JPH05290368A - Manufacture of magnetic disk - Google Patents

Manufacture of magnetic disk

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JPH05290368A
JPH05290368A JP11428492A JP11428492A JPH05290368A JP H05290368 A JPH05290368 A JP H05290368A JP 11428492 A JP11428492 A JP 11428492A JP 11428492 A JP11428492 A JP 11428492A JP H05290368 A JPH05290368 A JP H05290368A
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JP
Japan
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grinding
magnetic disk
tape
magnetic
abrasive grains
Prior art date
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Application number
JP11428492A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Man
俊宏 満
Satoshi Kurosawa
聡 黒沢
Yukio Onuki
由紀夫 大貫
Akio Kondo
昭夫 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Publication date
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic disk having good durability by subjecting a nonmagnetic substrate to grinding with a polishing tape of a fixed abrasive grain type, then to texturing by using a slurry prepd. by mixing and dispersing abrasive grains for grinding having prescribed properties with and into a grinding liquid. CONSTITUTION:The magnetic disk is produced by texturing the surface of the nonmagnetic substrate, then laminating a magnetic layer thereon. The nonmagnetic substrate is subjected to >=1 times of the grinding by the polishing tape formed by fixing the abrasive grains for grinding to a tape and is then further subjected to >=1 times of the grinding while the slurry prepd. by mixing the abrasive grains for grinding having the Knoop hardness ranging from 1000 to 6000 with the polishing liquid and stirring the liquid mixture is dropped between the buff tape and the magnetic disk as the texturing method at the time of such production. The magnetic disk with which the low floating of a magnetic head is possible and which is good on both characteristics of a gliding characteristic and weatherability is produced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク装置
に用いられる磁気ディスクの製造方法に関し、詳しくは
固定砥粒である研磨テープと遊離砥粒であるスラリーを
用いて磁気ディスク表面に微細加工を施し、耐久性を向
上させると共に低グライドハイト特性も兼ね備えた磁気
ディスクの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic disk used in a fixed magnetic disk device, and more specifically, fine processing on the surface of a magnetic disk using a polishing tape which is fixed abrasive and a slurry which is free abrasive. The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic disk which is improved in durability and has low glide height characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に磁気ディスクは、アルミニウム合
金などからなる非磁性の表面をアルマイト処理、または
ニッケル−リン無電解メッキ処理等により硬化し、その
表面を所定の粗さに研磨した後、磁性層の特性を向上さ
せるための下地層、次いで磁性層、保護層を連続して形
成し、さらに潤滑層を設けて作製される。
2. Description of the Related Art Generally, a magnetic disk has a non-magnetic surface made of an aluminum alloy or the like hardened by an alumite treatment or a nickel-phosphorus electroless plating treatment, and the surface thereof is ground to a predetermined roughness, and then a magnetic layer is formed. It is manufactured by successively forming an underlayer for improving the characteristics of 1, a magnetic layer and a protective layer, and further providing a lubricating layer.

【0003】このようにして作製された磁気ディスク
は、外部記憶装置として使用される固定磁気ディスク装
置に搭載され、磁気ヘッドが高速回転をしている磁気デ
ィスク上を浮上走行しながら情報の記録、あるいは再生
が行われる。そのため磁気ディスク表面には磁気ヘッド
の安定な走行を阻害するような高さの突起などが存在し
ないこと、すなわち良好なグライド特性が要求される。
近年の高度な情報化社会の中では、より高記録密度の磁
気ディスクが要求されてきており、これを達成するため
には磁気ディスクの磁性層と磁気ヘッドの間隔を小さく
すること、すなわち磁気ディスク表面の平滑化が望まれ
ている。
The magnetic disk thus manufactured is mounted on a fixed magnetic disk device used as an external storage device, and information is recorded while the magnetic head is levitating on the magnetic disk which is rotating at high speed. Alternatively, reproduction is performed. Therefore, it is required that the surface of the magnetic disk does not have a protrusion having a height that hinders stable running of the magnetic head, that is, good glide characteristics.
In the advanced information society of recent years, a magnetic disk having a higher recording density is required, and in order to achieve this, it is necessary to reduce the distance between the magnetic layer of the magnetic disk and the magnetic head, that is, the magnetic disk. Smoothing of the surface is desired.

