, more preferably 5 to 200 μm. In the film formation in the casting method, if the thickness is too thin, the film is easily broken when peeled off from the coater, and if it is too thick, the residual solvent is likely to remain, so that the film thickness is 1 to 200 μm. Is preferable, and more preferably 5 to 100
μm.

【0051】フィルムの滑り性を改良するため、ケイ酸
アルミナ、酸化ケイ素、カオリン、タルク、炭酸カルシ
ウム、炭酸リチウム、炭酸バリウム、酸化チタンおよび
酸化マグネシウム等の不活性無機粒子を、上記樹脂中に
あらかじめ添加しておくことも可能である。本発明のフ
ィルムはまた、必要に応じて表面コートおよび表面処理
を施しても差し支えない。
In order to improve the slipperiness of the film, inert inorganic particles such as alumina silicate, silicon oxide, kaolin, talc, calcium carbonate, lithium carbonate, barium carbonate, titanium oxide and magnesium oxide are previously added to the above resin. It is also possible to add it. The film of the present invention may also be surface-coated and surface-treated if necessary.

【0052】[0052]

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例に基づい
て説明するが、これをもって本発明を制限するものでは
ない。なお、本実施例および比較例で得られるフィルム
は、以下の方法に基づいて諸特性を評価した。
EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto. The properties of the films obtained in the examples and comparative examples were evaluated based on the following methods.

【0053】〔フィルムの評価〕 1.耐熱性 示差走査熱量計を用いて、実施例および比較例で得られ
たフィルムのガラス転移温度を測定した(窒素気流下、
昇温度20℃/min)。さらに260℃のハンダごて
を30分間接触させて、フィルム形状変化を調べた。
[Evaluation of Film] 1. Using a differential scanning calorimeter, the glass transition temperatures of the films obtained in Examples and Comparative Examples were measured (under a nitrogen stream,
Temperature rise 20 ° C / min). Further, a soldering iron at 260 ° C. was contacted for 30 minutes to examine the change in film shape.

【0054】2.耐薬品性試験 フィルムに1%のひずみを加えた状態で、実施例および
比較例で得られたフィルムをアセトンに浸漬し、1時間
後の形状変化を調べた。
2. Chemical resistance test The films obtained in Examples and Comparative Examples were immersed in acetone in a state where strain of 1% was applied to the film, and the shape change after 1 hour was examined.

【0055】(実施例1)攪拌機、ガス導入管、温度計
および先端に受器を付した凝縮器を備えた重合反応容器
内に、4-クロロ-4'-(p-ヒドロキシフェニル)ジフェニ
ルスルホン100重量部、無水炭酸カリウム22.1重
量部、およびスルホラン290重量部を仕込み、窒素置
換を行った。次に窒素雰囲気下、攪拌および昇温を開始
し、220℃で1時間、230℃で30分、240℃で
3時間、反応系内の温度を保持しながら反応を行った。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液中に析出
した塩化カリウム濾別除去し、濾液を多量のメタノール
中に注いでポリマーを析出させた。得られたポリマーの
還元粘度は0.4dl/g(30℃、ジメチルホルムア
ミド中、1g/dl)であった。
(Example 1) 4-chloro-4 '-(p-hydroxyphenyl) diphenyl sulfone was placed in a polymerization reaction vessel equipped with a stirrer, a gas inlet tube, a thermometer and a condenser having a receiver at the tip. 100 parts by weight, anhydrous potassium carbonate 22.1 parts by weight, and sulfolane 290 parts by weight were charged, and nitrogen substitution was carried out. Then, stirring and temperature increase were started in a nitrogen atmosphere, and the reaction was carried out at 220 ° C. for 1 hour, 230 ° C. for 30 minutes, and 240 ° C. for 3 hours while maintaining the temperature in the reaction system.
After the reaction was completed, the reaction solution was cooled to room temperature, potassium chloride precipitated in the reaction solution was removed by filtration, and the filtrate was poured into a large amount of methanol to precipitate a polymer. The reduced viscosity of the obtained polymer was 0.4 dl / g (30 ° C., 1 g / dl in dimethylformamide).

【0056】バレル温度380℃、およびダイ温度40
0℃に制御された押出機に、上記芳香族ポリスルホンを
押出し、220℃に表面温度を設定した回転ドラムで急
冷した。フィルムを2m/minの巻取り速度で巻取り
装置へ送り込み、厚みが100μmのフィルムを得た。
得られたフィルムの、上記評価における結果を表1に示
す。
Barrel temperature of 380 ° C. and die temperature of 40
The aromatic polysulfone was extruded into an extruder controlled at 0 ° C. and rapidly cooled by a rotary drum whose surface temperature was set at 220 ° C. The film was fed into a winding device at a winding speed of 2 m / min to obtain a film having a thickness of 100 μm.
The results of the above evaluation of the obtained film are shown in Table 1.

【0057】(実施例2)攪拌機、ガス導入管、温度計
および先端に受器を付した凝縮器を備えた重合反応容器
内に、4-クロロ-4'-(p-ヒドロキシフェニル)ジフェニ
ルスルホン100重量部、4-クロロ-4'-ヒドロキシジフ
ェニルスルホン77.9重量部、無水炭酸カリウム4
4.1重量部、スルホラン290重量部を仕込み、窒素
置換を行った。次に窒素雰囲気下、攪拌および昇温を開
始し、220℃で1時間、230℃で30分、240℃
で3時間、反応系内の温度を保持しながら反応を行っ
た。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、反応液中に
析出した塩化カリウム濾別除去し、濾液を多量のメタノ
ール中に注いでポリマーを析出させた。得られたポリマ
ーの還元粘度は0.42dl/g(30℃、ジメチルホ
ルムアミド中、1g/dl)であった。
(Example 2) 4-chloro-4 '-(p-hydroxyphenyl) diphenyl sulfone was placed in a polymerization reaction vessel equipped with a stirrer, a gas inlet tube, a thermometer and a condenser having a receiver at the tip. 100 parts by weight, 4-chloro-4'-hydroxydiphenyl sulfone 77.9 parts by weight, anhydrous potassium carbonate 4
4.1 parts by weight and 290 parts by weight of sulfolane were charged, and the atmosphere was replaced with nitrogen. Then, under nitrogen atmosphere, stirring and heating are started, and 220 ° C. for 1 hour, 230 ° C. for 30 minutes, 240 ° C.
The reaction was carried out for 3 hours while maintaining the temperature in the reaction system. After the reaction was completed, the reaction solution was cooled to room temperature, potassium chloride precipitated in the reaction solution was removed by filtration, and the filtrate was poured into a large amount of methanol to precipitate a polymer. The reduced viscosity of the obtained polymer was 0.42 dl / g (30 ° C., 1 g / dl in dimethylformamide).

【0058】得られた樹脂を、実施例1と同様の方法で
フィルム化した。得られたフィルムの、上記評価におけ
る結果を表1に示す。
The resin thus obtained was formed into a film in the same manner as in Example 1. The results of the above evaluation of the obtained film are shown in Table 1.

【0059】(比較例1)芳香族ポリスルホンに、ビク
トレックスPES(ICI社製、4100G)を用いた
以外は、実施例1と同様の方法でフィルムを製造した。
得られたフィルムの、上記評価における結果を表1に示
す。
Comparative Example 1 A film was produced in the same manner as in Example 1 except that Victrex PES (manufactured by ICI, 4100G) was used as the aromatic polysulfone.
The results of the above evaluation of the obtained film are shown in Table 1.

【0060】[0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】表1においてAおよびBは以下の事柄を示
す。
In Table 1, A and B indicate the following matters.

【0062】A:反復単位A: Repeating unit

【0063】[0063]

【化17】 [Chemical 17]

【0064】のモル分率 B:反復単位Molar fraction of B: Repeating unit

【0065】[0065]

【化18】 [Chemical 18]

【0066】のモル分率 (実施例3〜5、比較例2)30lの攪拌槽に、N,N
−ジメチルアセトアミド(以下、DMACと略記する)
19.25kgを仕込み、室温でポリエーテルイミド
5.75kgを徐々に添加し、10時間攪拌してポリエ
ーテルイミドを完全に溶解し、ポリエーテルイミド溶液
を得た。次にこのポリエーテルイミド溶液の一部を、2
00gずつ攪拌装置付フラスコに分割し、ポリエーテル
イミドに対し、実施例1に記載の方法で調製した芳香族
ポリスルホンを表2の割合となるように加え、室温で5
時間攪拌し、混合した。この時溶液濃度が5重量%とな
るようにDMACを追加した。
Molar Fraction (Examples 3 to 5, Comparative Example 2) N, N
-Dimethylacetamide (hereinafter abbreviated as DMAC)
After charging 19.25 kg, 5.75 kg of polyetherimide was gradually added at room temperature and stirred for 10 hours to completely dissolve the polyetherimide to obtain a polyetherimide solution. Next, a portion of this polyetherimide solution
The mixture was divided into flasks each equipped with a stirrer (00 g) and the aromatic polysulfone prepared by the method described in Example 1 was added to the polyetherimide in the proportions shown in Table 2, and the mixture was stirred at room temperature for 5
Stir and mix for hours. At this time, DMAC was added so that the solution concentration became 5% by weight.