【0004】一方、磁気ディスク装置においては、ヘッ
ドと磁気ディスク間の微小な空隙を安定に維持するため
に、磁気ディスク停止時には磁気ヘッドが磁気ディスク
上に接触して停止しており、回転起動時にその面上を摺
動し浮上走行するいわゆるコンタクト・スタート・スト
ップ(C.S.S.)方式が採用されている。このC.
S.S.方式では、磁気ディスク装置の起動と停止時に
発生する、磁気ディスクと磁気ヘッド間の摺動摩擦係数
を、十分小さく維持しうる耐久性が必要とされる。
On the other hand, in the magnetic disk device, in order to stably maintain a minute gap between the head and the magnetic disk, the magnetic head comes into contact with the magnetic disk and stops when the magnetic disk is stopped. A so-called contact start / stop (CSS) method in which the vehicle slides on the surface and runs floating is adopted. This C.
S. S. The method requires durability that can maintain a sliding friction coefficient between the magnetic disk and the magnetic head, which is generated at the time of starting and stopping the magnetic disk device, to be sufficiently small.

【0005】このため、基板上の非磁性の表面層に微小
な凹凸を形成し、磁気ディスクと磁気ヘッド間の摩擦係
数を低下させるテクスチャリング加工が施される。この
ようなテクスチャリング加工法としては、一般的に磁気
ディスクを研磨テープを用いて多段に渡って研削加工を
行うテープ/テープテクスチャリング法、あるいは一段
目に研磨テープでの研削を行った後に、二段目にはダイ
ヤモンドパウダーが分散されたスラリーを用いて研削加
工を行うテープ/ダイヤモンドスラリーテクスチャリン
グ法が採用されている。
For this reason, microtexturing is formed on the non-magnetic surface layer on the substrate, and texturing is performed to reduce the friction coefficient between the magnetic disk and the magnetic head. As such a texturing method, generally, a tape / tape texturing method in which a magnetic disk is ground in multiple stages using a polishing tape, or after performing polishing with a polishing tape in the first stage, In the second stage, a tape / diamond slurry texturing method is used in which grinding is performed using a slurry in which diamond powder is dispersed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の磁気ディスクのテクスチャリング加工による
製造方法においては、高密度化を達成するために磁気デ
ィスクの磁性層と磁気ヘッドとの間隔をできるだけ小さ
くするという制約から、磁気ディスクの表面の突起を除
去して,より平滑な表面状態のテクスチャリング加工を
施す対応がなされてきた。しかしながら、このような表
面を平滑にした磁気ディスクでは、安定した耐久性を得
ることが困難であり、その結果、低浮上量ヘッドに対し
て、良好なグライド特性と耐久性の両特性を十分に満足
しうる磁気ディスクの製造が困難であった。
However, in such a conventional method of manufacturing a magnetic disk by texturing, the distance between the magnetic layer of the magnetic disk and the magnetic head is made as small as possible in order to achieve high density. Due to this restriction, protrusions on the surface of the magnetic disk have been removed, and texturing processing for a smoother surface condition has been made. However, it is difficult to obtain stable durability with such a magnetic disk having a smooth surface, and as a result, good glide characteristics and durability characteristics are sufficiently obtained for a low flying height head. It has been difficult to produce a satisfactory magnetic disk.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を行った結果、スラリータイ
プの遊離砥粒として、ヌープ硬度で1000〜6000
の範囲の研削砥粒を用いることにより、従来の技術によ
る磁気ディスクに比べ、良好な低グライド特性、および
十分な耐久性が得られる磁気ディスクが製造できること
を見出だし、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve the above problems, and as a result, the slurry type free abrasive grains have a Knoop hardness of 1000 to 6000.
It was found that a magnetic disk having good low glide characteristics and sufficient durability can be manufactured by using a grinding abrasive grain in the range of, and the present invention has been completed. It was

【0008】以下、図面に基づいて本発明を説明する。The present invention will be described below with reference to the drawings.

【0009】図1に本発明を実施しうる装置の断面図の
一部を示す。1は本発明のテクスチャリング加工が施さ
れる磁気ディスク基板を示す。本発明でいう非磁性基板
としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、
セラミックス、ガラス等を用いることができ、さらにそ
の表面にアルマイト処理層、ニッケル−リン合金等の表
面被覆層を設けてもよい。
FIG. 1 shows a part of a sectional view of an apparatus in which the present invention can be implemented. Reference numeral 1 denotes a magnetic disk substrate to which the texturing process of the present invention is applied. Examples of the non-magnetic substrate in the present invention include aluminum, aluminum alloys,
Ceramics, glass, or the like can be used, and an alumite treatment layer or a surface coating layer of nickel-phosphorus alloy or the like may be further provided on the surface thereof.

【0010】固定砥粒での研削を行う場合には、研磨テ
ープ2を用いて、研削液の吐出口3より研削液を吐出し
ながら、また、遊離砥粒での研削を行う場合にはバフテ
ープ2´を用いて、スラリーの吐出口3´より、砥粒が
研削液に混合分散されたスラリーを吐出しながら研削を
実施する。なお、4は研磨テープ、またはバフテープを
基板表面に圧着接触させるための加圧用ゴムローラを示
す。
In the case of grinding with fixed abrasives, the polishing tape 2 is used while discharging the grinding liquid from the discharge port 3 of the grinding liquid, and in the case of grinding with free abrasives, the buff tape. Grinding is performed by using 2 ', while discharging the slurry in which the abrasive grains are mixed and dispersed in the grinding liquid from the slurry discharge port 3'. Reference numeral 4 denotes a pressure rubber roller for pressing the polishing tape or the buff tape into pressure contact with the substrate surface.

【0011】なお、実際の磁気ディスク基板の製造にお
いては、テクスチャリングユニットを2台用いて、固定
砥粒による研削と遊離砥粒による研削を連続的に実施す
ればよい。
In the actual manufacture of the magnetic disk substrate, two texturing units may be used to continuously grind with fixed abrasive grains and grind with loose abrasive grains.

【0012】本発明による磁気ディスク基板の製造方法
では、図1の装置を用い、テープに研削砥粒が固着され
た固定砥粒である研磨テープ2を用い、研削液を吐出口
3から磁気ディスク基板と研磨テープの隙間に吐出し、
加圧用ゴムローラ4によりディスク基板に研磨テープを
圧着しながら研削加工を行う。この時の研磨テープの砥
粒の平均粒径は、例えば0.5〜9.0μmの研磨テー
プを用いて行えばよいが、特に好ましくは、砥粒の平均
粒径が1.0〜4.0μmのものである。また研磨砥粒
の材質としてはアルミナ、炭化珪素、ダイヤなどから選
ばれる一種類以上のものを用いればよい。この固定砥粒
による研削は一回以上行えばよいが、好ましくは、ディ
スク基板の中心から21mmの位置の半径方向のRa
が、90〜120オングストロームの範囲内となるよう
に、特に好ましくは、90〜100オングストロームの
範囲内となるように調整する。
In the method of manufacturing a magnetic disk substrate according to the present invention, the apparatus shown in FIG. 1 is used, and a polishing tape 2 which is a fixed abrasive having abrasive particles adhered to the tape is used. Discharge into the gap between the substrate and the polishing tape,
Grinding is performed while pressing the polishing tape on the disk substrate by the pressing rubber roller 4. The average grain size of the abrasive grains of the polishing tape at this time may be, for example, 0.5 to 9.0 μm, and particularly preferably, the average grain size of the abrasive grains is 1.0 to 4. The thickness is 0 μm. Further, as the material of the abrasive grains, one or more kinds selected from alumina, silicon carbide, diamond and the like may be used. The grinding with the fixed abrasive may be performed once or more, but preferably Ra in the radial direction at a position of 21 mm from the center of the disk substrate.
Is adjusted to fall within the range of 90 to 120 angstroms, and particularly preferably adjusted to fall within the range of 90 to 100 angstroms.