【0067】この混合液をドクターナイフでガラス板上
にキャストし、120℃で10分間熱風乾燥機中で乾燥
した。この半乾燥フィルムを金属枠に固定し、さらに1
20℃から180℃まで20分間で加熱昇温し、最後に
260℃で10分間、熱処理を行い、100μmの厚み
のフィルムを得た。得られたフィルムの、上記評価にお
ける結果を表2に示す。
This mixed solution was cast on a glass plate with a doctor knife and dried at 120 ° C. for 10 minutes in a hot air dryer. Fix this semi-dry film on a metal frame and
The temperature was raised from 20 ° C. to 180 ° C. in 20 minutes, and finally heat-treated at 260 ° C. for 10 minutes to obtain a film having a thickness of 100 μm. Table 2 shows the results of the above evaluations of the obtained film.

【0068】(実施例6〜8、比較例3)実施例2に記
載の方法で調製した芳香族ポリスルホンを用いた以外
は、実施例3〜5および比較例2と同様の方法でフィル
ムを製造した。得られたフィルムの、上記評価における
結果を表2に示す。
(Examples 6 to 8 and Comparative Example 3) Films were produced in the same manner as in Examples 3 to 5 and Comparative Example 2 except that the aromatic polysulfone prepared by the method described in Example 2 was used. did. Table 2 shows the results of the above evaluations of the obtained film.

【0069】(比較例4)芳香族ポリスルホンに、ビク
トレックスPES(ICI社製、4100G)を用いた
以外は、実施例3〜5および比較例2と同様の方法でフ
ィルムを製造した。得られたフィルムの、上記評価にお
ける結果を表2に示す。
(Comparative Example 4) A film was produced in the same manner as in Examples 3 to 5 and Comparative Example 2 except that Victrex PES (manufactured by ICI, 4100G) was used as the aromatic polysulfone. Table 2 shows the results of the above evaluations of the obtained film.

【0070】[0070]

【表2】 [Table 2]

【0071】表2においてA、Bおよび※は以下の事柄
を示す。
In Table 2, A, B and * indicate the following matters.

【0072】A:反復単位A: Repeating unit

【0073】[0073]

【化19】 [Chemical 19]

【0074】のモル分率 B:反復単位Molar fraction of B: Repeating unit

【0075】[0075]

【化20】 [Chemical 20]

【0076】のモル分率 ※:芳香族ポリスルホン/ポリエーテルイミドの重量比 (実施例9〜11、比較例5)実施例1に記載の方法で
調製した芳香族ポリスルホン、およびポリエーテルケト
ン(ICI社製、ビクトレックスPEEK)を表3に示
す割合で、ブラベンダープラストグラフ押出機で混練
し、ペレット化した。得られた組成物を、バレル温度3
80℃、およびダイ温度400℃に制御された押出機に
押し出し、220℃に表面温度を設定した回転ドラムで
急冷した。フィルムを2m/minの巻取り速度で巻取
り装置へ送り込み、厚みが100μmのフィルムを得
た。得られたフィルムの、上記評価における結果を表3
に示す。
Molar Fraction of *: Aromatic Polysulfone / Polyetherimide Weight Ratio (Examples 9 to 11, Comparative Example 5) Aromatic polysulfone and polyether ketone (ICI prepared by the method described in Example 1) Victrex PEEK (manufactured by the company) was kneaded at a ratio shown in Table 3 with a Brabender Plastograph extruder and pelletized. The composition obtained was adjusted to a barrel temperature of 3
The mixture was extruded into an extruder controlled at 80 ° C. and a die temperature of 400 ° C., and rapidly cooled by a rotary drum whose surface temperature was set at 220 ° C. The film was fed into a winding device at a winding speed of 2 m / min to obtain a film having a thickness of 100 μm. The results of the above evaluation of the obtained film are shown in Table 3.
Shown in.

【0077】(実施例12〜14、比較例6)実施例2
に記載の方法で調製した芳香族ポリスルホンを用いた以
外は、実施例9〜11および比較例5と同様の方法でフ
ィルムを製造した。得られたフィルムの、上記評価にお
ける結果を表3に示す。
(Examples 12 to 14, Comparative Example 6) Example 2
Films were produced in the same manner as in Examples 9 to 11 and Comparative Example 5, except that the aromatic polysulfone prepared by the method described in 1. was used. Table 3 shows the results of the above evaluations of the obtained film.