【0013】続いて研削砥粒を研削液に混合攪拌して、
均一に分散させた遊離砥粒であるスラリー液を、吐出口
3´から磁気ディスク基板とバフテープ2´の間に吐出
しながら加圧用ゴムローラ4により、ディスク基板を圧
着して研削加工を行う。
Subsequently, the abrasive grains are mixed with a grinding fluid and stirred,
While the slurry liquid, which is free abrasive grains uniformly dispersed, is discharged from the discharge port 3'between the magnetic disk substrate and the buff tape 2 ', the pressure rubber roller 4 presses the disk substrate to perform grinding.

【0014】ここでスラリーに用いられる研削砥粒は、
ヌープ硬度で1000〜6000の範囲、好ましくは、
2000〜5000の範囲内のものである。なお、本発
明でいうヌープ硬度とは、ピラミッド形のダイヤモンド
圧子を被測定物表面に接触させ、軽加重を加えた後に、
被測定物表面に形成された菱形のくぼみの大きさを測定
することにより決定されるものである。
The abrasive grains used in the slurry here are:
Knoop hardness is in the range of 1000 to 6000, preferably
It is in the range of 2000 to 5000. The Knoop hardness referred to in the present invention means that a pyramidal diamond indenter is brought into contact with the surface of the object to be measured, and after light weight is applied,
It is determined by measuring the size of the diamond-shaped depressions formed on the surface of the object to be measured.

【0015】このような研削砥粒としては、例えば、工
業用材料として用いられている窒化ホウ素、炭化ケイ
素、酸化アルミニウムなどが好適である。
As such abrasive grains, for example, boron nitride, silicon carbide, aluminum oxide and the like used as industrial materials are suitable.

【0016】研削液としては界面活性剤等を含む水溶性
研削液、または非水溶性研削液が用いられ、研削砥粒の
濃度は0.05〜100g/lで分散させればよいが、
特に0.1〜10g/lが好ましい。
As the grinding liquid, a water-soluble grinding liquid containing a surfactant or the like or a non-water-soluble grinding liquid is used, and the concentration of the grinding abrasive particles may be dispersed at 0.05 to 100 g / l.
Particularly, 0.1 to 10 g / l is preferable.

【0017】スラリー液の吐出量は1.0〜200ml
/minの範囲内であればよいが、特に10〜80ml
/minが好ましい。
The discharge amount of the slurry liquid is 1.0 to 200 ml
It should be within the range of 10 / min, but especially 10 to 80 ml
/ Min is preferable.

【0018】バフテープとしては、研削砥粒を担持可能
な不織布、あるいは植毛布などの可とう性材料を用いれ
ばよい。この遊離砥粒による研削は一回以上行えばよい
が、好ましくは、ディスク基板の中心から21mmの位
置の半径方向のRaが、50〜85オングストロームの
範囲内となるように、特に好ましくは、60〜75オン
グストロームの範囲内となるように調整する。
As the buff tape, a non-woven fabric capable of supporting abrasive grains or a flexible material such as flocked fabric may be used. The grinding with the free abrasive grains may be performed once or more, but it is preferable that the Ra in the radial direction at a position of 21 mm from the center of the disk substrate be within a range of 50 to 85 angstroms, particularly preferably 60. Adjust to within ~ 75 Å.

【0019】この後、テクスチャリング加工が施された
非磁性基板に下地層、磁気記録層、保護層等をスパッタ
リング法等により成膜積層し、磁気ディスクを製造すれ
ばよい。必要に応じて、更に液体潤滑層を塗布すること
もできる。
After that, a magnetic disk may be manufactured by laminating an underlayer, a magnetic recording layer, a protective layer and the like on a textured non-magnetic substrate by a sputtering method or the like. A liquid lubricating layer can be further applied, if necessary.

【0020】[0020]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

【0021】実施例1 アルミニウム合金の直径3.5インチのディスク基板
に、ニッケル−リン合金の無電解メッキ処理を施し、続
いてこのニッケル−リン表面層の中心線平均粗さRaが
20〜25オングストロームになるように鏡面研磨加工
を施した。
Example 1 A disk substrate made of an aluminum alloy and having a diameter of 3.5 inches was subjected to electroless plating with a nickel-phosphorus alloy, and subsequently, the centerline average roughness Ra of this nickel-phosphorus surface layer was 20 to 25. It was mirror-polished to have an angstrom.

【0022】次にこの基板のニッケル−リン合金表面層
に対して、図1に示した装置を用いて平均粒径3μmの
アルミナ砥粒がテープに固着された研磨テープ2(マイ
ポックス社製、商品名「TOY−#4000」)を用
い、該テープを加圧用ゴムローラ4にてディスク基板1
に押し当て、純水により5容量%に薄めた研削液(マイ
ポックス社製、商品名「スーパールブNo.65Y」)
を吐出口3から滴下させつつ該テープを送りながらディ
スクを回転させて研削加工を施した。この固定砥粒によ
る研削加工により、ディスク基板の中心から21mmの
位置の半径方向のRaを90〜100オングストローム
に調整した。
Next, a polishing tape 2 (manufactured by Mypox Co., Ltd., manufactured by Mypox Co., Ltd.) was prepared by adhering alumina abrasive grains having an average particle size of 3 μm to the tape on the surface layer of nickel-phosphorus alloy of this substrate using the apparatus shown in FIG. Name "TOY- # 4000"), and the tape is attached to the disk substrate 1 by a pressing rubber roller 4.
Grinding fluid diluted with pure water to 5% by volume (manufactured by Mypox, trade name "SuperLube No. 65Y")
While the tape was being fed while being dripped from the discharge port 3, the disk was rotated and ground. By the grinding process using the fixed abrasive grains, Ra in the radial direction at a position 21 mm from the center of the disk substrate was adjusted to 90 to 100 angstroms.

【0023】その後、続いてこのディスク基板の同一表
面に、平均粒径1μmでヌープ硬度が3100〜340
0の炭化珪素を純水により5容量%に薄めた研削液(マ
イポックス社製、商品名「スーパールブNo.65
Y」)に0.4g/lの濃度で攪拌分散された遊離砥粒
であるスラリーを20ml/minの滴下量で吐出口3
´から滴下しながら織毛布からなるバフテープ2´(千
代田株式会社製、商品名「SPD 2501−EG」)
を用いて研磨テープの場合と同様に研削加工を行い、デ
ィスク基板の中心から21mmの位置の半径方向のRa
を60〜75オングストロームに調整した。
Then, subsequently, on the same surface of the disk substrate, the Knoop hardness is 3100 to 340 with an average particle diameter of 1 μm.
Grinding liquid made by diluting silicon carbide of 0 to 5% by volume with pure water (manufactured by Mypox, trade name "SuperLube No. 65
Y ”), a slurry of free abrasive grains stirred and dispersed at a concentration of 0.4 g / l at a discharge rate of 20 ml / min.
Buff tape 2 '(Chiyoda Co., Ltd., trade name "SPD 2501-EG") made of woven blanket while dripping from
Grinding is performed in the same manner as in the case of the polishing tape, and Ra in the radial direction at a position of 21 mm from the center of the disk substrate is used.
Was adjusted to 60-75 angstroms.