【0078】(比較例7)芳香族ポリスルホンに、ビク
トレックスPES(ICI社製、4100G)を用いた
以外は、実施例9〜11および比較例5と同様の方法で
フィルムを製造した。得られたフィルムの、上記評価に
おける結果を表3に示す。
(Comparative Example 7) A film was produced in the same manner as in Examples 9 to 11 and Comparative Example 5, except that Victrex PES (manufactured by ICI, 4100G) was used as the aromatic polysulfone. Table 3 shows the results of the above evaluations of the obtained film.

【0079】[0079]

【表3】 [Table 3]

【0080】表3においてA、Bおよび※は以下の事柄
を示す。
In Table 3, A, B and * indicate the following matters.

【0081】A:反復単位A: Repeating unit

【0082】[0082]

【化21】 [Chemical 21]

【0083】のモル分率 B:反復単位Molar fraction of B: Repeating unit

【0084】[0084]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0085】のモル分率 ※:芳香族ポリスルホン/ポリエーテルイミドの重量比 (比較例8)芳香族ポリスルホンを使用せず、ポリエー
テルイミドのみを用いた以外は、実施例3〜5および比
較例2と同様にしてフィルムを製造した。得られたフィ
ルムの、上記評価における結果を表4に示す。
Molar Fraction of *: Aromatic Polysulfone / Polyetherimide Weight Ratio (Comparative Example 8) Examples 3 to 5 and Comparative Examples except that aromatic polysulfone was not used and only polyetherimide was used. A film was produced in the same manner as in 2. Table 4 shows the results of the above evaluations of the obtained film.

【0086】(比較例9)芳香族ポリスルホンを使用せ
ず、ポリエーテルケトンのみを用いた以外は、実施例9
〜11および比較例5と同様にしてフィルムを製造し
た。得られたフィルムの、上記評価における結果を表4
に示す。
Comparative Example 9 Example 9 was repeated except that the aromatic polysulfone was not used and only the polyether ketone was used.
A film was produced in the same manner as in -11 and Comparative Example 5. The results of the above evaluation of the obtained film are shown in Table 4.
Shown in.

【0087】[0087]

【表4】 [Table 4]

【0088】[0088]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よって得られた芳香族ポリスルホンフィルムは、従来の
芳香族ポリスルホンからなるフィルムに比較して、耐熱
性および耐薬品性に優れ、かつ透明性を備えている。こ
のフィルムは、製造方法も通常の方法で実施することが
でき、工業上、有利である。
As is clear from the above description, the aromatic polysulfone film obtained according to the present invention is superior in heat resistance and chemical resistance and transparent as compared with the conventional aromatic polysulfone film. It has sex. This film is industrially advantageous because it can be manufactured by a usual method.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式(I)で示される繰り返し単位
からなる芳香族ポリスルホン、あるいは下記一般式
(I)で示される繰り返し単位を50〜99モル%、お
よび下記一般式(II)〜(XVI)で示される繰り返し単
位のうちいずれか1つを50〜1モル%含有する芳香族
ポリスルホンであって、ジメチルホルムアミド中、濃度
1g/dl、温度30℃において測定した還元粘度が、
0.35dl/g以上0.6dl/g以下である芳香族
ポリスルホンを51〜100重量%含有し、ポリエーテ
ルイミドあるいはポリエーテルケトンを49〜0重量%
含有する樹脂からなることを特徴とする、芳香族ポリス
ルホンフィルム。 【化1】 【化2】
1. An aromatic polysulfone comprising a repeating unit represented by the following general formula (I), or 50 to 99 mol% of a repeating unit represented by the following general formula (I), and the following general formulas (II) to ( XVI) is an aromatic polysulfone containing any one of the repeating units represented by XVI) in an amount of 50 to 1 mol% and has a reduced viscosity measured in dimethylformamide at a concentration of 1 g / dl and a temperature of 30 ° C.
51 to 100% by weight of aromatic polysulfone of 0.35 dl / g or more and 0.6 dl / g or less, and 49 to 0% by weight of polyetherimide or polyetherketone
An aromatic polysulfone film comprising a resin contained therein. [Chemical 1] [Chemical 2]
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010532815A (en) * 2007-07-12 2010-10-14 サビック・イノベーティブ・プラスチックス・アイピー・ベスローテン・フェンノートシャップ Blends of polyetherimide and polyphenylene ether sulfone
JP2016079335A (en) * 2014-10-21 2016-05-16 三菱樹脂株式会社 Film

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