【0024】なお、ここで用いた砥粒の硬度は、ヌープ
硬度測定法に基づいて行われ、ピラミッド形のダイヤモ
ンド圧子を被測定物表面に接触させ、軽加重を加えた後
に、被測定物表面に形成された菱形のくぼみの大きさを
測定することにより決定された。くぼみの対角線の長さ
は、7.11対1の割合であり、長手方向の長さをL
(m)としたときに、加重P(g)が加わったときの硬
度は、以下の計算式より得られる。
The hardness of the abrasive grains used here is determined based on the Knoop hardness measurement method. A pyramidal diamond indenter is brought into contact with the surface of the object to be measured, and a light weight is applied to the surface of the object to be measured. It was determined by measuring the size of the diamond-shaped depressions formed in the. The length of the diagonal of the indentation is 7.11: 1, and the length in the longitudinal direction is L.
When assuming (m), the hardness when the weight P (g) is applied is obtained by the following calculation formula.

【0025】ヌープ硬度=14.22×P/L このディスク基板上にスパッタリング法でCr下地層2
000オングストローム、Co−Cr−Ta(Cr:1
2原子%,Ta:2原子%,残部がCo)磁性層500
オングストローム、C保護層200オングストロームを
順次積層し、さらにパーフルオロポリエーテル系の液体
潤滑剤をディッピング法により20オングストロームの
厚さで塗布して磁気ディスクを作製した。
Knoop hardness = 14.22 × P / L A Cr underlayer 2 was formed on this disk substrate by sputtering.
000 Å, Co-Cr-Ta (Cr: 1
2 atomic%, Ta: 2 atomic%, balance Co) magnetic layer 500
An angstrom and a C protective layer of 200 angstrom were sequentially laminated, and a perfluoropolyether-based liquid lubricant was applied to a thickness of 20 angstrom by a dipping method to manufacture a magnetic disk.

【0026】実施例2 実施例1と同様に平均粒径3μmの研磨テープを用いた
固定砥粒での研削で、ディスク基板の中心から21mm
の位置の半径方向のRaが90〜100オングストロー
ムに調整した後、続いてこのディスク基板の同一表面
に、平均粒径1μmでヌープ硬度が4400〜4800
の窒化ホウ素が攪拌分散された遊離砥粒であるスラリー
を用いて研削加工を行い、ディスク基板の中心から21
mmの位置の半径方向のRaを60〜75オングストロ
ームに調整し、さらに実施例1と同様な方法により下地
層、磁性層、保護層、潤滑剤層を形成し磁気ディスクを
作製した。
Example 2 21 mm from the center of the disk substrate by grinding with fixed abrasives using a polishing tape having an average particle size of 3 μm as in Example 1.
After adjusting the radial direction Ra at 90 to 100 angstroms, the Knoop hardness is 4400 to 4800 with an average particle size of 1 μm on the same surface of the disk substrate.
Grinding is performed by using a slurry that is free abrasive grains in which boron nitride is dispersed by stirring.
The Ra in the radial direction at the position of mm was adjusted to 60 to 75 angstroms, and an underlayer, a magnetic layer, a protective layer and a lubricant layer were formed by the same method as in Example 1 to prepare a magnetic disk.

【0027】比較例1 実施例1と同様に平均粒径3μmの研磨テープを用いた
固定砥粒による研削で、ディスク基板の中心から21m
mの位置の半径方向のRaが90〜100オングストロ
ームに調整した後、平均粒径2μmの固定砥粒である研
磨テープ(マイポックス社製、商品名「FOY−#60
00」)を用いて同様に固定砥粒による研削加工を施
し、ディスク基板の中心から21mmの位置の半径方向
のRaを60〜75オングストロームに調整し、さらに
実施例1と同様な方法により下地層、磁性層、保護層、
潤滑剤層を形成し磁気ディスクを作製した。
Comparative Example 1 In the same manner as in Example 1, 21 m from the center of the disk substrate was obtained by grinding with fixed abrasive grains using a polishing tape having an average particle size of 3 μm.
After adjusting the radial direction Ra at the m position to 90 to 100 angstroms, a polishing tape which is a fixed abrasive having an average particle diameter of 2 μm (manufactured by Mypox, trade name “FOY- # 60”).
00 ") is similarly used to grind with fixed abrasive grains to adjust Ra in the radial direction at a position of 21 mm from the center of the disk substrate to 60 to 75 angstroms, and the underlayer is formed in the same manner as in Example 1. , Magnetic layer, protective layer,
A lubricant layer was formed to produce a magnetic disk.

【0028】比較例2 実施例1と同様に平均粒径3μmの研磨テープを用いて
固定砥粒による研削加工で、ディスク基板の中心から2
1mmの位置の半径方向のRaが90〜100オングス
トロームに調整した後、平均粒径1μmでヌープ硬度が
6500〜8000のダイヤモンドパウダーが攪拌分散
された、遊離砥粒であるスラリーを用いて研削加工を行
い、ディスク基板の中心から21mmの位置の半径方向
のRaを60〜75オングストロームに調整し、さらに
実施例1と同様な方法により下地層、磁性層、保護層、
潤滑剤層を形成し磁気ディスクを作製した。
Comparative Example 2 Grinding with fixed abrasives using a polishing tape having an average particle size of 3 μm, as in Example 1, was performed from the center of the disk substrate to 2
After adjusting Ra in the radial direction at a position of 1 mm to 90 to 100 angstroms, grinding is performed using a slurry that is free abrasive grains in which diamond powder having an average particle size of 1 μm and a Knoop hardness of 6500 to 8000 is stirred and dispersed. Then, Ra in the radial direction at a position of 21 mm from the center of the disk substrate was adjusted to 60 to 75 angstroms, and the underlayer, magnetic layer, protective layer, and
A lubricant layer was formed to produce a magnetic disk.

【0029】前述した実施例、及び比較例により作成し
た各種表面形状の磁気ディスクについて、表面粗さ、グ
ライドハイト0.075μmでのグライドヒット数、及
び連続摺動摩擦特性を調べた。
The surface roughness, the number of glide hits at a glide height of 0.075 μm, and the continuous sliding friction characteristics were examined for the magnetic disks having various surface shapes prepared by the above-mentioned Examples and Comparative Examples.

【0030】表面粗さは、(株)小坂研究所製の微細形
状測定器モデルET−30HKを用いダイヤモンド触針
方式でスタイラス半径0.5μmで測定を行った。
The surface roughness was measured with a stylus radius of 0.5 μm by a diamond stylus method using a fine shape measuring instrument model ET-30HK manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.

【0031】グライドヒット特性の測定は日立電子エン
ジニアリング社製、RX2000磁気ディスクテスター
を用い、ピエゾ素子が装着されたグライドヘッドを、
0.075μmの浮上高さで走行させたときの磁気ディ
スク基板の中心から半径20〜44mmの範囲で片面の
測定を行った。
The glide hit characteristic was measured by an RX2000 magnetic disk tester manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd., using a glide head equipped with a piezo element.
One side was measured within a radius of 20 to 44 mm from the center of the magnetic disk substrate when traveling at a flying height of 0.075 μm.

【0032】また連続摺動摩擦特性は、クボタコンプス
社製、ウェアーテスターを用い、垂直荷重9.0g、磁
気ディスク基板の中心から21mmの位置で、磁気ヘッ
ドをディスク表面に接触させた状態で回転数100rp
mで回転させ、3時間連続摺動試験を行った後の動摩擦
係数を1rpmで測定した。
The continuous sliding friction characteristic was measured by using a wear tester manufactured by Kubota Comps Co., Ltd., with a vertical load of 9.0 g, a position of 21 mm from the center of the magnetic disk substrate, and a rotational speed of 100 rp with the magnetic head in contact with the disk surface.
It was rotated at m and the dynamic friction coefficient was measured at 1 rpm after conducting a continuous sliding test for 3 hours.

【0033】これらの表面粗さ、グライドヒット数及び
動摩擦係数を表1にそれぞれ示す。
Table 1 shows the surface roughness, the number of glide hits, and the coefficient of dynamic friction.

【0034】[0034]

【表1】 表1に示されるように、半径方向のRaは実施例、比較
例のディスク共に60〜75オングストロームの範囲内
に調整されている。グライドヒット数についてそれぞれ
比べてみると、実施例の1、2共にヒット数は0個にな
っており、良好なグライド特性を示している。これに対
し比較例の結果では、テープ/テープ法による比較例1
ではヒット数が約90〜130個であり、またテープ/
ダイヤスラリー法による比較例2の結果でもヒット数が
約70〜90個と非常に多く、実用上大きな問題とな
る。
[Table 1] As shown in Table 1, Ra in the radial direction is adjusted within the range of 60 to 75 angstroms for both the discs of Examples and Comparative Examples. Comparing the numbers of glide hits with each other, the number of hits was 0 in both Examples 1 and 2, showing excellent glide characteristics. On the other hand, in the result of the comparative example, the comparative example 1 by the tape / tape method
The number of hits is about 90 to 130, and tape /
The result of Comparative Example 2 using the diamond slurry method also has a very large number of hits of about 70 to 90, which is a serious problem in practical use.

【0035】一方、3時間連続摺動試験を行った後の摩
擦係数は、実施例1、2、比較例1、2共に0.29〜
0.41の範囲内であり、実用上満足できる値であり、
良好な耐久性が得られていることが示される。
On the other hand, the friction coefficient after the continuous sliding test for 3 hours is 0.29 in both Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2.
It is within the range of 0.41, which is a practically satisfactory value,
It is shown that good durability is obtained.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上述べた通り本発明によれば、非磁性
基板上に、固定砥粒タイプの研磨テープによる研削を行
い、続いてヌープ硬度で1000〜6000の範囲の研
削砥粒が研削液に混合分散された遊離砥粒であるスラリ
ーを用いて研削加工を施すテクスチャリング加工を行う
ことにより、磁気ヘッドの低浮上化が可能で、グライド
特性と耐久性の両特性共に良好な磁気ディスクを製造す
ることができる。
As described above, according to the present invention, a non-magnetic substrate is ground with a fixed-abrasive-type polishing tape, and then the abrasive grains having a Knoop hardness in the range of 1000 to 6000 are used as a grinding liquid. By performing a texturing process that uses a slurry that is free abrasive grains mixed and dispersed in the magnetic disk, it is possible to reduce the flying height of the magnetic head, and to obtain a magnetic disk with good glide characteristics and durability. It can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明を実施し得る装置の一部分の断面図を
示す。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of a portion of an apparatus in which the present invention may be implemented.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … 磁気ディスク基板 2 … 研磨テープ 2´… バフテープ 3 … 研削液吐出口 3´… スラリー吐出口 4 … 加圧用ゴムローラ 1 ... Magnetic disk substrate 2 ... Polishing tape 2 '... Buff tape 3 ... Grinding liquid discharge port 3' ... Slurry discharge port 4 ... Pressurizing rubber roller

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板の表面にテクスチャリング加
工を施した後、さらに磁性層を積層してなる磁気ディス
クの製造方法において、テクスチャリング加工法とし
て、研削砥粒がテープに固着された研磨テープにより、
1回以上の研削加工を施した後、ヌープ硬度で1000
〜6000の範囲にある研削砥粒を研削液に混合撹拌さ
せたスラリーを、バフテープと磁気ディスクの隙間に滴
下させつつ、更に一回以上の研削加工を施すことを特徴
とする磁気ディスクの製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic disk comprising a non-magnetic substrate, a surface of which is subjected to texturing, and a magnetic layer of which is further laminated. With tape
Knoop hardness of 1000 after grinding more than once
To 6000, grinding slurry is mixed and stirred in a grinding liquid, and a slurry is dripped into a gap between the buff tape and the magnetic disk, and a grinding process is further performed once or more. ..
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